JP7724149B2 - Liquid ejection head - Google Patents
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Description
本発明の実施形態は、液体吐出ヘッドに関する。 An embodiment of the present invention relates to a liquid ejection head.
従来、セラミックからなる基板上に、複数の隔壁を所定の間隔で形成し、各隔壁間をインクの流路とする圧電セラミックスが設けられた、インクジェットヘッド等の液体吐出ヘッドが知られている。液体吐出ヘッドは、各隔壁の側面に駆動用の電極が形成され、隔壁の端面をその頂部から底部にかけて外側に広がる傾斜面を有する。液体吐出ヘッドの電極は、隔壁の傾斜面及び基板に引出線としてのパターンが形成される。 Conventionally, liquid ejection heads such as inkjet heads have been known that have piezoelectric ceramics on a ceramic substrate, with multiple partition walls formed at predetermined intervals and the spaces between the partition walls serving as ink flow paths. In liquid ejection heads, drive electrodes are formed on the side surfaces of each partition wall, and the end faces of the partition walls have inclined surfaces that extend outward from their tops to their bottoms. The electrodes of the liquid ejection head are formed as patterns on the inclined surfaces of the partition walls and on the substrate as lead lines.
例えば、液体吐出ヘッドは、インク吐出を高速化する為、液体吐出用の溝と、液体を吐出しない溝を有する独立駆動構造を用いる。独立駆動構造の液体吐出ヘッドとして、液体吐出用の溝の電極を基板中央に束ねて共通GND電極化し、液体を吐出しない溝の電極をドライバIC側に引き出す例がある。 For example, in order to increase the speed of ink ejection, liquid ejection heads use an independent drive structure with grooves for liquid ejection and grooves that do not eject liquid. In one example of a liquid ejection head with an independent drive structure, the electrodes of the liquid ejection grooves are bundled together in the center of the substrate to form a common GND electrode, and the electrodes of the grooves that do not eject liquid are pulled out to the driver IC side.
例えば、全ノズル同時駆動でインク吐出したとき、共通GND電極の抵抗が大きいと、溝列内の端部と中央部とで駆動波形に違いがみられて、ドット径、直線性等の印字品質が悪くなる虞がある。 For example, when ink is ejected by simultaneously driving all nozzles, if the resistance of the common GND electrode is high, differences in the drive waveform will be observed between the ends and center of the groove array, which could result in poor print quality such as dot diameter and linearity.
本発明が解決しようとする課題は、電極の抵抗値を低減できる液体吐出ヘッドを提供することである。 The problem that this invention aims to solve is to provide a liquid ejection head that can reduce the resistance value of the electrodes.
実施形態の液体吐出ヘッドは、アクチュエータと、基板と、電極と、を備える。アクチュエータは、一方向に配置される複数の圧力室を有する。基板は、前記アクチュエータが設けられる。電極は、前記基板及び前記アクチュエータに形成される。電極は、前記基板に形成される導体部分がNiスパッタ膜、無電解Niめっき膜、第1電解金属めっき膜及び前記第1電解金属めっき膜と異種金属の第2電解金属めっき膜を含む多層膜により形成される。電極は、前記アクチュエータに形成される導体部分が、前記Niスパッタ膜及び前記無電解Niめっき膜により形成される。電極は、前記圧力室を駆動する。 The liquid ejection head of the embodiment includes an actuator, a substrate, and an electrode. The actuator has a plurality of pressure chambers arranged in one direction. The substrate is provided with the actuator. The electrode is formed on the substrate and the actuator. The conductor portion of the electrode formed on the substrate is formed from a multilayer film including a Ni sputtered film, an electroless Ni plated film, a first electrolytic metal plated film, and a second electrolytic metal plated film of a metal different from the first electrolytic metal plated film. The conductor portion of the electrode formed on the actuator is formed from the Ni sputtered film and the electroless Ni plated film. The electrode drives the pressure chamber.
以下に、実施形態に係る液体吐出ヘッド1及び液体吐出ヘッド1を用いた液体吐出装置2について、図1乃至図11を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る液体吐出ヘッド1の構成を示す斜視図であり、図2は、液体吐出ヘッド1の構成を示す下面図である。図3は、液体吐出ヘッド1の構成を、ノズルプレート114を省略して示す下面図である。図4は、液体吐出ヘッド1のヘッド本体11の構成を、ノズルプレート114の一部を切欠して示す斜視図であり、図5は、ヘッド本体11の構成を示す断面図である。図6は、ヘッド本体11の基板111、アクチュエータ113及び電極117の構成を示す平面図である。図7は、ヘッド本体11の基板111、アクチュエータ113及び電極117の構成を示す断面図である。図8は、ヘッド本体11の基板111及び電極117の構成を示す断面図であり、図9は、ヘッド本体11のアクチュエータ113及び電極117の構成を示す断面図である。図10は、液体吐出ヘッド1の製造方法の一例として、ヘッド本体11の電極117を形成する一例を示す流れ図である。図11は、液体吐出ヘッド1を用いた液体吐出装置2の構成を示す説明図である。なお、各図において説明のため、適宜構成を拡大、縮小または省略して示している。 A liquid ejection head 1 according to an embodiment and a liquid ejection device 2 using the liquid ejection head 1 will be described below with reference to FIGS. 1 to 11. FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of the liquid ejection head 1 according to the first embodiment, and FIG. 2 is a bottom view showing the configuration of the liquid ejection head 1. FIG. 3 is a bottom view showing the configuration of the liquid ejection head 1 with the nozzle plate 114 omitted. FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of the head body 11 of the liquid ejection head 1 with a portion of the nozzle plate 114 cut away, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of the head body 11. FIG. 6 is a plan view showing the configuration of the substrate 111, actuator 113, and electrode 117 of the head body 11. FIG. 7 is a cross-sectional view showing the configuration of the substrate 111, actuator 113, and electrode 117 of the head body 11. FIG. 8 is a cross-sectional view showing the configuration of the substrate 111 and electrode 117 of the head body 11, and FIG. 9 is a cross-sectional view showing the configuration of the actuator 113 and electrode 117 of the head body 11. Figure 10 is a flow chart showing an example of forming the electrodes 117 of the head body 11 as an example of a method for manufacturing the liquid ejection head 1. Figure 11 is an explanatory diagram showing the configuration of a liquid ejection device 2 using the liquid ejection head 1. Note that for the purpose of explanation, the configuration is enlarged, reduced, or omitted in each figure as appropriate.
液体吐出ヘッド1は、例えば、図11に示すインクジェット記録装置などの液体吐出装置2に設けられるシェアモードのインクジェットヘッドである。液体吐出ヘッド1は、液体吐出装置2に設けられた液体収容部としての供給タンク2132を含むヘッドユニット2130に設けられる。 The liquid ejection head 1 is a share-mode inkjet head provided in a liquid ejection device 2, such as the inkjet recording device shown in Figure 11. The liquid ejection head 1 is provided in a head unit 2130 that includes a supply tank 2132 as a liquid storage section provided in the liquid ejection device 2.
