Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7366637B2 - Workpiece confirmation method and processing method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7366637B2 - Workpiece confirmation method and processing method - Google Patents

Workpiece confirmation method and processing method Download PDF

Info

Publication number
JP7366637B2
JP7366637B2 JP2019149312A JP2019149312A JP7366637B2 JP 7366637 B2 JP7366637 B2 JP 7366637B2 JP 2019149312 A JP2019149312 A JP 2019149312A JP 2019149312 A JP2019149312 A JP 2019149312A JP 7366637 B2 JP7366637 B2 JP 7366637B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
imaging
tape
inspected
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019149312A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021034414A (en
Inventor
智瑛 杉山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2019149312A priority Critical patent/JP7366637B2/en
Priority to KR1020200086504A priority patent/KR102930135B1/en
Priority to CN202010800580.8A priority patent/CN112397408B/en
Priority to TW109127357A priority patent/TWI837411B/en
Publication of JP2021034414A publication Critical patent/JP2021034414A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7366637B2 publication Critical patent/JP7366637B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/06Apparatus for monitoring, sorting, marking, testing or measuring
    • H10P72/0616Monitoring of warpages, curvatures, damages, defects or the like
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
    • H10P74/20Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices characterised by the properties tested or measured, e.g. structural or electrical properties
    • H10P74/203Structural properties, e.g. testing or measuring thicknesses, line widths, warpage, bond strengths or physical defects
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B27/00Other grinding machines or devices
    • B24B27/06Grinders for cutting-off
    • B24B27/0616Grinders for cutting-off using a tool turning around the workpiece
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D7/00Accessories specially adapted for use with machines or devices of the preceding groups
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P52/00Grinding, lapping or polishing of wafers, substrates or parts of devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P54/00Cutting or separating of wafers, substrates or parts of devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/74Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H10P72/7402Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/74Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H10P72/7416Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic materials other than metals or composite materials
    • B23K2103/56Inorganic materials other than metals or composite materials being semiconducting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

本発明は、裏面がテープに固定され表面が露出するとともに分割されたワークの裏面を確認する確認方法に関する。 The present invention relates to a confirmation method for checking the back side of a workpiece whose back side is fixed to a tape and whose front side is exposed and divided.

板状のワークである半導体ウェーハをダイシングする前のプリカット工程において、切削ブレードのコンディショニングが十分か否かを裏面チッピングの状態から判別することが知られている。 In a pre-cutting process before dicing a semiconductor wafer, which is a plate-shaped workpiece, it is known to determine whether the conditioning of the cutting blade is sufficient based on the state of backside chipping.

この判別を行うためには、プリカット用のワークを一度加工装置から搬出してワークの裏面を観察することで行われるが、搬出や観察を省略する方法も知られている。 In order to make this determination, the workpiece for pre-cutting is carried out once from the processing device and the back side of the workpiece is observed, but methods that omit carrying out and observation are also known.

特許文献1では、ワークの裏面チッピング状態と、チャックテーブルが切削ブレードから受ける加工負荷との間に正の相関があること、つまり、当該加工負荷が大きいほど裏面チッピングが大きくなるという相関関係に基づき、プリカット中にチャックテーブルに作用する加工負荷を測定することによって、当該測定された加工負荷によってプリカット時の裏面チッピング状態を好適に把握することとしている。 In Patent Document 1, based on the fact that there is a positive correlation between the back side chipping state of the workpiece and the machining load that the chuck table receives from the cutting blade, that is, the larger the machining load is, the greater the back side chipping is. By measuring the machining load acting on the chuck table during pre-cutting, the backside chipping state at the time of pre-cutting can be appropriately grasped from the measured machining load.

特開2006-303367号公報Japanese Patent Application Publication No. 2006-303367

一方、ダイシング後のワークは顕微鏡で観察されることで、チッピング(欠け)やクラック(亀裂)のサイズが測定され、加工品質が管理されるが、従来の方法には改善が切望されていた。 On the other hand, the workpiece after dicing is observed under a microscope to measure the size of chips and cracks, and to control processing quality, but improvements to the conventional method are desperately needed.

即ち、裏面側のチッピングやクラックを測定するために、一度転写作業(テープの貼替え作業)を行う、或いは、抜き取りでチップをピックアップし、そのチップの表面側をテープに貼着して裏面を露出した状態にしてから観察する必要があり、作業が繁雑であった。 In other words, in order to measure chipping and cracking on the back side, transfer work (reapplying the tape) is performed once, or the chip is picked up by extraction, the front side of the chip is pasted on tape, and the back side is measured. It was necessary to expose the object before observing it, which made the work complicated.

そこで、テープに貼着されて分割されたワークを裏面側からテープ越しにカメラで撮像して観察する方法も考えられる。 Therefore, a method can be considered in which a workpiece that has been attached to a tape and divided is imaged with a camera through the tape from the back side and observed.

しかし、裏面側は表面側と異なり、裏面に微小なチッピングやクラックが生じていてもテープに貼着されているため撮像画像上において鮮明に現れることがない。この点、目視による観察によればチッピングやクラックも判別も不可能ではないが、撮像画像を画像処理してチッピングやクラックを自動判別するには難しいという問題があった。 However, unlike the front side, the back side is different from the front side, and even if minute chips or cracks occur on the back side, they will not clearly appear on the captured image because they are attached to the tape. In this regard, although it is not impossible to identify chippings and cracks by visual observation, there is a problem in that it is difficult to automatically identify chippings and cracks by processing the captured image.

以上に鑑み、本願発明は、ワークの裏面側の撮像画像に基づいて裏面側のチッピングやクラックを確実に自動判別するための新規な技術を提案するものである。 In view of the above, the present invention proposes a new technique for reliably automatically determining chipping or cracking on the back side of a workpiece based on a captured image of the back side of the workpiece.

本発明の一態様によれば、裏面がテープに固定され表面が露出するとともに分割されたワークの該裏面を確認するワークの確認方法であって、該テープを介して該ワークを該裏面側から赤外線カメラで撮像し、撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像ステップで形成された該撮像画像から該裏面に生じたチッピング及び/またはクラックを検出する検出ステップと、を備えたワークの確認方法とする。 According to one aspect of the present invention, there is provided a workpiece confirmation method in which the back side of a workpiece is fixed to a tape and the front side is exposed and the workpiece is divided. A method for checking a workpiece, comprising: an imaging step of capturing an image with an infrared camera to form a captured image; and a detection step of detecting chipping and/or cracks occurring on the back surface from the captured image formed in the imaging step. shall be.

また、該撮像ステップでは、該赤外線カメラの焦点を該ワークの表面に位置付けた状態で撮像する。 In the imaging step, the infrared camera takes an image with its focus positioned on the surface of the workpiece.

また、ワークの加工方法であって、該ワークの裏面側をテープに貼着して該ワークの表面を露出させる貼着ステップと、該テープが貼着された該ワークを分割する分割ステップと、該テープを介して該ワークの該裏面側から赤外線カメラで該ワークを撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像ステップで形成した該撮像画像をもとに該裏面に生じたチッピング及び/またはクラックを検出する検出ステップと、を有するワークの加工方法とする。 Further, the workpiece processing method includes an attaching step of attaching the back side of the workpiece to a tape to expose the front surface of the workpiece, and a dividing step of dividing the workpiece to which the tape is attached. An imaging step of imaging the workpiece from the back side of the workpiece through the tape to form a captured image; and/or a detection step of detecting cracks.

本発明によれば、裏面側からテープを介して赤外線カメラで撮像した撮像画像をもとに被加工物の裏面状態が確認可能となり、作業工数の削減とともに時間短縮を図ることができる。また、赤外線カメラを用いることで裏面側のチッピングやクラックを確実に検出でき、検査の信頼性を高めることができる。 According to the present invention, the state of the back surface of the workpiece can be confirmed based on an image taken by an infrared camera from the back side through the tape, and it is possible to reduce the number of work steps and time. Furthermore, by using an infrared camera, chipping and cracks on the back side can be reliably detected, increasing the reliability of the inspection.

また、チッピングやクラックなどの欠陥箇所は撮像画像上において輝度が低く黒く映ることになり、これに基づいて、チッピングやクラックの検出やサイズを測定することが可能となる。具体的には、撮像画像を多値化処理し、エッジ検出処理をして検出したエッジを基準とし、輝度が所定範囲のエリアをクラックやチッピングが生じたエリアとして検出する。また、当該エリアの画素数を元に、クラックやチッピングのサイズが測定可能となる。 In addition, defective locations such as chippings and cracks appear black with low brightness on the captured image, and based on this, it becomes possible to detect and measure the size of chippings and cracks. Specifically, the captured image is subjected to multi-value processing, and edges detected by edge detection processing are used as a reference, and areas with brightness within a predetermined range are detected as areas where cracks or chipping have occurred. Furthermore, the size of cracks and chipping can be measured based on the number of pixels in the area.

また、ワークの分割加工から裏面のチッピング及び/またはクラックの検出までの一連の工程を短時間で実施可能となり、また、検出の精度が高いため検査の信頼性を高めることができる。 In addition, a series of steps from dividing the workpiece to detecting chipping and/or cracks on the back side can be carried out in a short time, and since the detection accuracy is high, the reliability of the inspection can be improved.

