JP4479170B2 - オキシスチレン誘導体の蒸留方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、医農薬、機能性高分子等の原料として有用なオキシスチレン誘導体の蒸留方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
例えば、p−tert−ブトキシスチレン(以下、PTBSと略記する。)、p−アセトキシスチレン(以下、PACSと略記する。)は、超LSI用途等に使用されるレジスト原料として極めて有用であることが知られており(例えば、特許文献1〜3参照。)、また、m−tert−ブトキシスチレン(以下、MTBSと略記する。)は、機能性高分子、医農薬等の中間原料として有用であることが知られている(例えば、特許文献4参照。)。
【0003】
PTBSやPACS、MTBSのごときオキシスチレン誘導体は、一般に光や熱及び酸の存在などによって分解や重合することが知られている。
【0004】
PTBSやMTBSのごときtert−ブトキシスチレンは、ハロスチレンをマグネシウムと反応させグリニヤール試剤とした後、過安息香酸−tert−ブチルエステルを作用させて得る方法(例えば、特許文献1参照。)、tert−ブトキシハロベンゼンをマグネシウムと反応させグリニヤール試剤とした後、塩化ビニル、臭化ビニル等のビニルハライドを作用させて得る方法(例えば、特許文献4〜5参照。)等により得られる。また、PACSのごときアセトキシスチレンは、アセトキシベンズアルデヒドをジブロモメタンと作用させて得る方法(例えば、特許文献6参照。)等により得られる。
【0005】
これらオキシスチレン誘導体の製造法については、いずれの場合においても、製品を分離回収するために、通常、蒸留操作が行われる。しかしながら、これらオキシスチレン誘導体は、前記したように光や熱により蒸留中に重合してポリマー状物質を形成して製品収率が著しく低下するという問題がある。更に、生成する高粘性のポリマー状物質は、蒸留釜内及び蒸留塔内において種々のトラブルを引き起こし、蒸留装置及び操作等に多大な負荷をかけることになる。
【0006】
従って、このような蒸留工程での問題を回避するために、これまで、重合抑制においては種々の重合禁止剤の存在下に蒸留操作を行う方法がとられている。例えば、PTBS,MTBSのごときtert−ブトキシスチレンでは、p−tert−ブチルカテコールの存在下に蒸留を行う方法(例えば、特許文献4〜5参照。)や、ヒドロキシルアミン誘導体の存在下に蒸留を行う方法(例えば、特許文献6参照。)、また、PACSのごときアセトキシスチレンでは2−tert−ブチルハイドロキノンの存在下に蒸留を行う方法(例えば、特許文献7参照。)が開示されているが、これらの重合禁止剤は、低温、短時間の蒸留条件下においてはある程度の重合抑制効果は認められるものの、工業化レベルの高温、長時間蒸留では、十分な重合抑制効果が維持できず、製品収率が低下するという問題に加え、高粘性ポリマー状物質の生成により蒸留塔及び配管が閉塞したりする等のトラブルを引き起こすことが多い。また、蒸留中に分解、変性を起こし易く、生成した分解物や着色物が主留分に混入し製品品質の低下を招く等の問題もある。このように、従来の方法は、多くの問題点を有し、オキシスチレン誘導体の蒸留方法として満足できるものではなかった。
【0007】
【特許文献1】
特開昭59−199705号公報
【特許文献2】
特開平3−277608号公報
【特許文献3】
特開平6−266112号公報
【特許文献4】
特開平2−160736号公報
【特許文献5】
特公平4−71896号公報
【特許文献6】
特開2003−2856号公報
【特許文献7】
特開平8−157410号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、従来の方法では満足できなかったオキシスチレン誘導体の蒸留方法を提供することにある。すなわち、従来の問題点を解決し、ポリマーの生成がほとんどなく、更に、着色の抑制された高品質のPTBSやPACS、MTBSのごときオキシスチレン誘導体を高い回収率で得る経済性に優れた蒸留方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、従来の問題点を解決すべく鋭意検討した結果、PTBSやPACS,MTBSのごときオキシスチレン誘導体の蒸留工程において、重合禁止剤として、下記一般式(2)で表されるビスフェノール系化合物を添加することにより、更には、ビスフェノール系化合物と、ニトロソ化合物及び/又はニトロ化合物を共存させて添加することにより、PTBSやPACS、MTBSのごときオキシスチレン誘導体を実質的にポリマー状物質が生成することなく、更に、着色の抑制された高品質の製品を高い回収率で蒸留可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0010】
すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表されるオキシスチレン誘導体の蒸留において、重合禁止剤として下記一般式(2)で表されるビスフェノール系化合物を添加することを特徴とするオキシスチレン誘導体の蒸留方法である。
【0011】
【化5】
【化6】
以下、本発明を詳細に説明する。
