JP3538501B2 - ガス分析計 - Google Patents
ガス分析計Info
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- JP3538501B2 JP3538501B2 JP15310796A JP15310796A JP3538501B2 JP 3538501 B2 JP3538501 B2 JP 3538501B2 JP 15310796 A JP15310796 A JP 15310796A JP 15310796 A JP15310796 A JP 15310796A JP 3538501 B2 JP3538501 B2 JP 3538501B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample gas
- flow path
- concentration
- gas
- bypass flow
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、サンプルガス入
口で生じるガス濃度の突変による過度応答を緩和できる
ガス分析計に関する。
口で生じるガス濃度の突変による過度応答を緩和できる
ガス分析計に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガス分析計において、例えば、校正ガス
の切り換わり時に、サンプルガス入口で生じるガス濃度
の急激な変化により、図３における応答曲線Ｘから分か
るように、分析計が過度応答を示すことがあり、この過
度応答を防止するために従来は、分析部にサンプルガス
を供給するサンプルガス流路に、バッファタンクを設け
ることで濃度変化を緩和していた。
の切り換わり時に、サンプルガス入口で生じるガス濃度
の急激な変化により、図３における応答曲線Ｘから分か
るように、分析計が過度応答を示すことがあり、この過
度応答を防止するために従来は、分析部にサンプルガス
を供給するサンプルガス流路に、バッファタンクを設け
ることで濃度変化を緩和していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来構成で
は、前記バッファタンク内においてサンプルガスの流れ
に対して対流等により溜まりが発生し、図３における応
答曲線Ｙのように分析計の応答速度が遅くなる。また、
大容量のバッファタンクを用いるから、分析計内で配管
部品の占めるスペースが大きくなってその他の構成部品
の配置が困難になるとともに、メンテナンス性も低下す
るおそれがある。
は、前記バッファタンク内においてサンプルガスの流れ
に対して対流等により溜まりが発生し、図３における応
答曲線Ｙのように分析計の応答速度が遅くなる。また、
大容量のバッファタンクを用いるから、分析計内で配管
部品の占めるスペースが大きくなってその他の構成部品
の配置が困難になるとともに、メンテナンス性も低下す
るおそれがある。
【０００４】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、応答速度を遅らせること無く、
サンプルガス流路で生じるガス濃度の突変による過度応
答を防止できるとともに、配管部品の占めるスペースを
小さくできるガス分析計を提供することにある。
たもので、その目的は、応答速度を遅らせること無く、
サンプルガス流路で生じるガス濃度の突変による過度応
答を防止できるとともに、配管部品の占めるスペースを
小さくできるガス分析計を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、分析部にサンプルガスを供給するサン
プルガス流路に入口および出口を接続した状態でバイパ
ス流路を設け、前記入口でバイパス流路とサンプルガス
流路に分かれたサンプルガスを前記出口で合流させ、さ
らに、このバイパス流路中に大口径の配管を設けてい
る。
め、この発明は、分析部にサンプルガスを供給するサン
プルガス流路に入口および出口を接続した状態でバイパ
ス流路を設け、前記入口でバイパス流路とサンプルガス
流路に分かれたサンプルガスを前記出口で合流させ、さ
らに、このバイパス流路中に大口径の配管を設けてい
る。
【０００６】この発明では、大口径の配管を有するバイ
パス流路を、小口径の配管で構成されている通常のサン
プルガス流路に接続したので、サンプルガスは、バイパ
ス流路とサンプルガス流路に分かれる。
パス流路を、小口径の配管で構成されている通常のサン
プルガス流路に接続したので、サンプルガスは、バイパ
ス流路とサンプルガス流路に分かれる。
【０００７】例えば、低濃度のサンプルガス（または、
高濃度のサンプルガス）を分析部に供給している場合
に、サンプルガス入口で低濃度のサンプルガス（また
は、高濃度のサンプルガス）が高濃度のサンプルガス
（または、低濃度のサンプルガス）に濃度変化すると、
バイパス流路の入口では、サンプルガス流路に高濃度の
サンプルガス（または、低濃度のサンプルガス）が流入