被検査物を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view schematically showing an object to be inspected. デバイスに分割された被検査物を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view schematically showing an object to be inspected divided into devices. 検査装置を備える加工装置を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing a processing device including an inspection device. 検査装置を備える加工装置を模式的に示す上面図である。FIG. 2 is a top view schematically showing a processing device including an inspection device. 検査装置を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view schematically showing an inspection device. 図6(A)は、被検査物保持機構を模式的に示す斜視図であり、図6(B)は、撮像機構を模式的に示す斜視図である。FIG. 6(A) is a perspective view schematically showing the inspection object holding mechanism, and FIG. 6(B) is a perspective view schematically showing the imaging mechanism. 図7(A)は、載置部を模式的に示す上面図であり、図7(B)は、載置部を模式的に示す断面図である。FIG. 7(A) is a top view schematically showing the mounting section, and FIG. 7(B) is a cross-sectional view schematically showing the mounting section. 被検査物を検査する際の被検査物保持機構、撮像機構、及び被検査物の位置関係を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the positional relationship among the object holding mechanism, the imaging mechanism, and the object when inspecting the object. 赤外線カメラで構成される第2の撮像ユニットの模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a second imaging unit composed of an infrared camera. 被検査物を側面からみた模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of an object to be inspected viewed from the side. 図11(A)は、撮像画像の例について示す図である。図11(B)は、デバイス側面からみたチッピングの形状を模式的に示す図である。FIG. 11A is a diagram illustrating an example of a captured image. FIG. 11B is a diagram schematically showing the shape of chipping as seen from the side of the device.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係る検査装置は、例えば、加工装置により加工されたワーク(被加工物)を被検査物として、該被検査物を上面及び下面から同時に撮像して検査できるものである。 Embodiments according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The inspection device according to the present embodiment is capable of inspecting, for example, a workpiece (workpiece) processed by a processing device as an object to be inspected, by simultaneously imaging the object to be inspected from the upper surface and the lower surface.

まず、被検査物について説明する。被検査物は、例えば、Si(シリコン)、SiC(シリコンカーバイド)、GaN(ガリウムナイトライド)、GaAs(ヒ化ガリウム)、若しくは、その他の半導体等の材料からなる略円板状のウェーハである。または、被検査物は、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる基板等である。また、被検査物は、モールド樹脂等で封止された複数のデバイスチップが含まれるパッケージ基板等でもよい。 First, the object to be inspected will be explained. The object to be inspected is, for example, a substantially disk-shaped wafer made of a material such as Si (silicon), SiC (silicon carbide), GaN (gallium nitride), GaAs (gallium arsenide), or other semiconductors. . Alternatively, the object to be inspected is a substrate made of a material such as sapphire, glass, or quartz. Further, the object to be inspected may be a package substrate or the like that includes a plurality of device chips sealed with a mold resin or the like.

図1は、被検査物1の一例であるウェーハを模式的に示す斜視図である。被検査物1の表面1aは、例えば、互いに交差する複数のストリート3と呼ばれる分割予定ラインで区画されている。被検査物1であるウェーハの表面1aのストリート3で区画された各領域にはIC(Integrated Circuit)、LSI(Large-Scale Integrated circuit)等のデバイス5が形成されている。ウェーハをストリート3に沿って分割すると、個々のデバイスチップを形成できる。 FIG. 1 is a perspective view schematically showing a wafer, which is an example of the object to be inspected 1. As shown in FIG. The surface 1a of the object to be inspected 1 is divided, for example, by a plurality of division lines called streets 3 that intersect with each other. Devices 5 such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large-Scale Integrated Circuits) are formed in each area defined by streets 3 on the front surface 1a of a wafer, which is the object 1 to be inspected. Dividing the wafer along streets 3 allows the formation of individual device chips.

被検査物1の分割には、例えば、ストリート3に沿って被検査物1にレーザビームを照射して被検査物1をレーザ加工するレーザ加工装置が使用される。または、円環状の切削ブレードによりストリート3に沿って被検査物1を切削できる切削装置が使用される。 To divide the inspection object 1, for example, a laser processing device is used which irradiates the inspection object 1 with a laser beam along the streets 3 and processes the inspection object 1 with a laser beam. Alternatively, a cutting device capable of cutting the object to be inspected 1 along the streets 3 with an annular cutting blade is used.

被検査物1を切削装置やレーザ加工装置等の加工装置に搬入する前に、図1に示す通り、被検査物1は、環状のフレーム9と、該フレーム9の開口を塞ぐように貼られたテープ7と、が一体化されて、フレームユニット11が形成される。テープ7が貼着され、該テープ7を介してフレーム9に装着された被検査物1は、この状態で加工装置に搬入され加工される。 Before carrying the inspected object 1 into a processing device such as a cutting device or a laser processing device, as shown in FIG. The frame unit 11 is formed by integrating the tape 7 and the frame unit 11. The object 1 to be inspected, to which the tape 7 is attached and mounted on the frame 9 via the tape 7, is transported in this state to a processing device and processed.

図2は加工装置によって加工されてデバイス5,5に分割された後の被検査物1の様子を示すものであり、この例では、ブレードダイシングによる切削がなされた場合を示している。 FIG. 2 shows the state of the inspected object 1 after it has been processed by a processing device and divided into devices 5, 5, and this example shows a case where cutting has been performed by blade dicing.

被検査物1がストリート3に沿って適切に加工されたことを確認するために、本実施形態に係る検査装置では、被検査物1の加工箇所が撮像され被検査物1が検査される。該検査装置では、例えば、被検査物1がストリート3に沿って検査され、加工痕の形成位置や、加工痕に沿って被検査物1に形成されるチッピングと呼ばれる欠けの形状や大きさ、分布、クラック(亀裂)等が調査される。また、被検査物1が分割されて形成されたデバイスチップの大きさが確認される。ただし、該検査装置の使用用途はこれに限定されない。 In order to confirm that the inspected object 1 has been appropriately processed along the streets 3, the inspection apparatus according to the present embodiment images the processed portion of the inspected object 1 and inspects the inspected object 1. In this inspection device, for example, the inspected object 1 is inspected along the street 3, and the position where machining marks are formed, the shape and size of chips called chipping formed on the inspected object 1 along the machining marks, Distribution, cracks, etc. will be investigated. Further, the size of the device chip formed by dividing the inspection object 1 is confirmed. However, the usage of the inspection device is not limited to this.

以下、複数のデバイス5が形成され、ストリート3に沿って分割されたウェーハが被検査物1である場合を例に本実施形態について説明するが、被検査物1はこれに限定されない。本実施形態に係る検査装置で検査される被検査物1は、加工装置等により加工されていなくてもよい。 The present embodiment will be described below using an example in which the object 1 to be inspected is a wafer on which a plurality of devices 5 are formed and divided along the streets 3, but the object 1 to be inspected is not limited to this. The inspected object 1 inspected by the inspection apparatus according to this embodiment does not need to be processed by a processing apparatus or the like.

本実施形態に係る検査装置は、例えば、被加工物として被検査物1を加工する加工ユニットを備える加工装置に組み込まれて使用される。ただし、該検査装置は加工装置に組み込まれていなくてもよく、独立していてもよい。図3は、本実施形態に係る検査装置が組み込まれた加工装置2を模式的に示す斜視図である。 The inspection device according to the present embodiment is used, for example, by being incorporated into a processing device that includes a processing unit that processes an object to be inspected 1 as a workpiece. However, the inspection device does not need to be incorporated into the processing device, and may be independent. FIG. 3 is a perspective view schematically showing a processing device 2 incorporating an inspection device according to the present embodiment.

加工装置2は、各構成要素を支持する基台4を備える。基台4の前方の角部には、昇降可能なカセット支持台6が設けられている。カセット支持台6の上面には、複数のフレームユニット11を収容するカセットが載せられる。 The processing device 2 includes a base 4 that supports each component. A cassette support base 6 that can be raised and lowered is provided at the front corner of the base 4. A cassette that accommodates a plurality of frame units 11 is placed on the upper surface of the cassette support base 6.

基台4の上面のカセット支持台6に隣接した位置には、X軸方向(加工送り方向)に長い矩形の開口10が形成されている。開口10には、被加工物保持ユニット14と、該被加工物保持ユニット14が載る移動テーブル12をX軸方向に移動させるX軸方向移動機構(不図示)と、該X軸方向移動機構を覆う防塵防滴カバー10aと、が設けられている。 A rectangular opening 10 that is long in the X-axis direction (processing feed direction) is formed at a position adjacent to the cassette support 6 on the upper surface of the base 4. The opening 10 includes a workpiece holding unit 14, an X-axis movement mechanism (not shown) for moving the moving table 12 on which the workpiece holding unit 14 is placed in the X-axis direction, and the X-axis movement mechanism. A dust-proof and drip-proof cover 10a is provided.