【0012】
本発明において使用される上記一般式(1)で表わされるオキシスチレン誘導体とは、ヒドロキシスチレンの水酸基がRで保護されたものを言い、Rはアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルシリル基である。一般式(1)で表わされるオキシスチレン誘導体は、例えば、p−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−エトキシスチレン、m−エトキシスチレン、p−n−プロポキシスチレン、m−n−プロポキシスチレン、p−i−プロポキシスチレン、m−i−プロポキシスチレン、p−n−ブトキシスチレン、m−n−ブトキシスチレン、p−i−ブトキシスチレン、m−i−ブトキシスチレン、p−tert−ブトキシスチレン、m−tert−ブトキシスチレン、p−n−ペンチルオキシスチレン、m−n−ペンチルオキシスチレン、p−i−ペンチルオキシスチレン、m−i−ペンチルオキシスチレン、p−tert−アミルオキシスチレン、p−tert−アミルオキシスチレン、p−シクロプロピルメチルオキシスチレン、m−シクロプロピルメチルオキシスチレン、p−シクロヘキシルオキシスチレン、m−シクロヘキシルオキシスチレン等のアルコキシスチレン類、p−フェニルオキシスチレン、m−フェニルオキシスチレン、p−(4−メチルフェニル)オキシスチレン、m−(4−メチルフェニル)オキシスチレン、p−(2−メチルフェニル)オキシスチレン、m−(2−メチルフェニル)オキシスチレン、p−(4−メトキシフェニル)オキシスチレン、m−(4−メトキシフェニル)オキシスチレン、p−(2−メトキシフェニル)オキシスチレン、m−(2−メトキシフェニル)オキシスチレン、p−(4−エトキシフェニル)オキシスチレン、m−(4−エトキシフェニル)オキシスチレン、p−(2−エトキシフェニル)オキシスチレン、m−(2−エトキシフェニル)オキシスチレン、p−(4−tert−ブトキシフェニル)オキシスチレン、m−(4−tert−ブトキシフェニル)オキシスチレン、p−(2−tert−ブトキシフェニル)オキシスチレン、m−(2−tert−ブトキシフェニル)オキシスチレン等のアリールオキシスチレン類、p−ベンジルオキシスチレン、m−ベンジルオキシスチレン、p−(4−メチルフェニル)メトキシスチレン、m−(4−メチルフェニル)メトキシスチレン等のアリールアルキルオキシスチレン類、p−メトキシメトキシスチレン、m−メトキシメトキシスチレン、p−エトキシエトキシスチレン、m−エトキシエトキシスチレン、p−(2−テトラヒドロピラニル)オキシスチレン、m−(2−テトラヒドロピラニル)オキシスチレン等のアルコキシアルキルオキシスチレン類、p−アセトキシスチレン、m−アセトキシスチレン、p−tert−ブチルカルボニルオキシスチレン、m−tert−ブチルカルボニルオキシスチレン等のアルキルカルボニルオキシスチレン類、p−メトキシカルボニルオキシスチレン、m−メトキシカルボニルオキシスチレン、p−ベンジロキシカルボニルオキシスチレン、m−ベンジロキシカルボニルオキシスチレン、p−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン、m−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン等のアルコキシカルボニルオキシスチレン類、p−トリメチルシリルオキシスチレン、m−トリメチルシリルオキシスチレン、p−tert−ブチルジメチルシリルオキシスチレン、m−tert−ブチルジメチルシリルオキシスチレン等のアルキルシリルオキシスチレン類等が挙げられる。
【0013】
これらは特に限定するものではないが、上記一般式(1)で表されるオキシスチレン誘導体の内、下記一般式(3)で表わされるtert−ブトキシスチレン又は下記一般式(4)で表わされるアセトキシスチレンが好ましく用いられ、
【0014】
【化7】
【化8】
例えば、p−tert−ブトキシスチレン、m−tert−ブトキシスチレン、p−アセトキシスチレン、m−アセトキシスチレン等が好ましく用いられる。
【0015】
本発明の方法において、重合禁止剤として前記一般式(2)で表されるビスフェノール系化合物が用いられ、式中Xは、単結合、C1〜C2アルキレン、C2〜C5アルキリデン、C5〜C6シクロアルキリデン、−O−、−CO−、−S−、−SO−、−SO2−を表す。R1とR2は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、シクロアルキル基またはフェニル基であり、R1とR2は同じでも異なっていてもよい。また、mおよびnは置換基数を表し、0〜4の整数である。
【0016】