液体吐出ヘッド1は、供給タンク2132に貯留された液体としてのインクが供給される。なお、液体吐出ヘッド1は、インクを循環させない非循環式のヘッドであってもよく、また、インクを循環させる循環式のヘッドであってもよい。本実施形態において、液体吐出ヘッド1は、非循環式のヘッドの例を用いて説明する。また、液体吐出ヘッド1は、液体吐出装置2に設けられた温調装置2116に接続され、インクの温度制御を行う温調用液体(温調水)が供給される。 The liquid ejection head 1 is supplied with ink as a liquid stored in a supply tank 2132. The liquid ejection head 1 may be a non-circulating head that does not circulate ink, or a circulating head that circulates ink. In this embodiment, the liquid ejection head 1 will be described using an example of a non-circulating head. The liquid ejection head 1 is also connected to a temperature adjustment device 2116 provided in the liquid ejection device 2, and is supplied with temperature adjustment liquid (temperature adjustment water) that controls the temperature of the ink.
図1乃至図4に示すように、液体吐出ヘッド1は、ヘッド本体11と、マニフォールドユニット12と、回路基板13と、カバー14と、を備える。例えば、液体吐出ヘッド1は、アクチュエータ113を一対有するヘッド本体11を二組有する、サイドシュータタイプの4列一体構造ヘッドである。 As shown in Figures 1 to 4, the liquid ejection head 1 comprises a head body 11, a manifold unit 12, a circuit board 13, and a cover 14. For example, the liquid ejection head 1 is a side-shooter type four-row integrated structure head having two sets of head bodies 11, each having a pair of actuators 113.
ヘッド本体11は、液体を吐出する。図3乃至図7に示すように、ヘッド本体11は、基板111と、枠部材112と、複数の圧力室1131及び複数の空気室1132を有するアクチュエータ113と、ノズルプレート114と、を備える。ヘッド本体11は、アクチュエータ113の複数の圧力室1131と連通する共通液室116を有する。 The head body 11 ejects liquid. As shown in Figures 3 to 7, the head body 11 includes a substrate 111, a frame member 112, an actuator 113 having multiple pressure chambers 1131 and multiple air chambers 1132, and a nozzle plate 114. The head body 11 has a common liquid chamber 116 that communicates with the multiple pressure chambers 1131 of the actuator 113.
また、ヘッド本体11は、基板111及びアクチュエータ113に、アクチュエータ113の複数の圧力室1131を駆動する電極117と、を有する。 The head body 11 also has electrodes 117 on the substrate 111 and actuator 113 that drive multiple pressure chambers 1131 of the actuator 113.
本実施形態の例においては、ヘッド本体11がアクチュエータ113を2つ有し、共通液室116は、1つの第1共通液室1161、及び、2つの第2共通液室1162を有する例を用いて説明する。共通液室116は、例えば、アクチュエータ113の複数の圧力室1131の一方の開口と連通する第1共通液室1161と、アクチュエータ113の複数の圧力室1131の他方の開口と連通する第2共通液室1162と、第1共通液室1161の両端と2つの第2共通液室1162の両端とを連続する第3共通液室1163と、を有する。 In this embodiment, an example will be described in which the head main body 11 has two actuators 113, and the common liquid chamber 116 has one first common liquid chamber 1161 and two second common liquid chambers 1162. The common liquid chamber 116 has, for example, a first common liquid chamber 1161 that communicates with one opening of the multiple pressure chambers 1131 of the actuator 113, a second common liquid chamber 1162 that communicates with the other opening of the multiple pressure chambers 1131 of the actuator 113, and a third common liquid chamber 1163 that connects both ends of the first common liquid chamber 1161 to both ends of the two second common liquid chambers 1162.
基板111は、例えばセラミックス材料により矩形板状に形成される。基板111は、例えば、一方向に長い矩形状に形成される。基板111の一面には、電極117の一部となる配線パターンが形成される。具体例として、基板111の一面には、電極117の後述する複数の個別電極118の一部となる配線パターン、及び、単数の共通電極119の一部となる配線パターンが形成される。基板111の一面には、基板111の短手方向に並んで一対のアクチュエータ113が設けられる。基板111の一面とは、基板111の一方の面である。基板111は、例えば、単数の供給口1111と、複数の排出口1112と、を有する。供給口1111及び排出口1112は、基板111の両主面間を貫通する貫通孔である。 The substrate 111 is formed, for example, from a ceramic material in the shape of a rectangular plate. The substrate 111 is formed, for example, in a rectangular shape that is long in one direction. A wiring pattern that becomes part of the electrode 117 is formed on one surface of the substrate 111. As a specific example, a wiring pattern that becomes part of multiple individual electrodes 118 (described below) of the electrode 117, and a wiring pattern that becomes part of a single common electrode 119 are formed on one surface of the substrate 111. A pair of actuators 113 are provided on one surface of the substrate 111, lined up in the short direction of the substrate 111. The one surface of the substrate 111 refers to one surface of the substrate 111. The substrate 111 has, for example, a single supply port 1111 and multiple discharge ports 1112. The supply port 1111 and the discharge ports 1112 are through holes that penetrate between the two main surfaces of the substrate 111.
供給口1111は、インクを第1共通液室1161に供給する入口である。供給口1111は、基板111の短手方向の中央に形成される貫通孔である。供給口1111は、基板111の長手方向に沿って延びる。換言すると、供給口1111は、例えば、アクチュエータ113の長手方向及び第1共通液室1161の長手方向に沿って一方向に長い長孔である。供給口1111は、一対のアクチュエータ113の間に設けられ、第1共通液室1161と対向する位置に開口する。 The supply port 1111 is an inlet for supplying ink to the first common liquid chamber 1161. The supply port 1111 is a through-hole formed in the center of the substrate 111 in the short direction. The supply port 1111 extends along the longitudinal direction of the substrate 111. In other words, the supply port 1111 is, for example, an elongated hole that is long in one direction along the longitudinal direction of the actuator 113 and the longitudinal direction of the first common liquid chamber 1161. The supply port 1111 is provided between the pair of actuators 113 and opens at a position facing the first common liquid chamber 1161.
排出口1112は、インクを第2共通液室1162から排出する出口である。排出口1112は、複数、例えば、四つ設けられる。各排出口1112は、例えば、二つの第3共通液室1163に設けられる。なお、複数の排出口1112は、第2共通液室1162に設けられていても良い。 The discharge port 1112 is an outlet for discharging ink from the second common liquid chamber 1162. Multiple discharge ports 1112, for example, four, are provided. Each discharge port 1112 is provided, for example, in two third common liquid chambers 1163. Note that multiple discharge ports 1112 may also be provided in the second common liquid chamber 1162.