加工装置2には、カセット支持台6に載せられたカセットに収容されたフレームユニット11を搬出入する搬送ユニット16が設けられている。搬送ユニット16は、基台4の立設部の前面に配設されたY軸方向に平行な一対のガイドレール18を有する。該一対のガイドレール18には、移動体20がスライド可能に取り付けられている。移動体20の後面側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはガイドレール18に平行なボールネジ22が螺合されている。 The processing device 2 is provided with a transport unit 16 that transports the frame unit 11 housed in a cassette placed on the cassette support stand 6 in and out. The transport unit 16 has a pair of guide rails 18 arranged in front of the upright portion of the base 4 and parallel to the Y-axis direction. A moving body 20 is slidably attached to the pair of guide rails 18. A nut portion (not shown) is provided on the rear side of the movable body 20, and a ball screw 22 parallel to the guide rail 18 is screwed into this nut portion.

ボールネジ22の一端部には、パルスモータ24が連結されている。パルスモータ24でボールネジ22を回転させると、移動体20はガイドレール18に沿ってY軸方向に移動する。移動体20の下端には、X軸方向に沿って伸長した腕部26が昇降機構を介して接続されている。腕部26の下面には、フレーム9の大きさに対応して配設された複数の吸引部28が配設されている。さらに、腕部26の中央には、カセット支持台6に向いたプッシュプル機構30が配設されている。 A pulse motor 24 is connected to one end of the ball screw 22 . When the ball screw 22 is rotated by the pulse motor 24, the movable body 20 moves in the Y-axis direction along the guide rail 18. An arm portion 26 extending along the X-axis direction is connected to the lower end of the movable body 20 via a lifting mechanism. A plurality of suction parts 28 are arranged on the lower surface of the arm part 26 and are arranged in correspondence with the size of the frame 9. Furthermore, a push-pull mechanism 30 facing the cassette support base 6 is disposed at the center of the arm portion 26 .

また、基台4の上面には、開口10を跨ぐように設けられた一対の搬送レール8が配設されている。該一対の搬送レール8は、フレーム9の径よりも小さい幅で互いに離間して配設されているが、互いに離れる方向に移動可能である。 Furthermore, a pair of transport rails 8 are provided on the upper surface of the base 4 so as to straddle the opening 10 . The pair of transport rails 8 are spaced apart from each other with a width smaller than the diameter of the frame 9, but are movable in directions away from each other.

搬送ユニット16は、Y軸方向に移動してカセット支持台6に載置されたカセットにプッシュプル機構30の先端を差し入れて該カセットに収容されたフレームユニット11のフレーム9を把持できる。プッシュプル機構30でフレーム9を把持し、Y軸方向に沿って逆方向に腕部26を移動させると、フレームユニット11を一対の搬送レール8上に引き出せる。 The transport unit 16 can move in the Y-axis direction, insert the tip of the push-pull mechanism 30 into the cassette placed on the cassette support base 6, and grip the frame 9 of the frame unit 11 accommodated in the cassette. When the frame 9 is gripped by the push-pull mechanism 30 and the arm portion 26 is moved in the opposite direction along the Y-axis direction, the frame unit 11 can be pulled out onto the pair of transport rails 8.

その後、プッシュプル機構30によるフレーム9の把持を解除し、搬送ユニット16の吸引部28を上方からフレーム9に接触させ、吸引部28によりフレーム9を吸引保持する。そして、フレームユニット11を搬送レール8から上方に引き上げ、該一対の搬送レール8の間隔を広げ、フレームユニット11を下降させることで、被加工物保持ユニット14上にフレームユニット11を搬送できる。 Thereafter, the grip of the frame 9 by the push-pull mechanism 30 is released, the suction section 28 of the transport unit 16 is brought into contact with the frame 9 from above, and the frame 9 is suction-held by the suction section 28 . Then, by lifting the frame unit 11 upward from the transport rail 8, widening the interval between the pair of transport rails 8, and lowering the frame unit 11, the frame unit 11 can be transported onto the workpiece holding unit 14.

被加工物保持ユニット14は、例えば、被検査物1(ウェーハ)を保持するチャックテーブルである。被加工物保持ユニット14の上面には多孔質部材が配設されており、該多孔質部材の上面がフレームユニット11を保持する保持面となる。該多孔質部材は、被加工物保持ユニット14の内部に形成された吸引路(不図示)を介して吸引源(不図示)に接続されている。被加工物保持ユニット14は、フレームユニット11を吸引保持できる。 The workpiece holding unit 14 is, for example, a chuck table that holds the test object 1 (wafer). A porous member is disposed on the upper surface of the workpiece holding unit 14, and the upper surface of the porous member serves as a holding surface for holding the frame unit 11. The porous member is connected to a suction source (not shown) via a suction path (not shown) formed inside the workpiece holding unit 14. The workpiece holding unit 14 can hold the frame unit 11 by suction.

図4は、加工装置2の構成を模式的に示す上面図である。加工装置2は、被検査物1を被加工物として加工する加工ユニット32を備える。加工ユニット32は、例えば、円環状の切削ブレード34と、該切削ブレード34の貫通孔に挿通され該切削ブレード34を回転させる際の回転軸となるスピンドルが収容されたスピンドルハウジング36と、該スピンドルを回転させる図示しないモータと、を備える切削ユニットである。被加工物保持ユニット14に保持された被加工物に回転する切削ブレード34を切り込ませると、被加工物が切削加工される。 FIG. 4 is a top view schematically showing the configuration of the processing device 2. As shown in FIG. The processing device 2 includes a processing unit 32 that processes the inspection object 1 as a workpiece. The processing unit 32 includes, for example, an annular cutting blade 34, a spindle housing 36 that accommodates a spindle that is inserted into a through hole of the cutting blade 34 and serves as a rotation axis when rotating the cutting blade 34, and the spindle. This is a cutting unit that includes a motor (not shown) that rotates the. When the rotating cutting blade 34 cuts into the workpiece held by the workpiece holding unit 14, the workpiece is cut.

ただし、図4に示す加工装置2には、被検査物1を切削する2つの加工ユニット32が装着されているが、加工装置2はこれに限定されない。例えば、加工装置2が備える加工ユニット32は一つでもよい。また、加工ユニット32は、被検査物1をレーザ加工するレーザ加工ユニットでもよい。 However, although the processing apparatus 2 shown in FIG. 4 is equipped with two processing units 32 that cut the object 1 to be inspected, the processing apparatus 2 is not limited to this. For example, the processing device 2 may include only one processing unit 32. Further, the processing unit 32 may be a laser processing unit that processes the inspection object 1 with a laser beam.

図3及び図4に示す通り、加工装置2は、基台4の上面の開口10に隣接する位置に開口38を有する。開口38の内部には、加工ユニット32により加工された被検査物1を洗浄できる洗浄装置40が配設される。搬送ユニット16等により加工後の被検査物1を洗浄装置40の洗浄テーブル上に搬送し、被検査物1が載る該洗浄テーブルを高速に回転させながら図示しないノズルから被検査物1に高圧の洗浄水を噴出させると被検査物1を洗浄できる。 As shown in FIGS. 3 and 4, the processing device 2 has an opening 38 at a position adjacent to the opening 10 on the upper surface of the base 4. As shown in FIGS. A cleaning device 40 that can clean the inspected object 1 processed by the processing unit 32 is disposed inside the opening 38 . The processed object 1 is transported onto the cleaning table of the cleaning device 40 by the transport unit 16 or the like, and high pressure is applied to the object 1 from a nozzle (not shown) while rotating the cleaning table on which the object 1 is placed at high speed. The object to be inspected 1 can be washed by jetting the washing water.

なお、洗浄装置40への被検査物1の搬入は、搬送ユニット42により実施されてもよい。搬送ユニット42は、基台4の立設部の前面に配設されたY軸方向に平行な一対のガイドレール44を有する。該一対のガイドレール44には、移動体46がスライド可能に取り付けられている。移動体46の後面側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはガイドレール44に平行なボールネジ48が螺合されている。 Note that the inspection object 1 may be carried into the cleaning device 40 by the transport unit 42. The transport unit 42 has a pair of guide rails 44 arranged in front of the upright portion of the base 4 and parallel to the Y-axis direction. A moving body 46 is slidably attached to the pair of guide rails 44 . A nut portion (not shown) is provided on the rear side of the movable body 46, and a ball screw 48 parallel to the guide rail 44 is screwed into this nut portion.

ボールネジ48の一端部には、パルスモータ50が連結されている。パルスモータ50でボールネジ48を回転させると、移動体46はガイドレール44に沿ってY軸方向に移動する。移動体46の下端には、腕部52が昇降機構を介して接続されている。腕部52には、フレーム9の大きさに対応して配設された複数の吸引部(不図示)が配設された保持機構54が設けられている。 A pulse motor 50 is connected to one end of the ball screw 48 . When the ball screw 48 is rotated by the pulse motor 50, the moving body 46 moves in the Y-axis direction along the guide rail 44. An arm portion 52 is connected to the lower end of the movable body 46 via a lifting mechanism. The arm portion 52 is provided with a holding mechanism 54 in which a plurality of suction portions (not shown) are provided corresponding to the size of the frame 9.

例えば、被検査物1の表面に複数のデバイス5が形成されており、該被検査物1を加工装置2の加工ユニット32によりデバイス5毎に分割すると、個々のデバイスチップが形成される。被検査物1が適切に加工されていることを確認するために、加工後の被検査物1が本実施形態に係る検査装置56で検査される。 For example, a plurality of devices 5 are formed on the surface of an object to be inspected 1, and when the object to be inspected 1 is divided into devices 5 by the processing unit 32 of the processing apparatus 2, individual device chips are formed. In order to confirm that the inspected object 1 has been properly processed, the inspected object 1 after processing is inspected by the inspection device 56 according to this embodiment.

