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JP7337449B2 - Method for manufacturing a dressing plate and method for dressing a cutting blade - Google Patents
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JP7337449B2 - Method for manufacturing a dressing plate and method for dressing a cutting blade - Google Patents

Method for manufacturing a dressing plate and method for dressing a cutting blade Download PDF

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Description

本発明は、半導体ウェーハ等の被加工物を切削する環状の切削ブレードの使用を開始する際に実施される目立て方法において使用される目立てプレートと、切削ブレードの目立て方法と、に関する。 The present invention relates to a dressing plate for use in a dressing method implemented at the beginning of use of an annular cutting blade for cutting workpieces such as semiconductor wafers, and a method for dressing the cutting blade.

携帯電話やコンピュータ等の電子機器に使用されるデバイスチップは、表面に複数のデバイスが並べて配設された半導体ウェーハをデバイス毎に分割することで形成される。半導体ウェーハを分割する際には、例えば、環状の切削ブレードを備える切削装置が使用される。高速に回転する切削ブレードを被加工物に対して切り込ませながら、切削ブレードと被加工物とを相対的に移動させることで、この移動の経路に沿って被加工物を切削できる。 Device chips used in electronic equipment such as mobile phones and computers are formed by dividing a semiconductor wafer on which a plurality of devices are arranged side by side. A cutting device with, for example, an annular cutting blade is used when dividing a semiconductor wafer. By moving the cutting blade and the workpiece relatively while making the cutting blade rotating at high speed cut into the workpiece, the workpiece can be cut along the path of this movement.

切削ブレードは、ダイヤモンド等の砥粒と、該砥粒を分散固定するボンド(結合材)と、を有する。切削ブレードの外周側の切削面は、ボンドと、該ボンドから突出した砥粒と、により凹凸形状が形成されている。そして、回転する切削ブレードを被加工物に切り込ませると、ボンドから適度に露出した砥粒が被加工物に接触し、被加工物が切削される。このとき、切削に伴い被加工物から生じた切削屑は、チップポケットとして機能する該凹凸形状に一時的に収容され、該凹凸形状から脱離することで効率的に排除される。 The cutting blade has abrasive grains such as diamond and a bond (bonding material) that disperses and fixes the abrasive grains. The cutting surface on the outer peripheral side of the cutting blade has an uneven shape formed by a bond and abrasive grains protruding from the bond. Then, when the rotating cutting blade is caused to cut into the work piece, the abrasive grains appropriately exposed from the bond come into contact with the work piece, and the work piece is cut. At this time, shavings generated from the workpiece due to cutting are temporarily accommodated in the concave-convex shape functioning as a chip pocket, and removed from the concave-convex shape to be efficiently removed.

ところで、未使用の切削ブレードは、砥粒がボンドから適度に露出されておらず、外周側にチップポケットとして機能できる大きさの凹凸形状が形成されていない。そのため、そのままでは被加工物を適切に切削できず、十分な性能を発揮できない。そこで、未使用の切削ブレードを切削装置に装着した後、被加工物を該切削ブレードで切削する前に、被加工物と同様の材料で形成されたダミーウェーハと呼ばれる基板を該切削ブレードに切削させる目立て(プリカット)と呼ばれる処理が実施される。 By the way, in the unused cutting blade, the abrasive grains are not appropriately exposed from the bond, and the uneven shape large enough to function as a chip pocket is not formed on the outer peripheral side. Therefore, as it is, the workpiece cannot be cut appropriately, and sufficient performance cannot be exhibited. Therefore, after attaching an unused cutting blade to the cutting device and before cutting the workpiece with the cutting blade, a substrate called a dummy wafer made of the same material as the workpiece is cut on the cutting blade. A process called pre-cutting is performed.

ダミーウェーハには、例えば、デバイスが形成される半導体ウェーハに求められる品質に満たない品質の半導体ウェーハ等が使用される。目立てを実施すると、切削ブレードのボンドが消耗し、砥粒が適度にボンドから露出するとともにチップポケットとして機能できる大きさの凹凸が切削ブレードの切削面に形成される。そして、目立てが実施された切削ブレードを使用すると、被加工物を高品質に加工できる。 For the dummy wafer, for example, a semiconductor wafer whose quality is less than the quality required for a semiconductor wafer on which devices are formed, or the like is used. When dressing is carried out, the bond of the cutting blade is consumed, the abrasive grains are appropriately exposed from the bond, and unevenness large enough to function as a chip pocket is formed on the cutting surface of the cutting blade. The use of a sharpened cutting blade enables high-quality machining of the workpiece.

しかしながら、目立てを十分に実施するためには、被加工物と同質の数枚のダミーウェーハを準備し、これを切削ブレードに切削させなければならない。特に、ダミーウェーハに要する金銭的コストと、数枚のダミーウェーハを切削する時間的コストと、が大きな問題となっていた。そこで、未使用の切削ブレードの目立てを実施する際に、ダミーウェーハに代えて、砥粒と、該砥粒を分散固定するボンドと、を有するドレッシングボードが使用された(例えば、特許文献1参照)。 However, in order to sufficiently dress the workpiece, several dummy wafers of the same quality as the workpiece must be prepared and cut by the cutting blade. In particular, the monetary cost required for dummy wafers and the time cost required for cutting several dummy wafers have been major problems. Therefore, when dressing an unused cutting blade, instead of a dummy wafer, a dressing board having abrasive grains and bonds for dispersing and fixing the abrasive grains was used (see, for example, Patent Document 1. ).

特開2011-11280号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2011-11280

ドレッシングボードを使用すると、切削ブレードの目立てを効率的に進行できる。しかしながら、特にサイズの小さい砥粒を含む切削ブレードにおいては、ドレッシングボードを使用しても切削ブレードにチップポケットとして機能する凹凸形状を十分に形成できない場合があった。そのため、切削ブレードの目立てにドレッシングボードを使用する場合でも、被加工物を切削ブレードで切削する前に、やはり、被加工物と同様の材質のダミーウェーハを切削する必要があった。 The use of a dressing board allows the cutting blade sharpening to proceed efficiently. However, in the case of cutting blades containing particularly small-sized abrasive grains, even with the use of a dressing board, there have been cases in which the cutting blades cannot be sufficiently formed with uneven shapes that function as chip pockets. Therefore, even when a dressing board is used for dressing the cutting blade, it is still necessary to cut a dummy wafer made of the same material as the workpiece before cutting the workpiece with the cutting blade.

ところで、ダミーウェーハは、厚さ等の形状が統一されておらず、個々のダミーウェーハで厚さが一致していない場合がある。そのため、切削ブレードの目立てのためにダミーウェーハを所定の条件で切削するには、個々のダミーウェーハの厚さを測定し、切削装置に該厚さを入力する必要があった。 By the way, the dummy wafers are not uniform in shape such as thickness, and there are cases where individual dummy wafers do not have the same thickness. Therefore, in order to cut the dummy wafers under predetermined conditions for dressing the cutting blade, it was necessary to measure the thickness of each dummy wafer and input the thickness into the cutting device.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、厚さに関する情報を容易に取得でき、切削ブレードの目立ての際にダミーウェーハに代えて使用される目立てプレート、及び切削ブレードの目立て方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and aims to provide a dressing plate that can easily obtain information on thickness and is used in place of a dummy wafer when dressing a cutting blade; and to provide a method for sharpening a cutting blade.

本発明の一態様によれば、砥粒がボンドで固定された切削ブレードの目立てを実施する際に該切削ブレードにより切削される目立てプレートの製造方法であって、ダミーウェーハの厚さを計測して該厚さに関する情報が格納された識別コードを生成し、該ダミーウェーハを分割して個々の該目立てプレートを形成し、該識別コードを該目立てプレートの表面に付与することにより、該切削ブレードにより切削される被加工物の材料と同質の材料で形成され、表面に厚さに関する情報が格納された識別コードが付与された該目立てプレートを製造することを特徴とする目立てプレートの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a dressing plate which is cut by a cutting blade having abrasive grains fixed with a bond when performing dressing, wherein the thickness of a dummy wafer is measured. to generate an identification code storing information about the thickness, divide the dummy wafer to form the individual dressing plates, and give the identification code to the surface of the dressing plate to obtain the cutting blade manufacturing the dressing plate , which is made of the same material as the material of the workpiece to be cut by the method, and is provided with the identification code storing the information about the thickness on the surface; A method of manufacturing a plate is provided.

好ましくは、該目立てプレートは、該切削ブレードで切削される際に保持されるサブチャックテーブルの保持面に対応した形状に整形されている。 Preferably, the dressing plate is formed into a shape corresponding to the holding surface of the sub-chuck table held during cutting by the cutting blade.

また、本発明の他の一態様によれば、被加工物を保持するチャックテーブルと、砥粒がボンドで固定された切削ブレードを備え、該チャックテーブルで保持された被加工物を該切削ブレードで切削する切削ユニットと、カメラユニットと、サブチャックテーブルと、を備える切削装置において、該目立てプレートの該製造方法で製造された該目立てプレートを使用して該切削ブレードを目立てする切削ブレードの目立て方法であって、該目立てプレートを該サブチャックテーブルで固定する目立てプレート固定ステップと、該サブチャックテーブルで固定された該目立てプレートを該切削ブレードで切削することで該切削ブレードの目立てを実施する目立てステップと、該目立てステップを実施した後、該チャックテーブルに保持された被加工物を該切削ブレードで切削する加工ステップと、を備え、該目立てプレートの該識別コードを該カメラユニットで読み取り、該目立てプレートの該厚さに関する情報を該識別コードから抽出する厚さ情報抽出ステップと、該目立てステップにおいて該切削ブレードで該目立てプレートを切削する条件を該厚さに関する情報に基づいて選定する目立て条件選定ステップと、を該目立てステップを実施する前に実施することを特徴とする切削ブレードの目立て方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, a chuck table for holding a workpiece and a cutting blade to which abrasive grains are fixed with a bond are provided, and the workpiece held by the chuck table is attached to the cutting blade. A cutting device comprising a cutting unit for cutting with a , a camera unit, and a sub-chuck table, in which the cutting blade is dressed using the dressing plate manufactured by the manufacturing method of the dressing plate A method comprising: a dressing plate fixing step of fixing the dressing plate to the sub-chuck table; and dressing the cutting blade by cutting the dressing plate fixed by the sub-chuck table with the cutting blade. a sharpening step; and a machining step of cutting the workpiece held on the chuck table after the sharpening step with the cutting blade, reading the identification code of the sharpening plate with the camera unit, a thickness information extraction step of extracting information about the thickness of the dressing plate from the identification code; and a dressing step of selecting conditions for cutting the dressing plate with the cutting blade in the dressing step based on the information about the thickness. and a condition selection step before performing the sharpening step.

