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JP4840966B2 - Conductive polymer coated metal material - Google Patents
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Description

本発明は、金属基体上に防食膜かつ導電膜として機能する導電性高分子被膜が形成された被覆金属材料に関するものであり、特に酸性雰囲気下やハロゲン化物溶液中など金属が腐食し易い環境下で、長期に渡って優れた耐食性及び導電性を発揮する被覆金属材料に関するものである。   The present invention relates to a coated metal material in which a conductive polymer film that functions as an anticorrosive film and a conductive film is formed on a metal substrate, and particularly in an environment where the metal is easily corroded, such as in an acidic atmosphere or in a halide solution. Thus, the present invention relates to a coated metal material that exhibits excellent corrosion resistance and conductivity over a long period of time.

金属材料の防食方法として、有機材料または無機材料により表面を被覆する方法、金属が腐食し易い環境下においてチオアセトアミドなどの腐食抑制剤を浴液中に添加する方法および電気化学的に腐食電流を抑える電気防食法などが知られている。
近年、帯電防止能を有する有機合成プラント用構造材料、有機電解合成等に用いる電極材料、ターミナルや圧着端子などに代表される給電用端子用途向け等に、耐食性と導電性とを併せ持つ材料が求められている。これら耐食性と導電性とを併せ持つ材料として、ハステロイ合金や貴金属合金などに代表される耐食性合金、アモルファスカーボン材料が知られているが、前記耐食性合金は非常に高価であり、前記アモルファスカーボン材料は加工が複雑で生産性に劣るという欠点がある。
Corrosion prevention methods for metal materials include coating the surface with organic or inorganic materials, adding a corrosion inhibitor such as thioacetamide to the bath solution in an environment where the metal is prone to corrosion, and electrochemically corroding the corrosion current. The anti-corrosion method to suppress is known.
In recent years, there has been a demand for materials that combine corrosion resistance and conductivity for structural materials for organic synthesis plants that have antistatic properties, electrode materials used for organic electrolytic synthesis, and power supply terminal applications such as terminals and crimp terminals. It has been. As materials having both corrosion resistance and conductivity, corrosion-resistant alloys such as Hastelloy alloys and noble metal alloys and amorphous carbon materials are known. However, the corrosion-resistant alloys are very expensive, and the amorphous carbon materials are processed. However, there is a disadvantage that it is complicated and inferior in productivity.

これに対し、ステンレス鋼など安価な金属基体へ貴金属めっきした材料やクロメート処理した材料に代表される表面被覆金属材料が知られている。これら被覆金属材料は基体金属自体が比較的安価であり、加工性にも優れるため生産性良く製造できる。しかし、被覆膜のピンホールやクラックに起因して局部電池反応が発生し、長期信頼性に欠けるという問題がある。また、貴金属めっき浴やクロメート処理溶液には有害なシアン化合物や6価クロムイオンが含まれており、環境負荷が高いなどの問題がある。   On the other hand, surface-coated metal materials typified by materials obtained by plating a noble metal on an inexpensive metal base such as stainless steel or materials chromated are known. These coated metal materials can be manufactured with high productivity because the base metal itself is relatively inexpensive and excellent in workability. However, there is a problem that a local battery reaction occurs due to pinholes and cracks in the coating film, resulting in lack of long-term reliability. In addition, noble metal plating baths and chromate treatment solutions contain harmful cyanide compounds and hexavalent chromium ions, resulting in high environmental impact.

これらの問題に対して、特許文献1に、金属基体上に、上側の層をより卑なNi層となるよう、酸化還元電位が異なるNiめっき層を2層設け、さらにAuめっきを最上層に形成することによって、ピンホールに起因する孔食を防止し、金属材料の耐食性を向上する方法が開示されている。また、特許文献2に、6価クロム代替技術として、3価クロム化合物とチタンなどの化合物を用いた化成処理を行うことで、環境負荷を低減する技術が開示されている。   In order to solve these problems, Patent Document 1 discloses that two Ni plating layers having different oxidation-reduction potentials are provided on a metal substrate so that the upper layer becomes a more basic Ni layer, and further, Au plating is used as the uppermost layer. A method for preventing pitting corrosion due to pinholes and improving the corrosion resistance of a metal material by forming them is disclosed. Patent Document 2 discloses a technique for reducing environmental burden by performing chemical conversion treatment using a trivalent chromium compound and a compound such as titanium as a hexavalent chromium alternative technique.

しかしながら、該特許文献1の方法では、金めっき層と酸化還元電位が高いNiめっき層によって、卑なNiめっき層の自己犠牲で金属基体を保護するために、酸化還元電位が低いNiめっき層は腐食が進行し続ける。該Niめっき層の消失によってその効果も消えるため、長期信頼性が不十分である。また、該特許文献2の方法では、6価クロムから形成される非常に安定な無機高分子に比べて、3価クロムから形成される無機高分子は分子量が小さく、熱安定性に劣る。そのため、チタンなどの第2成分を加えているが、それらはクロムの無機高分子に比べると、無機高分子から熱的に安定な酸化物の形態へと変化し易く、その時にクラックなどを生じて腐食環境から基体を保護する効果が低下するという問題点を抱えている。   However, in the method of Patent Document 1, in order to protect the metal substrate at the self-sacrifice of the base Ni plating layer by the gold plating layer and the Ni plating layer having a high oxidation reduction potential, the Ni plating layer having a low oxidation reduction potential is Corrosion continues to progress. Since the effect disappears due to the disappearance of the Ni plating layer, the long-term reliability is insufficient. In addition, in the method of Patent Document 2, an inorganic polymer formed from trivalent chromium has a small molecular weight and is inferior in thermal stability as compared to a very stable inorganic polymer formed from hexavalent chromium. Therefore, a second component such as titanium is added, but they are more likely to change from an inorganic polymer to a thermally stable oxide form compared to a chromium inorganic polymer, at which time cracks and the like occur. Therefore, there is a problem that the effect of protecting the substrate from the corrosive environment is lowered.

特開2001−234361号公報JP 2001-234361 A 特開2000−234177号公報JP 2000-234177 A

本発明の目的は、前記課題に鑑み、安価で生産性の良い金属基体上に、高価あるいは環境負荷の高い材料を使用することなく、良好な導電能、防食能を発揮する被膜が簡便な方法で形成された被覆金属材料を提供することであり、酸性雰囲気下やハロゲン化物溶液中など金属が腐食し易い環境で使用された場合においても、長期間に渡り良好な電気伝導性を保持しつつ、金属基体材料の溶解や錆発生が抑制され、耐食安定性に優れた被覆金属材料を提供することである。   An object of the present invention is a method in which a coating that exhibits good conductivity and anticorrosion ability is used on an inexpensive and highly productive metal substrate without using expensive or high environmental impact materials in view of the above problems. Even when used in an environment where the metal is easily corroded, such as in an acidic atmosphere or in a halide solution, while maintaining good electrical conductivity for a long period of time It is an object of the present invention to provide a coated metal material that is excellent in corrosion resistance stability, in which dissolution of metal base material and rust generation are suppressed.

本発明者らは、金属基体上に、導電能、防食能を発揮する被膜として導電性高分子膜を形成した被覆金属材料について鋭意検討を進めた結果、金属表面上に形成する導電性高分子被覆膜中に特定のドーパント化合物を含有させることによって、金属基体表面に絶縁性の金属酸化物の生成が抑制され、金属基体が持つ良好な電気伝導性を保持でき、かつ被覆金属材料の耐久性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive investigations on a coated metal material in which a conductive polymer film is formed on a metal substrate as a film that exhibits conductivity and anticorrosion performance, the present inventors have found that a conductive polymer formed on a metal surface. By including a specific dopant compound in the coating film, the formation of an insulating metal oxide on the surface of the metal substrate can be suppressed, the good electrical conductivity of the metal substrate can be maintained, and the durability of the coated metal material can be maintained. As a result, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下(1)から(5)に記載の被覆金属材料である。
(1)金属材料からなる基体の表面上に、少なくともドーパント化合物を含む導電性高分子被覆膜が形成された被覆金属材料において、該導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物が少なくとも1つ以上のスルホン酸基を有し、分子量が240以上の化合物であることを特徴とする被覆金属材料。
That is, the present invention is a coated metal material described in (1) to (5) below.
(1) In a coated metal material in which a conductive polymer coating film containing at least a dopant compound is formed on the surface of a substrate made of a metal material, the dopant compound contained in the conductive polymer coating film is at least 1 A coated metal material comprising a compound having one or more sulfonic acid groups and a molecular weight of 240 or more.