枠部材112は、基板111の一方の主面に接着剤等により固定される。枠部材112は、基板111に設けられた供給口1111、複数の排出口1112、及び、アクチュエータ113を囲う。例えば、枠部材112は、段構造を有する。 The frame member 112 is fixed to one main surface of the substrate 111 with an adhesive or the like. The frame member 112 surrounds the supply port 1111, multiple discharge ports 1112, and actuator 113 provided in the substrate 111. For example, the frame member 112 has a stepped structure.
例えば、枠部材112は、矩形枠状に形成されることで、枠部材112の長手方向に沿って一方向に長い開口を形成する。枠部材112の開口には、一対のアクチュエータ113、供給口1111及び四つの排出口1112が配置される。 For example, the frame member 112 is formed in a rectangular frame shape, forming an opening that is long in one direction along the longitudinal direction of the frame member 112. A pair of actuators 113, a supply port 1111, and four discharge ports 1112 are arranged in the opening of the frame member 112.
一対のアクチュエータ113は、基板111の実装面に接着される。一対のアクチュエータ113は供給口1111を挟んで二列に並んで基板111に設けられる。アクチュエータ113は、一方向に長い板状に形成される。アクチュエータ113は、枠部材112の開口内に配置され、基板111の主面に接着される。 A pair of actuators 113 are adhered to the mounting surface of the substrate 111. The pair of actuators 113 are arranged in two rows on the substrate 111, sandwiching the supply port 1111 between them. The actuators 113 are formed in the shape of a plate that is long in one direction. The actuators 113 are placed within the opening of the frame member 112 and adhered to the main surface of the substrate 111.
図3及び図6に示すように、アクチュエータ113は、長手方向に等間隔に配置された複数の圧力室1131と、長手方向に等間隔に配置されるとともに、隣り合う圧力室1131の間に配置された空気室1132と、を有する。換言すると、アクチュエータ113には、長手方向に沿って、複数の圧力室1131及び空気室1132が交互に配置される。 As shown in Figures 3 and 6, the actuator 113 has a plurality of pressure chambers 1131 arranged at equal intervals in the longitudinal direction, and air chambers 1132 arranged at equal intervals in the longitudinal direction and between adjacent pressure chambers 1131. In other words, the actuator 113 has a plurality of pressure chambers 1131 and air chambers 1132 arranged alternately along the longitudinal direction.
アクチュエータ113の基板111とは反対側の面は、ノズルプレート114に接着される。アクチュエータ113は、長手方向に等間隔に並んで配置され、長手方向に直交する方向に沿う複数の溝が形成される。複数の溝は、複数の圧力室1131と、複数の空気室1132と、を形成する。換言すると、アクチュエータ113は、長手方向に等間隔に並んで配置された、間に溝を形成する壁を構成する駆動素子である複数の圧電体1133を有する。複数の圧電体1133は、隣り合う圧電体1133の間に複数の圧力室1131及び複数の空気室1132を形成し、駆動電圧が印加することで、圧力室1131の容積を変化させる。 The surface of the actuator 113 opposite the substrate 111 is bonded to the nozzle plate 114. The actuators 113 are arranged in a row at equal intervals along the longitudinal direction, and multiple grooves are formed along a direction perpendicular to the longitudinal direction. The multiple grooves form multiple pressure chambers 1131 and multiple air chambers 1132. In other words, the actuator 113 has multiple piezoelectric bodies 1133 that are driving elements arranged in a row at equal intervals along the longitudinal direction and that form walls that form the grooves between them. The multiple piezoelectric bodies 1133 form multiple pressure chambers 1131 and multiple air chambers 1132 between adjacent piezoelectric bodies 1133, and the volume of the pressure chambers 1131 changes when a driving voltage is applied.
アクチュエータ113は、例えば、短手方向の幅が、頂部側から基板111側に向かって漸次大きくなる。アクチュエータ113の長手方向に直交する方向(短手方向)に沿った断面の断面形状は、台形状に形成される。即ち、アクチュエータ113は、短手方向の側面部に傾斜する傾斜面1134を有する。側面部(傾斜面1134)は、第1共通液室1161及び第2共通液室1162に対向配置される。 For example, the width of the actuator 113 in the short side direction gradually increases from the top side toward the substrate 111 side. The cross-sectional shape of the actuator 113 in the direction perpendicular to the longitudinal direction (short side direction) is formed into a trapezoidal shape. That is, the actuator 113 has an inclined surface 1134 on the side portion in the short side direction. The side portion (inclined surface 1134) is arranged opposite the first common liquid chamber 1161 and the second common liquid chamber 1162.
具体例として、アクチュエータ113は、一方向に長い矩形板状の二枚の圧電材料を、互いの分極方向が逆向きとなるように対向して接着した積層圧電部材により形成される。ここで、圧電材料は、例えば、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)である。アクチュエータ113は、例えば熱硬化性を有するエポキシ系接着剤によって基板111の実装面に接着される。そして、アクチュエータ113は、例えば、切削加工等によって、傾斜面1134を構成する。また、併せて、基板111及びアクチュエータ113は、例えば、研磨加工によって、電極117の複数の個別電極118及び共通電極119がパターニングされる表面が研磨され、研磨面が形成される。例えば、研磨面は、アクチュエータ113の傾斜面1134及び傾斜面1134の麓の基板111上に形成される。また、アクチュエータ113は、例えば、切削加工複数の圧力室1131及び複数の空気室1132を形成する複数の溝が形成され、隣り合う溝の間を区切る側壁である圧電体(駆動素子)1133が形成される。 As a specific example, the actuator 113 is formed from a laminated piezoelectric component in which two rectangular piezoelectric material plates, each elongated in one direction, are bonded together facing each other so that their polarization directions are opposite. Here, the piezoelectric material is, for example, PZT (lead zirconate titanate). The actuator 113 is bonded to the mounting surface of the substrate 111, for example, with a thermosetting epoxy adhesive. The actuator 113 then forms an inclined surface 1134, for example, by cutting or other processes. Additionally, the surfaces of the substrate 111 and the actuator 113, on which the multiple individual electrodes 118 and common electrode 119 of the electrode 117 are patterned, are polished to form a polished surface, for example, by polishing. For example, the polished surface is formed on the inclined surface 1134 of the actuator 113 and on the substrate 111 at the base of the inclined surface 1134. Furthermore, the actuator 113 is formed, for example, by cutting, with multiple grooves that form multiple pressure chambers 1131 and multiple air chambers 1132, and with piezoelectric bodies (drive elements) 1133 that serve as side walls separating adjacent grooves.