好ましくは、該目立てステップの前に、第2の砥粒が第2のボンドで固定されたドレッシングボードを該切削ブレードで切削するドレッシングボード切削ステップをさらに備える。 Preferably, a dressing board cutting step of cutting a dressing board to which second abrasive grains are fixed by a second bond with the cutting blade is further provided before the dressing step.

本発明の一態様に係る目立てプレート及び切削ブレードの目立て方法では、切削ブレードの目立てを実施する際に使用される目立てプレートの表面に識別コードが付与されている。そして、識別コードには、目立てプレートの厚さに関する情報が格納されている。そのため、目立てプレートを使用して切削ブレードの目立てを実施する際、予め識別コードを読み取り情報を抽出することで目立てプレートの厚さに関する情報を容易に取得できる。 In the dressing plate and cutting blade dressing method according to one aspect of the present invention, an identification code is given to the surface of the dressing plate used when sharpening the cutting blade. The identification code stores information about the thickness of the dressing plate. Therefore, when the cutting blade is sharpened using the sharpening plate, the information regarding the thickness of the sharpening plate can be easily obtained by reading the identification code in advance and extracting the information.

特に、切削ブレードが装着された切削装置のカメラユニットを使用して目立てプレートの識別コードを読み取ると、目立てプレートの厚さに関する情報を極めて容易に取得できる上、切削装置に目立てプレートの厚さを容易に登録できる。目立てプレートを切削ブレードで切削する条件を該厚さに関する情報に基づいて決定すると、該切削ブレードの目立てを適切に実施できる。 In particular, it is very easy to obtain information about the thickness of the dressing plate by reading the identification code of the dressing plate using the camera unit of the cutting device equipped with the cutting blade. Easy to register. If the conditions for cutting the dressing plate with the cutting blade are determined based on the thickness information, the cutting blade can be properly dressed.

したがって、本発明の一態様によると、厚さに関する情報を容易に取得でき、切削ブレードの目立ての際にダミーウェーハに代えて使用される目立てプレート、及び切削ブレードの目立て方法が提供される。 Therefore, according to one aspect of the present invention, there is provided a dressing plate and method for dressing a cutting blade, which can easily obtain information about thickness and is used in place of a dummy wafer when dressing a cutting blade.

切削装置及び被加工物を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a cutting device and a to-be-processed object typically. 図2(A)は、ダミーウェーハから目立てプレートを形成する様子を模式的に示す斜視図であり、図2(B)は、目立てプレートを模式的に示す斜視図である。FIG. 2A is a perspective view schematically showing how a dressing plate is formed from a dummy wafer, and FIG. 2B is a perspective view schematically showing the dressing plate. 図3(A)は、厚さ情報抽出ステップを模式的に示す断面図であり、図3(B)は、目立てステップを模式的に示す断面図である。FIG. 3A is a cross-sectional view schematically showing the thickness information extraction step, and FIG. 3B is a cross-sectional view schematically showing the dressing step. 切削ステップを模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cutting step; 図5(A)は、切削ブレードの目立て方法の一例の各ステップの流れを示すフローチャートであり、図5(B)は、切削ブレードの目立て方法の他の一例の各ステップの流れを示すフローチャートである。FIG. 5(A) is a flow chart showing the flow of each step in one example of the method for sharpening the cutting blade, and FIG. 5(B) is a flow chart showing the flow of each step in another example of the method for sharpening the cutting blade. be.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係る目立てプレート及び切削ブレードの目立て方法について説明する。まず、目立てプレートを使用した目立ての対象となる切削ブレードと、該切削ブレードが装着されて使用される切削装置と、切削ブレードにより切削される被加工物と、について説明する。図1は、切削装置2及び被加工物1を模式的に示す斜視図である。 An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. A method for sharpening the sharpening plate and the cutting blade according to the present embodiment will be described. First, a cutting blade to be dressed using a dressing plate, a cutting device to which the cutting blade is attached and used, and a workpiece to be cut by the cutting blade will be described. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a cutting device 2 and a workpiece 1. FIG.

被加工物1は、例えば、Si(シリコン)、SiC(シリコンカーバイド)、GaN(ガリウムナイトライド)、GaAs(ヒ化ガリウム)、若しくは、その他の半導体等の材料から形成されるウェーハである。または、LT(タンタル酸リチウム)、若しくは、LN(ニオブ酸リチウム)等の複酸化物から形成されるウェーハである。または、被加工物1は、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる略円板状の基板等である。該ガラスは、例えば、アルカリガラス、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等である。 The workpiece 1 is, for example, a wafer made of a material such as Si (silicon), SiC (silicon carbide), GaN (gallium nitride), GaAs (gallium arsenide), or other semiconductors. Alternatively, it is a wafer formed from a composite oxide such as LT (lithium tantalate) or LN (lithium niobate). Alternatively, the workpiece 1 is a substantially disk-shaped substrate or the like made of a material such as sapphire, glass, or quartz. Examples of the glass include alkali glass, alkali-free glass, soda-lime glass, lead glass, borosilicate glass, and quartz glass.

図1には被加工物1の斜視図が模式的に示されており、図3(A)及び図3(B)には被加工物1の断面図が模式的に示されている。被加工物1の表面1aには、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等の複数のデバイス3が形成されている。被加工物1をデバイス3毎に分割すると、個々のデバイスチップを形成できる。 FIG. 1 schematically shows a perspective view of the workpiece 1, and FIGS. 3A and 3B schematically show cross-sectional views of the workpiece 1. FIG. A plurality of devices 3 such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integrations) are formed on the surface 1a of the workpiece 1 . By dividing the workpiece 1 into individual devices 3, individual device chips can be formed.

被加工物1の分割には切削装置2が使用される。切削装置2に被加工物1を搬入する際には、予め、金属等により形成された環状フレーム7の開口を塞ぐように貼られた粘着テープ5が被加工物1の裏面側に貼着される。そして、被加工物1と、粘着テープ5と、環状フレーム7と、が一体化されたフレームユニット9の状態で被加工物1が切削装置2に搬入され、切削される。そして、被加工物1が分割されて形成される個々のデバイスチップは粘着テープ5により支持され、その後、粘着テープ5からピックアップされる。 A cutting device 2 is used to divide the workpiece 1 . When the workpiece 1 is carried into the cutting device 2, an adhesive tape 5 is attached to the back side of the workpiece 1 in advance so as to close the opening of the annular frame 7 made of metal or the like. be. Then, the workpiece 1 is carried into the cutting device 2 in the state of the frame unit 9 in which the workpiece 1, the adhesive tape 5, and the annular frame 7 are integrated, and is cut. Each device chip formed by dividing the workpiece 1 is supported by the adhesive tape 5 and then picked up from the adhesive tape 5 .

切削装置2は、各構成要素を支持する基台4を備える。基台4の前方の角部には開口4aが形成されており、この開口4a内には昇降機構(不図示)によって昇降するカセット支持台8が設けられている。カセット支持台8の上面には、複数の被加工物1を収容するカセット10が搭載される。なお、図1では説明の便宜上、カセット10の輪郭のみを示している。 The cutting device 2 includes a base 4 that supports each component. An opening 4a is formed in the front corner of the base 4, and a cassette support base 8 which is moved up and down by a lifting mechanism (not shown) is provided in the opening 4a. A cassette 10 containing a plurality of workpieces 1 is mounted on the upper surface of the cassette support base 8 . Note that FIG. 1 shows only the outline of the cassette 10 for convenience of explanation.

カセット支持台8の側方には、長手方向がX軸方向(前後方向、加工送り方向)に沿うように矩形の開口4bが形成されている。開口4b内には、ボールネジ式のX軸移動機構(不図示)と、X軸移動機構の上部を覆うテーブルカバー14及び防塵防滴カバー16と、が配置されている。X軸移動機構は、テーブルカバー14によって覆われたX軸移動テーブル(不図示)を備えており、このX軸移動テーブルをX軸方向に移動させる。 A rectangular opening 4b is formed on the side of the cassette support 8 so that its longitudinal direction is along the X-axis direction (front-rear direction, processing feed direction). A ball-screw type X-axis moving mechanism (not shown), and a table cover 14 and a dust/splash proof cover 16 covering the upper part of the X-axis moving mechanism are arranged in the opening 4b. The X-axis movement mechanism includes an X-axis movement table (not shown) covered with a table cover 14, and moves this X-axis movement table in the X-axis direction.

X軸移動テーブルの上面には、被加工物1を吸引保持するチャックテーブル18がテーブルカバー14から露出するように設けられている。このチャックテーブル18はモータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、Z軸方向(鉛直方向)に概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル18はX軸移動機構によってX軸移動テーブルやテーブルカバー14とともにX軸方向に移動する。 A chuck table 18 for sucking and holding the workpiece 1 is provided on the upper surface of the X-axis moving table so as to be exposed from the table cover 14 . The chuck table 18 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the Z-axis direction (vertical direction). Also, the chuck table 18 is moved in the X-axis direction together with the X-axis moving table and the table cover 14 by the X-axis moving mechanism.

チャックテーブル18の上面は、被加工物1を吸引保持する保持面18aとなっている。保持面18aは、X軸方向及びY軸方向に対して概ね平行に形成されており、チャックテーブル18の内部に設けられた吸引路(不図示)等を介してエジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。チャックテーブル18の周囲には、被加工物1を支持する環状フレーム7を四方から固定するための4個のクランプ18bが設けられている。 The upper surface of the chuck table 18 serves as a holding surface 18a for holding the workpiece 1 by suction. The holding surface 18 a is formed substantially parallel to the X-axis direction and the Y-axis direction, and is connected to a suction source (not shown) such as an ejector through a suction path (not shown) provided inside the chuck table 18 . )It is connected to the. Around the chuck table 18 are provided four clamps 18b for fixing the annular frame 7 supporting the workpiece 1 from all sides.

また、開口4bに隣接する領域には、被加工物1をチャックテーブル18等へと搬送する搬送ユニット(不図示)が配置されている。カセット支持台8の側方に近接する位置には、被加工物1を仮置きするための仮置き機構が設けられている。仮置き機構は、例えば、Y軸方向(割り出し送り方向)に平行な状態を維持しながら接近、離隔される一対のガイドレール12を含む。一対のガイドレール12は、搬送ユニットによりカセット10から引き出された被加工物1をX軸方向に挟み込んで所定の位置に合わせる。 A transport unit (not shown) for transporting the workpiece 1 to the chuck table 18 or the like is arranged in a region adjacent to the opening 4b. A temporary placement mechanism for temporarily placing the workpiece 1 is provided at a position adjacent to the side of the cassette support table 8 . The temporary placement mechanism includes, for example, a pair of guide rails 12 that approach and separate while maintaining a state parallel to the Y-axis direction (indexing direction). The pair of guide rails 12 sandwich the workpiece 1 pulled out from the cassette 10 by the transport unit in the X-axis direction and align it at a predetermined position.