(2)前記被覆金属材料の導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物が、ベンゼン縮合環及び/又は少なくとも2つ以上の芳香環を有する化合物であることを特徴とする(1)に記載の被覆金属材料。   (2) The dopant compound contained in the conductive polymer coating film of the coated metal material is a compound having a benzene condensed ring and / or at least two or more aromatic rings. Coated metal material.

(3)前記被覆金属材料の導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物が、電気化学的に可逆である酸化還元活性を示す化合物であることを特徴とする(1)または(2)に記載の被覆金属材料。   (3) In (1) or (2), the dopant compound contained in the conductive polymer coating film of the coating metal material is a compound exhibiting oxidation-reduction activity that is electrochemically reversible. The coated metal material as described.

(4)前記被覆金属材料の導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物が、キノン構造を有する化合物であることを特徴とする(3)に記載の被覆金属材料。   (4) The coated metal material according to (3), wherein the dopant compound contained in the conductive polymer coating film of the coated metal material is a compound having a quinone structure.

(5)前記被覆金属材料の導電性高分子被覆膜が、少なくとも電解重合法によって形成されたものを含むことを特徴とする(1)から(4)のいずれか一つに記載の被覆金属材料。   (5) The coated metal according to any one of (1) to (4), wherein the conductive polymer coated film of the coated metal material includes at least one formed by an electrolytic polymerization method. material.

被覆金属材料の導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物を前記特定の化合物とすることで、該導電性被覆膜が腐食性液体から基体を保護するバリアー膜として有効に働く。また、該ドーパント化合物として電気化学的に可逆である酸化還元活性を示す化合物を用いることで、被覆金属材料の電極電位を環境下に合わせて制御することができ、金属防食効果が飛躍的に向上する。また、腐食環境下においても金属基体の酸化被膜成長を抑制しながら基体の防食ができるため、金属材料が持つ良好な電気伝導性を長期にわたり保つことができる。   By making the dopant compound contained in the conductive polymer coating film of the coating metal material the specific compound, the conductive coating film effectively works as a barrier film for protecting the substrate from corrosive liquid. In addition, by using a compound exhibiting redox activity that is electrochemically reversible as the dopant compound, the electrode potential of the coated metal material can be controlled in accordance with the environment, and the metal anticorrosive effect is dramatically improved. To do. In addition, since corrosion of the base can be prevented while suppressing the growth of the oxide film on the metal base even in a corrosive environment, the good electrical conductivity of the metal material can be maintained over a long period of time.

本発明は、金属材料からなる基体の表面上に少なくともドーパント化合物を含む導電性高分子被覆膜が形成された被覆金属材料において、該被覆膜に含まれるドーパント化合物が少なくとも1つ以上のスルホン酸基を有し、分子量が240以上の化合物であることを特徴とする被覆金属材料である。本発明の被覆金属材料が使用される、金属が腐食されやすい環境としては、塩酸水溶液中や硫酸水溶液中などの酸性雰囲気だけではなく、次亜塩素酸ナトリウム水溶液のように酸化性雰囲気の溶液中等も想定される。そのような環境下では、導電性高分子被覆膜中に存在させるドーパントとして従来知られている安息香酸イオンや蓚酸イオンなどカルボン酸基を有するドーパントイオンでは、該ドーパントが容易に酸化され二酸化炭素を発生するために、導電性高分子の電気伝導性が失われてしまう。また、その他ヒドロキシ基を有するアニオンはアクセプター性が低いために、導電性高分子のホールを作り出す能力が低く、電気伝導性が発現しにくいために不向きである。そのため、高い電気伝導度を発現させることができ、耐酸化性に強いスルホン酸基を有するドーパントアニオンを用いることが好適である。化合物中のスルホン酸基の数は、特に限定されない。   The present invention relates to a coated metal material in which a conductive polymer coating film containing at least a dopant compound is formed on the surface of a substrate made of a metal material, wherein the dopant compound is contained in at least one sulfone. It is a coated metal material characterized by being a compound having an acid group and a molecular weight of 240 or more. The environment in which the coated metal material of the present invention is used and the metal is easily corroded is not only in an acidic atmosphere such as in an aqueous hydrochloric acid solution or an aqueous sulfuric acid solution, but also in an oxidizing atmosphere solution such as an aqueous sodium hypochlorite solution. Is also envisaged. Under such circumstances, dopant ions having a carboxylic acid group such as benzoate ions and oxalate ions, which are conventionally known as dopants to be present in the conductive polymer coating film, are easily oxidized and carbon dioxide. Therefore, the electrical conductivity of the conductive polymer is lost. In addition, other anions having a hydroxy group are not suitable because they have low acceptor properties, have a low ability to create holes in conductive polymers, and are difficult to exhibit electrical conductivity. Therefore, it is preferable to use a dopant anion having a sulfonic acid group that can express high electrical conductivity and has strong oxidation resistance. The number of sulfonic acid groups in the compound is not particularly limited.

また、該ドーパント化合物の分子量が240未満である場合、分子量が小さい、すなわち分子が小さいために溶液中では容易に脱ドーピングが生じ、また大気中においても脱ドーピングが生じ易く、導電性高分子の電気伝導性が失われてしまうため、分子量は240以上であることが好適である。そのように1つ以上のスルホン酸基を有し、分子量が240以上のドーパント化合物としては具体的に、フェロセンスルホン酸ナトリウムやリグニンスルホン酸ナトリウムなどのアニオン成分を例示することができる。このようなドーパントを含有する導電性高分子被覆膜は、腐食環境と基体とを遮断するバリアー効果が大きく好適である。   In addition, when the molecular weight of the dopant compound is less than 240, the molecular weight is small, that is, the molecule is small, so that the dedoping easily occurs in the solution and also easily occurs in the atmosphere. Since the electrical conductivity is lost, the molecular weight is preferably 240 or more. Specific examples of the dopant compound having one or more sulfonic acid groups and having a molecular weight of 240 or more include anionic components such as sodium ferrocenesulfonate and sodium ligninsulfonate. A conductive polymer coating film containing such a dopant is suitable because it has a large barrier effect for blocking the corrosive environment from the substrate.

ベンゼン縮合環及び/又は2つ以上の芳香環を有するドーパントは、導電性高分子の高分子鎖と複雑に絡み合うことができ、より緻密な構造を生み出し、バリアー効果をより増大することができる。また、複雑に絡み合うことによって、脱ドーピングし難くなる効果も併せ持ち、好適である。   A dopant having a benzene fused ring and / or two or more aromatic rings can be intricately intertwined with the polymer chain of the conductive polymer, creating a denser structure and further increasing the barrier effect. Moreover, it is suitable because it has the effect of making it difficult to dope by complicatedly intertwining.