また、アクチュエータ113には、複数の個別電極118の一部となる配線パターン、及び、単数又は複数の共通電極119の一部となる配線パターンが形成される。 In addition, the actuator 113 is formed with wiring patterns that form part of multiple individual electrodes 118 and wiring patterns that form part of one or more common electrodes 119.
圧力室1131は、液体吐出ヘッド1による印字等の動作時に、変形することで、インクをノズル1141から噴射させる。圧力室1131は、入口が第1共通液室1161に開口し、出口が第2共通液室1162に開口する。圧力室1131は、入口からインクが流入し、出口からインクが流出する。なお、圧力室1131は、入口及び出口として説明した両開口からインクが流入する構成であってもよい。 The pressure chamber 1131 deforms when the liquid ejection head 1 performs operations such as printing, causing ink to be ejected from the nozzle 1141. The pressure chamber 1131 has an inlet that opens to the first common liquid chamber 1161 and an outlet that opens to the second common liquid chamber 1162. Ink flows into the pressure chamber 1131 from the inlet and flows out from the outlet. Note that the pressure chamber 1131 may also be configured so that ink flows in from both the inlet and outlet openings described above.
空気室1132は、図7に破線で示すように、入口側及び出口側が、感光性樹脂等により形成された防液壁1135によって塞がれることで、第1共通液室1161及び第2共通液室1162と隔てられる。具体例として、空気室1132の防液壁1135は、空気室1132を形成する溝内に紫外線硬化樹脂を注入した後、マスクプレート等を用いて、必要な部分、例えば、溝の入口側及び出口側である両端部に紫外線を照射することで形成される。このような防液壁1135は、空気室1132へのインクの侵入を防止する。また、空気室1132は、ノズルプレート114によって塞がれ、ノズル1141が配置されない。よって、空気室1132には、インクが流入しない。 As shown by the dashed lines in FIG. 7 , the air chamber 1132 is separated from the first common liquid chamber 1161 and the second common liquid chamber 1162 by having its inlet and outlet sides blocked by liquid-proof walls 1135 made of a photosensitive resin or the like. As a specific example, the liquid-proof walls 1135 of the air chamber 1132 are formed by injecting ultraviolet-curable resin into the groove that forms the air chamber 1132, and then using a mask plate or the like to irradiate the necessary portions, such as both ends of the groove (the inlet and outlet sides), with ultraviolet light. Such liquid-proof walls 1135 prevent ink from entering the air chamber 1132. Furthermore, the air chamber 1132 is blocked by the nozzle plate 114, and no nozzles 1141 are located there. Therefore, ink does not flow into the air chamber 1132.
ノズルプレート114は、板状に形成される。ノズルプレート114は、枠部材112の基板111とは反対側の主面に接着剤等により固定される。ノズルプレート114は、複数の圧力室1131と対向する位置に形成された複数のノズル1141を有する。本実施形態において、ノズルプレート114は、複数のノズル1141が一方向に並ぶノズル列1142を二列有する。 The nozzle plate 114 is formed in a plate shape. The nozzle plate 114 is fixed with an adhesive or the like to the main surface of the frame member 112 opposite the substrate 111. The nozzle plate 114 has a plurality of nozzles 1141 formed in positions facing the plurality of pressure chambers 1131. In this embodiment, the nozzle plate 114 has two nozzle rows 1142 in which a plurality of nozzles 1141 are aligned in one direction.
第1共通液室1161は、一対のアクチュエータ113の両端部を除く中央側の間に形成され、供給口1111から各アクチュエータ113の複数の圧力室1131の一方の開口へのインクの流路を構成する。第1共通液室1161は、アクチュエータ113の長手方向に沿って延びる。 The first common liquid chamber 1161 is formed between the center of the pair of actuators 113, excluding both ends, and forms an ink flow path from the supply port 1111 to one opening of the multiple pressure chambers 1131 of each actuator 113. The first common liquid chamber 1161 extends along the longitudinal direction of the actuator 113.
第2共通液室1162は、各アクチュエータ113と枠部材112との間にそれぞれ形成される。第2共通液室1162は、第3共通液室1163から複数の圧力室1131の他方の開口へのインクの流路を形成する。第2共通液室1162は、アクチュエータ113の長手方向に沿って延びる。 The second common liquid chamber 1162 is formed between each actuator 113 and the frame member 112. The second common liquid chamber 1162 forms an ink flow path from the third common liquid chamber 1163 to the other opening of the multiple pressure chambers 1131. The second common liquid chamber 1162 extends along the longitudinal direction of the actuator 113.
第3共通液室1163は、例えば、アクチュエータ113の長手方向の両端と隣接する。第3共通液室1163は、一対のアクチュエータ113の長手方向の両端側において、第1共通液室1161及び二つの第2共通液室1162を連通する。第3共通液室1163は、第1共通液室1161から各アクチュエータ113の複数の圧力室1131を通過せずに、第2共通液室1162へ至る一部のインクの流路を形成する。また、第3共通液室1163は、第1共通液室1161及び二つの第2共通液室1162から排出口1112へのインクの流路を形成する。 The third common liquid chamber 1163 is adjacent to both longitudinal ends of the actuator 113, for example. The third common liquid chamber 1163 connects the first common liquid chamber 1161 and the two second common liquid chambers 1162 at both longitudinal ends of the pair of actuators 113. The third common liquid chamber 1163 forms a flow path for part of the ink that runs from the first common liquid chamber 1161 to the second common liquid chamber 1162 without passing through the multiple pressure chambers 1131 of each actuator 113. The third common liquid chamber 1163 also forms a flow path for ink from the first common liquid chamber 1161 and the two second common liquid chambers 1162 to the outlet 1112.
電極117は、電極膜である。電極117は、例えば、複数の圧力室1131のそれぞれ駆動する複数の個別電極118と、複数の圧力室1131を同時に駆動する単数又は複数の共通電極119と、を有する。 The electrode 117 is an electrode film. The electrode 117 includes, for example, multiple individual electrodes 118 that drive each of the multiple pressure chambers 1131, and one or more common electrodes 119 that simultaneously drive the multiple pressure chambers 1131.
図7乃至図9に示すように、電極117は、基板111の上面及びアクチュエータ113の傾斜面1134に形成される導体部分である第1電極部1171と、アクチュエータ113の複数の圧力室1131及び複数の空気室1132の底面及び側面に形成される導体部分である第2電極部1172と、を有する。 As shown in Figures 7 to 9, the electrode 117 has a first electrode portion 1171, which is a conductive portion formed on the upper surface of the substrate 111 and the inclined surface 1134 of the actuator 113, and a second electrode portion 1172, which is a conductive portion formed on the bottom and side surfaces of the multiple pressure chambers 1131 and multiple air chambers 1132 of the actuator 113.