上記一般式(2)で表されるビスフェノール系化合物としては、例えば、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス(6−アルファメチルベンジル−p−クレゾール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、4,4’−メチレン−ビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)等のメチレンビスフェノール類、2,2’−エチリデン−ビス−(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデン−ビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−エチリデンビスフェノール、4,4’−エチリデン−ビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−エチリデン−ビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−エチリデン−ビス−(2,6−ジメチルフェノール)等のエチリデンビスフェノール類、2,2’−イソプロピリデン−ビス−(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−イソプロピリデン−ビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビスフェノール、4,4’−イソプロピリデン−ビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−イソプロピレデン−ビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−イソプロピリデン−ビス−(2,6−ジメチルフェノール)等のプロピリデンビスフェノール類、4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)等のブチリデンビスフェノール類、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)等のチオビスフェノール類、ビス−(p−ヒドロキシフェニル)エーテル等のフェニルエーテル類、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ビス−(p−ヒドロキシフェニル)スルホキシド等のビスフェニルスルホキシド類、ビス−(p−ヒドロキシフェニル)スルホン等のビスフェニルスルホン類を挙げられる。
【0017】
これらのうち、重合禁止能力及び入手の容易さを考慮すると、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)の使用が好ましい。
【0018】
本発明の方法において、重合禁止剤としてビスフェノール系化合物とは別に、ニトロソ化合物及び/又はニトロ化合物を添加しても良い。
【0019】
重合禁止剤として用いられるニトロソ化合物とは、構造式中にニトロソ基を含有するものを言う。ニトロソ化合物としては例えば、ニトロソベンゼン、ニトロソトルエン、p−ニトロソフェノール、ニトロソレゾルシノール、1−ニトロソ−2−ナフトール、2−ニトロソ−1−ナフトール等のニトロソ芳香族炭化水素、N−ニトロソジフェニルアミン、N−ニトロソ−N−メチルアニリン、N−ニトロソ−N−フェニルアニリン、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン塩(金属塩、アンモニウム塩等)等のN−ニトロソ類が挙げられる。
【0020】
本発明の方法において、重合禁止剤として用いられるニトロ化合物とは、構造式中にニトロ基を含有するものを言う。ニトロ化合物としては例えば、o−、m−、p−ジニトロベンゼン、2,4−ジニトロクロロベンゼン、1,5−ジニトロナフタレン、2,4−ジニトロ−1−ナフトール、2,4−ジニトロフェノール、2,5−ジニトロフェノール、2,4−ジニトロ−6−sec−ブチル−フェノール、4,6−ジニトロ−o−クレゾール、1,3,5−トリニトロベンゼン等のニトロ芳香族化合物が挙げられる。
【0021】
これらのうち、重合禁止能力及び入手の容易さを考慮すると、ニトロソ化合物としては、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン及び/又はその塩、例えばN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、ニトロ化合物としては、ジニトロフェノール、例えば2,4−ジニトロフェノール、2,5−ジニトロフェノールの使用が好ましい。
【0022】
本発明の方法において、重合禁止剤の添加量は、その効果と経済性等を考慮すると、オキシスチレン誘導体に対し、ビスフェノール系化合物単独で、好ましくは1ppm〜10重量%、さらに好ましくは、100ppm〜10000ppmの範囲が選ばれ、ビスフェノール系化合物とは別に、ニトロソ化合物、ニトロ化合物を添加する場合、総量で好ましくは1ppm〜10重量%、さらに好ましくは、100ppm〜10000ppmの範囲が選ばれる。
【0023】
本発明の方法において、重合禁止剤を含むオキシスチレン誘導体の蒸留温度は、特に制限はないが、通常、20〜200℃の範囲であり、好ましくは、50〜150℃である。蒸留温度がこの範囲内であれば、重合抑制及び着色抑制効果が十分に発揮される。また、本蒸留は、通常、減圧下で実施され、圧力としては0.1〜200mmHgの範囲が選ばれる。更に、本蒸留においては、気流同伴を伴わない無気条件又は、窒素あるいは空気等の気流同伴を行う有気条件下のいずれで蒸留を実施しても良い。
【0024】