洗浄装置40による被検査物1の洗浄が完了した後、保持機構54により被検査物1を保持し、搬送ユニット42で検査装置56に搬送する。なお、被検査物1は、搬送ユニット42に代えて搬送ユニット16で検査装置56に搬送されてもよい。ここで、搬送ユニット16,42に被検査物1を保持させる前に予め洗浄テーブルの向きを調整すると、検査装置56に搬入される被検査物1の向きを所定の向きに合わせられる。 After the cleaning device 40 completes cleaning of the test object 1, the holding mechanism 54 holds the test object 1, and the transport unit 42 transports the test object 1 to the test device 56. Note that the object to be inspected 1 may be transported to the inspection device 56 by the transport unit 16 instead of the transport unit 42. Here, if the direction of the cleaning table is adjusted in advance before the transport units 16 and 42 hold the object 1 to be inspected, the direction of the object 1 to be inspected carried into the inspection device 56 can be adjusted to a predetermined orientation.

例えば、検査装置56では、被検査物1に形成された分割溝に沿って被検査物1が検査され、該分割溝に沿って被検査物1に形成されるチッピングと呼ばれる欠けの形状や大きさ、分布、クラック(亀裂)等が調査される。また、被検査物1が分割されて形成されたデバイスチップの大きさが確認される。 For example, in the inspection device 56, the inspected object 1 is inspected along dividing grooves formed in the inspected object 1, and the shape and size of chips called chippings formed on the inspected object 1 along the dividing grooves. The cracks, distribution, cracks, etc. will be investigated. Further, the size of the device chip formed by dividing the inspection object 1 is confirmed.

検査装置56は、被検査物1の同一位置を上面側(表面1a側)と、下面側(裏面1b側)と、の双方から同時に観察できる検査装置である。検査装置56は、図3等に示す通り、加工装置2に組み込まれており、加工後の被検査物1を直ちに検査できる。次に、加工装置2に組み込まれている場合を例に本実施形態に係る検査装置56について説明するが、検査装置56はこれに限定されない。 The inspection device 56 is an inspection device that can simultaneously observe the same position of the object 1 to be inspected from both the upper surface side (front surface 1a side) and the lower surface side (back surface 1b side). The inspection device 56 is incorporated into the processing device 2, as shown in FIG. 3, etc., and can immediately inspect the inspected object 1 after processing. Next, the inspection device 56 according to the present embodiment will be described using an example in which the inspection device 56 is incorporated in the processing device 2, but the inspection device 56 is not limited to this.

図5は、検査装置56を模式的に示す斜視図である。検査装置56は、該検査装置56の各構成を支持する基台60を備える。基台60には、X軸方向に沿った開口62が形成されている。検査装置56は、基台60の開口62を跨ぐように配設され被検査物1を保持できる被検査物保持機構58と、被検査物保持機構58に保持された被検査物1を撮像できる撮像機構82と、を備える。 FIG. 5 is a perspective view schematically showing the inspection device 56. As shown in FIG. The inspection device 56 includes a base 60 that supports each component of the inspection device 56. An opening 62 is formed in the base 60 along the X-axis direction. The inspection device 56 includes an inspection object holding mechanism 58 that is arranged so as to straddle the opening 62 of the base 60 and can hold the inspection object 1, and an image of the inspection object 1 held by the inspection object holding mechanism 58. An imaging mechanism 82 is provided.

検査装置56は、被検査物保持機構58と、撮像機構82と、をX軸方向に沿って相対的に移動できるX軸移動ユニット64aと、Y軸方向に沿って相対的に移動できるY軸移動ユニット64bと、を備える。図6(A)には、検査装置56のX軸移動ユニット64a及び被検査物保持機構58の斜視図が模式的に示されている。図6(B)には、撮像機構82の斜視図が模式的に示されている。 The inspection device 56 includes an X-axis movement unit 64a that can relatively move the inspection object holding mechanism 58 and the imaging mechanism 82 along the X-axis direction, and a Y-axis movement unit 64a that can relatively move the inspection object holding mechanism 58 and the imaging mechanism 82 along the Y-axis direction. A moving unit 64b is provided. FIG. 6A schematically shows a perspective view of the X-axis moving unit 64a of the inspection device 56 and the inspection object holding mechanism 58. FIG. 6(B) schematically shows a perspective view of the imaging mechanism 82.

該X軸移動ユニット64aは、基台60の上面の開口62の側方にX軸方向に沿って伸長したガイドレール66aを備える。また、基台60の上面のガイドレール66aとは反対側の開口62の側方には、ガイドレール66aに平行に伸長したガイドレール66bを備える。ガイドレール66aには移動体68aがスライド可能に装着されており、ガイドレール66bには移動体68bがスライド可能に装着されている。 The X-axis moving unit 64a includes a guide rail 66a extending along the X-axis direction on the side of the opening 62 on the top surface of the base 60. Furthermore, a guide rail 66b extending parallel to the guide rail 66a is provided on the upper surface of the base 60 on the side of the opening 62 on the side opposite to the guide rail 66a. A movable body 68a is slidably mounted on the guide rail 66a, and a movable body 68b is slidably mounted on the guide rail 66b.

移動体68a及び移動体68bの上には、両移動体68a,68bを跨るように橋状の支持構造74が配設されている。また、移動体68a及び移動体68bの一方の下端にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはガイドレール66a,66bに平行なボールネジ70が螺合されている。 A bridge-like support structure 74 is disposed above the movable body 68a and the movable body 68b so as to straddle both the movable bodies 68a and 68b. Further, a nut portion (not shown) is provided at the lower end of one of the movable bodies 68a and the movable body 68b, and a ball screw 70 parallel to the guide rails 66a and 66b is screwed into this nut portion.

ボールネジ70の一端部には、パルスモータ72が連結されている。パルスモータ72でボールネジ70を回転させると、移動体68a,68bはガイドレール66a,66bに沿ってX軸方向に移動し、橋状の支持構造74がX軸方向に移動する。被検査物保持機構58は、基台60の開口62と重なる位置で支持構造74に支持される。X軸移動ユニット64aは、支持構造74をX軸方向に沿って移動させることで被検査物保持機構58をX軸方向に沿って移動できる。 A pulse motor 72 is connected to one end of the ball screw 70. When the ball screw 70 is rotated by the pulse motor 72, the movable bodies 68a and 68b move in the X-axis direction along the guide rails 66a and 66b, and the bridge-like support structure 74 moves in the X-axis direction. The inspection object holding mechanism 58 is supported by the support structure 74 at a position overlapping with the opening 62 of the base 60 . The X-axis moving unit 64a can move the inspection object holding mechanism 58 along the X-axis direction by moving the support structure 74 along the X-axis direction.

被検査物保持機構58は、上下に露出した透明体を有する載置部76を有する。該透明体は、例えば、ガラス、樹脂等の材料で形成される。該透明体の上面は、テープ7を介して被検査物1が載置される載置面76aとなる。被検査物保持機構58は、載置面76aに載せられた被検査物1を支持できる。 The inspection object holding mechanism 58 has a mounting section 76 having a transparent body exposed at the top and bottom. The transparent body is made of a material such as glass or resin, for example. The upper surface of the transparent body becomes a mounting surface 76a on which the object to be inspected 1 is mounted via the tape 7. The inspection object holding mechanism 58 can support the inspection object 1 placed on the mounting surface 76a.

図7(A)は、被検査物保持機構58を模式的に示す上面図であり、図7(B)は、被検査物保持機構58を模式的に示す断面図である。該透明体は載置面76aとは反対側の裏面側にも露出しているため、載置面76aに載る被検査物1を下面側から観察可能である。 FIG. 7(A) is a top view schematically showing the inspected object holding mechanism 58, and FIG. 7(B) is a sectional view schematically showing the inspected object holding mechanism 58. Since the transparent body is also exposed on the back side opposite to the mounting surface 76a, the object to be inspected 1 placed on the mounting surface 76a can be observed from the lower surface side.

被検査物保持機構58は、テープ吸引保持面78bを該載置部76の外周側に備えるテープ保持部78を備える。テープ保持部78は、テープ吸引保持面78bに形成された吸引溝78aを有する。吸引溝78aには、図示しない吸引路を経て、図示しない吸引源が接続されている。被検査物保持機構58は、さらに、テープ保持部78の周囲に配置され、フレームユニット11のフレーム9を支持できる環状のフレーム支持部80を備える。 The inspection object holding mechanism 58 includes a tape holding section 78 having a tape suction holding surface 78b on the outer peripheral side of the mounting section 76. The tape holding section 78 has a suction groove 78a formed in a tape suction holding surface 78b. A suction source (not shown) is connected to the suction groove 78a via a suction path (not shown). The inspection object holding mechanism 58 further includes an annular frame support part 80 that is arranged around the tape holding part 78 and can support the frame 9 of the frame unit 11.

