JP6269954B2 - 積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
電子デバイスは、ガラス製、樹脂製、金属製等の基板の表面に電子デバイス用の機能層(LCDであれば、薄膜トランジスタ(TFT)、カラーフィルタ(CF))を形成することにより製造される。
図1は、積層体1の一例を示した要部拡大側面図である。
基板2は、その表面(露出面)2aに機能層が形成される。基板2としては、ガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できる。これらの基板のなかでも、ガラス基板は、耐薬品性、耐透湿性に優れ、かつ、線膨張係数が小さいので、電子デバイス用の基板2として好適である。また、線膨張係数が小さくなるに従い、高温下で形成される機能層のパターンが冷却時に、ずれ難くなる利点もある。
補強板3としては、ガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できる。
樹脂層4は、樹脂層4と補強板3との間で剥離するのを防止するため、補強板3との間の結合力が、基板2との間の結合力よりも高く設定される。これにより、剥離工程では、樹脂層4と基板2との界面が剥離される。
機能層形成工程を経ることにより積層体1の基板2の表面2aには、機能層が形成される。機能層の形成方法としては、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、PVD(Physical Vapor Deposition)法等の蒸着法、スパッタ法が用いられる。機能層は、フォトリソグラフィ法、エッチング法によって所定のパターンに形成される。
図3は、剥離開始部作成工程にて使用される剥離開始部作成装置10の要部構成を示した説明図であり、図3(A)は、積層体6とナイフ(剥離刃)Nとの位置関係を示した説明図、図3(B)は、ナイフNによって界面24に剥離開始部26を作成する説明図、図3(C)は、界面28に剥離開始部30を作成する直前状態を示した説明図、図3(D)は、ナイフNによって界面28に剥離開始部30を作成する説明図、図3(E)は、剥離開始部26、30が作成された積層体6の説明図である。
剥離開始部作成装置10による剥離開始部作成方法によれば、ナイフNの刺入位置を、積層体6の角部6Aaであって、積層体6の厚さ方向において重なる位置に設定し、かつナイフNの刺入量を、界面24、28ごとに異なるように設定している。
図7は、実施形態の剥離装置(剥離部)40の構成を示した縦断面図であり、図8は、剥離装置40の剥離ユニット42に対する複数の可動体44の配置位置を模式的に示した剥離ユニット42の平面図である。なお、図7は図8のD−D線に沿う断面図に相当し、また、図8においては積層体6を実線で示している。
図9(A)は、剥離ユニット42の平面図であり、図9(B)は、図9(A)のE−E線に沿う剥離ユニット42の拡大縦断面図である。また、図9(C)は、剥離ユニット42を構成する矩形の板状の可撓性板52に対して、剥離ユニット42を構成する吸着部54が両面接着テープ56を介して着脱自在に備えられたことを示す剥離ユニット42の拡大縦断面図である。
可撓性板52の下面には、図7に示した円盤状の複数の可動体44が、図8の如く碁盤目状に固定される。これらの可動体44は、可撓性板52にボルト等の締結部材によって固定されるが、ボルトに代えて接着固定されてもよい。これらの可動体44は、コントローラ50によって駆動制御された駆動装置48によって、独立して昇降移動される。
図11(A)〜(C)〜図12(A)〜(C)は、図3にて説明した剥離開始部作成方法によって角部6Aaに剥離開始部26、30が作成された積層体6の剥離方法が示されている。すなわち、同図には、積層体6の補強板3A、3Bを剥離する剥離方法が時系列的に示されている。
図13は、積層体6のコーナーカット部6Aの角部6Aaに、ナイフNの刃先Naが接触した状態を示した平面図である。また、ナイフNは平板状に構成され、その縁部に沿って直線状の刃先Naが備えられている。
Claims (3)
- 第1の基板と第2の基板とが剥離可能に貼り付けられた矩形状の積層体に対し、
前記積層体の角部に備えられたコーナーカット部から、前記第1の基板と前記第2の基板との界面に刃先が所定量刺入され、前記界面に剥離開始部を作成する剥離刃と、
前記剥離開始部を起点として前記界面を順次剥離する剥離部と、
を有し、
前記剥離刃の前記刃先は、前記コーナーカット部の両端の鈍角角部のうち一方の鈍角角部に点接触で接触されたのち前記界面に刺入され、
角取り角度が45度、21.8度又は18.4度である前記コーナーカット部を備えた前記積層体に対し、
前記積層体のいずれかの辺と前記剥離刃の刃先線とのなす角度が、同一面上において23度以上44度以下に設定される積層体の剥離装置。 - 第1の基板と第2の基板とが剥離可能に貼り付けられてなる矩形状の積層体に対し、前記第1の基板と前記第2の基板との界面を剥離する積層体の剥離方法において、
前記積層体の角部に備えられたコーナーカット部から、前記第1の基板と前記第2の基板との界面に、剥離刃の刃先を所定量刺入して、前記界面に剥離開始部を作成する剥離開始部作成工程と、
前記剥離開始部を起点として前記界面を剥離する剥離工程と、
を有し、
前記剥離開始部作成工程において、前記剥離刃の前記刃先は、前記コーナーカット部の両端の鈍角角部のうち一方の鈍角角部に点接触で接触されたのち前記界面に刺入され、
角取り角度が45度、21.8度又は18.4度である前記コーナーカット部を備えた前記積層体に対し、
前記剥離開始部作成工程において、前記積層体のいずれかの辺と前記剥離刃の刃先線とのなす角度が、同一面上において23度以上44度以下に設定される積層体の剥離方法。 - 第1の基板と第2の基板とが剥離可能に貼り付けられてなる矩形状の積層体に対し、前記第1の基板の露出面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記第1の基板から前記第2の基板を分離する分離工程と、を有する電子デバイスの製造方法において、
前記分離工程は、
前記積層体の角部に備えられたコーナーカット部から、前記第1の基板と前記第2の基板との界面に、剥離刃の刃先を所定量刺入して、前記界面に剥離開始部を作成する剥離開始部作成工程と、
前記剥離開始部を起点として前記界面を剥離する剥離工程と、
を有し、
前記剥離開始部作成工程において、前記剥離刃の前記刃先は、前記コーナーカット部の両端の鈍角角部のうち一方の鈍角角部に点接触で接触されたのち前記界面に刺入され、
角取り角度が45度、21.8度又は18.4度である前記コーナーカット部を備えた前記積層体に対し、
前記剥離開始部作成工程において、前記積層体のいずれかの辺と前記剥離刃の刃先線とのなす角度が、同一面上において23度以上44度以下に設定される電子デバイスの製造方法。
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