本発明の方法においては、重合防止効果を更に向上させるために、所望に応じ、他の重合禁止剤、例えばp−tert−ブチルカテコール、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、フェノチアジン等を共存させることができる。
【0025】
【実施例】
以下に、本発明の方法を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【0026】
実施例1
1000mlフラスコに、PTBS800gと重合禁止剤として2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)4.0gを添加した。次にこのフラスコに還流コンデンサーを取り付けて、120℃、5mmHgの条件で還流比を調整しながら30時間かけて、PTBSを蒸留回収し、回収率を求めた。なお、この際、液中にキャピラリーを通じて窒素を導入した。回収したPTBSの着色度合をJIS−K−0071(1999年版)試験法に準じて標準APHA液と比較測定した。結果を表1に示す。
【0027】
実施例2〜4
実施例1で使用した2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)に代えて表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じてPTBSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0028】
実施例5
実施例1で使用したPTBSに代えてMTBS800gを用いた以外は、実施例1に準じてMTBSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0029】
実施例6
実施例1で使用したPTBSに代えてMTBS800gを用い、使用した2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)に代えて表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じてMTBSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0030】
実施例7
実施例1で使用したPTBSに代えてPACS800gを用いた以外は、実施例1に準じてPACSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0031】
実施例8
実施例1で使用したPTBSに代えてPACS800gを用い、使用した2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)に代えて表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じてPACSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0032】
比較例1〜3
実施例1で使用した2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)に代えて表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じてPTBSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0033】
比較例4
実施例1で使用したPTBSに代えてPACS800gを用い、使用した2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)に代えて表1に示した重合禁止剤を所定量用いた以外は、実施例1に準じてPACSを蒸留回収した。結果をあわせて表1に示す。
【0034】
【表1】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の方法によれば、従来の問題点を解決して、ポリマー状物質をほとんど生成することなく、なおかつ、着色の抑制された高品質のオキシスチレン誘導体を高い回収率で蒸留可能となる。
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003174646A JP4479170B2 (ja) | 2003-06-19 | 2003-06-19 | オキシスチレン誘導体の蒸留方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003174646A JP4479170B2 (ja) | 2003-06-19 | 2003-06-19 | オキシスチレン誘導体の蒸留方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005008562A JP2005008562A (ja) | 2005-01-13 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4479170B2 (ja) |
-
2003
- 2003-06-19 JP JP2003174646A patent/JP4479170B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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