フレーム支持部80と、フレーム9と、が重なるように被検査物保持機構58の上にフレームユニット11を載せ、該吸引源を作動させると、テープ7を介して被検査物保持機構58に被検査物1が吸引保持される。このとき、被検査物保持機構58と、テープ7と、の間が吸引されて載置面76aの全面にテープ7が密着するため、被検査物保持機構58に保持された被検査物1が検査中にずれることはない。 When the frame unit 11 is placed on the inspection object holding mechanism 58 so that the frame support part 80 and the frame 9 overlap, and the suction source is activated, the object is attached to the inspection object holding mechanism 58 via the tape 7. The test object 1 is held under suction. At this time, the space between the inspection object holding mechanism 58 and the tape 7 is sucked and the tape 7 comes into close contact with the entire surface of the mounting surface 76a, so that the inspection object 1 held by the inspection object holding mechanism 58 is It will not shift during the inspection.

例えば、被検査物1が反りを有したウェーハ等である場合においても、被検査物保持機構58に被検査物1を保持させるとき、載置面76aの全体にテープ7が密着する。そのため、被検査物1は、反りが緩和された状態で被検査物保持機構58に吸引保持される。被検査物保持機構58に保持された被検査物1の反りが緩和されていると、被検査物1の各領域を次々に撮像する際に撮像ユニットの焦点が被検査物1からずれにくくなるため、被検査物1をより鮮明に撮像できる。特に、本願構成において、裏面側に赤外線カメラを配置し、焦点を表面に位置付けた状態で撮像する場合においては、被検査物1の反りを緩和することは有効となる。 For example, even when the inspection object 1 is a warped wafer or the like, when the inspection object holding mechanism 58 holds the inspection object 1, the tape 7 comes into close contact with the entire mounting surface 76a. Therefore, the object to be inspected 1 is suction-held by the object-to-be-inspected holding mechanism 58 in a state where the warpage is alleviated. When the warpage of the inspected object 1 held by the inspected object holding mechanism 58 is alleviated, the focus of the imaging unit becomes difficult to shift from the inspected object 1 when each region of the inspected object 1 is imaged one after another. Therefore, the inspected object 1 can be imaged more clearly. In particular, in the configuration of the present application, when an infrared camera is disposed on the back side and images are taken with the focus positioned on the front surface, it is effective to reduce the warpage of the object to be inspected 1.

ここで、載置部76の載置面76aの高さは、テープ保持部78のテープ吸引保持面78bの高さより低くてもよい。また、テープ吸引保持面78bに形成された吸引溝78aは、図7(A)に示すように、載置部76に達していてもよい。この場合、被検査物保持機構58の上にフレームユニット11を載せたときにテープ7と、載置面76aと、の間に隙間が形成され、吸引溝78aに接続された吸引源を作動させたときに該隙間を通じてテープ7の被検査物1と重なる領域が早く吸引される。 Here, the height of the mounting surface 76a of the mounting section 76 may be lower than the height of the tape suction holding surface 78b of the tape holding section 78. Further, the suction groove 78a formed in the tape suction holding surface 78b may reach the mounting portion 76, as shown in FIG. 7(A). In this case, when the frame unit 11 is placed on the inspection object holding mechanism 58, a gap is formed between the tape 7 and the mounting surface 76a, and the suction source connected to the suction groove 78a is activated. When the tape 7 overlaps the inspection object 1 through the gap, the area of the tape 7 that overlaps the inspected object 1 is quickly sucked.

具体的には、載置部76の載置面76aの高さは、テープ保持部78のテープ吸引保持面78bの高さよりも1mm程度低くすることが考えられる。 Specifically, the height of the mounting surface 76a of the mounting section 76 may be about 1 mm lower than the height of the tape suction and holding surface 78b of the tape holding section 78.

図8には、被検査物保持機構58により被検査物1が吸引保持されている際のフレームユニット11及び被検査物保持機構58の断面図が模式的に示されている。図8に示す通り、該吸引源を作動させると、テープ7及び載置面76aの隙間が排気され、テープ7及び載置面76aが密着する。 FIG. 8 schematically shows a cross-sectional view of the frame unit 11 and the test object holding mechanism 58 when the test object 1 is suction-held by the test object holding mechanism 58. As shown in FIG. 8, when the suction source is activated, the gap between the tape 7 and the mounting surface 76a is evacuated, and the tape 7 and the mounting surface 76a are brought into close contact with each other.

なお、被検査物1の検査が完了した後、吸引源を停止させてフレームユニット11を被検査物保持機構58から搬出する際に、載置面76aからのテープ7の剥離が容易となるように、例えば、載置面76aはフッ素樹脂でコーティングされていてもよい。 Note that after the inspection of the inspection object 1 is completed, when the suction source is stopped and the frame unit 11 is taken out from the inspection object holding mechanism 58, the tape 7 is easily peeled off from the mounting surface 76a. For example, the mounting surface 76a may be coated with fluororesin.

次に撮像機構82について説明する。図5に示す通り、撮像機構82は、例えば、開口62、X軸移動ユニット64a、及び被検査物保持機構58を跨ぐように基台60の上に配設された門型の支持構造84により支持される。支持構造84の上には、撮像機構82をY軸方向に沿って移動させるY軸移動ユニット64bが配設されている。 Next, the imaging mechanism 82 will be explained. As shown in FIG. 5, the imaging mechanism 82 includes, for example, a gate-shaped support structure 84 disposed on the base 60 so as to straddle the opening 62, the X-axis moving unit 64a, and the inspection object holding mechanism 58. Supported. A Y-axis moving unit 64b that moves the imaging mechanism 82 along the Y-axis direction is disposed on the support structure 84.

Y軸移動ユニット64bは、支持構造84の上面にY軸方向に沿って配設された一対のガイドレール86を備える。一対のガイドレール86には、撮像機構82を支持する移動体88がスライド可能に装着されている。移動体88の下面にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には一対のガイドレール86に平行なボールネジ90が螺合されている。 The Y-axis moving unit 64b includes a pair of guide rails 86 arranged along the Y-axis direction on the upper surface of the support structure 84. A moving body 88 that supports the imaging mechanism 82 is slidably mounted on the pair of guide rails 86 . A nut portion (not shown) is provided on the lower surface of the movable body 88, and a ball screw 90 parallel to the pair of guide rails 86 is screwed into this nut portion.

ボールネジ90の一端部には、パルスモータ92が連結されている。パルスモータ92でボールネジ90を回転させると、移動体88はガイドレール86に沿ってY軸方向に移動し、撮像機構82がY軸方向に移動する。X軸移動ユニット64a及びY軸移動ユニット64bは、協働して、被検査物保持機構58及び撮像機構82を載置面76aに平行な方向に相対的に移動できる移動ユニットとして機能する。 A pulse motor 92 is connected to one end of the ball screw 90. When the ball screw 90 is rotated by the pulse motor 92, the moving body 88 moves in the Y-axis direction along the guide rail 86, and the imaging mechanism 82 moves in the Y-axis direction. The X-axis moving unit 64a and the Y-axis moving unit 64b cooperate to function as a moving unit that can relatively move the inspection object holding mechanism 58 and the imaging mechanism 82 in a direction parallel to the mounting surface 76a.

撮像機構82は、被検査物保持機構58の載置部76の上方に配設された第1の撮像ユニット106aと、該載置部76の下方に配設された第2の撮像ユニットと106bと、を備える。図6(B)に示す通り、撮像機構82は、第1の撮像ユニット106a及び該第2の撮像ユニット106bを連結する連結部108をさらに備える。 The imaging mechanism 82 includes a first imaging unit 106a disposed above the placement section 76 of the inspection object holding mechanism 58, a second imaging unit 106b disposed below the placement section 76, and a second imaging unit 106b disposed below the placement section 76. and. As shown in FIG. 6(B), the imaging mechanism 82 further includes a connecting portion 108 that connects the first imaging unit 106a and the second imaging unit 106b.

第1の撮像ユニット106aは、柱状の支持構造94aに支持される。柱状の支持構造94aの前面には、第1の撮像ユニット106aを昇降させる昇降機構96aが配設されている。昇降機構96aは、Z軸方向に沿った一対のガイドレール98aと、該ガイドレール98aにスライド可能に装着された移動体100aと、該移動体100aの後面に設けられたナット部に螺合されたボールネジ102aと、を有する。 The first imaging unit 106a is supported by a columnar support structure 94a. An elevating mechanism 96a for elevating and lowering the first imaging unit 106a is disposed on the front surface of the columnar support structure 94a. The lifting mechanism 96a is screwed into a pair of guide rails 98a along the Z-axis direction, a moving body 100a slidably attached to the guide rails 98a, and a nut provided on the rear surface of the moving body 100a. and a ball screw 102a.

移動体100aの前面には、第1の撮像ユニット106aが固定されている。そして、ボールネジ102aの一端部にはパルスモータ104aが連結されている。パルスモータ104aでボールネジ102aを回転させると、移動体100aがガイドレール98aに沿ってZ軸方向に沿って移動し、移動体100aに固定された第1の撮像ユニット106aが昇降する。 A first imaging unit 106a is fixed to the front of the moving body 100a. A pulse motor 104a is connected to one end of the ball screw 102a. When the ball screw 102a is rotated by the pulse motor 104a, the movable body 100a moves in the Z-axis direction along the guide rail 98a, and the first imaging unit 106a fixed to the movable body 100a moves up and down.