するとともに、前記大口径の配管に高濃度のサンプルガ
ス（または、低濃度のサンプルガス）が流入する。そし
て、前記大口径の配管から流出した低濃度のサンプルガ
ス（または、高濃度のサンプルガス）と、サンプルガス
流路を通過した高濃度のサンプルガス（または、低濃度
のサンプルガス）とが、分析部の直上流側に位置するバ
イパス流路の出口で合流することにより、サンプルガス
流路を通過した高濃度のサンプルガス（または、低濃度
のサンプルガス）が前記大口径の配管から流出した低濃
度のサンプルガス（または、高濃度のサンプルガス）に
より希釈（または、濃縮）される一方、前記大口径の配
管に流入した高濃度のサンプルガス（または、低濃度の
サンプルガス）は、前記大口径の配管中の低濃度のサン
プルガス（または、高濃度のサンプルガス）によって希
釈（または、濃縮）される。
高濃度のサンプルガス）を分析部に供給している場合
に、サンプルガス入口で低濃度のサンプルガス（また
は、高濃度のサンプルガス）が高濃度のサンプルガス
（または、低濃度のサンプルガス）に濃度変化すると、
バイパス流路の入口では、サンプルガス流路に高濃度の
サンプルガス（または、低濃度のサンプルガス）が流入
するとともに、前記大口径の配管に高濃度のサンプルガ
ス（または、低濃度のサンプルガス）が流入する。そし
て、前記大口径の配管から流出した低濃度のサンプルガ
ス（または、高濃度のサンプルガス）と、サンプルガス
流路を通過した高濃度のサンプルガス（または、低濃度
のサンプルガス）とが、分析部の直上流側に位置するバ
イパス流路の出口で合流することにより、サンプルガス
流路を通過した高濃度のサンプルガス（または、低濃度
のサンプルガス）が前記大口径の配管から流出した低濃
度のサンプルガス（または、高濃度のサンプルガス）に
より希釈（または、濃縮）される一方、前記大口径の配
管に流入した高濃度のサンプルガス（または、低濃度の
サンプルガス）は、前記大口径の配管中の低濃度のサン
プルガス（または、高濃度のサンプルガス）によって希
釈（または、濃縮）される。
【０００８】最終的に、バイパス流路の上流側よりも濃
度変化が緩和された形でサンプルガスが分析部に供給さ
れる。しかも、従来のバッファタンクのようにサンプル
ガスの溜まりが発生することは無いので、応答速度を遅
らせること無く、サンプルガス入口で生じるガス濃度の
突変による過度応答を防止できるとともに、配管部品の
占めるスペースを小さくできる。
度変化が緩和された形でサンプルガスが分析部に供給さ
れる。しかも、従来のバッファタンクのようにサンプル
ガスの溜まりが発生することは無いので、応答速度を遅
らせること無く、サンプルガス入口で生じるガス濃度の
突変による過度応答を防止できるとともに、配管部品の
占めるスペースを小さくできる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態を、図
面に基づいて説明する。図１はガス分析計の全体を示
し、図２は、この実施形態で用いたバイパス流路の構成
を示す。
面に基づいて説明する。図１はガス分析計の全体を示
し、図２は、この実施形態で用いたバイパス流路の構成
を示す。
【００１０】図１、図２において、１は通常のサンプル
ガス流路で、分析部２にサンプルガスＳを供給する小口
径の配管１ａで構成される。この配管１ａは、例えば、
３／２ミリメートルの内径を有する。この配管１ａの一
端にはサンプルガス入口３が形成され、他端は分析部２
に接続される。
ガス流路で、分析部２にサンプルガスＳを供給する小口
径の配管１ａで構成される。この配管１ａは、例えば、
３／２ミリメートルの内径を有する。この配管１ａの一
端にはサンプルガス入口３が形成され、他端は分析部２
に接続される。
【００１１】４は、サンプルガス流路１に接続されてい
るバイパス流路で、大口径の配管５が設けられている。
ａおよびｂは、それぞれ、バイパス流路４の接続位置を
構成するバイパス流路４の入口および出口を示す。
るバイパス流路で、大口径の配管５が設けられている。
ａおよびｂは、それぞれ、バイパス流路４の接続位置を
構成するバイパス流路４の入口および出口を示す。
【００１２】更に、バイパス流路４は、前記大口径の配
管５と、サンプルガス流路１を構成する配管１ａの内径
と同径の内径を有する配管４ａ，４ｂとで構成されてい
る。そして、この配管４ａ，４ｂ間に前記大口径の配管
５がゴム継手７，８を介して接続されている。前記大口
径の配管５の内径は、例えば、１５ミリメートルで、配
管４ａ、４ｂ，１ａの内径の１０倍に設定されている。
勿論、サンプルガスの流れに対して対流等により溜まり
が発生しないよう従来用いた大容量のバッファタンクの
内径よりも小に設定されている。
管５と、サンプルガス流路１を構成する配管１ａの内径
と同径の内径を有する配管４ａ，４ｂとで構成されてい
る。そして、この配管４ａ，４ｂ間に前記大口径の配管
５がゴム継手７，８を介して接続されている。前記大口
径の配管５の内径は、例えば、１５ミリメートルで、配
管４ａ、４ｂ，１ａの内径の１０倍に設定されている。