所定の位置に合わされた被加工物1は、搬送ユニットにより引き上げられチャックテーブル18へと搬送される。このとき、一対のガイドレール12を互いに離隔させ、一対のガイドレール12の間に被加工物1を通す。 The workpiece 1 aligned with the predetermined position is lifted up by the transport unit and transported to the chuck table 18 . At this time, the pair of guide rails 12 are separated from each other, and the workpiece 1 is passed between the pair of guide rails 12 .

チャックテーブル18の上方には、環状の切削ブレードによって被加工物1を切削する第1の切削ユニット24aと、第2の切削ユニット24bと、が設けられている。また、基台4の上面には、第1の切削ユニット24a,第2の切削ユニット24bと、を支持するための門型の支持構造20が、開口4bを跨ぐように配置されている。 Above the chuck table 18, a first cutting unit 24a and a second cutting unit 24b for cutting the workpiece 1 with annular cutting blades are provided. A gate-shaped support structure 20 for supporting the first cutting unit 24a and the second cutting unit 24b is arranged on the upper surface of the base 4 so as to straddle the opening 4b.

支持構造20の前面上部には、第1の切削ユニット24aをY軸方向及びZ軸方向に移動させる第1の移動ユニット22aと、第2の切削ユニット24bをY軸方向及びZ軸方向に移動させる第2の移動ユニット22bとが設けられている。 A first moving unit 22a for moving the first cutting unit 24a in the Y-axis direction and the Z-axis direction, and a second cutting unit 24b for moving the second cutting unit 24b in the Y-axis direction and the Z-axis direction are provided on the upper front surface of the support structure 20. A second moving unit 22b is provided to allow the

第1の移動ユニット22aはY軸移動プレート28aを、第2の移動ユニット22bはY軸移動プレート28bをそれぞれ備える。Y軸移動プレート28a及びY軸移動プレート28bは、支持構造20の前面にY軸方向に沿って配置された一対のY軸ガイドレール26にスライド可能に装着されている。 The first moving unit 22a has a Y-axis moving plate 28a, and the second moving unit 22b has a Y-axis moving plate 28b. The Y-axis moving plate 28a and the Y-axis moving plate 28b are slidably mounted on a pair of Y-axis guide rails 26 arranged on the front surface of the support structure 20 along the Y-axis direction.

Y軸移動プレート28aの裏面側(後面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはY軸ガイドレール26に対して概ね平行なY軸ボールネジ30aが螺合されている。また、Y軸移動プレート28bの裏面側(後面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはY軸ガイドレール26に対して概ね平行なY軸ボールネジ30bが螺合されている。 A nut portion (not shown) is provided on the back side (rear side) of the Y-axis moving plate 28a, and a Y-axis ball screw 30a substantially parallel to the Y-axis guide rail 26 is screwed into this nut portion. ing. A nut portion (not shown) is provided on the back side (rear side) of the Y-axis moving plate 28b, and a Y-axis ball screw 30b that is substantially parallel to the Y-axis guide rail 26 is screwed into this nut portion. are combined.

Y軸ボールネジ30aの一端部には、Y軸パルスモータ32aが連結されている。Y軸パルスモータ32aによってY軸ボールネジ30aを回転させることにより、Y軸移動プレート28aがY軸ガイドレール26に沿ってY軸方向に移動する。また、Y軸ボールネジ30bの一端部には、Y軸パルスモータ(不図示)が連結されている。該Y軸パルスモータによってY軸ボールネジ30bを回転させることにより、Y軸移動プレート28bがY軸ガイドレール26に沿ってY軸方向に移動する。 A Y-axis pulse motor 32a is connected to one end of the Y-axis ball screw 30a. By rotating the Y-axis ball screw 30a by the Y-axis pulse motor 32a, the Y-axis moving plate 28a moves along the Y-axis guide rail 26 in the Y-axis direction. A Y-axis pulse motor (not shown) is connected to one end of the Y-axis ball screw 30b. By rotating the Y-axis ball screw 30b with the Y-axis pulse motor, the Y-axis moving plate 28b moves along the Y-axis guide rail 26 in the Y-axis direction.

Y軸移動プレート28aの表面(前面)側には、一対のZ軸ガイドレール34aがZ軸方向に沿って設けられており、Y軸移動プレート28bの表面(前面)側には、Z軸方向に沿って一対のZ軸ガイドレール34bが設けられている。また、一対のZ軸ガイドレール34aにはZ軸移動プレート36aがスライド可能に取り付けられ、一対のZ軸ガイドレール34bにはZ軸移動プレート36bがスライド可能に取り付けられている。 A pair of Z-axis guide rails 34a are provided along the Z-axis direction on the surface (front) side of the Y-axis moving plate 28a, and a pair of Z-axis guide rails 34a are provided on the surface (front) side of the Y-axis moving plate 28b in the Z-axis direction. A pair of Z-axis guide rails 34b are provided along. A Z-axis moving plate 36a is slidably attached to the pair of Z-axis guide rails 34a, and a Z-axis moving plate 36b is slidably attached to the pair of Z-axis guide rails 34b.

Z軸移動プレート36aの裏面側(後面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはZ軸ガイドレール34aに対して概ね平行な方向に沿うように設けられたZ軸ボールネジ38aが螺合されている。Z軸ボールネジ38aの一端部にはZ軸パルスモータ40aが連結されており、このZ軸パルスモータ40aによってZ軸ボールネジ38aを回転させることにより、Z軸移動プレート36aがZ軸ガイドレール34aに沿ってZ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the back side (rear side) of the Z-axis moving plate 36a, and the nut portion is provided along a direction substantially parallel to the Z-axis guide rail 34a. A Z-axis ball screw 38a is screwed thereon. A Z-axis pulse motor 40a is connected to one end of the Z-axis ball screw 38a. By rotating the Z-axis ball screw 38a with this Z-axis pulse motor 40a, the Z-axis moving plate 36a moves along the Z-axis guide rail 34a. to move in the Z-axis direction.

Z軸移動プレート36bの裏面側(後面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはZ軸ガイドレール34bに対して概ね平行な方向に沿うように設けられたZ軸ボールネジ38bが螺合されている。Z軸ボールネジ38bの一端部にはZ軸パルスモータ40bが連結されており、このZ軸パルスモータ40bによってZ軸ボールネジ38bを回転させることにより、Z軸移動プレート36bがZ軸ガイドレール34bに沿ってZ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the back side (rear side) of the Z-axis moving plate 36b, and the nut portion is provided along a direction substantially parallel to the Z-axis guide rail 34b. A Z-axis ball screw 38b is screwed thereon. A Z-axis pulse motor 40b is connected to one end of the Z-axis ball screw 38b. By rotating the Z-axis ball screw 38b with this Z-axis pulse motor 40b, the Z-axis moving plate 36b moves along the Z-axis guide rail 34b. to move in the Z-axis direction.

Z軸移動プレート36aの下部には第1の切削ユニット24aが設けられている。第1の切削ユニット24aに隣接する位置には、チャックテーブル18によって吸引保持された被加工物1を撮像するためのカメラユニット46aが設けられている。また、Z軸移動プレート36bの下部には第2の切削ユニット24bが設けられている。第2の切削ユニット24bに隣接する位置には、チャックテーブル18によって吸引保持された被加工物1を撮像するためのカメラユニット46bが設けられている。 A first cutting unit 24a is provided below the Z-axis moving plate 36a. At a position adjacent to the first cutting unit 24a, a camera unit 46a for taking an image of the workpiece 1 sucked and held by the chuck table 18 is provided. A second cutting unit 24b is provided below the Z-axis moving plate 36b. At a position adjacent to the second cutting unit 24b, a camera unit 46b for taking an image of the workpiece 1 sucked and held by the chuck table 18 is provided.

第1の移動ユニット22aによって第1の切削ユニット24a及びカメラユニット46aのY軸方向及びZ軸方向の位置が制御され、第2の移動ユニット22bによって第2の切削ユニット24b及びカメラユニット46bのY軸方向及びZ軸方向の位置が制御される。すなわち、第1の切削ユニット24aの位置と、第2の切削ユニット24bの位置と、はそれぞれ独立に制御される。 The first moving unit 22a controls the positions of the first cutting unit 24a and the camera unit 46a in the Y-axis direction and the Z-axis direction, and the second moving unit 22b controls the Y-axis direction of the second cutting unit 24b and the camera unit 46b. Axial and Z-axis positions are controlled. That is, the position of the first cutting unit 24a and the position of the second cutting unit 24b are independently controlled.

開口4bに対して開口4aと反対側の位置には、開口4cが形成されている。開口4c内には被加工物1を洗浄するための洗浄ユニット48が配置されており、チャックテーブル18上で所定の加工が施された被加工物1は、洗浄ユニット48によって洗浄される。 An opening 4c is formed at a position opposite to the opening 4a with respect to the opening 4b. A cleaning unit 48 for cleaning the workpiece 1 is arranged in the opening 4c.

図3(B)に示す通り、第1の切削ユニット24aは、チャックテーブル18の保持面18aに対して概ね平行な方向に軸心をとるスピンドル42aと、該スピンドル42aの先端に装着された切削ブレード44aと、を備える。また、第2の切削ユニット24bは、チャックテーブル18の保持面18aに対して概ね平行な方向に軸心をとるスピンドル42bと、該スピンドル42bの先端に装着された切削ブレード44bと、を備える。 As shown in FIG. 3B, the first cutting unit 24a includes a spindle 42a whose axis is substantially parallel to the holding surface 18a of the chuck table 18, and a cutting tool attached to the tip of the spindle 42a. and a blade 44a. The second cutting unit 24b includes a spindle 42b whose axis is substantially parallel to the holding surface 18a of the chuck table 18, and a cutting blade 44b attached to the tip of the spindle 42b.

切削ブレード44a,44bは、ダイヤモンド等で構成された砥粒を樹脂またはニッケル等の金属で構成されたボンドで分散固定した砥石を外周部に備える。該砥石は、例えば、金属からなる環状基台の外周部に形成される。この環状基台を備える切削ブレードはハブタイプと呼ばれる。また、切削ブレード44a,44bは、環状基台を有していなくてもよい。この環状基台を有さない切削ブレードは、ワッシャータイプと呼ばれる。 The cutting blades 44a and 44b are equipped with grindstones in which abrasive grains made of diamond or the like are dispersed and fixed by bonds made of resin or metal such as nickel. The whetstone is formed, for example, on the outer periphery of an annular base made of metal. A cutting blade with this annular base is called a hub type. Also, the cutting blades 44a and 44b may not have an annular base. A cutting blade without this annular base is called a washer type.