連結部108の上端部は、例えば、支持構造94aの後面側下端部に接続されており、連結部108の下端部は、第2の撮像ユニット106bを支持する柱状の支持構造94bの後面側上端部に接続されている。支持構造94bの前面には、支持構造94aに配設された昇降機構96aと同様に構成された昇降機構96bが配設されている。 The upper end of the connecting portion 108 is connected, for example, to the lower end on the rear side of the support structure 94a, and the lower end of the connecting portion 108 is connected to the upper end on the rear side of the columnar support structure 94b that supports the second imaging unit 106b. connected to the section. A lifting mechanism 96b configured in the same manner as the lifting mechanism 96a provided on the supporting structure 94a is provided on the front surface of the supporting structure 94b.

昇降機構96bは、Z軸方向に沿った一対のガイドレール98bと、該ガイドレール98bにスライド可能に装着された移動体100bと、該移動体100bの後面に設けられたナット部に螺合されたボールネジ102bと、を有する。ボールネジ102bの一端部にはパルスモータ104bが連結されている。パルスモータ104bでボールネジ102bを回転させると、移動体100bの前面に固定された第2の撮像ユニット106bが昇降する。 The lifting mechanism 96b is screwed into a pair of guide rails 98b along the Z-axis direction, a moving body 100b slidably attached to the guide rails 98b, and a nut provided on the rear surface of the moving body 100b. and a ball screw 102b. A pulse motor 104b is connected to one end of the ball screw 102b. When the ball screw 102b is rotated by the pulse motor 104b, the second imaging unit 106b fixed to the front surface of the moving body 100b moves up and down.

第1の撮像ユニット106aは下方を向いており、被検査物保持機構58の上面に載る被検査物1を上方から撮像できる。また、第2の撮像ユニット106bは上方を向いており、該被検査物1を透明体で構成された載置部76及びテープ7を通して被検査物1を下方から撮像できる。第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bは、例えば、エリアカメラ、ラインカメラ、3Dカメラ、又は赤外線カメラ等である。 The first imaging unit 106a faces downward and can image the object 1 placed on the upper surface of the object holding mechanism 58 from above. Further, the second imaging unit 106b faces upward, and can image the object 1 to be inspected from below through the tape 7 and the mounting section 76 made of a transparent body. The first imaging unit 106a and the second imaging unit 106b are, for example, an area camera, a line camera, a 3D camera, an infrared camera, or the like.

なお、撮像機構82においては、該載置面76aに平行な方向における位置が概略同一となるように第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bが連結部108により互いに連結される。すなわち、被検査物1の上面側と下面側の同一位置を撮像できる。そして、連結部108は、被検査物1のいずれの箇所を撮像箇所とした場合においても、被検査物保持機構58と干渉しない形状とされる。 In the imaging mechanism 82, the first imaging unit 106a and the second imaging unit 106b are connected to each other by the connecting portion 108 so that their positions in the direction parallel to the mounting surface 76a are approximately the same. That is, the same position on the upper surface side and the lower surface side of the object to be inspected 1 can be imaged. The connecting portion 108 has a shape that does not interfere with the object holding mechanism 58 no matter which part of the object 1 is used as the imaging point.

次に、撮像ユニットによる撮像、及び、検査の実施形態について説明する。
図8において、上側に位置する被検査物1の表面は、可視光カメラで構成される第1の撮像ユニット106aで撮像される。
Next, an embodiment of imaging and inspection by the imaging unit will be described.
In FIG. 8, the surface of the inspection object 1 located on the upper side is imaged by a first imaging unit 106a composed of a visible light camera.

被検査物1の表面は露出しており、可視光カメラで構成される第1の撮像ユニット106aにより、鮮明な画像が撮像され、撮像画像をもとに被検査物1の表面に生じたチッピングやクラックの自動判別が実施可能となる。 The surface of the object to be inspected 1 is exposed, and a clear image is captured by the first imaging unit 106a composed of a visible light camera, and chipping that has occurred on the surface of the object to be inspected is detected based on the captured image. Automatic detection of cracks and cracks becomes possible.

他方、下側に位置しテープ7に貼着される被検査物1の裏面は、赤外線カメラで構成される第2の撮像ユニット106bで撮像される。 On the other hand, the back surface of the inspection object 1 located on the lower side and attached to the tape 7 is imaged by a second imaging unit 106b composed of an infrared camera.

図9は、赤外線カメラで構成される第2の撮像ユニット106bの模式図であり、焦点距離が調整可能な対物レンズユニット201と、赤外線CCD202と、を有して構成される。光源203は対物レンズユニット201と一体で設けてもよく、別体で設けても良い。また、第2の撮像ユニット106bの具体的な構成については特に限定されるものではない。 FIG. 9 is a schematic diagram of the second imaging unit 106b configured with an infrared camera, and includes an objective lens unit 201 whose focal length is adjustable and an infrared CCD 202. The light source 203 may be provided integrally with the objective lens unit 201, or may be provided separately. Further, the specific configuration of the second imaging unit 106b is not particularly limited.

図10は、被検査物1を側面からみた模式図であり、被検査物保持機構58の透明体からなる載置部76の上面には、テープ7に貼着されたデバイス5が配列されている。各デバイス5の間には加工痕3aが形成されており、デバイス5の裏面5b側にチッピング5cが生じた様子が示されている。 FIG. 10 is a schematic diagram of the inspected object 1 viewed from the side, and the devices 5 attached to the tape 7 are arranged on the upper surface of the transparent mounting section 76 of the inspected object holding mechanism 58. There is. Machining marks 3a are formed between each device 5, and chipping 5c appears on the back surface 5b of the device 5.

第二の撮像ユニット106bにおいて、その焦点をデバイス5の表面5aに合わせて撮像すると、チッピング5cの箇所には破断等により界面が形成されているため、チッピング5cの箇所の赤外光R1は表面5a(パターン面)に到達せず、当該表面5aからの反射の量が低下する。これにより、撮像画像において他の部位と比較して輝度の低い領域が画成されることになる(黒く撮像される)。 When the second imaging unit 106b focuses the image on the surface 5a of the device 5, the infrared light R1 at the chipping 5c is emitted from the surface because an interface is formed at the chipping 5c due to a fracture or the like. 5a (patterned surface), and the amount of reflection from the surface 5a decreases. As a result, an area with lower brightness compared to other parts is formed in the captured image (imaged as black).

他方、チッピング5cのない箇所での赤外光R2は、表面5aに到達することから、撮像画像においてチッピング5cの箇所と比較して輝度の高い領域が画成されることになる。 On the other hand, since the infrared light R2 at the location where there is no chipping 5c reaches the surface 5a, an area with higher brightness compared to the location where the chipping 5c exists is defined in the captured image.

図11(A)は、撮像画像の例であり、デバイス5の裏面5bのエリアM1において、X方向に長いチッピング5cが生じた場合を示している。このエリアM1に対応する箇所では、図11(B)に示すように、裏面側において横方向にチッピング5cが生じている。そして、このチッピング5cの領域は、撮像画像上においてデバイス5の他の部位や加工痕3aとは輝度が異なる領域として画成されることになる。 FIG. 11A is an example of a captured image, and shows a case where chipping 5c that is long in the X direction occurs in area M1 on the back surface 5b of the device 5. At a location corresponding to this area M1, as shown in FIG. 11(B), chipping 5c occurs in the lateral direction on the back surface side. The area of this chipping 5c is defined on the captured image as an area with different brightness from other parts of the device 5 and the processing marks 3a.

より具体的には、撮像画像上のエリアM1において、加工痕3aよりも明るく、デバイスの裏面5bよりも暗い領域が画成される。そして、輝度が所定範囲のエリアをチッピング5cが生じたエリアとして検出することが可能となり、また、当該エリアの画素数に基づいてそのサイズ等も容易に測定することが可能となる。 More specifically, in area M1 on the captured image, an area is defined that is brighter than the processing marks 3a and darker than the back surface 5b of the device. Then, it is possible to detect an area where the brightness is within a predetermined range as an area where chipping 5c has occurred, and it is also possible to easily measure the size etc. of the area based on the number of pixels of the area.

同様に、別のエリアM2においては、半円状のチッピング5cが生じることにより、デバイス5の他の部位や加工痕3aとは輝度が異なる領域が画成される。そして、輝度が所定範囲のエリアをチッピングが生じたエリアとして検出することが可能となり、また、当該エリアの画素数に基づいてそのサイズ等も容易に測定することが可能となる。 Similarly, in another area M2, a semicircular chipping 5c occurs, thereby defining a region having a brightness different from other parts of the device 5 and the processing marks 3a. Then, it is possible to detect an area where the brightness is within a predetermined range as an area where chipping has occurred, and it is also possible to easily measure the size, etc. of the area based on the number of pixels in the area.