第1電極部1171は、配線パターン(引出線)である。第1電極部1171は、多層膜により形成される。図8に示すように、第1電極部1171は、Niスパッタ膜11731、無電解Niめっき膜11732、第1電解金属めっき膜11733及び前記第1電解金属めっき膜11733と異種金属の第2電解金属めっき膜11734を含む。 The first electrode portion 1171 is a wiring pattern (lead line). The first electrode portion 1171 is formed of a multilayer film. As shown in FIG. 8, the first electrode portion 1171 includes a Ni sputtered film 11731, an electroless Ni plated film 11732, a first electrolytic metal plated film 11733, and a second electrolytic metal plated film 11734 of a metal different from the first electrolytic metal plated film 11733.
第1電解金属めっき膜11733は、例えば、電解Niめっき膜である。以下、第1電解金属めっき膜11733を、電解Niめっき膜11733として説明する。第2電解金属めっき膜11734は、例えば、電解Auめっき膜である。以下、第2電解金属めっき膜11734を、電解Auめっき膜11734として説明する。 The first electrolytic metal plating film 11733 is, for example, an electrolytic Ni plating film. Hereinafter, the first electrolytic metal plating film 11733 will be described as an electrolytic Ni plating film 11733. The second electrolytic metal plating film 11734 is, for example, an electrolytic Au plating film. Hereinafter, the second electrolytic metal plating film 11734 will be described as an electrolytic Au plating film 11734.
第2電極部1172は、第1電極部1171よりも少ない層の多層膜により形成される。図9に示すように、第2電極部1172は、アクチュエータ113の隣り合う圧電体1133の間の溝に形成される導体部分が、Niスパッタ膜11731及び無電解Niめっき膜11732により形成される多層膜により形成される。第2電極部1172は、対応する第1電極部1171と連続して設けられる。 The second electrode portion 1172 is formed from a multilayer film having fewer layers than the first electrode portion 1171. As shown in FIG. 9, the second electrode portion 1172 is formed from a multilayer film in which the conductor portion formed in the groove between adjacent piezoelectric bodies 1133 of the actuator 113 is formed from a Ni sputtered film 11731 and an electroless Ni plated film 11732. The second electrode portion 1172 is provided continuously with the corresponding first electrode portion 1171.
即ち、第1電極部1171は、電解Niめっき膜(第1電解金属めっき膜)11733及び電解Auめっき膜(第2電解金属めっき膜)11734が設けられることから、第2電極部1172よりも膜厚が厚く、また、抵抗値が低い。 In other words, the first electrode portion 1171 is provided with an electrolytic Ni plating film (first electrolytic metal plating film) 11733 and an electrolytic Au plating film (second electrolytic metal plating film) 11734, and therefore has a thicker film thickness and a lower resistance value than the second electrode portion 1172.
次に、液体吐出ヘッド1の製造方法の一例として、電極117を成形する例を、図10に示す流れ図を用いて説明する。 Next, as an example of a method for manufacturing the liquid ejection head 1, an example of forming the electrode 117 will be explained using the flow chart shown in Figure 10.
まず、基板111及びアクチュエータ113の所定の領域に、スパッタリングを行い、Niスパッタ膜11731を形成する(ACT1)。具体例として、研磨面を含む基板111上、アクチュエータ113の傾斜面1134及びアクチュエータ113の複数の圧力室1131及び複数の空気室1132を構成する複数の圧電体1133の内面にNiスパッタ膜11731を形成する。このとき、複数の個別電極118及び共通電極119が設けられる範囲を含む領域に、Niスパッタ膜11731を形成する。 First, sputtering is performed on predetermined regions of the substrate 111 and the actuator 113 to form a Ni sputtered film 11731 (ACT 1). As a specific example, the Ni sputtered film 11731 is formed on the substrate 111 including the polished surface, the inclined surface 1134 of the actuator 113, and the inner surfaces of the multiple piezoelectric elements 1133 that form the multiple pressure chambers 1131 and multiple air chambers 1132 of the actuator 113. At this time, the Ni sputtered film 11731 is formed in an area that includes the range where the multiple individual electrodes 118 and common electrode 119 are provided.
次に、無電解めっき法を用いて、Niスパッタ膜11731上に無電解Niめっき膜11732を形成する(ACT2)。例えば、Niスパッタ膜11731を触媒として、無電解Niめっき膜11732を形成する。 Next, electroless Ni plating film 11732 is formed on Ni sputtered film 11731 using electroless plating (ACT 2). For example, electroless Ni plating film 11732 is formed using Ni sputtered film 11731 as a catalyst.
次に、電解めっき法を用いて、無電解Niめっき膜11732上に、電解Niめっき膜11733を形成する(ACT3)。このとき、複数の圧電体1133の間に形成される溝の幅が小さいことから、電解Niめっき膜11733は、基板111上及びアクチュエータ113の傾斜面1134に形成された無電解Niめっき膜11732上のみに形成される。即ち、電解めっき法を用いることで、第1電極部1171が設けられる領域の無電解Niめっき膜11732上にのみ、電解Niめっき膜11733が形成されることになる。 Next, an electrolytic Ni plating film 11733 is formed on the electroless Ni plating film 11732 using electrolytic plating (ACT 3). At this time, because the width of the grooves formed between the multiple piezoelectric elements 1133 is small, the electrolytic Ni plating film 11733 is formed only on the electroless Ni plating film 11732 formed on the substrate 111 and the inclined surface 1134 of the actuator 113. In other words, by using electrolytic plating, the electrolytic Ni plating film 11733 is formed only on the electroless Ni plating film 11732 in the area where the first electrode portion 1171 is to be provided.
次に、フォトリソグラフィ等により、形成したNiスパッタ膜11731/無電解Niめっき膜11732/電解Niめっき膜11733による電極をパターニングする(ACT4)。このときの電極パターンは、例えば、基板111及びアクチュエータ113に形成される複数の個別電極118及び共通電極119のパターンである。 Next, the electrodes formed by the Ni sputtered film 11731, electroless Ni plated film 11732, and electrolytic Ni plated film 11733 are patterned using photolithography or the like (ACT 4). The electrode pattern at this time is, for example, the pattern of the multiple individual electrodes 118 and common electrode 119 formed on the substrate 111 and actuator 113.