勿論、サンプルガスの流れに対して対流等により溜まり
が発生しないよう従来用いた大容量のバッファタンクの
内径よりも小に設定されている。
【００１３】９，１０は三方継手で、この三方継手９，
１０を介してサンプルガス流路１にバイパス流路４が設
けられる。
１０を介してサンプルガス流路１にバイパス流路４が設
けられる。
【００１４】なお、この実施形態では、配管４ａ、４
ｂ，１ａに四フッ化エチレン（商品名テフロン）管が使
用され、前記大口径の配管５にポリプロピレン管が使用
されている。
ｂ，１ａに四フッ化エチレン（商品名テフロン）管が使
用され、前記大口径の配管５にポリプロピレン管が使用
されている。
【００１５】而して、バイパス流路４の上流側に位置す
るサンプルガス入口３から低濃度のサンプルガスＳが分
析部２に供給されているとする。そして、サンプルガス
入口３で低濃度のサンプルガスＳが高濃度のサンプルガ
スＳ1 に急激に濃度変化すると、高濃度のサンプルガス
Ｓ1 はバイパス流路４の入口ａでバイパス流路４とサン
プルガス流路１に分かれる。
るサンプルガス入口３から低濃度のサンプルガスＳが分
析部２に供給されているとする。そして、サンプルガス
入口３で低濃度のサンプルガスＳが高濃度のサンプルガ
スＳ1 に急激に濃度変化すると、高濃度のサンプルガス
Ｓ1 はバイパス流路４の入口ａでバイパス流路４とサン
プルガス流路１に分かれる。
【００１６】そして、配管１ａを通過したサンプルガス
Ｓ1 は前記大口径の配管５より流出した濃度変化前の低
濃度のサンプルガスＳにより希釈される一方、配管４ａ
を通過した濃度変化後のサンプルガスＳ1 も前記大口径
の配管５内で同様に低濃度のサンプルガスＳによって希
釈される。
Ｓ1 は前記大口径の配管５より流出した濃度変化前の低
濃度のサンプルガスＳにより希釈される一方、配管４ａ
を通過した濃度変化後のサンプルガスＳ1 も前記大口径
の配管５内で同様に低濃度のサンプルガスＳによって希
釈される。
【００１７】このため、最終的に、バイパス流路４の上
流側よりも濃度変化が緩和された形でサンプルガスＳ2
が分析部２に供給される。
流側よりも濃度変化が緩和された形でサンプルガスＳ2
が分析部２に供給される。
【００１８】しかも、前記大口径の配管５は、従来用い
た大容量のバッファタンクの内径よりも小に設定された
内径を有しているので、前記大口径の配管５内ではサン
プルガスの溜まりが発生することは無い。したがって、
サンプルガスＳ2 の分析部２への到達の遅れが無くな
り、図３における応答曲線Ｚのように分析計の応答速度
を遅らせることが無い。なお、図３において、Ｔ2 ＝２
Ｔ1 であった。
た大容量のバッファタンクの内径よりも小に設定された
内径を有しているので、前記大口径の配管５内ではサン
プルガスの溜まりが発生することは無い。したがって、
サンプルガスＳ2 の分析部２への到達の遅れが無くな
り、図３における応答曲線Ｚのように分析計の応答速度
を遅らせることが無い。なお、図３において、Ｔ2 ＝２
Ｔ1 であった。
【００１９】なお、上記実施形態では、配管１ａ、４
ａ，４ｂの内径の略１０倍の内径を有する配管５を用
い、配管５をポリプロピレンで、配管１ａ、４ａ，４ｂ
を四フッ化エチレンで形成したものを示したが、サンプ
ルガスＳの組成、流量等の条件により配管材料、配管内
径等を適宜変更してもよい。
ａ，４ｂの内径の略１０倍の内径を有する配管５を用
い、配管５をポリプロピレンで、配管１ａ、４ａ，４ｂ
を四フッ化エチレンで形成したものを示したが、サンプ
ルガスＳの組成、流量等の条件により配管材料、配管内
径等を適宜変更してもよい。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明において
は、分析部にサンプルガスを供給するサンプルガス流路
に入口および出口を接続した状態でバイパス流路を設
け、前記入口でバイパス流路とサンプルガス流路に分か
れたサンプルガスを前記出口で合流させ、さらに、この
バイパス流路中に大口径の配管を設けたので、出口にお
けるサンプルガスの濃度変化は、サンプルガス入口にお
ける濃度変化よりも緩和されたものとなり、バイパス流
路の上流側よりも濃度変化が緩和された形でサンプルガ
スを分析部に供給できる。しかも、大口径の配管によ
り、前記大口径の配管内ではサンプルガスの溜まりが発
生することは無いので、応答速度を遅らせること無く、
サンプルガス入口で生じるガス濃度の突変による過度応
答を防止できるとともに、配管部品の占めるスペースを
小さくできる。
は、分析部にサンプルガスを供給するサンプルガス流路
に入口および出口を接続した状態でバイパス流路を設
け、前記入口でバイパス流路とサンプルガス流路に分か
れたサンプルガスを前記出口で合流させ、さらに、この
バイパス流路中に大口径の配管を設けたので、出口にお
けるサンプルガスの濃度変化は、サンプルガス入口にお
ける濃度変化よりも緩和されたものとなり、バイパス流
路の上流側よりも濃度変化が緩和された形でサンプルガ
