JP7442142B2 - 化合物、及びその製造方法 - Google Patents
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Description
[1]
式(1)で表される化合物を準備する工程と、前記式(1)で表される化合物を、触媒を用いて水素源と反応させる工程と、を少なくとも含む、式(2)で表される化合物の製造方法。
[2]
前記式(1)及び式(2)におけるR1及びR2が、エチル基である[1]に記載の製造方法。
[3]
前記水素源が、分子状水素、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ヒドラジン、及び水素化ホウ素ナトリウムから選択される1種以上を含む[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]
前記水素源が、分子状水素である[1]又は[2]に記載の製造方法。
[5]
前記反応工程が、湿式プロセス下で行われる[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]
前記触媒が、不均一系触媒である[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]
式(2)で表される化合物。
[8]
前記式(2)におけるR1及びR2が、エチル基である[7]に記載の化合物。
本実施形態の化合物は、式(2)で表される化合物である。本実施形態の化合物は、OSDAの原料として用いられるN,N,N’,N’-テトラアルキルビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3:5,6-ジピロリジニウムと同様にビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジン骨格を有し、OSDAの原料の前駆体ないしは中間体として有用である。また、後述する好ましい製造方法にて述べるように、本実施形態の化合物は、LiAlH4等の取り扱いや反応の制御が難しい還元剤試薬を使用することなく、簡便且つ安全に合成することができるため、工業的に有利である。
本明細書において、式(2)で表される化合物は、N,N’-ジアルキルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジンともいう。
アルキル基としては、炭素数1~4の直鎖状又は分岐状のアルキル基を好適に挙げることができ、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。
これらのアルキル基の中でも、好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、さらに好ましくはエチル基である。
本実施形態の式(2)で表される化合物は、公知の合成ルートで製造することができ、その製造方法は特に限定されない。とりわけ、上述した従来技術のようにLiAlH4等の取り扱いや反応の制御が難しい還元剤試薬を用いない製造方法が、工業上の観点から好ましい。具体的には、式(1)で表される化合物を、触媒を用いて水素源と反応させる工程を含む製造方法が特に好適である。式(1)で表される化合物は、N,N’-ジアルキルビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3:5,6-テトラカルボキシジイミドともいう。
なお、式(1)で表される化合物は、市販品として入手してもよく、公知の合成ルートで適宜合成することもできる。例えば、市販のビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3:5,6-テトラカルボン酸二無水物とアルキルアミン又はその塩との反応により合成して入手してもよい。
触媒は、遷移金属を含む触媒であることが好ましい。
遷移金属としては、例えば、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、ロジウム(Rh)、バナジウム(V)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、オスミウム(Os)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の金属が挙げられる。これらの金属は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
上述した遷移金属は、担体上に担持されていてもよい。担体としては、触媒の担体として通常使用される担体であれば特に制限されない。例えば、無機酸化物、活性炭素、イオン交換樹脂等が挙げられる。無機酸化物としては、具体的には、シリカ(SiO2)、チタニア(TiO2)、ジルコニア(ZrO2)、アルミナ(Al2O3)、酸化マグネシウム(MgO)、リン酸三カルシウム(HAP;ヒドロキシアパタイト)、及びこれら無機酸化物の二種以上の複合体(例えば、ゼオライト等)等が挙げられる。
本明細書において、PtとVとが担体に担持された触媒は、「Pt-V/Z」とも表される。ここで、Zは、担体を表す。
白金粒子は、少なくとも白金を含有していれば特に限定されず、ルテニウム、ロジウム、及びパラジウム等の貴金属を少量含んでいてもよい。
白金粒子は一次粒子でもよく、二次粒子でもよい。白金粒子の平均粒子径は、好ましくは1~30nmであり、より好ましくは1~10nmである。なお、上記平均粒子径は、電子顕微鏡で任意の数の粒子の直径を観察し、それらの直径の平均値を指す。
担体の形態としては、特に限定されないが、例えば、粉末状、球形粒状、不定形顆粒状、円柱形ペレット状、押し出し形状、リング形状等が挙げられる。
担体を構成する成分としては、前述した担体の中でも、HAPが好ましい。