次に、電解めっき法を用いて、パターニングした電解Niめっき膜11733上に、電解Auめっき膜11734を形成する(ACT5)。このとき、複数の圧電体1133の間に形成される溝の幅が小さいことから、電解Auめっき膜11734は、基板111上及びアクチュエータ113の傾斜面1134に形成され、パターニングされた無電解Niめっき膜11732上のみに形成される。これらの工程の例により、複数の個別電極118及び共通電極119の配線パターンで、厚さが異なり、且つ、層構成が異なる第1電極部1171及び第2電極部1172を含む電極117が形成される。 Next, an electrolytic Au plating film 11734 is formed on the patterned electrolytic Ni plating film 11733 using electrolytic plating (ACT 5). At this time, because the width of the grooves formed between the multiple piezoelectric elements 1133 is small, the electrolytic Au plating film 11734 is formed on the substrate 111 and the inclined surface 1134 of the actuator 113, and is formed only on the patterned electroless Ni plating film 11732. Through these example processes, an electrode 117 is formed that includes a wiring pattern of multiple individual electrodes 118 and a common electrode 119, and that includes first electrode portions 1171 and second electrode portions 1172 that have different thicknesses and different layer structures.
複数の個別電極118は、圧電体である複数の圧電体1133に個別に駆動電圧を印加する。複数の個別電極118は、各圧力室1131を個別に変形させる。個別電極118は、基板111に形成された配線パターン及びアクチュエータ113に形成された配線パターンにより形成される。個別電極118は、第1電極部1171及び第2電極部1172によって形成される配線パターンである。複数の個別電極118は、回路基板13に接続される。 The multiple individual electrodes 118 apply a driving voltage individually to the multiple piezoelectric elements 1133, which are piezoelectric elements. The multiple individual electrodes 118 individually deform each pressure chamber 1131. The individual electrodes 118 are formed by a wiring pattern formed on the substrate 111 and a wiring pattern formed on the actuator 113. The individual electrodes 118 are a wiring pattern formed by a first electrode portion 1171 and a second electrode portion 1172. The multiple individual electrodes 118 are connected to the circuit board 13.
具体例として、図7に示すように、複数の個別電極118は、各圧力室1131の内面、アクチュエータ113の傾斜面1134及び基板111上に成膜される。具体的には、個別電極118は、第2電極部1172により、圧力室1131を形成する圧電体1133の側面、及び、圧力室1131の底面に形成される。また、個別電極118は、第1電極部1171により、傾斜面1134及び基板111の研磨面に形成される。個別電極118は、圧力室1131内から、基板111の短手方向の端部へ延び、基板111の回路基板13が接続される接続部1116に端部が配置される。個別電極118は、圧力室1131の底部及び圧電体1133を形成する圧電部材の表面に密着するように設けられる。個別電極118は、例えばニッケル薄膜によって形成される。例えば、基板111上の個別電極118は、枠部材112の下面側において、枠部材112を基板111に接着させる接着剤によって覆われる。 7, multiple individual electrodes 118 are formed on the inner surfaces of each pressure chamber 1131, the inclined surface 1134 of the actuator 113, and the substrate 111. Specifically, the individual electrodes 118 are formed by the second electrode portion 1172 on the side surfaces of the piezoelectric body 1133 that forms the pressure chamber 1131, and on the bottom surface of the pressure chamber 1131. The individual electrodes 118 are also formed by the first electrode portion 1171 on the inclined surface 1134 and the polished surface of the substrate 111. The individual electrodes 118 extend from within the pressure chamber 1131 to the ends of the substrate 111 in the short direction, with their ends positioned at the connection portions 1116 to which the circuit board 13 of the substrate 111 is connected. The individual electrodes 118 are provided so as to be in close contact with the bottom of the pressure chamber 1131 and the surface of the piezoelectric member that forms the piezoelectric body 1133. The individual electrodes 118 are formed, for example, from a nickel thin film. For example, the individual electrodes 118 on the substrate 111 are covered on the underside of the frame member 112 with adhesive that bonds the frame member 112 to the substrate 111.
共通電極119は、複数の圧電体1133の全てに同じ駆動電圧を印加する。共通電極119は、複数の圧力室1131を同時に変形させる。共通電極119は、基板111に形成された配線パターン及びアクチュエータ113に形成された配線パターンにより形成される。共通電極119は、基板111の供給口1111の内周面から複数の空気室1132を形成する圧電体1133に渡って設けられた配線パターンである。共通電極119は、回路基板13に接続される。 The common electrode 119 applies the same drive voltage to all of the multiple piezoelectric bodies 1133. The common electrode 119 simultaneously deforms the multiple pressure chambers 1131. The common electrode 119 is formed by a wiring pattern formed on the substrate 111 and a wiring pattern formed on the actuator 113. The common electrode 119 is a wiring pattern that extends from the inner surface of the supply port 1111 of the substrate 111 to the piezoelectric bodies 1133 that form the multiple air chambers 1132. The common electrode 119 is connected to the circuit board 13.
具体例として、図7に示すように、共通電極119は、各空気室1132の内面、アクチュエータ113の傾斜面1134及び個別電極118が形成される領域を避けて基板111上に成膜される。具体的には、共通電極119は、第2電極部1172により、各空気室1132を形成する圧電体1133の側面、及び、空気室1132の底面に形成される。また、共通電極119は、第1電極部1171により、各空気室1132内から、基板111の中央部へ向かって、傾斜面1134上に設けられるとともに、一対のアクチュエータ113の間の基板111の研磨面上及び供給口1111の内周面に形成される。また、共通電極119は、基板111の短手方向の端部へ延び、基板111の回路基板13が接続される接続部1116に端部が配置される。 7, the common electrode 119 is formed on the substrate 111, avoiding the inner surfaces of each air chamber 1132, the inclined surfaces 1134 of the actuators 113, and the areas where the individual electrodes 118 are formed. Specifically, the common electrode 119 is formed by the second electrode portion 1172 on the side surfaces of the piezoelectric elements 1133 that form each air chamber 1132 and on the bottom surface of each air chamber 1132. The common electrode 119 is also formed by the first electrode portion 1171 on the inclined surfaces 1134 from within each air chamber 1132 toward the center of the substrate 111, on the polished surface of the substrate 111 between the pair of actuators 113, and on the inner surface of the supply port 1111. The common electrode 119 extends to the ends of the substrate 111 in the shorter direction, with its ends positioned at the connection portions 1116 to which the circuit board 13 of the substrate 111 is connected.
換言すると、共通電極119は、基板111の短手方向の端部に形成された接続部1116から一対のアクチュエータ113の間である基板111の短手方向中央側を介してアクチュエータ113の傾斜面1134及び複数の空気室1132の内面に一体に設けられる。 In other words, the common electrode 119 is integrally provided on the inclined surface 1134 of the actuator 113 and the inner surface of the multiple air chambers 1132, extending from the connection portion 1116 formed at the end of the substrate 111 in the lateral direction to the center of the substrate 111 in the lateral direction between the pair of actuators 113.