このようなドーパントとしては、アントラセンスルホン酸、ジフェニルアミンスルホン酸、ジフェニルアミンスルホン酸のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩のアニオン成分、色素であるアシッドブラック1、アシッドブルー1、アシッドブルー3、アシッドブルー9、アシッドブルー20、アシッドブルー74、アシッドブルー83、アシッドブルー92、アシッドブルー119、アシッドブルー147、アシッドA、アシッドブリリアントグリーンJ、アシッドブラウンM、アシッドキャプターH、アシッドキャプター9M、アシッドシアニン6B、アシッドファーストイエローG、アシッドファクシン、アシッドグリーン1、アシッドグリーン3、アシッドグリーン5、アシッドグリーン9、アシッドグリーン16、アシッドグリーン50、アシッドグリーンB、アシッドグリーンGG、アシッドライトイエロー2G、アシッドオレンジ5、アシッドオレンジ6、アシッドオレンジ7、アシッドオレンジ17、アシッドオレンジ20、アシッドレッド、アシッドレッド1、アシッドレッド2、アシッドレッド9、アシッドレッド13、アシッドレッド18、アシッドレッド18、アシッドレッド26、アシッドレッド27、アシッドレッド29、アシッドレッド52、アシッドレッド60、アシッドレッド87、アシッドレッド88、アシッドレッド91、アシッドレッド92、アシッドレッド94、アシッドレッド112、アシッドレッド265、アシッドバイオレッド6B、アシッドバイオレッド34、アシッドバイオレッド43、アシッドバイオレッド49、アシッドイエロー3、アシッドイエロー23、アシッドレッド36、アシッドイエロー73、アシッドイエロー186、サルフォナゾIII、モルダント29、サンクロマインブルーブラックR、サンクロマインブルーブラックMB、サンクロマインブルーブラックMD、サンセットイエローFCF、アルファマインレッドR、アルファマインレッドRベース、アルセナゾI、アルセナゾIIIおよびそれらの誘導体などのアニオン成分があげられる。   Examples of such dopants include anthracene sulfonic acid, diphenylamine sulfonic acid, an anion component of alkali metal salt or ammonium salt of diphenylamine sulfonic acid, acid black 1, acid blue 1, acid blue 3, acid blue 9, acid blue which is a dye. 20, Acid Blue 74, Acid Blue 83, Acid Blue 92, Acid Blue 119, Acid Blue 147, Acid A, Acid Brilliant Green J, Acid Brown M, Acid Captor H, Acid Captor 9M, Acid Cyanine 6B, Acid First Yellow G , Acid Faxin, Acid Green 1, Acid Green 3, Acid Green 5, Acid Green 9, Acid Green 16, Acid Glee 50, Acid Green B, Acid Green GG, Acid Light Yellow 2G, Acid Orange 5, Acid Orange 6, Acid Orange 7, Acid Orange 17, Acid Orange 20, Acid Red, Acid Red 1, Acid Red 2, Acid Red 9, Acid Red 13, Acid Red 18, Acid Red 18, Acid Red 26, Acid Red 27, Acid Red 29, Acid Red 52, Acid Red 60, Acid Red 87, Acid Red 88, Acid Red 91, Acid Red 92, Acid Red 94, Acid Red 112, Acid Red 265, Acid Bio Red 6B, Acid Bio Red 34, Acid Bio Red 43, Acid Bio Red 49, Acid Yellow 3, Acid Yellow 23, Acid Red 36, Acid Yellow 73, Acid Yellow 186, Sulfonazo III, Moldant 29, Sun Chromaine Blue Black R, Sun Chromaine Blue Black MB, Sun Chromaine Blue Black MD, Sunset Yellow FCF, Alpha Mine Anionic components such as Red R, Alpha Mine Red R base, Arsenazo I, Arsenazo III and their derivatives.

また、少なくとも1つ以上のスルホン酸基を有し、電気化学的に可逆である酸化還元活性を示すドーパント化合物を含む導電性高分子被膜は、腐食性液体と基体とのバリアー性を持たせることができる機能を有しているだけではなく、腐食環境下に曝された場合、該ドーパントがその環境下に合わせて酸化還元反応を行い、導電性高分子被覆金属材料の電極電位を電気化学的に制御するため、特に基体の防食効果が顕著になる。   The conductive polymer film containing a dopant compound having at least one sulfonic acid group and exhibiting electrochemically reversible oxidation-reduction activity should have a barrier property between the corrosive liquid and the substrate. In addition to having the function of being able to function, when exposed to a corrosive environment, the dopant performs an oxidation-reduction reaction in accordance with the environment, and the electrode potential of the conductive polymer-coated metal material is electrochemically changed. Therefore, the anticorrosion effect of the substrate is particularly remarkable.

前述の電気化学的に可逆である酸化還元活性を示す化合物とは、電気化学的に可逆な酸化還元反応を示すことのできる化合物、すなわち陽極では酸化され、陰極では還元されて元の状態に戻ることができる化合物を指す。例えば、ナフトキノンスルホン酸は、陽極では酸化され、キノン構造部位がヒドロキシ基になるが、陰極においては該ヒドロキシ基部位が還元されてキノン構造へと戻る。この反応は、サイクリックボルタンメトリ法で確認することができ、酸化反応時の反応ピークと還元反応時の反応ピークがほぼ同じ電位で現れる。   The aforementioned electrochemically reversible compound exhibiting redox activity is a compound capable of exhibiting an electrochemically reversible redox reaction, that is, oxidized at the anode and reduced to the original state at the cathode. Refers to a compound that can. For example, naphthoquinonesulfonic acid is oxidized at the anode and the quinone structure site becomes a hydroxy group, but at the cathode, the hydroxy group site is reduced to return to the quinone structure. This reaction can be confirmed by the cyclic voltammetry method, and the reaction peak during the oxidation reaction and the reaction peak during the reduction reaction appear at substantially the same potential.

電気化学的に可逆である酸化還元活性を有する少なくとも1つ以上のスルホン酸基を含む化合物としては、具体的に、フェロセンスルホン酸、ハイドロキノンスルホン酸、アントキノンスルホン酸、ナフトキノンスルホン酸、アザキサントンスルホン酸、ベンズアントラキノンスルホン酸、ベンズアンスロンスルホン酸、フェニルアゾベンゼンスルホン酸、ベンゾキノンスルホン酸およびそれらの誘導体等のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩のアニオン成分、アントラキノン アイリンR、アントラキノン バイオレッドRN‐3RNのアニオン成分があげられるが、耐酸化性や脱ドーピングのしにくさからフェロセンスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、ナフトキノンスルホン酸、アザキサントンスルホン酸、ベンズアントラキノンスルホン酸、ベンズアンスロンスルホン酸、フェニルアゾベンゼンスルホン酸およびその誘導体のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩のアニオン成分、色素であるアントラキノン アイリンR、アントラキノン バイオレッドRN‐3RNのアニオン成分を用いるのがより好ましい。   Specific examples of compounds containing at least one sulfonic acid group having electrochemically reversible redox activity include ferrocene sulfonic acid, hydroquinone sulfonic acid, anthoquinone sulfonic acid, naphthoquinone sulfonic acid, and azaxanthone sulfone. Anion component of alkali metal salt or ammonium salt such as acid, benzanthraquinone sulfonic acid, benzanthrone sulfonic acid, phenylazobenzene sulfonic acid, benzoquinone sulfonic acid and their derivatives, anthraquinone Irin R, anthraquinone Bio Red RN-3RN Ferrocene sulfonic acid, anthraquinone sulfonic acid, naphthoquinone sulfonic acid, azaxanthone sulfonic acid, benzanthraquinone due to resistance to oxidation and undoping It is more preferable to use an anion component of an alkali metal salt or ammonium salt of sulfonic acid, benzanthrone sulfonic acid, phenylazobenzene sulfonic acid or a derivative thereof, an anthraquinone Irin R which is a pigment, or an anion component of anthraquinone Biored RN-3RN.

それらの中でもキノン構造とスルホン酸基とを有するドーパントは、電気化学活性が高く、かつ酸化還元電位が高い。そのため、該ドーパントを含む導電性高分子膜の酸化還元電位は最も貴へとシフトし、基体を保護する効果を最も高くすることが可能であるため、該ドーパントを用いるのが最も好適である。このようなドーパントの具体例として、アントラキノンスルホン酸やナフトキノンスルホン酸等が挙げられる。   Among them, a dopant having a quinone structure and a sulfonic acid group has high electrochemical activity and a high redox potential. Therefore, the redox potential of the conductive polymer film containing the dopant is shifted to the most noble and the effect of protecting the substrate can be maximized. Therefore, it is most preferable to use the dopant. Specific examples of such a dopant include anthraquinone sulfonic acid and naphthoquinone sulfonic acid.

前記ドーパントは被覆膜中に単独で含有させても良いし、複数存在するように含有させても良い。   The dopant may be contained alone in the coating film, or may be contained so as to exist in plural.

金属表面に形成する導電性高分子の単量体としては、ピロール、チオフェン、アルキルチオフェン、アルキレンジオキシチオフェン、アニリン、フェニレン、アセチレン、フラン、フェニレンビニレン、アセン、アズレンおよびこれらの誘導体、またはこれらを2つ以上組み合わせたものなど、重合した際にπ共役系導電性高分子を与えるものがあげられるが、特に、耐食性および電気伝導度に優れるピロール、アルキルチオフェン、アルキレンジオキシチオフェン、アニリンおよびそれらの誘導体を用いるのが好ましい。   Examples of the conductive polymer monomer formed on the metal surface include pyrrole, thiophene, alkylthiophene, alkylenedioxythiophene, aniline, phenylene, acetylene, furan, phenylene vinylene, acene, azulene and derivatives thereof, or these. Examples of those that give a π-conjugated conductive polymer when polymerized, such as a combination of two or more, are pyrrole, alkylthiophene, alkylenedioxythiophene, aniline, and those excellent in corrosion resistance and electrical conductivity. Derivatives are preferably used.