切削ブレードには、複数の種別が存在する。例えば、砥石に含まれる砥粒の形状、大きさ、及び量が異なる複数の種別の切削ブレードが存在し、また、ボンドの材質、ブレードの刃厚、径等が異なる複数の種別の切削ブレードが存在する。被加工物1を切削する際、被加工物1の材質、大きさ、及び形状や、切削加工の内容により、切削加工に適した種別の切削ブレードが選択されてスピンドル42a,42bの先端に装着される。 There are several types of cutting blades. For example, there are multiple types of cutting blades with different shapes, sizes, and amounts of abrasive grains contained in the grindstone, and multiple types of cutting blades with different bond materials, blade thicknesses, diameters, etc. exist. When cutting the workpiece 1, depending on the material, size and shape of the workpiece 1 and the content of the cutting process, a type of cutting blade suitable for the cutting process is selected and attached to the tips of the spindles 42a and 42b. be done.

砥石の表面では、ボンドから砥粒が適度に露出している。切削ブレード44a,44bを回転させ、チャックテーブル18で保持された被加工物1に切り込ませると、砥粒が被加工物1に当たり、被加工物1が切削される。切削に伴い被加工物1から生じた切削屑は、チップポケットとして機能する砥石表面の凹凸形状に一時的に収容され、該凹凸形状から脱離することで効率的に排除される。 Abrasive grains are moderately exposed from the bond on the surface of the grindstone. When the cutting blades 44a and 44b are rotated to cut into the workpiece 1 held by the chuck table 18, the abrasive grains hit the workpiece 1 and the workpiece 1 is cut. Chips generated from the workpiece 1 during cutting are temporarily accommodated in the uneven shape of the grindstone surface functioning as chip pockets, and are removed from the uneven shape to be efficiently removed.

被加工物1を切削すると、切削ブレード44a,44bが次第に消耗するため、切削ブレード44a,44bは、定期的に交換される。ここで、未使用の切削ブレード44a,44bは、砥粒がボンドから適度に露出しておらず、砥石の外周面にチップポケットとして機能できる大きさの凹凸形状が形成されていない。そのため、そのままでは被加工物1を適切に切削できず、十分な性能を発揮できない。 As the workpiece 1 is cut, the cutting blades 44a and 44b are gradually worn out, so the cutting blades 44a and 44b are periodically replaced. Here, in the unused cutting blades 44a and 44b, the abrasive grains are not adequately exposed from the bond, and the outer peripheral surface of the grindstone is not formed with an irregular shape large enough to function as a chip pocket. Therefore, as it is, the workpiece 1 cannot be cut appropriately, and sufficient performance cannot be exhibited.

そこで、未使用の切削ブレード44a,44bをスピンドル42a,42bに装着した際、被加工物1を切削する前に、目立て(プリカット)と呼ばれる処理が切削ブレード44a,44bに実施される。目立てを実施する際には、本実施形態に係る目立てプレート11を切削ブレード44a,44bに切削させる。目立てを実施すると、切削ブレード44a,44bのボンドが適度に消耗し、砥粒が適度に露出するとともにチップポケットとして機能できる大きさの凹凸形状が砥石の外周面に形成される。 Therefore, when the unused cutting blades 44a, 44b are attached to the spindles 42a, 42b, the cutting blades 44a, 44b are subjected to a treatment called pre-cutting before cutting the workpiece 1. When performing dressing, the dressing plate 11 according to the present embodiment is cut by the cutting blades 44a and 44b. When the dressing is carried out, the bond of the cutting blades 44a and 44b is moderately worn, the abrasive grains are moderately exposed, and unevenness large enough to function as chip pockets is formed on the outer peripheral surface of the grindstone.

従来、被加工物1と同質の材料のダミーウェーハを準備し、チャックテーブル18で該ダミーウェーハを保持し、該ダミーウェーハを未使用の切削ブレード44a,44bで切削することで目立てを実施していた。例えば、被加工物1がシリコンウェーハである場合、ダミーウェーハにもシリコンが用いられる。 Conventionally, dressing is performed by preparing a dummy wafer made of the same material as the workpiece 1, holding the dummy wafer on the chuck table 18, and cutting the dummy wafer with unused cutting blades 44a and 44b. Ta. For example, if the workpiece 1 is a silicon wafer, silicon is also used for the dummy wafer.

デバイスチップの製造に使用されるシリコンウェーハは、純度が極めて高く、結晶性も極めて高い。シリコンウェーハは、例えば、既知の方法で形成されたシリコンインゴットから切り出されて製造される。ただし、シリコンインゴットが形成される際の結晶成長の初期の段階では、製造されるシリコンが所定の品質に達していない。ダミーウェーハには、例えば、シリコンインゴットのうちデバイスチップの製造に使用されないこのような部分が利用された。または、何らかの原因によりデバイスチップの製造に使用できなくなったシリコンウェーハがダミーウェーハとして利用される場合もあった。 Silicon wafers used for manufacturing device chips have extremely high purity and extremely high crystallinity. A silicon wafer is manufactured, for example, by cutting a silicon ingot formed by a known method. However, at the initial stage of crystal growth when a silicon ingot is formed, the silicon produced does not reach the desired quality. For dummy wafers, for example, such portions of silicon ingots that are not used for manufacturing device chips were used. Alternatively, silicon wafers that cannot be used for manufacturing device chips for some reason may be used as dummy wafers.

ここで、切削ブレード44a,44bの目立てを十分に実施するためには、被加工物1の材料と同質の材料で形成された数枚のダミーウェーハを準備し、これを切削ブレード44a,44bに切削させなければならない。そのため、ダミーウェーハに要する金銭的コストと、数枚のダミーウェーハを切削する時間的コストと、が大きな問題となっていた。そこで、ダミーウェーハに代えて、砥粒と、該砥粒を分散固定するボンド(結合材)と、有するドレッシングボードが使用された。 Here, in order to sufficiently dress the cutting blades 44a and 44b, several dummy wafers made of the same material as the material of the workpiece 1 are prepared and attached to the cutting blades 44a and 44b. must be cut. Therefore, the monetary cost required for dummy wafers and the time cost required for cutting several dummy wafers have been major problems. Therefore, instead of the dummy wafer, a dressing board having abrasive grains and a bond (bonding material) for dispersing and fixing the abrasive grains was used.

切削装置2は、図1に示す通り、ドレッシングボード13を保持できる矩形状のサブチャックテーブル50a,50bをチャックテーブル18に隣接した位置に備える。図3(A)及び図3(B)には、サブチャックテーブル50bの側面図が示されている。サブチャックテーブル50a,50bの上面は保持面52a,52bとなっており、サブチャックテーブル50a,50bの内部には、一端が保持面52a,52bに連通した吸引路と、該吸引路の他端に接続された吸引源と、を備える。 The cutting device 2 includes rectangular sub-chuck tables 50 a and 50 b capable of holding the dressing board 13 at positions adjacent to the chuck table 18 , as shown in FIG. 1 . FIGS. 3A and 3B show side views of the sub-chuck table 50b. The upper surfaces of the sub-chuck tables 50a and 50b are holding surfaces 52a and 52b, and inside the sub-chuck tables 50a and 50b are a suction path having one end communicating with the holding surfaces 52a and 52b and the other end of the suction path. and a source of suction connected to.

サブチャックテーブル50a,50bの上にドレッシングボード13を載せ、該吸引源を作動させると、ドレッシングボード13がサブチャックテーブル50a,50bで保持される。未使用の切削ブレード44a,44bにドレッシングボード13を切削させると、切削ブレード44a,44bを積極的に消耗でき、目立てを効率的に進行できる。 When the dressing board 13 is placed on the sub-chuck tables 50a and 50b and the suction source is activated, the dressing board 13 is held by the sub-chuck tables 50a and 50b. By cutting the dressing board 13 with unused cutting blades 44a and 44b, the cutting blades 44a and 44b can be actively worn, and the dressing can proceed efficiently.

ただし、特にサイズの小さい砥粒を含む切削ブレード44a,44bにおいては、ドレッシングボード13を使用しても砥石表面にチップポケットとして機能する凹凸形状を十分に形成できない場合があった。そのため、ドレッシングボード13を使用する場合でも、被加工物1を切削ブレード44a,44bで切削する前に、やはり、被加工物1と同様の材質のダミーウェーハを切削する必要があった。そして、ダミーウェーハを使用する際の問題が再び生じることとなった。 However, in the case of the cutting blades 44a and 44b containing particularly small-sized abrasive grains, even with the use of the dressing board 13, there were cases where it was not possible to sufficiently form uneven shapes that function as chip pockets on the surface of the grindstone. Therefore, even when the dressing board 13 is used, it is still necessary to cut a dummy wafer of the same material as the workpiece 1 before cutting the workpiece 1 with the cutting blades 44a and 44b. Then the problem of using dummy wafers reappeared.

そこで、未使用の切削ブレード44a,44bの目立てに、ダミーウェーハに代えて本実施形態に係る目立てプレート11(図2(B)参照)を使用する。次に、目立てプレート11について説明する。目立てプレート11は、被加工物1の材料と同質の材料で形成される。ただし、目立てプレート11を構成する材料は、被加工物1を構成する材料と構成材料や組成、構造等が完全に一致している必要はない。 Therefore, the dressing plate 11 according to the present embodiment (see FIG. 2B) is used instead of the dummy wafer for dressing the unused cutting blades 44a and 44b. Next, the dressing plate 11 will be described. The dressing plate 11 is made of the same material as the material of the workpiece 1 . However, the material forming the dressing plate 11 does not have to be completely the same as the material forming the workpiece 1 in terms of constituent materials, composition, structure, and the like.

すなわち、被加工物1の材料と同質の材料とは、例えば、切削されることで切削ブレード44a,44bを消耗させる性質が同程度である材料をいう。例えば、被加工物1を構成する材料と構成材料や組成、構造の一部が一致している材料でもよい。被加工物1が結晶性の材料である場合、目立てプレート11の材料は被加工物1の材料よりも結晶性が低くてもよい。 That is, the material of the same quality as the material of the workpiece 1 refers to, for example, a material that wears the cutting blades 44a and 44b by being cut to the same extent. For example, it may be a material that partially matches the material that constitutes the workpiece 1, the constituent material, the composition, and the structure. If the workpiece 1 is a crystalline material, the material of the dressing plate 11 may be less crystalline than the material of the workpiece 1 .

より具体的には、被加工物1がシリコン単結晶ウェーハである場合、目立てプレート11には、結晶性の低いシリコン基板や、不純物が含まれるシリコン基板、表面にパターンが形成されたシリコン基板でもよい。 More specifically, when the workpiece 1 is a silicon single crystal wafer, the dressing plate 11 may be a silicon substrate with low crystallinity, a silicon substrate containing impurities, or a silicon substrate having a pattern formed on its surface. good.