スを分析部に供給できる。しかも、大口径の配管によ
り、前記大口径の配管内ではサンプルガスの溜まりが発
生することは無いので、応答速度を遅らせること無く、
サンプルガス入口で生じるガス濃度の突変による過度応
答を防止できるとともに、配管部品の占めるスペースを
小さくできる。
【図１】この発明の一実施形態を示す全体構成説明図で
ある。
ある。
【図２】上記実施形態におけるバイパス流路を示す斜視
図である。
図である。
【図３】応答曲線を示す特性図である。
１…サンプルガス流路、２…分析部、３…サンプルガス
入口、４…バイパス流路、５…大口径の配管、ａ…バイ
パス流路の入口、ｂ…バイパス流路の出口、Ｓ…サンプ
ルガス。
入口、４…バイパス流路、５…大口径の配管、ａ…バイ
パス流路の入口、ｂ…バイパス流路の出口、Ｓ…サンプ
ルガス。
フロントページの続き
(72)発明者 松浦 良視
京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地
株式会社堀場製作所内
(56)参考文献 特開 昭63−118632（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−43275（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−265475（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−272121（ＪＰ，Ａ)
実開 平７−26746（ＪＰ，Ｕ)
実開 平７−16149（ＪＰ，Ｕ)
実開 昭60−98039（ＪＰ，Ｕ)
実開 昭64−55446（ＪＰ，Ｕ)
特公 平５−12659（ＪＰ，Ｂ２)
実公 平１−31951（ＪＰ，Ｙ２)
実公 平５−31547（ＪＰ，Ｙ２)
特許3299102（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 1/00 - 1/44
ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (2)
- 【請求項１】 分析部にサンプルガスを供給するサンプ
ルガス流路に入口および出口を接続した状態でバイパス
流路を設け、前記入口でバイパス流路とサンプルガス流
路に分かれたサンプルガスを前記出口で合流させ、さら
に、このバイパス流路中に大口径の配管を設けたことを
特徴とするガス分析計。 - 【請求項２】 前記大口径の配管は、サンプルガスの溜
まりが発生しない程度の内径に設定されている請求項１
に記載のガス分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15310796A JP3538501B2 (ja) | 1996-05-25 | 1996-05-25 | ガス分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15310796A JP3538501B2 (ja) | 1996-05-25 | 1996-05-25 | ガス分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09318498A JPH09318498A (ja) | 1997-12-12 |
| JP3538501B2 true JP3538501B2 (ja) | 2004-06-14 |
Family
ID=15555132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15310796A Expired - Fee Related JP3538501B2 (ja) | 1996-05-25 | 1996-05-25 | ガス分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3538501B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3299102B2 (ja) | 1995-01-31 | 2002-07-08 | 株式会社堀場製作所 | 半導体特殊ガス用赤外線ガス分析計 |
-
1996
- 1996-05-25 JP JP15310796A patent/JP3538501B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3299102B2 (ja) | 1995-01-31 | 2002-07-08 | 株式会社堀場製作所 | 半導体特殊ガス用赤外線ガス分析計 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09318498A (ja) | 1997-12-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040316 |
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