導電性高分子の合成法には、主に化学重合法、電解重合法があるが、目的とする導電性高分子の種類やその形態によって適切な方法を選択する必要がある。   There are mainly chemical polymerization methods and electrolytic polymerization methods as methods for synthesizing conductive polymers, but it is necessary to select an appropriate method depending on the type and form of the target conductive polymer.

モノマー及び支持電解質を含む電解液中、基体を電極として電解する電解重合法により、基体表面に導電性高分子膜を形成することができる。例えば、ポリピロールの被膜を形成する場合には、単量体であるピロールと支持電解質であるフェロセンスルホン酸ナトリウムやナフトキノンスルホン酸カリウム等を溶液中に溶解させ、基体を陽極として電解することにより、陽極基体上に支持電解質のアニオンをドーパントとして含み、緻密で高電気伝導度のポリピロール膜を得ることができる。   A conductive polymer film can be formed on the surface of the substrate by an electrolytic polymerization method in which the substrate is used as an electrode in an electrolytic solution containing a monomer and a supporting electrolyte. For example, when a polypyrrole film is formed, a monomer pyrrole and a supporting electrolyte such as sodium ferrocene sulfonate or potassium naphthoquinone sulfonate are dissolved in a solution and electrolyzed using the substrate as an anode. A dense polypyrrole film having high electrical conductivity can be obtained by containing the anion of the supporting electrolyte as a dopant on the substrate.

ところで、金属基体を陽極として電解重合を行うと、電解初期には高抵抗の酸化皮膜層の生成が副反応として起こり、導電性高分子/金属界面での抵抗が大きくなり、基体被覆後の材料としての体積抵抗率が大きく増大し、金属材料がもつ良好な電気伝導性が失われることがある。また、その結果、導電性高分子がアイランド状に成長して均一な厚みに電解重合ができないことがある。通常、金属表面には自然酸化被膜層が形成されているため、電解重合法を用いる場合には、自然酸化被膜を除去後、酸化被膜層の生成を抑制しながら導電性高分子層の形成を行うことが好ましい。   By the way, when electropolymerization is performed using a metal substrate as an anode, the formation of a high-resistance oxide film layer occurs as a side reaction in the initial stage of electrolysis, and the resistance at the conductive polymer / metal interface increases. As a result, the volume resistivity may greatly increase, and the good electrical conductivity of the metal material may be lost. As a result, the conductive polymer may grow in an island shape and may not be electropolymerized to a uniform thickness. Usually, a natural oxide film layer is formed on the metal surface. Therefore, when using the electrolytic polymerization method, the conductive polymer layer is formed while suppressing the formation of the oxide film layer after removing the natural oxide film. Preferably it is done.

前述の電気化学的に可逆である酸化還元活性を示す化合物を支持電解質として用いた場合、酸化被膜層の生成を抑制しながら導電性高分子層を電解重合法によって形成できる。該支持電解質のアニオン成分からなるドーパントは、酸化還元活性を有するために電解重合中において電極表面で酸化還元サイクルを繰り返すことができるので、陽極においては該ドーパントの酸化反応も起こり、電解重合時の副反応である金属の酸化被膜生成反応は減少する。また、酸化反応が起こる前には還元剤としての作用もあるので、基体電極近傍では基体表面に酸化被膜生成を抑制する効果も持ち合わせている。上述したような効果により、電解重合初期に起こる絶縁性の金属酸化被膜で金属表面が被覆される前に導電性高分子で被覆することが可能となり、金属が持つ良好な電気伝導性が保持されることになる。   When the above-mentioned compound showing electrochemically reversible redox activity is used as the supporting electrolyte, the conductive polymer layer can be formed by electrolytic polymerization while suppressing the formation of the oxide film layer. Since the dopant composed of the anionic component of the supporting electrolyte has redox activity, it can repeat a redox cycle on the electrode surface during the electropolymerization, so that the oxidation reaction of the dopant also occurs at the anode, The side-reaction metal oxide film formation reaction is reduced. Further, since it also acts as a reducing agent before the oxidation reaction occurs, it also has the effect of suppressing the formation of an oxide film on the substrate surface in the vicinity of the substrate electrode. Due to the effects described above, it becomes possible to coat the metal surface with the insulating metal oxide film that occurs in the early stage of the electropolymerization, before the metal surface is coated, and the good electrical conductivity of the metal is maintained. Will be.

電解重合において、酸化還元活性を有しない化合物を支持電解質として用いる場合には、塩型ではなく酸型として用いることができる。該支持電解質を用いて中性領域で電解重合すると初期段階において酸化皮膜を形成する恐れがある。しかし、該支持電解質を酸型とすることで電解重合液は酸性となり、電解重合初期には、陽極である基体のエッチング反応が進行し、酸化被膜生成が抑制されて電気伝導性の良好な界面を形成し、耐食性の高い導電性高分子膜を被覆できる。塩型から酸型にする方法としては、従来周知の方法が利用でき、例えば、イオン交換樹脂法や逆浸透膜法などを用いることができる。塩型から酸型にすることが困難な場合には、酸型に交換可能な酸型支持電解質を一部混ぜて使用してもよい。また、酸化還元活性を有する支持電解質においても酸型に交換して使用することができる。   In the electropolymerization, when a compound having no redox activity is used as the supporting electrolyte, it can be used as an acid type instead of a salt type. If the supporting electrolyte is used for electrolytic polymerization in a neutral region, an oxide film may be formed in the initial stage. However, by making the supporting electrolyte acidic, the electrolytic polymerization solution becomes acidic, and at the initial stage of the electrolytic polymerization, the etching reaction of the substrate that is the anode proceeds, and the formation of an oxide film is suppressed, and the interface having good electrical conductivity. And a conductive polymer film having high corrosion resistance can be coated. As a method for converting from a salt type to an acid type, conventionally known methods can be used. For example, an ion exchange resin method, a reverse osmosis membrane method, or the like can be used. When it is difficult to change from the salt type to the acid type, a part of the acid type supporting electrolyte exchangeable to the acid type may be used. In addition, the supporting electrolyte having redox activity can be used by exchanging it with an acid type.

化学重合法においては、基体の表面上で、目的とする導電性高分子の単量体と酸化剤溶液を接触させることで、該基体表面に導電性高分子膜を形成することができる。例えばポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン被膜を形成する場合には、基体酸化被膜の除去後の表面上に単量体である3,4−エチレンジオキシチオフェンとドーパントであるフェロセンスルホン酸イオンやナフトキノンスルホン酸イオンを含むエタノール−水混合溶液を塗布後、酸化剤溶液である塩化鉄(III)水溶液を噴霧することによって、ポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン被膜を得ることができる。   In the chemical polymerization method, a conductive polymer film can be formed on the surface of the substrate by bringing the monomer of the desired conductive polymer into contact with the oxidizing agent solution on the surface of the substrate. For example, when a poly-3,4-ethylenedioxythiophene film is formed, 3,4-ethylenedioxythiophene as a monomer and ferrocenesulfonic acid ion as a dopant on the surface after removal of the base oxide film A poly-3,4-ethylenedioxythiophene coating can be obtained by spraying an aqueous solution of iron (III) chloride as an oxidizing agent solution after applying an ethanol-water mixed solution containing naphthoquinone sulfonate ions.