同様に、別のエリアM3においては、線状のクラック(亀裂)5dが生じることにより、デバイス5の領域において輝度の低い線状のラインが形成される。そして、輝度が所定範囲のラインにより、当該ラインをクラック(亀裂)5dが生じたエリアとして検出することが可能となり、また、当該ラインの画素数に基づいてそのサイズ等も容易に測定することが可能となる。なお、線状のクラック(亀裂)5dの場合においても、図10で示した破断界面と同様の界面が形成されるため、線状のラインとして画像に表すことが可能となる。 Similarly, in another area M3, a linear crack 5d is generated, thereby forming a linear line with low brightness in the region of the device 5. Then, by using a line whose brightness falls within a predetermined range, it becomes possible to detect the line as an area where a crack (crack) 5d has occurred, and the size etc. of the line can also be easily measured based on the number of pixels of the line. It becomes possible. Note that even in the case of a linear crack (crack) 5d, an interface similar to the fracture interface shown in FIG. 10 is formed, so that it can be represented in an image as a linear line.

次に、以上の装置構成を利用するワークの加工方法、被検査物の検査方法おいて、実施される各ステップについて説明する。 Next, each step carried out in the method for processing a workpiece and the method for inspecting an object to be inspected using the above-described apparatus configuration will be described.

<貼着ステップ>
ワークの裏面側をテープに貼着して該ワークの表面を露出させるステップである。
図1は、ワークとしてのウェーハ(被検査物1)をテープ7に貼着し、表面1aを露出させる例を示すものである。
ワークは、例えば、半導体ウェーハであり、パターンの形成されていないウェーハなども想定される。
貼着は、糊層による接着の他、糊層のない基材のみのテープの圧着、熱圧着などで行われる。
<Application step>
This is a step of attaching the back side of the workpiece to tape to expose the front side of the workpiece.
FIG. 1 shows an example in which a wafer (inspection object 1) as a workpiece is attached to a tape 7 and the surface 1a is exposed.
The workpiece is, for example, a semiconductor wafer, and a wafer on which no pattern is formed is also assumed.
In addition to adhesion using a glue layer, adhesion is performed by pressure bonding of a tape with only a base material without a glue layer, thermocompression bonding, or the like.

<分割ステップ>
テープが貼着されたワークを分割するステップである。
分割とは、ストリートと呼ばれる分割予定ラインに沿って区画された各領域に分割することをいうものであり、ブレードでワークを切削して分割するブレードダイシングの他、ワークに対して吸収性を有する波長のレーザビームを照射してワークを分割するレーザダイシング、ワークに対して透過性を有する波長のレーザビームで改質層を形成するSD加工(STEALTH DICING:登録商標)を施したワークをテープエキスパンドで分割する加工、ブレードで分割予定ラインに沿ってワーク表面にハーフカット溝を形成した後裏面研削でワークを分割する所謂DBG(Dicing Before Grinding)加工、SD加工を施した後ワークの裏面を研削して分割するSDBG(Stealth Dicing Before Grinding)加工、などを利用することができる。
図2は、ブレードダイシングにより分割された後のウェーハ(被検査物1)の様子を示すものである。
<Dividing step>
This is the step of dividing the workpiece to which the tape is attached.
Dividing refers to dividing the workpiece into separate areas along dividing lines called streets, and in addition to blade dicing, which cuts and divides the workpiece with a blade, there is also a method that has absorbency for the workpiece. Laser dicing, which divides the workpiece by irradiating it with a laser beam of a certain wavelength, and tape expansion of a workpiece that has been subjected to SD processing (STEALTH DICING: registered trademark), which forms a modified layer with a laser beam of a wavelength that is transparent to the workpiece. The so-called DBG (Dicing Before Grinding) process involves forming half-cut grooves on the surface of the workpiece along the planned dividing line with a blade and then dividing the workpiece by back grinding, and grinding the back side of the workpiece after performing SD processing. SDBG (Stealth Dicing Before Grinding) processing, etc., in which the image is divided into two parts, can be used.
FIG. 2 shows the state of the wafer (inspection object 1) after being divided by blade dicing.

<撮像ステップ>
テープを介してワークの裏面側から赤外線カメラでワークを撮像して撮像画像を形成する撮像ステップである。
図7及び図10に示すように、赤外線カメラを構成する第二の撮像ユニット106bにより、ワークの裏面5b側から撮像をするものである。この撮像では、図10に示すように、チッピング5cの箇所と、他の箇所の赤外光R1,R2の透過性の違いを利用することで、撮像画像において両箇所の輝度を異ならせることを可能とするものである。
なお、この撮像ステップにおいて、ワークの表面側については、可視光カメラで構成される第1の撮像ユニット106aによる撮像を同時に行うことができる。
<Imaging step>
This is an imaging step in which an infrared camera images the workpiece from the back side of the workpiece through the tape to form a captured image.
As shown in FIGS. 7 and 10, a second imaging unit 106b constituting an infrared camera captures an image from the back surface 5b side of the workpiece. In this imaging, as shown in FIG. 10, by utilizing the difference in transmittance of infrared light R1 and R2 between the chipping 5c location and other locations, it is possible to make the brightness of both locations different in the captured image. It makes it possible.
Note that in this imaging step, the front side of the workpiece can be simultaneously imaged by the first imaging unit 106a constituted by a visible light camera.

<検出ステップ>
撮像ステップで形成した撮像画像をもとに裏面に生じたチッピングまたはクラックを検出する検出ステップである。
図11(A)に示すように、デバイス5の裏面5bを示す撮像画像上には輝度の違う部位が画成されることになる。そして、撮像画像を多値化処理し、エッジ検出処理をして検出したエッジを基準とし、輝度が所定範囲のエリアをクラックやチッピングが生じたエリアとして検出される。また、当該エリアの画素数を元に、クラックやチッピングのサイズが測定される。
<Detection step>
This is a detection step of detecting chipping or cracking that has occurred on the back surface based on the captured image formed in the imaging step.
As shown in FIG. 11A, parts with different brightness are formed on the captured image showing the back surface 5b of the device 5. Then, the captured image is subjected to multi-value processing, edge detection processing is performed, and an edge detected is used as a reference, and an area where the brightness falls within a predetermined range is detected as an area where cracks or chipping have occurred. Furthermore, the size of cracks and chippings is measured based on the number of pixels in the area.

以上のようにして本発明を実施することができる。
即ち、図10及び図11(A)に示すように、裏面がテープ7に固定され表面5aが露出するとともに分割されたワークの裏面5bを確認するワークの確認方法であって、
テープ7を介してワークを裏面5b側から赤外線カメラ(第二の撮像ユニット106b)で撮像し、撮像画像を形成する撮像ステップと、
撮像ステップで形成された撮像画像から裏面5nに生じたチッピング5c及び/またはクラック5dを検出する検出ステップと、を備えたワークの確認方法とすることである。
The present invention can be implemented as described above.
That is, as shown in FIGS. 10 and 11(A), the workpiece confirmation method includes checking the backside 5b of the divided workpiece with the backside fixed to the tape 7 and the front side 5a exposed,
an imaging step of imaging the workpiece from the back side 5b side via the tape 7 with an infrared camera (second imaging unit 106b) to form a captured image;
The object of the present invention is to provide a workpiece confirmation method including a detection step of detecting chippings 5c and/or cracks 5d generated on the back surface 5n from the captured image formed in the imaging step.

これにより、裏面側からテープを介して赤外線カメラで撮像した撮像画像をもとに被加工物の裏面状態が確認可能となり、作業工数の削減とともに時間短縮を図ることができる。また、赤外線カメラを用いることで裏面側のチッピングやクラックを確実に検出でき、検査の信頼性を高めることができる。 As a result, the state of the back surface of the workpiece can be confirmed based on an image taken by an infrared camera from the back side through the tape, and it is possible to reduce the number of work steps and time. Furthermore, by using an infrared camera, chipping and cracks on the back side can be reliably detected, increasing the reliability of the inspection.

また、図10及び図11(A)に示すように、撮像ステップでは、赤外線カメラ(第二の撮像ユニット106b)の焦点をワークの表面に位置付けた状態で撮像する、こととするものである。 Further, as shown in FIGS. 10 and 11(A), in the imaging step, the focus of the infrared camera (second imaging unit 106b) is positioned on the surface of the workpiece and the image is taken.

これにより、チッピングやクラックなどの欠陥箇所を撮像画像上において黒く映らせる(輝度を低くする)ことが可能となり、これに基づいて、チッピングやクラックの検出やサイズを測定することが可能となる。 This makes it possible to make defects such as chippings and cracks appear black (lower brightness) on the captured image, and based on this, it becomes possible to detect and measure the size of chippings and cracks.

また、ワークの加工方法であって、
ワークの裏面側をテープに貼着してワークの表面を露出させる貼着ステップと、
テープが貼着されたワークを分割する分割ステップと、
テープを介してワークの裏面側から赤外線カメラでワークを撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、
撮像ステップで形成した撮像画像をもとに裏面に生じたチッピング及び/またはクラックを検出する検出ステップと、
を有するワークの加工方法とするものである。
Also, a method of processing a workpiece,
an attaching step of attaching the back side of the workpiece to the tape to expose the front side of the workpiece;
a dividing step of dividing the workpiece to which the tape is attached;
an imaging step of imaging the work with an infrared camera from the back side of the work through the tape to form a captured image;
a detection step of detecting chipping and/or cracks occurring on the back surface based on the captured image formed in the imaging step;
This is a method for processing a workpiece having the following characteristics.

