JP5400543B2 - Method for forming through electrode of circuit board - Google Patents
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Description
本発明は、各種電気・電子機器で使用される配線基板の微細貫通孔に導電性金属を充填し、貫通電極を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a through electrode by filling a fine through hole of a wiring board used in various electric / electronic devices with a conductive metal.
各種の電気・電子機器で使用されている多層化された回路基板の貫通孔への導電金属充填プロセスとしては、従来からめっき法が多用されている。しかし、めっき法のような電気化学的手法による金属充填は、比較的時間を要するものであり、製造効率が良好なものとはいえない。また、めっき法は、アスペクト比(孔深さ/開口径)が高い貫通孔に対しては、めっき液が孔の奥にまで侵入し難いため、対応することができない。近年の回路基板は、高密度化が加速しており、貫通孔もより微細なものとなっていることから、改善を要するものであった。 Conventionally, a plating method has been frequently used as a conductive metal filling process for the through holes of a multilayered circuit board used in various electric and electronic devices. However, filling metal by an electrochemical method such as plating requires a relatively long time, and it cannot be said that the production efficiency is good. Further, the plating method cannot cope with a through-hole having a high aspect ratio (hole depth / opening diameter) because the plating solution hardly penetrates into the hole. In recent years, circuit boards have been required to be improved because the density has been accelerated and the through-holes have become finer.
そこで、上記のようなめっき法による問題を解決するための方法として、充填する金属を溶融状態で微細孔に充填する技術が開示されている(特許文献1)。この方法は、減圧された真空チャンバー内の溶融金属槽に基板を挿入した後、真空チャンバー内を昇圧することで雰囲気圧差により微細孔に溶融金属を充填し、これを凝固させるものである。 Therefore, as a method for solving the problems caused by the plating method as described above, a technique of filling a fine hole in a molten state with a metal to be filled is disclosed (Patent Document 1). In this method, after a substrate is inserted into a molten metal tank in a vacuum chamber that has been depressurized, the inside of the vacuum chamber is pressurized to fill the molten metal into the fine holes due to an atmospheric pressure difference and solidify the molten metal.
上記溶融金属の充填による貫通電極の製造方法は、金属をそのまま孔に充填するものであり、作業効率に優れ、また、雰囲気圧差を適切に設定することで微細孔への充填も可能なものといえる。しかしながら、この方法の場合、基板を溶融状態の金属に浸漬することが必要であり、基板を過度に加熱することとなる。基板に対する熱の影響としては、基板自体の変形・破損もあるが、基板に予め配置させた導電膜が溶融金属と反応して消失するという問題がある。また、基板に予めレジスト膜を形成している場合には、熱によりレジストが変質する可能性がある。従って、上記従来技術においては、溶融金属の熱による問題が大きい。 The manufacturing method of the through electrode by filling the molten metal is to fill the hole with the metal as it is, it is excellent in work efficiency, and it is possible to fill the fine hole by appropriately setting the atmospheric pressure difference. I can say that. However, in this method, it is necessary to immerse the substrate in a molten metal, and the substrate is excessively heated. The influence of heat on the substrate includes deformation and breakage of the substrate itself, but there is a problem that the conductive film previously disposed on the substrate reacts with the molten metal and disappears. In addition, when a resist film is formed on the substrate in advance, the resist may be altered by heat. Therefore, in the above prior art, the problem due to the heat of the molten metal is large.
そこで本発明は、以上のような背景のもと、基板上の微細な貫通孔への金属充填の方法について、基板への熱的影響を軽減することができ、且つ、効率的な製造を可能とする方法を提供することを課題とする。 In view of the above, the present invention can reduce the thermal influence on the substrate and efficiently manufacture the metal filling method for the fine through holes on the substrate in the background as described above. It is an object to provide a method.