上記白金化合物としては、例えば、白金アセチルアセトナート(Pt(acac)2)、テトラアンミン白金(II)酢酸塩、ジニトロジアンミン白金(II)、ヘキサアンミン白金(IV)炭酸塩、ビス(ジベンザルアセトン)白金(0)等の白金錯体塩、塩化白金、テトラクロロ白金酸カリウム等の塩が挙げられる。これら白金化合物の中でも、好ましくはPt(acac)2である。
上記バナジウム化合物としては、例えば、バナジルアセチルアセトナート(VO(acac)2)、ビス(タルトラト)ビス[オキソバナジウム(IV)]酸テトラメチルアンモニウム等のバナジウム錯体塩、バナジン(V)酸アンモニウム、ナフテン酸バナジウム等の塩が挙げられる。これらバナジウム化合物の中でも、好ましくはVO(acac)2である。
上記混合液と担体との混合物は、溶媒をロータリーエバポレータ等で除去した後、乾燥させる。乾燥は、例えば、80~200℃で1~60時間乾燥させることが好ましい。乾燥後は、必要に応じて乾燥物を粉砕し、マッフル炉等を使用して焼成することが好ましい。
ここで、式(1)で表される化合物、触媒、及び水素源を混合する順番は任意である。作業性の観点から、本実施形態の製造方法では、式(1)で表される化合物と触媒とを混合して必要に応じて溶媒を加え、その後に水素源を反応器に導入することが好ましい。
また、本実施形態の製造方法では、低温低圧条件下で反応を進行させるため、モレキュラーシーブスを反応系内に添加してもよい。モレキュラーシーブスの添加量は、式(1)で表される化合物の質量に対し、0.1~10倍量であることが好ましく、0.5~5倍量であることがより好ましい。
溶媒は、式(1)で表される化合物を溶解できれば特に制限されず、反応温度や反応物等に応じて適宜選択すればよい。
溶媒としては、例えば、水;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒;アセトニトリル、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;テトラヒドロフラン(以下、THFとも記載する。)、ジエチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒;等が挙げられる。これら溶媒は、1種を単独であるいは2種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いることができる。
これらの溶媒の中でも、好ましくはエーテル系溶媒であり、より好ましくは1,2-ジメトキシエタンである。
反応時間は、GC-MS等を用い反応の進行状況をモニタリングすることによって適宜調整すればよく、通常1分~100時間、好ましくは0.5時間~70時間、より好ましくは1時間~60時間である。
アセトン90mLにエヌ・イーケムキャット社製Pt(acac)2(白金アセチルアセトナート、0.4mmol)とシグマアルドリッチ社のVO(acac)2(バナジルアセチルアセトナート、0.4mmol)とを加え、室温で30分撹拌した。さらに和光純薬社のHAP(商品名「リン酸三カルシウム」)1.0gを加えて室温で4時間撹拌した。得られた混合物から溶媒をロータリーエバポレータで除去し、淡緑色の粉末を得た。得られた粉末を110℃で終夜乾燥した。さらに、乾燥した粉末をメノウ鉢で粉砕し、大気中で、3時間、300℃で焼成し、濃灰色の粉末(Pt-V/HAP)を得た。
ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3:5,6-テトラカルボン酸二無水物(分子量248.19、粉末、東京化成工業製)4.0g、70%エチルアミン溶液(分子量81.54、固体、東京化成工業製)25mLを2Lフラスコに入れ、水12mLを添加し、ホットスターラー上で撹拌器を用いて撹拌し、窒素雰囲気下とした。室温で撹拌した。60℃まで昇温した後、徐々に昇温し最終的には100℃とした。反応を44時間行った後、放冷後ろ過し、純水で洗浄して乾燥することで、N,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3:5,6-テトラカルボキシジイミドの白色固体1.6g(収率95%以上)を得た。
得られた白色固体の1H-NMR及び13C-NMRを以下に示す。
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 6.10 (t, 2H), 3.79 (brs, 2H), 3.48 (q4, 4H), 2.96 (s, 4H), 1.07 (t, 6H).
13C-NMR(400Hz, CDCl3) δ: 176.47(×4), 130.75(×2), 42.83(×4), 33.84(×2), 33.47(×2), 12.90(×2).
製造例1で得られたPt-V/HAPを0.3g、製造例2で得られたN,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3:5,6-テトラカルボニルジイミド0.3mmol、和光純薬社のモレキュラーシーブス4Å 0.1gを50mLのステンレス製オートクレーブに加えた。さらに、溶媒として1,2-ジメトキシエタン(DME)5mLを加えた。反応温度150℃、水素圧5MPa下、48時間水素化反応を行い、N,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジンを得た。反応後、GC-MSを用いてN,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジンの収率を測定したところ、収率77%であった。
生成物を単離し、1H-NMR及び13C-NMRの測定結果を以下に示す。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ = 57.0(×4), 50.2(×2), 40.7(×4), 30.6(×2), 14.6(×2), 13.9(×2).