目立てプレート11は、図2(A)に示す通り、例えば、従来使用されていたダミーウェーハ15を予め設定された分割予定ライン15aに沿って分割することで形成できる。例えば、切削装置2において、分割予定ライン15aに沿ってダミーウェーハ15を切削してダミーウェーハ15を分割すると目立てプレート11を製造できる。または、分割予定ライン15aに沿ってダミーウェーハ15をレーザ加工して、ダミーウェーハ15を分割してもよい。 As shown in FIG. 2A, the dressing plate 11 can be formed, for example, by dividing a conventionally used dummy wafer 15 along predetermined dividing lines 15a. For example, in the cutting device 2, the dressing plate 11 can be manufactured by cutting the dummy wafer 15 along the dividing line 15a to divide the dummy wafer 15. As shown in FIG. Alternatively, the dummy wafer 15 may be laser-processed along the dividing line 15a to divide the dummy wafer 15. As shown in FIG.

ここで、ダミーウェーハ15から形成される目立てプレート11は、保持されるサブチャックテーブル50a,50bの保持面52a,52bの形状に整形されることが好ましい。すなわち、分割予定ライン15aは、保持面52a,52bの形状に合わせて設定されるとよい。目立てプレート11がサブチャックテーブル50a,50bの保持面52a,52bの形状に整形されていると、サブチャックテーブル50a,50bで目立てプレート11を保持できる。 Here, the dressing plate 11 formed from the dummy wafer 15 is preferably shaped into the shape of the holding surfaces 52a, 52b of the sub-chuck tables 50a, 50b to be held. That is, the planned division line 15a is preferably set according to the shape of the holding surfaces 52a and 52b. When the dressing plate 11 is formed into the shape of the holding surfaces 52a and 52b of the sub-chuck tables 50a and 50b, the dressing plate 11 can be held by the sub-chuck tables 50a and 50b.

目立てプレート11をサブチャックテーブル50a,50bで保持できると、チャックテーブル18を使用して目立てプレート11を保持する必要がない。この場合、サブチャックテーブル50a,50bで目立てプレート11を保持する間にチャックテーブル18で被加工物1を次々に加工でき、必要に応じて目立てプレート11を使用できる。そのため、チャックテーブル18でダミーウェーハ15を固定して目立てを実施する場合と比較して、搬出入のために切削装置2の稼働を停止する回数を低減できる。 If the dressing plate 11 can be held by the sub-chuck tables 50a and 50b, there is no need to use the chuck table 18 to hold the dressing plate 11.例文帳に追加In this case, while the sub-chuck tables 50a and 50b hold the dressing plate 11, the workpieces 1 can be processed one after another by the chuck table 18, and the dressing plate 11 can be used as needed. Therefore, compared to the case where the dummy wafer 15 is fixed on the chuck table 18 and the dressing is performed, the number of times the operation of the cutting device 2 is stopped for loading/unloading can be reduced.

ところで、目立てプレート11の原料となるダミーウェーハ15は、厚さが統一されていない。そのため、ダミーウェーハ15から形成された目立てプレート11を使用して切削ブレード44a,44bの目立てを実施する際、個々の目立てプレート11の厚さを測定し、切削装置2の制御ユニットに該厚さを入力する必要がある。これは、目立てプレート11の厚さにより、切削ブレード44a,44bの目立てを実施する際の適切な切削条件が変わるためである。 By the way, the thickness of the dummy wafer 15, which is the raw material of the dressing plate 11, is not uniform. Therefore, when the dressing plate 11 formed from the dummy wafer 15 is used to dress the cutting blades 44a and 44b, the thickness of each dressing plate 11 is measured and the control unit of the cutting device 2 detects the thickness. must be entered. This is because the appropriate cutting conditions for dressing the cutting blades 44a and 44b change depending on the thickness of the dressing plate 11. FIG.

また、例えば、規格に従った厚さのシリコンウェーハをダミーウェーハ15に使用する場合においても、規格化されたシリコンウェーハの厚さは、該シリコンウェーハの径により異なる。そして、ダミーウェーハ15から目立てプレート11を切り出した後は、目立てプレート11から元のダミーウェーハ15の径を知ることはできない。したがって、この場合においても目立てプレート11の厚さが不明となるため、切削ブレード44a,44bの目立てを実施する際に、個々の目立てプレート11の厚さを測定する必要がある。 Further, for example, even when a silicon wafer having a thickness conforming to the standard is used as the dummy wafer 15, the standardized thickness of the silicon wafer differs depending on the diameter of the silicon wafer. After the dressing plate 11 is cut out from the dummy wafer 15, the diameter of the original dummy wafer 15 cannot be known from the dressing plate 11. - 特許庁Therefore, since the thickness of the dressing plate 11 is unknown even in this case, it is necessary to measure the thickness of each dressing plate 11 when dressing the cutting blades 44a and 44b.

しかしながら、サブチャックテーブル50a,50bに目立てプレート11を搬入する際、すべての目立てプレート11の厚さを測定し、測定値を切削装置2の制御ユニットに入力するのは、大変な手間がかかる。サブチャックテーブル50a,50bに保持されるドレッシングボード13は、規格化された所定の厚さで製造されるため、厚さの測定に関するこのような問題は目立てプレート11に特有な問題である。 However, when carrying the dressing plates 11 into the sub-chuck tables 50a and 50b, measuring the thickness of all the dressing plates 11 and inputting the measured values into the control unit of the cutting device 2 is very troublesome. Since the dressing board 13 held by the sub-chuck tables 50a and 50b is manufactured with a standardized predetermined thickness, such a problem regarding thickness measurement is a problem peculiar to the dressing plate 11. FIG.

そこで、本実施形態に係る目立てプレート11の表面11aには、厚さに関する情報が格納された識別コード17が付与される。例えば、ダミーウェーハ15を分割する前にダミーウェーハ15の厚さを測定し、厚さに関する情報が格納される識別コード17を生成する。そして、ダミーウェーハ15を分割して個々の目立てプレート11を形成した後、インクジェット等の方法で該識別コード17を目立てプレート11の表面11aに付与する。 Therefore, the surface 11a of the dressing plate 11 according to this embodiment is provided with an identification code 17 storing information about the thickness. For example, before dividing the dummy wafer 15, the thickness of the dummy wafer 15 is measured to generate the identification code 17 in which information about the thickness is stored. After the dummy wafer 15 is divided to form the individual dressing plates 11, the identification code 17 is given to the surface 11a of the dressing plate 11 by a method such as ink jet.

例えば、識別コード17は、二次元コードやバーコードである。なお、識別コード17には、厚さに関する情報以外の情報が該厚さに関する情報とともに格納されていてもよい。例えば、識別コード17には、目立てプレート11の材質に関する情報、原料となったダミーウェーハ15に関する情報、製造番号に関する情報、または、目立ての対象となる切削ブレードの種別に関する情報等が格納されていてもよい。または、識別コード17は、目立てプレート11の厚さを表す数字や文字、記号でもよい。 For example, the identification code 17 is a two-dimensional code or bar code. Information other than the thickness information may be stored in the identification code 17 together with the thickness information. For example, the identification code 17 stores information about the material of the dressing plate 11, information about the raw material dummy wafer 15, information about the production number, or information about the type of cutting blade to be dressed. good too. Alternatively, the identification code 17 may be numbers, letters, or symbols representing the thickness of the dressing plate 11 .

切削装置2は、例えば、切削ユニット24a,24bに隣接して設けられたカメラユニット46a,46bで目立てプレート11の表面11aを撮像して識別コード17を読み取る。なお、図3(A)に示す通り、カメラユニット46a,46bは、サブチャックテーブル50a,50bの上方に移動可能であり、サブチャックテーブル50a,50bに固定された目立てプレート11を撮像できる。 The cutting device 2 reads the identification code 17 by imaging the surface 11a of the dressing plate 11 with camera units 46a and 46b provided adjacent to the cutting units 24a and 24b, for example. As shown in FIG. 3A, the camera units 46a and 46b are movable above the sub-chuck tables 50a and 50b, and can image the dressing plate 11 fixed to the sub-chuck tables 50a and 50b.

そして、切削装置2は、識別コード17から目立てプレート11の厚さに関する情報を抽出する。該厚さに関する情報は、自動的に切削装置2に入力される。そして、切削装置2では、切削ブレード44a,44bの目立てを実施する際に、目立てプレート11の厚さに基づいて該目立てプレート11を切削する条件が選定される。 The cutting device 2 then extracts information about the thickness of the dressing plate 11 from the identification code 17 . Information about the thickness is automatically input to the cutting device 2 . In the cutting device 2, the conditions for cutting the dressing plate 11 are selected based on the thickness of the dressing plate 11 when the cutting blades 44a and 44b are dressed.

その後、選定された条件にて目立てプレート11を切削ブレード44a,44bで切削し、目立てを完了させる。なお、切削ブレード44a,44bで目立てプレート11を切削する前に、切削ブレード44a,44bでドレッシングボード13を切削してもよい。この場合、ドレッシングボード13により切削ブレード44a,44bを大きく消耗させることができるため、目立てプレート11の消費量を抑制できる。 After that, the dressing plate 11 is cut by the cutting blades 44a and 44b under the selected conditions to complete the dressing. The dressing board 13 may be cut with the cutting blades 44a and 44b before cutting the dressing plate 11 with the cutting blades 44a and 44b. In this case, since the cutting blades 44a and 44b can be greatly worn by the dressing board 13, the consumption of the dressing plate 11 can be suppressed.

未使用の切削ブレード44a,44bを切削装置2に装着した後、切削ブレード44a,44bでドレッシングボード13及び目立てプレート11を切削して目立てを実施する。その後、チャックテーブル18の保持面18a上に被加工物1を搬入し、カメラユニット46a,46bで被加工物1を撮像して切削予定箇所を確認し、切削ブレード44a,44bを回転させて被加工物1に切り込ませて被加工物1を切削する。図4は、切削ブレード44a,44bで被加工物1を切削する様子を模式的に示す断面図である。 After the unused cutting blades 44a and 44b are attached to the cutting device 2, the dressing board 13 and the dressing plate 11 are cut by the cutting blades 44a and 44b to perform dressing. After that, the workpiece 1 is carried onto the holding surface 18a of the chuck table 18, the camera units 46a and 46b take images of the workpiece 1 to confirm the planned cutting locations, and the cutting blades 44a and 44b are rotated to rotate the workpiece. The workpiece 1 is cut by cutting the workpiece 1. - 特許庁FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing how the workpiece 1 is cut by the cutting blades 44a and 44b.