また、化学重合もしくは電解重合によって得られた重合物が可溶性の場合、該重合物を乾燥後、トルエンや塩化メチレン等適切な有機溶媒に溶解させ塗布液とし、該塗布液を金属基体上層に塗布、乾燥することによって導電性高分子膜を形成する溶液法を用いることができる。例えばポリ−3−ヘキシルチオフェンの被膜を形成する場合には、3−ヘキシルチオフェン、酸化剤であるペルオキソ二硫酸アンモニウム、ドーパントである2,7−フェロセンスルホン酸ナトリウムをエタノール−水混合溶液中で溶解、攪拌しながら重合反応を進め、得られたポリ−3−ヘキシルチオフェンを乾燥後にトルエンに溶解させることで塗布液を得、該塗布液を基体表面上に塗布後乾燥させることでポリ−3−ヘキシルチオフェン膜を得ることができる。   In addition, when the polymer obtained by chemical polymerization or electrolytic polymerization is soluble, the polymer is dried and then dissolved in an appropriate organic solvent such as toluene or methylene chloride to form a coating solution, which is then applied to the upper layer of the metal substrate. A solution method of forming a conductive polymer film by drying can be used. For example, when forming a film of poly-3-hexylthiophene, 3-hexylthiophene, ammonium peroxodisulfate as an oxidizing agent, sodium 2,7-ferrocenesulfonate as a dopant is dissolved in an ethanol-water mixed solution, The polymerization reaction proceeds while stirring, and the resulting poly-3-hexylthiophene is dried and dissolved in toluene to obtain a coating solution. The coating solution is applied onto the substrate surface and then dried to obtain poly-3-hexyl. A thiophene film can be obtained.

可溶性導電性高分子溶液の塗布法としては、従来周知の方法が利用できる。例えば、スクリーン印刷法、ディップコート法、ロールコート法、噴霧法、カーテンフローコート法、バーコート法、ドクターブレード法等、刷毛塗布法などがあり、簡便で生産性が高いディップコート法、刷毛塗布法が好ましい。   As a method for applying the soluble conductive polymer solution, a conventionally known method can be used. For example, screen printing method, dip coating method, roll coating method, spraying method, curtain flow coating method, bar coating method, doctor blade method, brush coating method, etc., there are simple and highly productive dip coating method, brush coating The method is preferred.

ところで、化学重合法で得られる導電性高分子膜は、電解重合法で得られる導電性高分子膜に比べて分子量が小さく構造の規則性も低いために電気的物性に劣る場合がある。その場合には、化学重合法で得られる導電性高分子被覆膜を形成した後、該被覆膜を電極として電解重合法により導電性高分子膜を形成することが好ましい。その結果、緻密で規則性の高い電気伝導度を有する導電性高分子膜が最上層に形成され、耐食性に優れ、導電性が良好となる被膜が基体上層に形成されることになる。   By the way, the conductive polymer film obtained by the chemical polymerization method may be inferior in electrical properties because the molecular weight is small and the regularity of the structure is low as compared with the conductive polymer film obtained by the electrolytic polymerization method. In that case, after forming a conductive polymer coating film obtained by a chemical polymerization method, it is preferable to form a conductive polymer film by an electrolytic polymerization method using the coating film as an electrode. As a result, a conductive polymer film having a dense and highly regular electric conductivity is formed on the uppermost layer, and a coating film having excellent corrosion resistance and good conductivity is formed on the upper layer of the substrate.

金属基体としては、ステンレス鋼、鉄、アルミニウム、マグネシウム、チタン、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、錫およびこれらの合金が挙げられるが、生産性や耐食性の観点からステンレス鋼、ニッケル、チタン、コバルト、銅およびこれらの合金を用いるのが好ましい。   Examples of the metal substrate include stainless steel, iron, aluminum, magnesium, titanium, nickel, cobalt, copper, zinc, tin, and alloys thereof. From the viewpoint of productivity and corrosion resistance, stainless steel, nickel, titanium, cobalt, Copper and their alloys are preferably used.

金属基体材料の自然酸化皮膜層を除去する方法としては、従来周知の方法が利用でき、例えば、湿式エッチング法、電解エッチング法、電解研磨法、機械的研磨法、逆スパッタリング法、ブラスト法、置換めっき法などがあるが、安価な湿式エッチング法や機械的研磨法が好適である   As a method for removing the natural oxide film layer of the metal base material, conventionally known methods can be used, for example, a wet etching method, an electrolytic etching method, an electrolytic polishing method, a mechanical polishing method, a reverse sputtering method, a blast method, a substitution method. There are plating methods, but cheap wet etching and mechanical polishing methods are preferred.

導電性高分子膜の形成に関し、複雑な形状の基体に導電性高分子膜を形成したい場合には、あらかじめ基体にプレス加工等の曲げ加工、切削加工、エッチング加工等の機械加工後に、導電性高分子の形成工程を行えば良い。例えば、上記のように加工後の基体を電極として電解重合を行えば、加工によって基体表面が凹凸状態にあっても、均一に導電性高分子膜を形成することが可能となり、安定した性能を得ることができる。   Regarding the formation of a conductive polymer film, if it is desired to form a conductive polymer film on a substrate having a complicated shape, the substrate is previously subjected to electrical conductivity after mechanical processing such as bending, cutting, etching, etc. A polymer forming step may be performed. For example, by performing electropolymerization using the processed substrate as an electrode as described above, it is possible to form a conductive polymer film uniformly even if the substrate surface is uneven due to processing, and stable performance is achieved. Obtainable.

形成する導電性高分子の厚みは、0.001μmから100μmが適当であるが、経済的観点から、0.001μmから50μmがより好ましく、0.001μmから30μmが最も好ましい。0.001μm以下の場合、本発明の被覆膜の効果は得られにくい。   The thickness of the conductive polymer to be formed is suitably from 0.001 μm to 100 μm, but from an economic point of view, 0.001 μm to 50 μm is more preferable, and 0.001 μm to 30 μm is most preferable. When it is 0.001 μm or less, it is difficult to obtain the effect of the coating film of the present invention.

以下、本発明である被覆金属材料の製造方法の一例を、薄板電極を製造する場合を例に説明する。まず板状の金属材料からなる基体を用意する。この基体に対して、導電性高分子と基体との界面抵抗を小さくするために、基体の表面にある自然酸化皮膜を除去する。この操作により、界面抵抗は低減し、電極の体積抵抗率も小さくすることが可能となるうえに、基体との密着性も向上させる効果がある。   Hereinafter, an example of a method for producing a coated metal material according to the present invention will be described by taking a case of producing a thin plate electrode as an example. First, a base made of a plate-like metal material is prepared. In order to reduce the interface resistance between the conductive polymer and the substrate, the natural oxide film on the surface of the substrate is removed. By this operation, the interface resistance can be reduced, the volume resistivity of the electrode can be reduced, and the adhesion to the substrate can be improved.

次に、基体に導電性高分子被覆膜を電解重合法により形成する。電解重合法は、例えばポリピロール膜を形成する場合には、単量体であるピロールと支持電解質を適切な溶媒中に溶解させ、該基体を陽極として電解することにより、該基体の金属表面上に支持電解質のアニオン成分がドーパントとして含有された導電性高分子膜が得られる。上記の工程により薄板電極が製造される。前述したように、電解重合の前に、化学重合法や溶液法によって基体表面上に導電性高分子膜を予め形成し、該化学重合導電性高分子膜上に電解重合被覆膜を形成しても良い。   Next, a conductive polymer coating film is formed on the substrate by an electrolytic polymerization method. For example, in the case of forming a polypyrrole film, the electrolytic polymerization method is performed by dissolving pyrrole as a monomer and a supporting electrolyte in an appropriate solvent, and performing electrolysis using the substrate as an anode to form a metal surface on the substrate. A conductive polymer film containing the anionic component of the supporting electrolyte as a dopant is obtained. A thin plate electrode is manufactured by the above process. As described above, before the electropolymerization, a conductive polymer film is previously formed on the substrate surface by a chemical polymerization method or a solution method, and an electrolytic polymerization coating film is formed on the chemical polymerization conductive polymer film. May be.

以上説明したように、本発明によれば、安価で生産性の高い金属基体を用い、導電性高分子膜を形成することにより、導電性と耐食性に優れた被覆金属材料を提供することができる。特に最上層に電解重合法にてポリピロールやポリアニリンなどの導電性高分子膜を形成した場合には、その効果を最も発揮させることができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a coated metal material excellent in conductivity and corrosion resistance by forming a conductive polymer film using an inexpensive and highly productive metal substrate. . In particular, when a conductive polymer film such as polypyrrole or polyaniline is formed on the uppermost layer by electrolytic polymerization, the effect can be exhibited most.