本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行い、貫通孔充填のために所定の金属ペーストを用いることとした。即ち、本発明は、貫通孔を有する基板の、前記貫通孔に導電性金属を充填し貫通電極を形成する方法において、純度が99.9重量%以上であり、平均粒径が0.005μm〜1.0μmである金粉、銀粉またはパラジウム粉から選択される一種以上の金属粉と、有機溶剤と、からなる金属ペーストを用い、前記金属ペーストに周波数60Hz〜100kHzの機械的振動を印加しながら前記基板に塗布し、前記金属ペーストの塗布と同時、又は、前記金属ペーストの塗布後に前記貫通孔を他端側から減圧して金属ペーストを貫通孔内に吸引し、その後金属ペーストを焼結する貫通電極の形成方法である。 The present inventors have intensively studied to solve the above problems, and decided to use a predetermined metal paste for filling the through holes. That is, according to the present invention, in a method of forming a through electrode by filling a conductive metal into the through hole of the substrate having the through hole, the purity is 99.9% by weight or more, and the average particle size is 0.005 μm to Using a metal paste composed of one or more metal powders selected from gold powder, silver powder, or palladium powder that is 1.0 μm and an organic solvent, while applying mechanical vibration of a frequency of 60 Hz to 100 kHz to the metal paste Applying to the substrate and simultaneously with the application of the metal paste, or after applying the metal paste, the through hole is decompressed from the other end side to suck the metal paste into the through hole, and then sinter the metal paste This is a method of forming an electrode.
ここで、電子回路基板製造の分野における金属ペーストの適用は、基板表面の配線パターン形成等で広く用いられている。この場合における金属ペーストは、導電金属の粉末とガラスフリットを有機溶剤に分散させたものである。これに対し本発明で使用する金属ペーストは、一般的な金属ペースとは異なり、ガラスフリットを混合しない金属粉末と有機溶剤からなるものである。このようなガラスフリットを使用しない金属ペーストを使用するのは、その構成成分を実質的に金属粉末のみ(有機溶剤は塗布後の乾燥、焼結工程で消失する)とし、これを焼結することで、微小な金属粉末が塑性変形しつつ強固に結合し、緻密な貫通電極となるからである。 Here, the application of the metal paste in the field of manufacturing an electronic circuit board is widely used for forming a wiring pattern on the surface of the board. The metal paste in this case is obtained by dispersing conductive metal powder and glass frit in an organic solvent. On the other hand, the metal paste used in the present invention is composed of a metal powder not mixed with glass frit and an organic solvent, unlike a general metal paste. The use of such a metal paste that does not use glass frit is that the component is substantially only metal powder (the organic solvent disappears in the drying and sintering process after application), and this is sintered. This is because the fine metal powder is firmly bonded while being plastically deformed to form a dense through electrode.
ここで、金属ペーストを構成する金属粉末は、純度が99.9重量%以上であり、平均粒径が0.005μm〜1.0μmである金(Au)粉、銀(Ag)粉またはパラジウム(Pd)粉から選択される一種以上の金属粉である。金属粉末の純度が99.9%以上のものとするのは、純度が99.9重量%未満であると必要な通電性を確保できないおそれがあるからである。また、金属粉の平均粒径は0.005μm〜1.0μmとするのは、1.0μmを超える粒径の金属粉では、微小な貫通孔に充填したときに大きな隙間が生じ、最終的に必要な通電性を確保できないからであり、0.005μm未満の粒径では、金属ペースト中で凝集しやすくなり、基板への塗布において以下に機械的振動を加えようと全面的塗布が難しくなるからである。 Here, the metal powder constituting the metal paste has a purity of 99.9% by weight or more and an average particle diameter of 0.005 μm to 1.0 μm in gold (Au) powder, silver (Ag) powder or palladium ( Pd) One or more metal powders selected from powders. The reason why the purity of the metal powder is 99.9% or more is that if the purity is less than 99.9% by weight, the necessary electrical conductivity may not be ensured. In addition, the average particle size of the metal powder is 0.005 μm to 1.0 μm. In the metal powder having a particle size of more than 1.0 μm, a large gap is generated when the minute through hole is filled, and finally This is because the required electrical conductivity cannot be ensured, and when the particle size is less than 0.005 μm, it tends to agglomerate in the metal paste, and it is difficult to apply the entire surface to apply mechanical vibration to the substrate. It is.