目立てプレート11を使用して切削ブレード44a,44bの目立てを実施すると、目立てプレート11の厚さを測定して切削装置2に入力する必要がない。厚さは自動的に切削装置2に入力されるため、入力ミスが生じるおそれもない。目立てプレート11は、サブチャックテーブル50a,50bに保管できるため、被加工物1の切削に伴って目立てプレート11を搬出入する必要もない。したがって、本実施形態に係る目立てプレート11によると、切削ブレード44a,44bの目立てを効率的かつ確実に実施できる。 If the sharpening plate 11 is used to sharpen the cutting blades 44a, 44b, the thickness of the sharpening plate 11 need not be measured and entered into the cutting device 2. FIG. Since the thickness is automatically input to the cutting device 2, there is no risk of input errors. Since the dressing plate 11 can be stored in the sub-chuck tables 50a and 50b, there is no need to carry the dressing plate 11 in and out when the workpiece 1 is cut. Therefore, according to the dressing plate 11 of this embodiment, the cutting blades 44a and 44b can be dressed efficiently and reliably.

次に、目立てプレート11を使用して切削装置2において切削ブレード44a,44bの目立てを実施する本実施形態に係る切削ブレードの目立て方法について説明する。該切削ブレードの目立て方法は、切削装置2において実施される。図5(A)は、該切削ブレードの目立て方法の各ステップの流れを示すフローチャートである。 Next, a method for sharpening the cutting blades according to the present embodiment, in which the sharpening plate 11 is used to sharpen the cutting blades 44a and 44b in the cutting device 2, will be described. The cutting blade sharpening method is performed in the cutting device 2 . FIG. 5(A) is a flow chart showing the flow of each step of the cutting blade sharpening method.

該切削ブレードの目立て方法では、まず、目立てプレート11をサブチャックテーブル50a,50bで固定する目立てプレート固定ステップS10を実施する。目立てプレート固定ステップS10では、サブチャックテーブル50a,50bの一方または両方に目立てプレート11を載せる。このとき、目立てプレート11の識別コード17が付与されている表面11aを上方に向け、裏面11bを下方に向ける。そして、サブチャックテーブル50a,50bで目立てプレート11を吸引して固定する。 In the cutting blade dressing method, first, a dressing plate fixing step S10 of fixing the dressing plate 11 with the sub-chuck tables 50a and 50b is performed. In the dressing plate fixing step S10, the dressing plate 11 is placed on one or both of the sub-chuck tables 50a and 50b. At this time, the front surface 11a of the dressing plate 11 to which the identification code 17 is assigned is directed upward, and the back surface 11b is directed downward. Then, the sub-chuck tables 50a and 50b suck and fix the dressing plate 11.例文帳に追加

目立てプレート固定ステップS10を実施した後、目立てプレート11の識別コード17をカメラユニット46a,46bで読み取り、該目立てプレート11の厚さに関する情報を識別コード17から抽出する厚さ情報抽出ステップS20を実施する。図3(A)には、厚さ情報抽出ステップS20を実施する際のカメラユニット46a,46bの位置が模式的に示されている。厚さ情報抽出ステップS20では、カメラユニット46a,46bをサブチャックテーブル50a,50bの上方に移動させる。 After performing the dressing plate fixing step S10, the camera units 46a and 46b read the identification code 17 of the dressing plate 11, and a thickness information extraction step S20 of extracting information about the thickness of the dressing plate 11 from the identification code 17 is performed. do. FIG. 3A schematically shows the positions of the camera units 46a and 46b when performing the thickness information extraction step S20. In the thickness information extraction step S20, the camera units 46a and 46b are moved above the sub-chuck tables 50a and 50b.

そして、カメラユニット46a,46bを使用して、サブチャックテーブル50a,50bに固定された目立てプレート11の表面11aを撮像し、識別コード17が写る撮像画像を得る。そして、該撮像画像に写る識別コード17を読み取り、厚さに関する情報を識別コード17から抽出する。なお、識別コード17に厚さに関する情報以外の情報が含まれる場合、各情報を同時に抽出してもよい。 Then, using the camera units 46a and 46b, the surface 11a of the dressing plate 11 fixed to the sub-chuck tables 50a and 50b is imaged to obtain a captured image in which the identification code 17 is captured. Then, the identification code 17 appearing in the captured image is read, and the information about the thickness is extracted from the identification code 17 . If the identification code 17 contains information other than thickness information, each information may be extracted at the same time.

例えば、識別コード17から抽出された情報を基に、サブチャックテーブル50a,50bに固定された目立てプレート11が目立ての対象となる切削ブレード44a,44bの目立てに適した種別であるか否かを判定する判定ステップがさらに実施されてもよい。そして、目立てプレート11の種別が適切でない場合、切削装置2が備える警報ユニット等により切削装置2の使用者等にその旨を警告し、目立てプレート11の変更を促してもよい。 For example, based on the information extracted from the identification code 17, whether or not the dressing plate 11 fixed to the sub-chuck tables 50a and 50b is of a type suitable for dressing the cutting blades 44a and 44b to be dressed is determined. A determining step of determining may be further performed. If the type of the dressing plate 11 is not appropriate, a warning unit or the like provided in the cutting device 2 may be used to warn the user of the cutting device 2 or the like to prompt the user to change the dressing plate 11 .

厚さ情報抽出ステップS20を実施した後、後述の目立てステップS40において切削ブレード44a,44bで目立てプレート11を切削する条件を該厚さに関する情報に基づいて選定する目立て条件選定ステップS30を実施する。後述の目立てステップS40では、切削ブレード44a,44bの種別に応じて適切な条件で目立てが実施される必要があるが、目立てを適切に実施するための切削の条件は目立てプレート11の厚さによって変化する。 After performing the thickness information extraction step S20, a dressing condition selection step S30 is performed for selecting conditions for cutting the dressing plate 11 with the cutting blades 44a and 44b based on the thickness information in the dressing step S40 described later. In the later-described sharpening step S40, sharpening must be performed under appropriate conditions according to the type of the cutting blades 44a and 44b. Change.

そこで、目立て条件選定ステップS30では、目立てプレート11の厚さに基づいて切削ブレード44a,44bで目立てプレート11を切削する条件を選定する。例えば、切削を実施する際の目立てプレート11の上面からの切り込み深さや、切削ブレード44a,44bの回転速度、サブチャックテーブル50a,50bの加工送り速度等が選定される。 Therefore, in the dressing condition selection step S30, the conditions for cutting the dressing plate 11 with the cutting blades 44a and 44b are selected based on the thickness of the dressing plate 11. FIG. For example, the depth of cut from the upper surface of the dressing plate 11, the rotation speed of the cutting blades 44a and 44b, the processing feed speed of the sub-chuck tables 50a and 50b, etc. are selected.

なお、目立てを実施する際の切削条件の選定は、例えば、切削装置2の図示しない制御ユニットにより実施されてもよい。ここで、制御ユニットは、例えば、マイクロプロセッサまたはCPU等の処理装置や、フラッシュメモリ等の記憶装置を含むコンピュータによって構成される。そして、記憶装置に記憶されるプログラム等のソフトウェアに従い処理装置を動作させることによって、ソフトウェアと処理装置(ハードウェア資源)とが協働した具体的手段として機能する。 The selection of cutting conditions when performing dressing may be performed by, for example, a control unit (not shown) of the cutting device 2 . Here, the control unit is composed of, for example, a computer including a processing device such as a microprocessor or CPU, and a storage device such as a flash memory. By operating the processing device according to software such as programs stored in the storage device, the software and the processing device (hardware resources) function as concrete means in cooperation.

または、切削装置2が備える表示ユニット(不図示)等に厚さ情報抽出ステップS20で抽出された目立てプレート11の厚さに関する情報を表示させ、表示ユニットを視認する切削装置2の使用者等が切削条件を選定してもよい。 Alternatively, the information about the thickness of the dressing plate 11 extracted in the thickness information extraction step S20 is displayed on a display unit (not shown) or the like provided in the cutting device 2, and the user of the cutting device 2 or the like who visually recognizes the display unit Cutting conditions may be selected.

目立て条件選定ステップS30を実施した後、サブチャックテーブル50a,50bで固定された目立てプレート11を切削ブレード44a,44bで切削することで切削ブレード44a,44bの目立てを実施する目立てステップS40を実施する。図3(B)は、目立てステップS40を模式的に示す断面図である。目立てステップS40では、まず、移動ユニット22a,22b及びX軸移動機構を作動させて、切削ユニット24a,24bをサブチャックテーブル50a,50bの近傍に位置付ける。 After performing the dressing condition selection step S30, the dressing plate 11 fixed by the sub-chuck tables 50a and 50b is cut by the cutting blades 44a and 44b to dress the cutting blades 44a and 44b, thereby performing the dressing step S40. . FIG. 3B is a sectional view schematically showing the sharpening step S40. In the sharpening step S40, first, the moving units 22a and 22b and the X-axis moving mechanism are operated to position the cutting units 24a and 24b near the sub-chuck tables 50a and 50b.

そして、目立て条件選定ステップS30により選定された切削の条件に従って切削ブレード44a,44bを所定の高さに位置付けるとともに所定の回転速度で回転させる。そして、選定された切削の条件に従ってX軸移動機構を作動させて所定の加工送り速度でサブチャックテーブル50a,50bを加工送りして切削ブレード44a,44bに目立てプレート11を切削させる。さらに、切削ブレード44a,44bを割り出し送りし、その後、再び切削ブレード44a,44bに目立てプレート11を切削させる。 Then, the cutting blades 44a and 44b are positioned at a predetermined height and rotated at a predetermined rotational speed according to the cutting conditions selected in the dressing condition selection step S30. Then, the X-axis movement mechanism is operated according to the selected cutting conditions, and the sub-chuck tables 50a and 50b are processed and fed at a predetermined processing feed rate to cause the cutting blades 44a and 44b to cut the dressing plate 11. FIG. Further, the cutting blades 44a and 44b are indexed and fed, and then the cutting blades 44a and 44b are caused to cut the dressing plate 11 again.

そして、切削ブレード44a,44bに目立てプレート11を所定の回数だけ切削させて切削ブレード44a,44bの目立てを実施する。実施形態に係る切削ブレードの目立て方法によると、目立てプレート11の厚さに基づいて目立てにおける切削の条件を選定し、該切削の条件に従って切削ブレード44a,44bに該目立てプレート11を切削させる。そのため、切削ブレード44a,44bの目立てを迅速かつ適切に実施できる。 Then, the cutting blades 44a and 44b are caused to cut the dressing plate 11 a predetermined number of times to dress the cutting blades 44a and 44b. According to the cutting blade dressing method according to the embodiment, the cutting conditions for dressing are selected based on the thickness of the dressing plate 11, and the cutting blades 44a and 44b are caused to cut the dressing plate 11 according to the cutting conditions. Therefore, the cutting blades 44a and 44b can be sharpened quickly and appropriately.