また、本発明により製造された被覆金属材料は、構造材料等の通常の耐食性材料としてのみならず、帯電防止用材料や電気分解用などの陽極や触媒用電極、給電用ターミナルや集電板など電気伝導性をも要求される用途に用いることができる。   In addition, the coated metal material produced according to the present invention is not only an ordinary corrosion-resistant material such as a structural material, but also an antistatic material, an anode for electrolysis, a catalyst electrode, a power supply terminal, a current collector plate, etc. It can be used for applications requiring electrical conductivity.

以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明は実施例によりなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited at all by the Example.

(実施例1)
金属基体としてSUS304を用いた。SUS304は大きさが20×30mm、厚さが0.2mmの圧延材である。本基体の自然酸化膜を除去するために、10重量%蓚酸水溶液に10分間浸漬後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
Example 1
SUS304 was used as the metal substrate. SUS304 is a rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.2 mm. In order to remove the natural oxide film of the substrate, the substrate was immersed in a 10% by weight oxalic acid aqueous solution for 10 minutes, washed with ethanol, and sufficiently dried with nitrogen gas.

公知文献であるK.Yamamoto,POLYMERS FOR ADVANCED TECHNOLOGIES,11,710−715,(2000)に記載されている方法でフェロセンスルホン酸を作製した。フェロセン60gを400mLのジオキサンに加えた。それを氷浴中で攪拌しながら硫酸(31g)を含むジオキサン120mlをゆっくりと滴下し、12時間攪拌放置した。その溶液を蒸留し、得られたスラリー物質に水500mLを加え、ろ過して未反応物を取り除いた。得られた濾液を蒸留して、さらに不純物を取り除き、フェロセンスルホン酸溶液を得た。これを水−メタノール混合溶液中で再結晶を行い、黄色のフェロセンスルホン酸結晶を得た。(収率9.8%)   K., a known document. Ferrocene sulfonic acid was prepared by the method described in Yamamoto, POLYMERS FOR ADVANCED TECHNOLOGIES, 11, 710-715, (2000). 60 g ferrocene was added to 400 mL dioxane. While stirring it in an ice bath, 120 ml of dioxane containing sulfuric acid (31 g) was slowly added dropwise and left stirring for 12 hours. The solution was distilled, and 500 mL of water was added to the resulting slurry material and filtered to remove unreacted substances. The obtained filtrate was distilled to further remove impurities to obtain a ferrocenesulfonic acid solution. This was recrystallized in a water-methanol mixed solution to obtain yellow ferrocenesulfonic acid crystals. (Yield 9.8%)

次に、電解重合法によって導電性高分子膜を形成した。溶媒を純水として、単量体としてピロール0.45mol/L、支持電解質としてフェロセンスルホン酸0.20mol/L、NaOH水溶液でpH6.5に調整された電解液を用いて、基体を陽極、Niを陰極、電解重合時間は1時間、電流密度を5mA/cmとして電解重合を行い、ポリピロール膜を形成し、薄板を10枚作製した。 Next, a conductive polymer film was formed by electrolytic polymerization. Using pure water as a solvent, 0.45 mol / L of pyrrole as a monomer, 0.20 mol / L of ferrocenesulfonic acid as a supporting electrolyte, and an electrolyte adjusted to pH 6.5 with aqueous NaOH, The cathode was subjected to electropolymerization with an electropolymerization time of 1 hour and a current density of 5 mA / cm 2 to form a polypyrrole film, thereby preparing 10 thin plates.

(実施例2)
金属基体としてSUS304を用いた。SUS304は大きさが20×30mm、厚さが0.2mmの冷間圧延材である。本基体の自然酸化膜を除去するために、5重量%フッ酸水溶液に5分間浸漬後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
(Example 2)
SUS304 was used as the metal substrate. SUS304 is a cold rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.2 mm. In order to remove the natural oxide film of the substrate, the substrate was immersed in a 5 wt% hydrofluoric acid aqueous solution for 5 minutes, washed with ethanol, and sufficiently dried with nitrogen gas.

次に、溶液法によって導電性高分子膜を形成した。pHが7に調整されたエタノール−水混合溶媒中に、3−ヘキシルチオフェン0.4mol/L、酸化剤およびドーパントとして作用する2−アントラセンスルホン酸鉄(III)0.20mol/Lを氷浴温度下で6時間攪拌した。その溶液をろ過後、得られた粉末に対して減圧乾燥を行って完全に溶媒を除去し、その粉末をトルエンに溶解させて塗布溶液を得た。   Next, a conductive polymer film was formed by a solution method. In an ethanol-water mixed solvent whose pH is adjusted to 7, 0.4 mol / L of 3-hexylthiophene and 0.20 mol / L of iron (III) anthracenesulfonate acting as an oxidizing agent and a dopant are added to an ice bath temperature. Stir for 6 hours under. After filtering the solution, the obtained powder was dried under reduced pressure to completely remove the solvent, and the powder was dissolved in toluene to obtain a coating solution.

酸化被膜を除去した基体に、噴霧法によって均一に溶液を塗布後、70℃の乾燥機中でトルエンを除去する工程を繰り返し、厚み15μmのポリ−3−ヘキシルチオフェン膜を形成し、薄板を10枚作製した。   After uniformly applying the solution to the substrate from which the oxide film has been removed by spraying, the process of removing toluene in a dryer at 70 ° C. is repeated to form a poly-3-hexylthiophene film having a thickness of 15 μm. A sheet was produced.

(実施例3)
金属基体としてSUS304を用いた。SUS304は大きさが20×30mm、厚さが0.2mmの冷間圧延材である。本基体の自然酸化膜を除去するために、5重量%フッ酸水溶液に5分間浸漬後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
(Example 3)
SUS304 was used as the metal substrate. SUS304 is a cold rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.2 mm. In order to remove the natural oxide film of the substrate, the substrate was immersed in a 5 wt% hydrofluoric acid aqueous solution for 5 minutes, washed with ethanol, and sufficiently dried with nitrogen gas.

次に、溶液法によって導電性高分子膜を形成した。pHが7に調整されたエタノール−水混合溶媒中に、3−オクチルチオフェン0.4mol/L、酸化剤として塩化鉄(III)0.20mol/L、ドーパントとしてアシッドブラック0.2mol/Lを氷浴温度下で6時間攪拌した。その溶液をろ過後、得られた粉末に対して減圧乾燥を行って完全に溶媒を除去し、その粉末をトルエン溶液に溶解させて塗布溶液を得た。   Next, a conductive polymer film was formed by a solution method. In an ethanol-water mixed solvent whose pH is adjusted to 7, 3-octylthiophene 0.4 mol / L, iron (III) chloride 0.20 mol / L as an oxidizing agent, and acid black 0.2 mol / L as a dopant are iced. Stir for 6 hours under bath temperature. After filtering the solution, the obtained powder was dried under reduced pressure to completely remove the solvent, and the powder was dissolved in a toluene solution to obtain a coating solution.

酸化被膜を除去した基体に、噴霧法によって均一に溶液を塗布後、70℃の乾燥機中でトルエンを除去し、厚み0.1μmのポリ−3−オクチルチオフェン膜を形成した。   After uniformly applying the solution to the substrate from which the oxide film had been removed by a spraying method, toluene was removed in a dryer at 70 ° C. to form a poly-3-octylthiophene film having a thickness of 0.1 μm.

続いて、先に形成したポリ−3−オクチルチオフェン膜を電極として電解重合法によって導電性高分子膜を形成する。溶媒を純水として、単量体としてピロール0.45mol/L、支持電解質としてアシッドブラック0.20mol/Lを含む電解液を用いて、3−オクチルチオフェン膜を陽極、Niを陰極、電解重合時間は1時間、電流密度を5mA/cmとして電解重合を行い、ポリピロール膜を形成し、薄板を10枚作製した。 Subsequently, a conductive polymer film is formed by electrolytic polymerization using the previously formed poly-3-octylthiophene film as an electrode. Using an electrolytic solution containing pure water as a solvent, pyrrole 0.45 mol / L as a monomer, and acid black 0.20 mol / L as a supporting electrolyte, a 3-octylthiophene film as an anode, Ni as a cathode, electropolymerization time Was subjected to electrolytic polymerization for 1 hour at a current density of 5 mA / cm 2 to form a polypyrrole film, and 10 thin plates were produced.