そして、金属ペーストで用いる有機溶剤としては、エステルアルコール、ターピネオール、パインオイル、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、カルビトール、パークロールが好ましい。これらの溶剤は、レジストへの攻撃性も低く、且つ、比較的低温(50℃未満)でも揮発可能であり、金属ペースト塗布後の乾燥を容易なものとすることができる。特に、パークロールは室温での乾燥が可能であり特に好ましい。 The organic solvent used in the metal paste is preferably ester alcohol, terpineol, pine oil, butyl carbitol acetate, butyl carbitol, carbitol, or parkrol. These solvents are less aggressive to the resist and can be volatilized even at a relatively low temperature (less than 50 ° C.), and can be easily dried after the metal paste is applied. In particular, park rolls are particularly preferred because they can be dried at room temperature.
塗布する金属ペーストの金属粉末と有機溶剤との配合割合については、金属粉末を80〜99重量%とし有機溶剤を1〜20重量%として配合する。かかる割合にするのは、金属粉末の凝集を防ぎ、且つ充填するのに十分な金属粉を供給できるようにするためである。 About the mixture ratio of the metal powder of the metal paste to apply | coat, and an organic solvent, it mix | blends metal powder as 80 to 99 weight% and an organic solvent as 1 to 20 weight%. The reason for this ratio is to prevent the metal powder from agglomerating and to supply sufficient metal powder to fill.
また、本発明で使用する金属ペーストは、添加剤を含んでも良い。この添加剤としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、アルキッド樹脂から選択される一種以上がある。例えば、アクリル系樹脂としては、メタクリル酸メチル重合体を、セルロース系樹脂としては、エチルセルロースを、アルキッド樹脂としては、無水フタル酸樹脂を、それぞれ挙げることができる。これらの添加剤は、金属ペースト中での金属粉末の凝集を抑制する作用を有し、金属ペーストを均質なものとする。添加剤の添加量は、金属ペーストに対して2重量%以下の割合とすることが好ましい。安定した凝集抑制効果を維持しつつ、金属粉含有量を貫通孔充填に十分な範囲内とすることができる。 Moreover, the metal paste used in the present invention may contain an additive. The additive includes one or more selected from acrylic resins, cellulose resins, and alkyd resins. For example, methyl methacrylate polymer can be cited as the acrylic resin, ethyl cellulose can be cited as the cellulose resin, and phthalic anhydride resin can be cited as the alkyd resin. These additives have an action of suppressing aggregation of the metal powder in the metal paste, and make the metal paste homogeneous. The amount of the additive added is preferably 2% by weight or less with respect to the metal paste. The metal powder content can be within a range sufficient for filling the through holes while maintaining a stable aggregation suppressing effect.
以上説明した金属ペーストを貫通孔充填のために基板に塗布するとき、金属ペーストに所定周波数の機械的振動を与えることが必要である。この機械的振動を付与しながらのペースト塗布は、一般的な(ガラスフリットを含む)金属ペーストの塗布では行われない特徴的な作業である。本発明における金属ペーストは、有機溶剤に金属粉末のみが分散したものであり、流動性に乏しいため基板に塗布したとき均一に塗り広げることが困難である。本発明は、金属ペーストに所定周波数の機械的振動を印加することで、金属ペーストを基板に塗り広げることができる。 When the metal paste described above is applied to a substrate for filling a through hole, it is necessary to give a mechanical vibration of a predetermined frequency to the metal paste. The application of paste while applying mechanical vibration is a characteristic operation that is not performed by the application of a general metal paste (including glass frit). The metal paste in the present invention is obtained by dispersing only a metal powder in an organic solvent and has poor fluidity, so that it is difficult to spread uniformly when applied to a substrate. The present invention can spread a metal paste on a substrate by applying mechanical vibration of a predetermined frequency to the metal paste.