目立てステップS40を実施した後、チャックテーブル18に保持された被加工物1を切削ブレード44a,44bで切削する加工ステップS50を実施する。図4は、加工ステップを模式的に示す断面図である。加工ステップS50では、目立てが実施された切削ブレード44a,44bを使用して被加工物1を切削する。 After performing the sharpening step S40, a processing step S50 of cutting the workpiece 1 held on the chuck table 18 with the cutting blades 44a and 44b is performed. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing processing steps. In the processing step S50, the workpiece 1 is cut using the sharpened cutting blades 44a and 44b.

まず、被加工物1の表面1aをカメラユニット46a,46bで撮像し、被加工物1の加工予定ラインの位置を確認する。図3(A)には、このときのカメラユニット46a,46bの位置が破線で示されている。加工予定ラインの向きを加工送り方向(X軸方向)に合わせるため、チャックテーブル18を保持面18aに垂直な方向に沿った軸の周りに回転させる。そして、移動ユニット22a,22b及びX軸移動機構を作動させて被加工物1の該加工予定ラインの延長線上に切削ブレード44a,44bを位置付ける。 First, the surface 1a of the workpiece 1 is imaged by the camera units 46a and 46b, and the position of the planned machining line of the workpiece 1 is confirmed. In FIG. 3A, the positions of the camera units 46a and 46b at this time are indicated by dashed lines. The chuck table 18 is rotated around an axis perpendicular to the holding surface 18a in order to align the direction of the line to be processed with the processing feed direction (X-axis direction). Then, the moving units 22a and 22b and the X-axis moving mechanism are operated to position the cutting blades 44a and 44b on the extension line of the planned processing line of the workpiece 1. FIG.

その後、切削ブレード44a,44bを回転させるとともに所定の高さ位置に位置付け、X軸移動機構を作動させてチャックテーブル18を加工送りし、切削ブレード44a,44bを被加工物1に切り込ませる。すると、被加工物1が該加工予定ラインに沿って切削される。さらに、切削ブレード44a,44bを割り出し送り方向(Y軸方向)に割り出し送りし、該加工予定ラインに平行な他の加工予定ラインに沿って被加工物1を切削する。 After that, the cutting blades 44a and 44b are rotated and positioned at a predetermined height, and the X-axis movement mechanism is operated to feed the chuck table 18 to cut the workpiece 1 with the cutting blades 44a and 44b. Then, the workpiece 1 is cut along the line to be processed. Further, the cutting blades 44a and 44b are indexed and fed in the index feed direction (Y-axis direction) to cut the workpiece 1 along another scheduled processing line parallel to the scheduled processing line.

また、チャックテーブル18を回転させ、他の方向に沿って同様に被加工物1を切削する。そして、すべての加工予定ラインに沿って被加工物1の切削を実施すると、加工ステップS50が完了する。目立てステップS40において、切削ブレード44a,44bに対して適切に目立てが実施されるため、加工ステップS50では切削ブレード44a,44bは被加工物1を高品質に切削できる。 Also, the chuck table 18 is rotated to similarly cut the workpiece 1 along the other direction. When the workpiece 1 has been cut along all the planned machining lines, the machining step S50 is completed. Since the cutting blades 44a and 44b are appropriately dressed in the sharpening step S40, the cutting blades 44a and 44b can cut the workpiece 1 with high quality in the processing step S50.

本実施形態に係る切削ブレードの目立て方法では、サブチャックテーブル50a,50bで目立てプレート11を固定させるため、チャックテーブル18において被加工物1の切削を実施する際、目立てプレート11を切削装置2から搬出する必要がない。また、目立てを実施する都度、切削装置2に目立てプレート11を搬入する必要がない。換言すると、切削装置2を停止させる時間を短期化できるため、被加工物1の切削効率を高められる。 In the method for dressing the cutting blade according to the present embodiment, the dressing plate 11 is fixed by the sub-chuck tables 50a and 50b. No need to carry out. Moreover, it is not necessary to carry the dressing plate 11 into the cutting device 2 each time dressing is performed. In other words, the time for stopping the cutting device 2 can be shortened, so the efficiency of cutting the workpiece 1 can be enhanced.

なお、加工ステップS50では、第1の切削ブレード44aと、第2の切削ブレード44bと、を同時に使用し、互いに平行な2つの加工予定ラインに沿って被加工物1を同時に切削してもよい。この場合、第1の切削ブレード44aの種別と、第2の切削ブレード44bの種別と、が一致していることが好ましい。 In the processing step S50, the first cutting blade 44a and the second cutting blade 44b may be used simultaneously to simultaneously cut the workpiece 1 along two parallel processing lines. . In this case, it is preferable that the type of the first cutting blade 44a and the type of the second cutting blade 44b match.

また、2つの切削ブレード44a,44bに対して目立てステップS40を同時に実施することもできる。例えば、目立てプレート固定ステップS10では、2つのサブチャックテーブル50a,50bにそれぞれ目立てプレート11を固定し、厚さ情報抽出ステップS20では、それぞれの目立てプレート11の厚さに関する情報を抽出する。 Also, the sharpening step S40 can be performed simultaneously on the two cutting blades 44a, 44b. For example, in the dressing plate fixing step S10, the dressing plates 11 are fixed to the two sub-chuck tables 50a and 50b, respectively, and in the thickness information extraction step S20, information about the thickness of each dressing plate 11 is extracted.

その後、目立て条件選定ステップS30ではそれぞれの目立てプレート11の厚さに基づいて切削の条件を選定する。目立てステップS40では、サブチャックテーブル50aに固定された目立てプレート11を第1の切削ブレード44aで切削するとともに、サブチャックテーブル50bに固定された目立てプレート11を第2の切削ブレード44bで切削する。この場合、2つの切削ブレード44a,44bに同時に目立てを実施できる。 Thereafter, in a dressing condition selection step S30, cutting conditions are selected based on the thickness of each dressing plate 11. FIG. In the dressing step S40, the dressing plate 11 fixed to the sub-chuck table 50a is cut by the first cutting blade 44a, and the dressing plate 11 fixed to the sub-chuck table 50b is cut by the second cutting blade 44b. In this case, two cutting blades 44a, 44b can be sharpened simultaneously.

さらに、目立てステップS40では、2つのサブチャックテーブル50a,50bの一方に固定された目立てプレート11を使用して2つの切削ブレード44a,44bの目立てを実施してもよい。この場合、2つの切削ブレード44a,44bに対して同時に目立てステップS40を実施してもよく、2つの切削ブレード44a,44bに対して目立てステップS40を順次実施してもよい。 Further, in the sharpening step S40, the sharpening plate 11 fixed to one of the two sub-chuck tables 50a, 50b may be used to sharpen the two cutting blades 44a, 44b. In this case, the two cutting blades 44a and 44b may be subjected to the sharpening step S40 simultaneously, or the two cutting blades 44a and 44b may be subjected to the sharpening step S40 sequentially.

2つのサブチャックテーブル50a,50bの一方に目立てプレート11を固定する場合、他方のサブチャックテーブル50a,50bには、例えば、ドレッシングボード13を固定できる。図1には、サブチャックテーブル50aの保持面52aで目立てプレート11を固定し、サブチャックテーブル50bの保持面52bでドレッシングボード13を固定する場合が示されている。 When the dressing plate 11 is fixed to one of the two sub-chuck tables 50a and 50b, the dressing board 13, for example, can be fixed to the other sub-chuck table 50a and 50b. FIG. 1 shows a case where the dressing plate 11 is fixed by the holding surface 52a of the sub-chuck table 50a and the dressing board 13 is fixed by the holding surface 52b of the sub-chuck table 50b.

この場合、切削ブレード44a,44bに目立てプレート11を切削させて目立てを実施する前に、切削ブレード44a,44bにドレッシングボード13を切削させることもできる。次に、本実施形態に係る切削ブレードの目立て方法の変形例について説明する。図5(B)は、該変形例に係る切削ブレードの目立て方法の各ステップの流れを模式的に示すフローチャートである。該変形例では、目立てステップS40の前に、ドレッシングボード切削ステップS60を実施する。 In this case, the dressing board 13 can be cut by the cutting blades 44a and 44b before the dressing plate 11 is cut by the cutting blades 44a and 44b. Next, a modification of the cutting blade sharpening method according to the present embodiment will be described. FIG. 5B is a flow chart schematically showing the flow of each step of the cutting blade sharpening method according to the modification. In this modification, the dressing board cutting step S60 is performed before the dressing step S40.

ドレッシングボード13は、切削ブレード44a,44bが含む砥粒と種別が異なる又は種別が一致する第2の砥粒を含み、切削ブレード44a,44bが含むボンドと種別が異なる又は種別が一致する第2のボンドを含む。そして、該第2の砥粒が該第2のボンドで固定されている。ドレッシングボード切削ステップS60では、ドレッシングボード13を切削ブレード44a,44bに切削させて、切削ブレード44a,44bを積極的に消耗させる。 The dressing board 13 contains second abrasive grains different in type or the same type as the abrasive grains included in the cutting blades 44a and 44b, and second abrasive grains different in type or the same type as the bonds included in the cutting blades 44a and 44b. of bonds. The second abrasive grains are fixed by the second bond. In the dressing board cutting step S60, the dressing board 13 is cut by the cutting blades 44a and 44b to actively wear the cutting blades 44a and 44b.

例えば、変形例に係る切削ブレードの目立て方法では、サブチャックテーブル50bに固定されたドレッシングボード13を切削ブレード44a,44bに切削させる(S60)。その後、サブチャックテーブル50bに固定された目立てプレート11を切削ブレード44a,44bに切削させる(S40)。 For example, in the method for sharpening the cutting blade according to the modification, the dressing board 13 fixed to the sub-chuck table 50b is cut by the cutting blades 44a and 44b (S60). After that, the dressing plate 11 fixed to the sub-chuck table 50b is cut by the cutting blades 44a and 44b (S40).

ドレッシングボード切削ステップS60を実施すると、目立てステップS40における切削ブレード44a,44bの消耗量を大きく低減できる。そのため、目立てプレート11の交換頻度を低減できる。目立てプレート11の交換頻度を低減できると切削装置2を停止させる時間を低減できるため、被加工物1の切削効率も高められる。 By performing the dressing board cutting step S60, the amount of wear of the cutting blades 44a and 44b in the dressing step S40 can be greatly reduced. Therefore, the replacement frequency of the dressing plate 11 can be reduced. If the replacement frequency of the dressing plate 11 can be reduced, the time for stopping the cutting device 2 can be reduced, so that the cutting efficiency of the workpiece 1 can be improved.