(実施例4)
金属基体としてSUS316Lを用いた。SUS316Lは大きさが20×30mm、厚さが0.2mmの圧延材である。本基体の自然酸化膜を除去するために、10重量%蓚酸水溶液に60分間浸漬後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
Example 4
SUS316L was used as the metal substrate. SUS316L is a rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.2 mm. In order to remove the natural oxide film of the substrate, the substrate was immersed in a 10% by weight oxalic acid aqueous solution for 60 minutes, washed with ethanol, and sufficiently dried with nitrogen gas.

次に、電解重合法によって導電性高分子膜を形成した。溶媒を純水として、単量体としてo−トルイジン0.45mol/L、支持電解質として1,4−ナフトキノン−2−スルホン酸0.20mol/Lを含む電解液を用いて、基体を陽極、Ptを陰極、電解重合時間は1時間、電流密度を5mA/cmとして電解重合を行い、ポリ−o−トルイジン膜を形成し、薄板を10枚作製した。 Next, a conductive polymer film was formed by electrolytic polymerization. Using a pure water as a solvent, an electrolytic solution containing 0.45 mol / L of o-toluidine as a monomer and 0.20 mol / L of 1,4-naphthoquinone-2-sulfonic acid as a supporting electrolyte, the substrate is made into an anode, Pt The cathode was subjected to electropolymerization with an electropolymerization time of 1 hour and a current density of 5 mA / cm 2 to form a poly-o-toluidine film, and 10 thin plates were produced.

(実施例5)
金属基体としてTiを用いた。Tiは大きさが20×30mm、厚さが0.1mmの冷間圧延材である。アセトン中で超音波洗浄によって脱脂後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
(Example 5)
Ti was used as the metal substrate. Ti is a cold-rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.1 mm. After degreasing by ultrasonic cleaning in acetone, it was cleaned with ethanol and sufficiently dried with nitrogen gas.

アシッドレッド112水溶液(1.0mol/L)を陽イオン交換カラムに通して、Na型から酸型のアシッド112水溶液を得た。   Acid Red 112 aqueous solution (1.0 mol / L) was passed through a cation exchange column to obtain Na type acid type acid 112 aqueous solution.

次に、電解重合法によって導電性高分子膜を形成した。溶媒を純水として、単量体としてピロール0.45mol/L、支持電解質としてアシッドレッド112(0.20mol/L)を含む電解液を用いて、基体を陽極、Ptを陰極、電解重合時間は1時間、電流密度を5mA/cmとして電解重合を行い、ポリピロール膜を形成し、薄板を10枚作製した。 Next, a conductive polymer film was formed by electrolytic polymerization. The solvent is pure water, an electrolyte containing 0.45 mol / L of pyrrole as a monomer and Acid Red 112 (0.20 mol / L) as a supporting electrolyte, the base is an anode, Pt is a cathode, and the electropolymerization time is Electropolymerization was performed at a current density of 5 mA / cm 2 for 1 hour to form a polypyrrole film, and 10 thin plates were produced.

(実施例6)
金属基体としてAl合金を用いた。Al合金は大きさが20×30mm、厚さが0.6mmの冷間圧延材である。本基体の自然酸化膜を除去するために、10重量%塩酸水溶液に60分間浸漬後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
(Example 6)
An Al alloy was used as the metal substrate. The Al alloy is a cold rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.6 mm. In order to remove the natural oxide film of the substrate, the substrate was immersed in a 10% by weight hydrochloric acid aqueous solution for 60 minutes, washed with ethanol, and sufficiently dried with nitrogen gas.

1,2−ナフトキノン−4−スルホン酸カリウム水溶液(1.0mol/L)を陽イオン交換カラムに通して、K型からH型の1,2−ナフトキノン−4−スルホン酸水溶液を得た。   1,2-Naphthoquinone-4-sulfonic acid potassium aqueous solution (1.0 mol / L) was passed through a cation exchange column to obtain K-type to H-type 1,2-naphthoquinone-4-sulfonic acid aqueous solution.

次に、電解重合法によって導電性高分子膜を形成した。溶媒を純水とし、単量体としてアニリン0.30mol/L、支持電解質として1,2−ナフトキノン−4−スルホン酸0.60mol/Lを含む電解液を用いて、基体を陽極、SUS304を陰極、銀/塩化銀(飽和KCl)を参照電極、電極電解重合時間は1時間、電解電圧を0.4V(vs銀/塩化銀参照電極)として定電位電解重合を行い、ポリアニリン膜を形成し、薄板を10枚作製した。   Next, a conductive polymer film was formed by electrolytic polymerization. The solvent is pure water, an electrolyte containing 0.30 mol / L of aniline as a monomer, and 0.60 mol / L of 1,2-naphthoquinone-4-sulfonic acid as a supporting electrolyte, the base is an anode, and SUS304 is a cathode. , Silver / silver chloride (saturated KCl) as reference electrode, electrode electropolymerization time is 1 hour, electrolysis voltage is set to 0.4 V (vs silver / silver chloride reference electrode), and a polyaniline film is formed, Ten thin plates were produced.

(実施例7)
金属基体としてSUS304を用いた。SUS304は大きさが20×30mm、厚さが0.2mmの冷間圧延材である。本基体の自然酸化膜を除去するために、10重量%フッ酸水溶液に5分間浸漬後、エタノールで洗浄し、窒素ガスにて十分に乾燥させた。
(Example 7)
SUS304 was used as the metal substrate. SUS304 is a cold rolled material having a size of 20 × 30 mm and a thickness of 0.2 mm. In order to remove the natural oxide film of the substrate, the substrate was immersed in a 10 wt% hydrofluoric acid aqueous solution for 5 minutes, washed with ethanol, and sufficiently dried with nitrogen gas.

基体酸化被膜の除去後の基体表面上に単量体である3,4−エチレンジオキシチオフェンとドーパントを含む酸化剤溶液である2−アントラキノンスルホン酸鉄(III)水溶液を噴霧し、50℃で10分間乾燥する工程を繰り返し、厚みが26μmであるポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン膜を形成し、薄板を10枚作製した。   Sprayed with an aqueous solution of iron (III) 2-anthraquinone sulfonate, which is an oxidant solution containing 3,4-ethylenedioxythiophene as a monomer and a dopant, on the surface of the substrate after the removal of the substrate oxide film at 50 ° C. The process of drying for 10 minutes was repeated to form a poly-3,4-ethylenedioxythiophene film having a thickness of 26 μm, and 10 thin plates were produced.

(比較例1)
実施例1において支持電解質をp−トルエンスルホン酸とした以外は、同様に実施して薄板10枚を作製した。
(Comparative Example 1)
Except that the supporting electrolyte was p-toluenesulfonic acid in Example 1, it carried out similarly and produced 10 sheets.

(比較例2)
実施例2におけるドーパントを塩化鉄(III)とした以外は、同様に実施して薄板10枚作製した。
(Comparative Example 2)
Ten thin plates were produced in the same manner except that the dopant in Example 2 was iron (III) chloride.

(比較例3)
実施例3における支持電解質を蓚酸ナトリウムとした以外は、同様に実施して薄板10枚作製した。
(Comparative Example 3)
Ten thin plates were produced in the same manner except that the supporting electrolyte in Example 3 was sodium oxalate.

(比較例4)
実施例4における支持電解質を過塩素酸とした以外は、同様に実施して薄板10枚作製した。
(Comparative Example 4)
Ten thin plates were produced in the same manner except that the supporting electrolyte in Example 4 was perchloric acid.

(比較例5)
実施例5における支持電解質を安息香酸とした以外は、同様に実施して薄板10枚作製した。
(Comparative Example 5)
Ten thin plates were produced in the same manner except that the supporting electrolyte in Example 5 was benzoic acid.

(比較例6)
実施例6における支持電解質を蟻酸カリウムとした以外は、同様に実施して薄板10枚作製した。
(Comparative Example 6)
Ten thin plates were produced in the same manner except that the supporting electrolyte in Example 6 was potassium formate.

(比較例7)
実施例7におけるドーパントを含む酸化剤溶液をp−トルエンスルホン酸鉄(III)とした以外は、同様に実施して薄板10枚作製した。
(Comparative Example 7)
Ten thin plates were produced in the same manner except that the oxidizing agent solution containing the dopant in Example 7 was iron (III) p-toluenesulfonate.