この金属ペーストに印加する機械的振動の周波数は60Hz〜100kHzとする。この範囲での振動により、金属ペーストの流動性の悪さを解消することができる。そして、より好ましくは、100Hz〜30kHzとするのが良い。基板に全面的に塗り広げるためである。 The frequency of mechanical vibration applied to this metal paste is 60 Hz to 100 kHz. By the vibration in this range, the poor fluidity of the metal paste can be eliminated. More preferably, the frequency is 100 Hz to 30 kHz. This is for spreading the entire surface of the substrate.
金属ペーストを基板に塗布する手法としては、基板に金属ペーストを吐出させた後又は吐出させつつ、上記周波数で振動させたブレード(ヘラ)を金属ペーストに接触させながら基板全体に塗り広げることが好ましい。金属ペーストに対し直接機械的振動を与えることにより、金属ペースト中の金属粉末に振動が加わり、流動性が向上する。かかる目的から、機械的振動は金属ペーストのみに付与されることが好ましく、また上記範囲内の周波数を維持するためにも、基板に対してはブレードが接触しないよう維持することが好ましい。このブレード先端と基盤との距離(ギャップ)としては、50〜200μmとするのが好ましい。尚、ここでの基板とは、その表面にレジスト層、導電膜等が形成された状態のものを含む。よって、ブレード先端と基板とのギャップとは、基板の最表面との距離を意味する。 As a method of applying the metal paste to the substrate, it is preferable to spread the entire surface of the substrate while bringing the blade (scalar) vibrated at the above frequency into contact with the metal paste after or while discharging the metal paste onto the substrate. . By applying mechanical vibration directly to the metal paste, vibration is applied to the metal powder in the metal paste, and fluidity is improved. For this purpose, the mechanical vibration is preferably applied only to the metal paste, and it is preferable to keep the blade from contacting the substrate in order to maintain the frequency within the above range. The distance (gap) between the blade tip and the base is preferably 50 to 200 μm. In addition, the board | substrate here includes the thing in the state in which the resist layer, the electrically conductive film, etc. were formed in the surface. Therefore, the gap between the blade tip and the substrate means the distance from the outermost surface of the substrate.
上記の金属ペースト塗布により、基板に全面的に塗り広げられた金属ペーストは、そのままの状態では貫通孔に完全に侵入し難い。そこで、貫通孔に金属ペーストを完全に充填するためには、貫通孔を減圧して金属ペーストを吸引することが好ましい。貫通孔の減圧方法としては、基板の裏面(金属ペーストを塗布する面の反対)を減圧するのが好ましく、−10〜−90kPaとするのが好ましい。 The metal paste spread on the entire surface of the substrate by applying the metal paste is difficult to completely penetrate the through hole as it is. Therefore, in order to completely fill the through hole with the metal paste, it is preferable to suck the metal paste by reducing the pressure of the through hole. As a method for depressurizing the through hole, it is preferable to depressurize the back surface of the substrate (opposite to the surface to which the metal paste is applied), and it is preferable to set to −10 to −90 kPa.
貫通孔へ金属ペーストを充填した後には、金属ペーストの乾燥を行うのが好ましい。充填後にすぐに焼結を行うと、有機溶剤揮発によるガス発生が急激になり焼結体の形状に影響が生じるからである。また、一旦乾燥を行うことで、貫通孔中の金属粉末を仮固定することができ、後述するレジスト除去等の際の取り扱い性を確保することができるからである。この乾燥工程は、乾燥温度は100℃以下が好ましく、室温程度でも可能である。 It is preferable to dry the metal paste after filling the through holes with the metal paste. This is because if the sintering is carried out immediately after filling, gas generation due to volatilization of the organic solvent is abrupt and the shape of the sintered body is affected. Moreover, it is because the metal powder in a through-hole can be temporarily fixed by once drying, and the handleability at the time of the resist removal etc. which are mentioned later can be ensured. In this drying step, the drying temperature is preferably 100 ° C. or lower, and can be about room temperature.