図1、図2、図4及び図5に示すように、マニフォールドユニット12は、マニフォールド121と、天板122と、インク供給管123と、インク排出管124と、一対の温調用管である温調水供給管125及び温調水排出管と、を備える。なお、インク供給管123、インク排出管124、温調水供給管125及び温調水排出管の数は適宜設定できる。 As shown in Figures 1, 2, 4, and 5, the manifold unit 12 includes a manifold 121, a top plate 122, an ink supply pipe 123, an ink discharge pipe 124, and a pair of temperature control pipes: a temperature control water supply pipe 125 and a temperature control water discharge pipe. The number of ink supply pipes 123, ink discharge pipes 124, temperature control water supply pipes 125, and temperature control water discharge pipes can be set as appropriate.
マニフォールド121は、板状又はブロック状に形成される。図5に示すように、マニフォールド121は、基板111の供給口1111と連続し、液体供給流路を形成する供給流路1211と、基板111の排出口1112と連続し、液体排出流路を形成する排出流路と、温調用の流体の流路を形成する温調用流路1213と、を備える。 The manifold 121 is formed in a plate or block shape. As shown in FIG. 5, the manifold 121 includes a supply flow path 1211 that is continuous with the supply port 1111 of the substrate 111 and forms a liquid supply flow path, a discharge flow path that is continuous with the discharge port 1112 of the substrate 111 and forms a liquid discharge flow path, and a temperature control flow path 1213 that forms a flow path for a temperature control fluid.
マニフォールド121の一方の主面は、基板111の主面に固定される。また、マニフォールド121は、基板111が固定される主面とは反対の主面に、天板122が固定される。また、マニフォールド121には、例えば、インク供給管123、インク排出管124、温調水供給管125及び温調水排出管が天板122を介して固定される。 One main surface of the manifold 121 is fixed to the main surface of the substrate 111. A top plate 122 is fixed to the main surface of the manifold 121 opposite the main surface to which the substrate 111 is fixed. Also, for example, ink supply pipes 123, ink discharge pipes 124, temperature-controlled water supply pipes 125, and temperature-controlled water discharge pipes are fixed to the manifold 121 via the top plate 122.
供給流路1211は、孔や溝によってマニフォールド121に形成される流路である。供給流路1211は、インク供給管123及び基板111の供給口1111を流体的に接続する。 The supply flow path 1211 is a flow path formed in the manifold 121 by holes or grooves. The supply flow path 1211 fluidly connects the ink supply pipe 123 and the supply port 1111 of the substrate 111.
排出流路は、孔や溝によってマニフォールド121に形成される流路である。排出流路は、インク排出管124及び基板111の排出口1112を流体的に接続する。 The discharge flow path is a flow path formed in the manifold 121 by holes or grooves. The discharge flow path fluidly connects the ink discharge tube 124 and the discharge port 1112 of the substrate 111.
温調用流路1213は、孔や溝によってマニフォールド121に形成される流路である。温調用流路1213は、温調水供給管125及び温調水排出管を流体的に接続する。 The temperature control flow path 1213 is a flow path formed in the manifold 121 by holes or grooves. The temperature control flow path 1213 fluidly connects the temperature control water supply pipe 125 and the temperature control water discharge pipe.
温調用流路1213の両端は、マニフォールド121の一方の主面に設けられた温調水供給管125及び温調水排出管と接続される開口である。また、温調用流路1213は、マニフォールド121に固定される基板111と熱交換が可能に形成される。 Both ends of the temperature control flow path 1213 are openings that connect to a temperature control water supply pipe 125 and a temperature control water discharge pipe provided on one main surface of the manifold 121. The temperature control flow path 1213 is also formed to enable heat exchange with the substrate 111 fixed to the manifold 121.
天板122は、マニフォールド121の基板111が設けられる面とは反対の面に設けられる。天板122は、マニフォールド121を覆うことで、供給流路1211、排出流路及び温調用流路1213を封止する。 The top plate 122 is provided on the side of the manifold 121 opposite to the side on which the substrate 111 is provided. By covering the manifold 121, the top plate 122 seals the supply flow path 1211, the discharge flow path, and the temperature adjustment flow path 1213.
また、天板122は、各管123、124、125を接続し、各管123、124、125及び各流路1211、1213を連通させる開口を有する。 The top plate 122 also has openings that connect the tubes 123, 124, and 125 and allow communication between the tubes 123, 124, and 125 and the flow paths 1211 and 1213.
インク供給管123は、供給流路1211に接続される。インク排出管124は、排出流路に接続される。温調水供給管125及び温調水排出管は、温調用流路1213の一次側及び二次側に接続される。 The ink supply pipe 123 is connected to the supply flow path 1211. The ink discharge pipe 124 is connected to the discharge flow path. The temperature control water supply pipe 125 and the temperature control water discharge pipe are connected to the primary and secondary sides of the temperature control flow path 1213.
図4に示すように、回路基板13は、一端が基板111の接続部1116に接続される配線フィルム131と、配線フィルム131に搭載されたドライバIC132と、配線フィルム131の他端に実装されたプリント配線基板133と、を備える。 As shown in FIG. 4, the circuit board 13 comprises a wiring film 131, one end of which is connected to the connection portion 1116 of the substrate 111, a driver IC 132 mounted on the wiring film 131, and a printed wiring board 133 mounted on the other end of the wiring film 131.
回路基板13は、ドライバIC132により駆動電圧をアクチュエータ113の配線パターンに印加することでアクチュエータ113を駆動し、圧力室1131の容積を増減させて、ノズル1141から液滴を吐出させる。 The circuit board 13 drives the actuator 113 by applying a drive voltage to the wiring pattern of the actuator 113 via the driver IC 132, increasing or decreasing the volume of the pressure chamber 1131 and ejecting droplets from the nozzle 1141.
配線フィルム131は、複数の個別電極118及び共通電極119に接続される。例えば、配線フィルム131は、基板111の接続部に熱圧着等により固定されるACF(異方導電性フィルム)である。接続される配線フィルム131は、例えば、一つのヘッド本体11に対して複数設けられる。本実施形態においては、配線フィルム131は、1つのアクチュエータ113に2つ連結される。配線フィルム131は、例えば、ドライバIC132が実装されたCOF(Chip on Film)である。 The wiring film 131 is connected to the multiple individual electrodes 118 and the common electrode 119. For example, the wiring film 131 is an ACF (anisotropic conductive film) that is fixed to the connection portion of the substrate 111 by thermocompression bonding or the like. For example, multiple wiring films 131 are provided for one head body 11. In this embodiment, two wiring films 131 are connected to one actuator 113. The wiring film 131 is, for example, a COF (chip on film) on which a driver IC 132 is mounted.