蒸留水80mLの入った100mLナスフラスコに、エヌ・イーケムキャット社製K3[RhCl6]を0.2mmol加え、3分間超音波処理を行った。その後、強攪拌しながら和光純薬社のHAP(商品名「リン酸三カルシウム」)1.0gを加えて80℃まで加熱し、この状態で15時間攪拌した後、1.5時間静置して室温まで溶液を放冷した。放冷した前記溶液に(NH4)6Mo7O24・4H2Oaq(40mM)を25mL(Mo含有量:1.0mmol)滴下した後、50℃まで加熱し、3時間攪拌した。攪拌後濾過し、蒸留水約1Lを用いて濾過洗浄を行った。濾過洗浄を行った濾物を120℃で8時間以上乾燥し、Rh-Mo/HAPを得た(Rh:0.2mmol/g、Mo:0.017mmol/g)。
反応に使用するオートクレーブに製造例3で得た触媒と、溶媒であるDME(1,2-dimethoxyethane)5mLとを加え、水素ガスで20atmに加圧し、160℃に加熱し、1時間還元処理を行った。その後、遠心分離機(2000rpm、1分間)にかけ、上澄み液をピペットで取り出して除いた。そこにDME5mLを加えて、1分間超音波処理を行った。この洗浄工程をもう一度繰り返した後、最後に上澄み液を取り除き、反応前還元処理を行った。
実施例1において、Pt-V/HAPに代えて製造例3で得られたRh-Mo/HAPを0.3g、温度を160℃に代えたこと以外は、実施例1と同様にしてN,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジンを得た。反応後、GC-MSを用いてN,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジンの収率を測定したところ、収率60%であった。
(N,N,N’,N’-テトラエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジニウム二ヨウ化物の合成)
実施例1と同様の方法でN,N’-ジエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジン(分子量248.41)2.2gを合成し、その50mLエタノール溶液を100mLフラスコに入れ、ヨウ化エチル(分子量155.97、液体、東京化成工業)6.0gを滴下した。窒素雰囲気下で2日間還流した後、放冷後ろ過し、アセトンで洗浄して乾燥することで、目的物であるN,N,N’,N’-テトラエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジニウム二ヨウ化物の白色粉末2.6g(収率52%)を得た。得られた白色粉末の1H-NMR及び13C-NMRを以下に示す。
13C-NMR(400Hz, CDCl3) δ: 65.00(×4), 58.51(×2), 54.41(×2), 40.11(×4), 28.33(×2), 14.86(×2), 11.01(×2), 10.1(×2)
N,N,N’,N’-テトラエチルビシクロ[2.2.2]オクタン-2,3:5,6-ジピロリジニウム二ヨウ化物(分子量558.62)2.0g、4.8質量%水酸化ナトリウム溶液8.4g、FAU型ゼオライトCBV712(ゼオリスト社製、シリカアルミナ比SAR10.9)2.7g、水3.3gをSUSビーカー内で48時間撹拌した。混合物の組成は次のとおりであった。
次いで、この原料組成物(混合物)を50cc内筒テフロン(登録商標)のステンレス製密閉耐圧容器に入れ、170℃で48時間静置保持した。この水熱処理後の生成物を固液分離し、得られた固相を十分量の水で洗浄し、105℃で乾燥して生成物を得た。粉末X線回折分析を行ったところ、生成物はAFX型ゼオライトの単相であることが確認された。
図1に、当該AFX型ゼオライトのXRDデータを示す。
Claims (8)
- 前記式(1)及び前記式(2)におけるR1及びR2が、エチル基である
請求項1に記載の製造方法。 - 前記水素源が、分子状水素、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ヒドラジン、及び水素化ホウ素ナトリウムから選択される1種以上を含む
請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記水素源が、分子状水素である
請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記反応工程が、湿式プロセス下で行われる
請求項1~4のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記触媒が、不均一系触媒である
請求項1~5のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記触媒は、担体にPtとVとが又はRhとMoとが担持された触媒であり
前記担体が、シリカ(SiO 2 )、チタニア(TiO 2 )、ジルコニア(ZrO 2 )、アルミナ(Al 2 O 3 )、酸化マグネシウム(MgO)、及びリン酸三カルシウム(HAP;ヒドロキシアパタイト)よりなる群から選ばれる一種である
請求項1~6のいずれか一項に記載の製造方法。 - 前記担体が、リン酸三カルシウム(HAP;ヒドロキシアパタイト)である
請求項7に記載の製造方法。
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