(比較例8)
特開2001−234361号公報に準じて、金属基体としてSUS304板(20×30mm、厚さが0.2mm)を用いた。本基体をアルカリ脱脂液にて脱脂、続いて10重量%蓚酸にて酸洗後、めっき基体として供した。まず、硫酸ニッケル6水和物1.00mol/L、塩化ニッケル6水和物0.25mol/L、ホウ酸0.65mol/Lとする塩化ニッケルを多く含むワット浴を用いて、電流密度100mA/cm、浴温度50℃にて硫黄含有率の低い第1Niめっき層を形成した。続いて、硫酸ニッケル6水和物1.2mol/L、塩化ニッケル6水和物0.19mol/L、ホウ酸0.65mol/L、1,5−ナフタリンジスルホン酸ナトリウム2.33×10−2mol/L、チオ尿素1.31×10−3mol/Lとするワット浴を用いて、電流密度100mA/cm、浴温度50℃にて、第2Niめっき層を形成した。次に、市販のシアン金めっき浴を用いて、電流密度100mA/cm、浴温度30℃にて、金めっき層を形成し、薄板を10枚作製した。
(Comparative Example 8)
In accordance with Japanese Patent Laid-Open No. 2001-234361, a SUS304 plate (20 × 30 mm, thickness 0.2 mm) was used as the metal substrate. The substrate was degreased with an alkaline degreasing solution, subsequently pickled with 10% by weight oxalic acid, and then used as a plating substrate. First, using a Watt bath containing a large amount of nickel chloride having a nickel sulfate hexahydrate of 1.00 mol / L, nickel chloride hexahydrate of 0.25 mol / L, and boric acid of 0.65 mol / L, a current density of 100 mA / A first Ni plating layer having a low sulfur content was formed at cm 2 and a bath temperature of 50 ° C. Subsequently, nickel sulfate hexahydrate 1.2 mol / L, nickel chloride hexahydrate 0.19 mol / L, boric acid 0.65 mol / L, sodium 1,5-naphthalene disulfonate 2.33 × 10 −2 A second Ni plating layer was formed at a current density of 100 mA / cm 2 and a bath temperature of 50 ° C. using a Watt bath having mol / L and thiourea of 1.31 × 10 −3 mol / L. Next, using a commercially available cyan gold plating bath, a gold plating layer was formed at a current density of 100 mA / cm 2 and a bath temperature of 30 ° C. to produce 10 thin plates.

(比較例9)
特開2000−234177号公報に準じて、炭素鋼(20×30mm、厚さが0.2mm)に市販の酸性亜鉛めっき液を用いて電気亜鉛めっき(8μm)を施し、水洗した後、67.5%濃硝酸2ml/Lを含有する酸溶液に室温で5秒間浸漬して活性化処理を行った。その後、水洗してから、化成処理液に40℃で60秒間浸漬して化成処理を施した。化成処理液組成として、硝酸クロム・9水和物:45g/L、62.5%硫酸:10g/L、硫酸チタン5g/L(溶媒は純水)の組成を用いた。処理中、化成処理液はエアー攪拌により攪拌した。その後、水洗し、70℃の温風により15分間乾燥し、薄板を10枚作製した。
(Comparative Example 9)
In accordance with Japanese Patent Laid-Open No. 2000-234177, carbon steel (20 × 30 mm, thickness 0.2 mm) was electrogalvanized (8 μm) using a commercially available acidic zinc plating solution, washed with water, and then 67. The activation treatment was performed by immersing in an acid solution containing 5% concentrated nitric acid 2 ml / L for 5 seconds at room temperature. Then, after water washing, it was immersed in a chemical conversion treatment solution at 40 ° C. for 60 seconds to perform chemical conversion treatment. As the chemical conversion liquid composition, chromium nitrate nonahydrate: 45 g / L, 62.5% sulfuric acid: 10 g / L, and titanium sulfate 5 g / L (solvent is pure water) were used. During the treatment, the chemical conversion solution was stirred by air stirring. Then, it washed with water and dried for 15 minutes with a 70 degreeC warm air, and produced 10 sheets.

(被覆金属材料の評価)
このようにして作製した本発明にかかる被覆金属材料と比較例の材料に対して、塩水噴霧試験(JIS−Z2371に準ず)を90日間行い、外観検査法により耐食性能を比較した結果を表1に示す。また導電特性を調べるために、塩水噴霧試験後の試験片に対して、4端子測定法により体積抵抗率を比較した結果を表2に示す。
(Evaluation of coated metal materials)
Table 1 shows the results obtained by conducting a salt spray test (according to JIS-Z2371) for 90 days on the coated metal material according to the present invention and the material of the comparative example thus produced, and comparing the corrosion resistance performance by the appearance inspection method. Shown in Table 2 shows the results of comparing the volume resistivity of the test piece after the salt spray test by the four-terminal measurement method in order to investigate the conductive characteristics.

表1の結果によれば、本発明にかかる実施例1から7の各材料は、塩水噴霧試験2160時間後においても全く変化することなく、優れた耐食性を有することが認められた。これに対し、同様に塩水噴霧試験を行った比較例1〜9で作製した材料は、基体の腐食によって導電性高分子膜やめっき層の剥離が確認された。   According to the results of Table 1, it was recognized that each material of Examples 1 to 7 according to the present invention has excellent corrosion resistance without any change even after 2160 hours of the salt spray test. On the other hand, in the materials produced in Comparative Examples 1 to 9 which were similarly subjected to the salt spray test, peeling of the conductive polymer film and the plating layer was confirmed due to corrosion of the substrate.

表2の結果によれば、本発明にかかる実施例1から7の各材料は、塩水噴霧試験2160時間後においても良好な体積抵抗を保持し、優れた導電特性を有することが認められた。これに対し、同様に塩水噴霧試験を行った比較例1〜7および9で作製した材料は、基体の腐食がかなり進行し、体積抵抗率は1.000×1010以上となり用いた測定装置では正確に測定できず、導電特性は消失していた。比較例8で作製した材料においては、金めっき層の剥離によって体積抵抗率は高くなり、集電特性には劣ることが認められた。 According to the results in Table 2, it was confirmed that each of the materials of Examples 1 to 7 according to the present invention retained good volume resistance even after 2160 hours of the salt spray test and had excellent conductive properties. On the other hand, the materials produced in Comparative Examples 1 to 7 and 9 in which the salt spray test was performed in the same manner, the corrosion of the substrate progressed considerably, and the volume resistivity was 1.000 × 10 10 or more. It was not possible to measure accurately, and the conductive properties were lost. In the material produced in Comparative Example 8, it was recognized that the volume resistivity was increased by peeling of the gold plating layer, and the current collection characteristics were inferior.

Figure 0004840966
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Figure 0004840966
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Claims (3)

金属材料からなる基体の表面上に、少なくともドーパント化合物を含む導電性高分子被覆膜が形成された防食導電膜被覆金属材料において、該導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物が少なくとも1つ以上のスルホン酸基を有し、分子量が240以上であり、ベンゼン縮合環及び/又は少なくとも2つ以上の芳香環を有する化合物であり、電気化学的に可逆である酸化還元活性を示す化合物であることを特徴とする防食導電膜被覆金属材料。 In the anticorrosive conductive film- coated metal material in which a conductive polymer coating film containing at least a dopant compound is formed on the surface of a substrate made of a metal material, the dopant compound contained in the conductive polymer coating film is at least 1 A compound having one or more sulfonic acid groups, a molecular weight of 240 or more , a benzene condensed ring and / or at least two aromatic rings, and having electrochemically reversible redox activity A metal material coated with an anticorrosive conductive film , characterized in that it exists. 前記防食導電膜被覆金属材料の導電性高分子被覆膜に含まれるドーパント化合物が、キノン構造を有する化合物であることを特徴とする請求項第項に記載の防食導電膜被覆金属材料。 It said dopant compound contained in the conductive polymer coating film of anticorrosion conductive film coated metal material, anticorrosive conductive film coated metal material of claim 1 wherein which is a compound having a quinone structure. 前記防食導電膜被覆金属材料の導電性高分子被覆膜が、少なくとも電解重合法によって形成されたものを含むことを特徴とする請求項第1項又は請求項第2項に記載の防食導電膜被覆金属材料。 3. The anticorrosive conductive film according to claim 1, wherein the conductive polymer coating film of the metal film coated with the anticorrosive conductive film includes at least one formed by an electrolytic polymerization method. Coated metal material.
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