金属ペーストを焼結するときの加熱温度は150〜300℃とするのが好ましい。150℃未満では、貫通孔内の金属粉を十分に焼結できないからであり、300℃を超えると、焼結が過度に進行し、金属粉末間のネッキングの進行により硬くなり過ぎたり、体積減少が生じるからである。また、焼結温度が高すぎると、基板及びその上の導電膜への影響が懸念されるからである。 The heating temperature when sintering the metal paste is preferably 150 to 300 ° C. If the temperature is lower than 150 ° C., the metal powder in the through-hole cannot be sufficiently sintered. If the temperature exceeds 300 ° C., the sintering proceeds excessively and becomes too hard due to the progress of necking between the metal powders, or the volume decreases. This is because. Further, if the sintering temperature is too high, there is a concern about the influence on the substrate and the conductive film thereon.
以上の金属ペーストの塗布、焼結により貫通孔内の金属粉末は焼結固化され貫通電極となる。上記条件で形成される貫通電極は、貫通孔壁面との間に隙間を生じさせるものではなく、また、適度に緻密化され良好な導電体となっている。 By applying and sintering the above metal paste, the metal powder in the through hole is sintered and solidified to form a through electrode. The through electrode formed under the above conditions does not cause a gap with the wall surface of the through hole, and is appropriately densified to form a good conductor.
尚、本発明において適用される基板については、特に限定はない。貫通孔について、その孔径も微細なものに対応可能であり、5〜50μm程度の微細孔への充填も可能となっている。また、基板上に予めレジスト膜を形成したものであっても対応可能である。この場合、金属ペーストを塗布(充填)後、金属ペーストを乾燥した後にレジストを除去するのが好ましい。上記のように乾燥温度は、比較的低温とすることができこの温度でレジストがダメージを受けることはない。そして、乾燥後の金属ペーストは仮固定された状態であり、このときにレジスト除去をしても貫通孔内の金属粉末が脱落することはない。よって、乾燥、レジスト除去、焼結の順序での作業により、効率的な貫通電極を形成することができる。 The substrate applied in the present invention is not particularly limited. About a through-hole, the hole diameter can respond to a fine thing, and the filling to a fine hole of about 5-50 micrometers is also possible. Further, it is possible to cope with a substrate in which a resist film is formed in advance. In this case, it is preferable to remove the resist after applying (filling) the metal paste and drying the metal paste. As described above, the drying temperature can be relatively low, and the resist is not damaged at this temperature. The dried metal paste is temporarily fixed. At this time, even if the resist is removed, the metal powder in the through hole does not fall off. Therefore, an efficient through electrode can be formed by operations in the order of drying, resist removal, and sintering.
以上説明したように、本発明によれば、アスペクト比の高い微小な貫通孔に対する導電金属の充填を効率的に比較的低温で実施することができる。本発明では、基板上のレジストや導電膜にダメージを与えることもなく、効率的な回路基板の製造が可能となる。 As described above, according to the present invention, the conductive metal can be efficiently filled into the minute through hole having a high aspect ratio at a relatively low temperature. In the present invention, an efficient circuit board can be manufactured without damaging the resist and the conductive film on the board.