これにより、ワークの分割加工から裏面のチッピング及び/またはクラックの検出までの一連の工程を短時間で実施可能となり、また、検出の精度が高いため検査の信頼性を高めることができる。 As a result, a series of steps from dividing the workpiece to detecting chipping and/or cracks on the back side can be carried out in a short time, and since the detection accuracy is high, the reliability of the inspection can be increased.

1 被検査物
1a 表面
1b 裏面
2 加工装置
3 ストリート
3a 加工痕
4 基台
5 デバイス
5a 表面
5b 裏面
5c チッピング
5d クラック
5n 裏面
7 テープ
9 フレーム
11 フレームユニット
76 載置部
76a 載置面
78 テープ保持部
78a 吸引溝
78b テープ吸引保持面
82 撮像機構
84 支持構造
106a 第一の撮像ユニット
106b 第二の撮像ユニット
201 対物レンズユニット
202 赤外線CCD
203 光源
R1 赤外光
R2 赤外光
1 Inspection object 1a Front side 1b Back side 2 Processing device 3 Street 3a Processing marks 4 Base 5 Device 5a Front side 5b Back side 5c Chipping 5d Crack 5n Back side 7 Tape 9 Frame 11 Frame unit 76 Placement section 76a Placement surface 78 Tape holding section 78a Suction groove 78b Tape suction holding surface 82 Imaging mechanism 84 Support structure 106a First imaging unit 106b Second imaging unit 201 Objective lens unit 202 Infrared CCD
203 Light source R1 Infrared light R2 Infrared light

Claims (2)

裏面がテープに固定され表面が露出するとともに分割されたワークの該裏面を確認するワークの確認方法であって、
該テープを介して該ワークを該裏面側から赤外線カメラで撮像し、撮像画像を形成する撮像ステップと、
該撮像ステップで形成された該撮像画像から該裏面に生じたチッピング及び/またはクラックを検出する検出ステップと、を備え
該撮像ステップでは、該赤外線カメラの焦点を該ワークの表面に位置付けた状態で撮像する、ワークの確認方法。
A workpiece confirmation method in which the back side of the workpiece is fixed to tape and the front side is exposed and the workpiece is divided.
an imaging step of imaging the workpiece from the back side through the tape with an infrared camera to form a captured image;
a detection step of detecting chipping and/or cracks occurring on the back surface from the captured image formed in the imaging step ;
In the imaging step, the workpiece is confirmed by imaging the workpiece while the focus of the infrared camera is positioned on the surface of the workpiece .
ワークの加工方法であって、
該ワークの裏面側をテープに貼着して該ワークの表面を露出させる貼着ステップと、
該テープが貼着された該ワークを分割する分割ステップと、
該テープを介して該ワークの該裏面側から赤外線カメラで該ワークを撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、
該撮像ステップで形成した該撮像画像をもとに該裏面に生じたチッピング及び/またはクラックを検出する検出ステップと、
を有し、
該撮像ステップでは、該赤外線カメラの焦点を該ワークの表面に位置付けた状態で撮像するワークの加工方法。
A workpiece processing method,
an attaching step of attaching the back side of the workpiece to a tape to expose the front surface of the workpiece;
a dividing step of dividing the workpiece to which the tape is attached;
an imaging step of imaging the work with an infrared camera from the back side of the work through the tape to form a captured image;
a detection step of detecting chipping and/or cracks occurring on the back surface based on the captured image formed in the imaging step;
has
The method for processing a workpiece includes, in the imaging step, imaging the workpiece while the focus of the infrared camera is positioned on the surface of the workpiece .
JP2019149312A 2019-08-16 2019-08-16 Workpiece confirmation method and processing method Active JP7366637B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019149312A JP7366637B2 (en) 2019-08-16 2019-08-16 Workpiece confirmation method and processing method
KR1020200086504A KR102930135B1 (en) 2019-08-16 2020-07-14 Workpiece checking method and processing method
CN202010800580.8A CN112397408B (en) 2019-08-16 2020-08-11 Workpiece confirmation and processing methods
TW109127357A TWI837411B (en) 2019-08-16 2020-08-12 Workpiece confirmation method and processing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019149312A JP7366637B2 (en) 2019-08-16 2019-08-16 Workpiece confirmation method and processing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021034414A JP2021034414A (en) 2021-03-01
JP7366637B2 true JP7366637B2 (en) 2023-10-23

Family

ID=74603042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019149312A Active JP7366637B2 (en) 2019-08-16 2019-08-16 Workpiece confirmation method and processing method

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7366637B2 (en)
KR (1) KR102930135B1 (en)
CN (1) CN112397408B (en)
TW (1) TWI837411B (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021203911A1 (en) 2021-04-20 2022-10-20 Disco Corporation METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE AND A SYSTEM FOR PROCESSING A SUBSTRATE
CN114577816A (en) * 2022-01-18 2022-06-03 广州超音速自动化科技股份有限公司 Hydrogen fuel bipolar plate detection method
JP7784932B2 (en) * 2022-03-22 2025-12-12 株式会社東京精密 Chipping detection device and processing device
TWI836876B (en) * 2023-01-19 2024-03-21 由田新技股份有限公司 Inspection system and inspection method for scribing lines of wafer
TW202505656A (en) * 2023-07-20 2025-02-01 亞亞科技股份有限公司 Detection equipment for defects after wafer dicing or arrangement
CN116936397B (en) * 2023-09-18 2025-04-22 宁波芯健半导体有限公司 Chip crack detection method, system, storage medium and intelligent terminal

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003203883A (en) 2002-01-07 2003-07-18 Tokyo Seimitsu Co Ltd Microscope and observing method
JP2008045965A (en) 2006-08-14 2008-02-28 Yamaha Corp Inspection method of wafer, and crack inspection device of wafer
JP2014203836A (en) 2013-04-01 2014-10-27 株式会社ディスコ Target pattern setting method, and key pattern detection method
JP2019025583A (en) 2017-07-28 2019-02-21 株式会社ディスコ Cutting method

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08220008A (en) * 1995-02-15 1996-08-30 Mitsubishi Electric Corp Infrared inspection equipment
JPH10312979A (en) * 1997-05-12 1998-11-24 Disco Abrasive Syst Ltd Detection method of wafer cutting status
JP4754864B2 (en) 2005-04-25 2011-08-24 株式会社ディスコ Cutting method
JP4938362B2 (en) * 2006-06-13 2012-05-23 東北リコー株式会社 Master front / back detection method, master front / back detection apparatus, and printing apparatus
TWM476360U (en) * 2013-12-26 2014-04-11 Optivu Vision System Corp Wafer detecting apparatus
JP6651257B2 (en) * 2016-06-03 2020-02-19 株式会社ディスコ Workpiece inspection method, inspection device, laser processing device, and expansion device
JP6906859B2 (en) * 2017-09-13 2021-07-21 株式会社ディスコ Processing equipment
JP7118521B2 (en) * 2017-09-19 2022-08-16 株式会社ディスコ Wafer processing method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003203883A (en) 2002-01-07 2003-07-18 Tokyo Seimitsu Co Ltd Microscope and observing method
JP2008045965A (en) 2006-08-14 2008-02-28 Yamaha Corp Inspection method of wafer, and crack inspection device of wafer
JP2014203836A (en) 2013-04-01 2014-10-27 株式会社ディスコ Target pattern setting method, and key pattern detection method
JP2019025583A (en) 2017-07-28 2019-02-21 株式会社ディスコ Cutting method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210020767A (en) 2021-02-24
CN112397408B (en) 2025-09-26
TWI837411B (en) 2024-04-01
JP2021034414A (en) 2021-03-01
KR102930135B1 (en) 2026-02-23
CN112397408A (en) 2021-02-23
TW202109659A (en) 2021-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7366637B2 (en) Workpiece confirmation method and processing method
KR102923090B1 (en) Inspection apparatus, and machining apparatus
KR102285101B1 (en) Inspection method, inspection apparatus, laser machining apparatus and expansion apparatus of workpiece
CN106042199B (en) Processing device
JP6242619B2 (en) Processing equipment
TW201828341A (en) Laser processing device
TW202036746A (en) Cutting apparatus and wafer processing method using cutting apparatus
JP7408306B2 (en) cutting equipment
JP6120644B2 (en) Cutting groove detection method
KR20190134275A (en) System for inspecting edge area of wafer and method using the same
CN112394032A (en) Measuring device, method for inspecting workpiece, and method for displaying image data
TWI890793B (en) Wafer inspection device and wafer inspection method
JP7718907B2 (en) Inspection equipment and processing systems
JP2024043868A (en) Workpiece inspection method and inspection device
JP2018129372A (en) Dicing device and dicing method
JP7436165B2 (en) Dicing unit diagnostic method and dicing system
JP7642292B2 (en) Processing System
JP7715564B2 (en) Processing system and inspection target selection method
CN113739716B (en) Wafer inspection apparatus and wafer inspection method
JP2025178732A (en) Measurement device, measurement method, program, and measurement system
JP2025010810A (en) How to divide the workpiece
JP2025084521A (en) Processing method and processing device
JP2025086031A (en) Method for imaging a workpiece
KR20260014288A (en) High-speed wafer defect measurement device with twin stages
KR20060012150A (en) Back Grinding Tape Bonding Device and Backgrinding Tape Bonding Method Using the Same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220617

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230802

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230919

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231011

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7366637

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150