なお、本発明は、上記実施形態の記載に制限されず種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、サブチャックテーブル50a,50bに目立てプレート11を固定させる場合について説明した。しかし、本発明の一態様はこれに限定されない。すなわち、目立てプレート11は、被加工物1を切削する際に被加工物1が固定されるチャックテーブル18に固定されて使用されてもよい。 It should be noted that the present invention is not limited to the description of the above embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, in the above embodiment, the case where the dressing plate 11 is fixed to the sub-chuck tables 50a and 50b has been described. However, one aspect of the present invention is not limited to this. That is, the dressing plate 11 may be fixed to a chuck table 18 to which the workpiece 1 is fixed when the workpiece 1 is cut.

この場合においても、目立てプレート11の表面11aに目立てプレート11の厚さに関する情報が格納された識別コード17が付与されていると、カメラユニット46a,46bを使用して該識別コード17を読み取り該厚さに関する情報を抽出できる。そのため、目立てプレート11の厚さに基づいて目立てにおける切削の条件を迅速に選定でき、切削ブレード44a,44bの目立てを適切に実施できる。 In this case as well, if the surface 11a of the dressing plate 11 is provided with the identification code 17 storing information about the thickness of the dressing plate 11, the identification code 17 is read using the camera units 46a and 46b. Information about the thickness can be extracted. Therefore, the cutting conditions for dressing can be quickly selected based on the thickness of the dressing plate 11, and the cutting blades 44a and 44b can be appropriately dressed.

なお、目立てプレート11をチャックテーブル18に固定して切削ブレード44a,44bの目立てを実施する場合、切削装置2において被加工物1と同様に目立てプレート11を取り扱うことができ、被加工物1と同様に切削装置2に搬出入できる。すなわち、目立てプレート11は、粘着テープ5と、環状フレーム7と、と一体化され、フレームユニットの形態で取り扱われるとよい。 When the dressing plate 11 is fixed to the chuck table 18 and the cutting blades 44a and 44b are dressed, the dressing plate 11 can be handled by the cutting device 2 in the same manner as the workpiece 1. Similarly, it can be carried in and out of the cutting device 2 . That is, the dressing plate 11 is preferably integrated with the adhesive tape 5 and the annular frame 7 and handled in the form of a frame unit.

目立てを実施する際には、フレームユニットの態様の目立てプレート11を収容するカセット10をカセット支持台8に載せる。そして、搬送ユニット(不図示)を使用してカセット10から該目立てプレート11を一対のガイドレール12上に引き出し、その後、チャックテーブル18へ搬送する。チャックテーブル18で目立てプレート11を吸引保持した後、カメラユニット46a,46bを使用して該識別コード17を読み取り該厚さに関する情報を抽出し、目立ての条件を設定する。 When dressing is carried out, the cassette 10 containing the dressing plate 11 in the form of a frame unit is placed on the cassette support 8 . Then, the dressing plate 11 is pulled out from the cassette 10 onto the pair of guide rails 12 using a transport unit (not shown), and then transported to the chuck table 18 . After the dressing plate 11 is held by suction on the chuck table 18, the camera units 46a and 46b are used to read the identification code 17, extract information on the thickness, and set the dressing conditions.

その後、被加工物1を切削させる際と同様の手順で目立ての対象となる切削ブレード44a,44bに目立てプレート11を切削させる。そして、フレームユニットの態様の目立てプレート11を洗浄ユニット48に搬送して、洗浄ユニット48で洗浄した後、再び搬送ユニット等を使用して目立てプレート11をカセット10に収容させる。 After that, the cutting blades 44a and 44b to be dressed are caused to cut the dressing plate 11 in the same procedure as when the workpiece 1 is cut. Then, the dressing plate 11 in the form of a frame unit is conveyed to the washing unit 48 and washed by the washing unit 48, and then the dressing plate 11 is accommodated in the cassette 10 again using the conveying unit or the like.

このように、目立てプレート11をフレームユニットの態様で取り扱うと、被加工物1を切削するときと同様に、切削装置2への目立てプレート11の搬入から目立てプレート11を搬出するまでの一連の工程を自動で実施できる。この場合、切削装置2は目立てプレート11を取り扱うための特別な構成が不要である上、切削ブレード44a,44bの目立てと、被加工物1の切削と、を連続して自動的に実施できる。したがって、切削ブレード44a,44bの目立てと、被加工物1の切削と、を極めて効率的に実施できる。 In this way, when the dressing plate 11 is handled in the form of a frame unit, a series of processes from carrying the dressing plate 11 into the cutting device 2 to carrying out the dressing plate 11 are carried out in the same manner as when cutting the workpiece 1 . can be performed automatically. In this case, the cutting device 2 does not require a special configuration for handling the dressing plate 11, and the dressing of the cutting blades 44a and 44b and the cutting of the workpiece 1 can be performed continuously and automatically. Therefore, dressing of the cutting blades 44a and 44b and cutting of the workpiece 1 can be performed very efficiently.

その他、上記実施形態及び変形例に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above embodiments and modifications can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

1 被加工物
1a 表面
3 デバイス
5 粘着テープ
7 環状フレーム
9 フレームユニット
11 目立てプレート
11a 表面
11b 裏面
13 ドレッシングボード
15 ダミーウェーハ
15a 分割予定ライン
17 識別コード
2 切削装置
4 基台
4a,4b,4c 開口
8 カセット支持台
10 カセット
12 ガイドレール
14 テーブルカバー
16 防塵防滴カバー
18 チャックテーブル
18a 保持面
18b クランプ
20 支持構造
22a,22b 移動ユニット
24a,24b 切削ユニット
26 Y軸ガイドレール
28a,28b Y軸移動プレート
30a,30b Y軸ボールネジ
32a Y軸パルスモータ
34a,34b Z軸ガイドレール
36a,36b Z軸移動プレート
38a,38b Z軸ボールネジ
40a,40b Z軸パルスモータ
42a,42b スピンドル
44a,44b 切削ブレード
46a,46b カメラユニット
48 洗浄ユニット
50a,50b サブチャックテーブル
52a,52b 保持面
REFERENCE SIGNS LIST 1 work piece 1a front surface 3 device 5 adhesive tape 7 annular frame 9 frame unit 11 dressing plate 11a front surface 11b rear surface 13 dressing board 15 dummy wafer 15a division line 17 identification code 2 cutting device 4 base 4a, 4b, 4c opening 8 Cassette support base 10 Cassette 12 Guide rail 14 Table cover 16 Dust and drip proof cover 18 Chuck table 18a Holding surface 18b Clamp 20 Support structure 22a, 22b Moving units 24a, 24b Cutting unit 26 Y-axis guide rails 28a, 28b Y-axis moving plate 30a , 30b Y-axis ball screw 32a Y-axis pulse motor 34a, 34b Z-axis guide rail 36a, 36b Z-axis movement plate 38a, 38b Z-axis ball screw 40a, 40b Z-axis pulse motor 42a, 42b Spindle 44a, 44b Cutting blade 46a, 46b Camera Unit 48 Cleaning unit 50a, 50b Sub-chuck table 52a, 52b Holding surface

Claims (4)

砥粒がボンドで固定された切削ブレードの目立てを実施する際に該切削ブレードにより切削される目立てプレートの製造方法であって、
ダミーウェーハの厚さを計測して該厚さに関する情報が格納された識別コードを生成し、該ダミーウェーハを分割して個々の該目立てプレートを形成し、該識別コードを該目立てプレートの表面に付与することにより、
該切削ブレードにより切削される被加工物の材料と同質の材料で形成され、表面に厚さに関する情報が格納された識別コードが付与された該目立てプレートを製造することを特徴とする目立てプレートの製造方法
A method for manufacturing a dressing plate that is cut by a cutting blade having abrasive grains fixed with a bond when performing dressing of the cutting blade, comprising:
measuring the thickness of a dummy wafer to generate an identification code storing information about the thickness, dividing the dummy wafer to form individual dressing plates, and applying the identification code to the surface of the dressing plate By giving
The dressing plate is made of the same material as the material of the workpiece to be cut by the cutting blade, and is provided with the identification code storing the information about the thickness on the surface of the dressing plate. A method for manufacturing a dressing plate.
該目立てプレートは、該切削ブレードで切削される際に保持されるサブチャックテーブルの保持面に対応した形状に整形されていることを特徴とする請求項1記載の目立てプレートの製造方法 2. The method of manufacturing a dressing plate according to claim 1 , wherein said dressing plate is formed into a shape corresponding to a holding surface of a sub-chuck table held during cutting by said cutting blade. 被加工物を保持するチャックテーブルと、
砥粒がボンドで固定された切削ブレードを備え、該チャックテーブルで保持された被加工物を該切削ブレードで切削する切削ユニットと、
カメラユニットと、
サブチャックテーブルと、
を備える切削装置において、請求項2に記載の目立てプレートの製造方法で製造された該目立てプレートを使用して該切削ブレードを目立てする切削ブレードの目立て方法であって、
該目立てプレートを該サブチャックテーブルで固定する目立てプレート固定ステップと、
該サブチャックテーブルで固定された該目立てプレートを該切削ブレードで切削することで該切削ブレードの目立てを実施する目立てステップと、
該目立てステップを実施した後、該チャックテーブルに保持された被加工物を該切削ブレードで切削する加工ステップと、を備え、
該目立てプレートの該識別コードを該カメラユニットで読み取り、該目立てプレートの該厚さに関する情報を該識別コードから抽出する厚さ情報抽出ステップと、
該目立てステップにおいて該切削ブレードで該目立てプレートを切削する条件を該厚さに関する情報に基づいて選定する目立て条件選定ステップと、
を該目立てステップを実施する前に実施することを特徴とする切削ブレードの目立て方法。
a chuck table for holding a workpiece;
a cutting unit that includes a cutting blade to which abrasive grains are fixed with a bond, and that cuts a workpiece held by the chuck table with the cutting blade;
a camera unit,
a subchuck table,
3. A cutting blade sharpening method for sharpening the cutting blade using the sharpening plate manufactured by the sharpening plate manufacturing method according to claim 2,
a dressing plate fixing step of fixing the dressing plate to the sub-chuck table;
a dressing step of dressing the cutting blade by cutting the dressing plate fixed by the sub-chuck table with the cutting blade;
a machining step of cutting the workpiece held on the chuck table with the cutting blade after performing the dressing step;
a thickness information extraction step of reading the identification code of the dressing plate with the camera unit and extracting information about the thickness of the dressing plate from the identification code;
a dressing condition selection step of selecting conditions for cutting the dressing plate with the cutting blade in the dressing step based on the information about the thickness;
before performing the sharpening step.
該目立てステップの前に、第2の砥粒が第2のボンドで固定されたドレッシングボードを該切削ブレードで切削するドレッシングボード切削ステップをさらに備えることを特徴とする請求項3に記載の切削ブレードの目立て方法。 4. The cutting blade according to claim 3, further comprising a dressing board cutting step of cutting a dressing board to which second abrasive grains are fixed by a second bond with the cutting blade before the dressing step. method of sharpening.
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