以下、本発明の好適な実施形態を説明する。本実施形態では、まず、金属ペーストを製造し、これを種々の周波数の機械的振動を印加しつつ基板に塗布し、その広がり状態を評価して好適な周波数の範囲を検討した。金属ペーストは、湿式還元法により製造された粒径0.3μmの金からなる金属粉末(純度99.99重量%)を、有機溶剤であるパークロールに混合して調整したものを用いた(金粉末の混合量99%)。そして、この金属ペーストを基板(材質:シリコン、寸法:30mm×20mm厚さ250μm)に塗布した。尚、金属粉末の平均粒径は、光透過式遠心沈降法により、波長780nmのレーザー光の透過光強度から検出した粒度分布から算出した。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. In this embodiment, first, a metal paste was manufactured, applied to a substrate while applying mechanical vibrations of various frequencies, and the spread state was evaluated to examine a suitable frequency range. The metal paste used was prepared by mixing metal powder (purity 99.99% by weight) made of gold having a particle diameter of 0.3 μm manufactured by a wet reduction method with park roll as an organic solvent (gold). Powder mixing amount 99%). Then, this metal paste was applied to a substrate (material: silicon, size: 30 mm × 20 mm, thickness 250 μm). The average particle size of the metal powder was calculated from the particle size distribution detected from the transmitted light intensity of laser light having a wavelength of 780 nm by a light transmission centrifugal sedimentation method.
このとき、図1のように、金属ペーストを基板上に滴下し、これを所定周波数で振動するシリコンブレード(ブレード幅30mm)で基板全面に塗り広げた後の金属ペースト状態から被覆率を求めた。このとき、ブレードと基板とのギャップ及びブレードの周波数を変更しつつ検討を行った。この評価結果を表1に示す。 At this time, as shown in FIG. 1, the metal paste was dropped on the substrate, and the coverage was obtained from the state of the metal paste after spreading the entire surface of the substrate with a silicon blade (blade width 30 mm) vibrating at a predetermined frequency. . At this time, examination was performed while changing the gap between the blade and the substrate and the frequency of the blade. The evaluation results are shown in Table 1.
表1のとおり、金属ペーストへの機械的振動の印加により、金属ペーストの塗布状態の改善効果があることがわかる。そして、金属ペーストを充填する貫通孔の分布状態にもよるが、上記評価基準で少なくとも「B」以上の被覆が要求されるといえ、そのためには振動周波数を60Hz〜100kHzとすることが必要であり、最も好ましくは100Hz〜30kHzとすることが必要であるといえる。また、ブレードと基板とのギャップについては、50〜200μmとするのが好ましいことも確認できる。 As shown in Table 1, it can be seen that application of mechanical vibration to the metal paste has an effect of improving the application state of the metal paste. Depending on the distribution state of the through-holes filled with the metal paste, it can be said that at least “B” or more coating is required according to the above evaluation criteria, and for that purpose, the vibration frequency needs to be 60 Hz to 100 kHz. Yes, and most preferably 100 Hz to 30 kHz. It can also be confirmed that the gap between the blade and the substrate is preferably 50 to 200 μm.
以上の予備試験を経て、実際に貫通孔を有する基板への貫通電極形成を行った。上記基板と同一寸法に貫通孔(孔径:10μm)を90個形成したものについて、ペースト塗布(充填)、乾燥、焼結を行った。このときの金属ペースト塗布の条件は、周波数を119Hz、30kHz、100kHzとし、上記と同様のシリコンブレードを使用した。 Through the above preliminary test, a through electrode was actually formed on a substrate having a through hole. About 90 through-holes (hole diameter: 10 μm) having the same dimensions as the substrate, paste application (filling), drying, and sintering were performed. The metal paste application conditions at this time were 119 Hz, 30 kHz, and 100 kHz, and a silicon blade similar to the above was used.
そして、上部のみに開口を有する基板と同寸法の密閉容器の上に、多孔質セラミック板を載置し、セラミック板の上に上記金属ペースト塗布後の基板を載置して密閉空間を形成した。その後、上記の密閉容器を−10kPa〜−90kPaで減圧し、セラミック板を介して基板塗布面のペーストを吸引した。その後、基板全体を90℃で1時間乾燥し、その後230℃で2時間加熱して金属粉末の焼結を行った。 Then, a porous ceramic plate was placed on a sealed container having the same dimensions as the substrate having an opening only in the upper portion, and the substrate after applying the metal paste was placed on the ceramic plate to form a sealed space. . Thereafter, the above-mentioned sealed container was decompressed at −10 kPa to −90 kPa, and the paste on the substrate coating surface was sucked through the ceramic plate. Thereafter, the entire substrate was dried at 90 ° C. for 1 hour, and then heated at 230 ° C. for 2 hours to sinter the metal powder.
上記により形成した貫通電極の基板断面をX線観察し、図2のように、貫通孔全体に焼結体が形成されたものを「良」、貫通孔中に空隙部分のあるものを「不良」とし、基板の貫通孔90個中における「良」の数をカウントし、孔埋込率とした。 The cross section of the substrate of the through electrode formed as described above is observed by X-ray. As shown in FIG. 2, “good” means that the sintered body is formed in the entire through hole, and “bad” means that there is a void in the through hole. The number of “good” in the 90 through-holes of the substrate was counted and used as the hole embedding rate.
本実施例(金属ペースト塗布時の周波数:119Hz)における貫通電極の孔埋込率は96%であった。尚、同様の工程で周波数30kHz、100kHzとして貫通電極を形成したが、孔埋込率は95〜100%の範囲内にあり、良好なものであった。尚、上記実施例では、金属粉末の焼結温度を230℃に設定したものであったが、上記以外に180℃、280℃で焼結したときも同様の結果が得られた。 In this example (frequency at the time of metal paste application: 119 Hz), the hole filling rate of the through electrode was 96%. In addition, although the penetration electrode was formed by frequency 30kHz and 100kHz in the same process, the hole embedding rate was in the range of 95-100%, and was favorable. In the above examples, the sintering temperature of the metal powder was set to 230 ° C., but the same results were obtained when sintering at 180 ° C. and 280 ° C. in addition to the above.
本発明は、各種電子・電気機器の回路基板に設置される貫通電極の形成に有用である。本発明は、今後より小型化・高集積化が進行する回路基板製造の要求に応えるものである。 The present invention is useful for forming a through electrode installed on a circuit board of various electronic / electrical devices. The present invention meets the demand for circuit board manufacturing, which will be further miniaturized and highly integrated.
Claims (7)
純度が99.9重量%以上であり、平均粒径が0.005μm〜1.0μmである金粉、銀粉またはパラジウム粉から選択される一種以上の金属粉と、有機溶剤とからなり、ガラスフリットを含まない金属ペーストを用い、
前記金属ペーストに周波数60Hz〜100kHzの機械的振動を印加しながら前記基板に塗布し、
前記金属ペーストの塗布と同時、又は、前記金属ペーストの塗布後に前記貫通孔を他端側から減圧して金属ペーストを貫通孔内に吸引し、
その後金属ペーストを150〜300℃の加熱温度で焼結する貫通電極の形成方法。 In the method of forming a through electrode by filling the through hole with a conductive metal of a substrate having a through hole,
Purity is 99.9% by weight or more, gold powder having an average particle diameter of 0.005Myuemu~1.0Myuemu, and one or more metal powder selected from silver or palladium powder, Ri Do and an organic solvent, a glass frit Use a metal paste that does not contain
While applying mechanical vibration with a frequency of 60 Hz to 100 kHz to the metal paste, it is applied to the substrate,
Simultaneously with the application of the metal paste, or after applying the metal paste, the through hole is decompressed from the other end side to suck the metal paste into the through hole,
Thereafter, a method of forming a through electrode in which the metal paste is sintered at a heating temperature of 150 to 300 ° C.
The method for forming a through electrode according to any one of claims 1 to 6 , wherein the metal paste further contains one or more selected from an acrylic resin, a cellulose resin, and an alkyd resin as an additive.
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