ドライバIC132は、配線フィルム131を介して複数の個別電極118及び共通電極119に接続される。なお、ドライバIC132は、配線フィルム131ではなく、ACP(異方導電ペースト)、NCF(非導電性フィルム)、及びNCP(非導電性ペースト)のような他の手段によって、複数の個別電極118及び共通電極119に接続されても良い。 The driver IC 132 is connected to the multiple individual electrodes 118 and the common electrode 119 via the wiring film 131. Note that the driver IC 132 may also be connected to the multiple individual electrodes 118 and the common electrode 119 by other means, such as ACP (anisotropic conductive paste), NCF (non-conductive film), and NCP (non-conductive paste), rather than the wiring film 131.
プリント配線基板133は、各種電子部品やコネクタが搭載されたPWA(Printing Wiring Assembly)である。 The printed wiring board 133 is a PWA (Printing Wiring Assembly) on which various electronic components and connectors are mounted.
カバー14は、例えば、一対のヘッド本体11の側面、マニフォールドユニット12及び回路基板13を覆う外郭体141と、一対のヘッド本体11のノズルプレート114側の一部を覆うマスクプレート142と、を備える。 The cover 14 includes, for example, an outer shell 141 that covers the side surfaces of the pair of head bodies 11, the manifold unit 12, and the circuit board 13, and a mask plate 142 that covers a portion of the pair of head bodies 11 on the nozzle plate 114 side.
外郭体141は、例えば、マニフォールドユニット12のうちインク供給管123、インク排出管124、温調水供給管125及び温調水排出管と、回路基板13の端部とを、外部に露出させる。 The outer shell 141 exposes, for example, the ink supply pipe 123, ink discharge pipe 124, temperature-controlled water supply pipe 125, and temperature-controlled water discharge pipe of the manifold unit 12, as well as the end of the circuit board 13.
マスクプレート142は、一対のヘッド本体11のうち、複数のノズル1141及びノズルプレート114の複数のノズル1141の周囲を除く部位を覆う。 The mask plate 142 covers the pair of head bodies 11 except for the multiple nozzles 1141 and the areas surrounding the multiple nozzles 1141 on the nozzle plate 114.
このように構成された液体吐出ヘッド1は、ヘッド本体11に、各圧電体1133に駆動電圧をそれぞれ個別に印加できる複数の個別電極118、及び、全ての圧電体1133に駆動電圧を印加できる共通電極119を有する。 The liquid ejection head 1 configured in this manner has, on the head body 11, multiple individual electrodes 118 that can apply a drive voltage to each piezoelectric element 1133 individually, and a common electrode 119 that can apply a drive voltage to all piezoelectric elements 1133.
このため、液体吐出ヘッド1は、複数の圧力室1131を選択的に、個別に、又は、共通して駆動することができる。そして、圧力室1131が駆動すると、圧力室1131がシェアモード変形し、圧力室1131内に供給されたインクが加圧される。よって、液体吐出ヘッド1は、加圧されたインクを、変形した圧力室1131に対向するノズル1141から選択的に吐出することができる。 As a result, the liquid ejection head 1 can selectively drive multiple pressure chambers 1131 individually or in common. When a pressure chamber 1131 is driven, the pressure chamber 1131 undergoes shear mode deformation, and the ink supplied to the pressure chamber 1131 is pressurized. As a result, the liquid ejection head 1 can selectively eject pressurized ink from the nozzle 1141 facing the deformed pressure chamber 1131.
また、電極117のうち、基板111上及びアクチュエータ113の傾斜面1134上の導体部分は、Niスパッタ膜11731/無電解Niめっき膜11732/電解Niめっき膜(第1電解金属めっき膜)11733/電解Auめっき膜(第2電解金属めっき膜)11734により形成される多層膜である第1電極部1171で形成される。また、電極117のうち、アクチュエータ113の圧電体1133の間の溝の表面に形成される導体部分は、Niスパッタ膜11731/無電解Niめっき膜11732により形成される多層膜である第2電極部1172で形成される。このため、電極117は、駆動素子である圧電体1133までの配線パターンである第1電極部1171の抵抗値を下げることができる。特に、第1電極部1171を共通電極119に形成することで、複数の圧力室1131を駆動するときに、ヘッド本体11のノズル1141の並び方向で中央部側と端部側とで吐出性能に差が生じることを抑制できる。 Furthermore, the conductive portions of the electrode 117 on the substrate 111 and on the inclined surface 1134 of the actuator 113 are formed of a first electrode portion 1171, which is a multilayer film formed of a Ni sputtered film 11731, an electroless Ni plated film 11732, an electrolytic Ni plated film (first electrolytic metal plated film) 11733, and an electrolytic Au plated film (second electrolytic metal plated film) 11734. Furthermore, the conductive portions of the electrode 117 formed on the surfaces of the grooves between the piezoelectric bodies 1133 of the actuator 113 are formed of a second electrode portion 1172, which is a multilayer film formed of a Ni sputtered film 11731 and an electroless Ni plated film 11732. Therefore, the electrode 117 can reduce the resistance value of the first electrode portion 1171, which is the wiring pattern leading to the piezoelectric body 1133, which is the driving element. In particular, by forming the first electrode portion 1171 on the common electrode 119, it is possible to prevent differences in ejection performance between the center and end portions in the arrangement direction of the nozzles 1141 of the head main body 11 when driving multiple pressure chambers 1131.
また、第1電極部1171は、電解めっき法により形成する電解Niめっき膜11733により導電率が下がる。よって、第1電極部1171は、電解Niめっき膜11733を設けることで、電気抵抗を下げることができる。 In addition, the conductivity of the first electrode portion 1171 is reduced by the electrolytic Ni plating film 11733 formed by electrolytic plating. Therefore, by providing the electrolytic Ni plating film 11733, the electrical resistance of the first electrode portion 1171 can be reduced.
また、電解Niめっき膜11733を設ける構成とすることで、電解Auめっき膜11734の厚さを薄くすることもできる。即ち、電解Auめっき膜11734による厚付けはAuの展性が高い影響で機械加工後の仕上がりにバリ等影響が出るので限界がある。また、生産効率上、Niスパッタ膜11731、無電解Niめっき膜11732は、厚付による低抵抗化が困難である。しかしながら、実施形態の第1電極部1171は、無電解Niめっき膜11732よりも電気抵抗が低い電解Niめっき膜11733を設けることで、電解Auめっき膜11734を薄くしても、電気抵抗を低下させるとともに、高い生産効率で形成することができる。 Furthermore, by providing the electrolytic Ni plating film 11733, the thickness of the electrolytic Au plating film 11734 can also be reduced. That is, there are limitations to thickening the electrolytic Au plating film 11734 because the high malleability of Au can cause burrs and other problems in the finished product after machining. Furthermore, from the perspective of production efficiency, it is difficult to reduce the resistance of the Ni sputtered film 11731 and the electroless Ni plating film 11732 by thickening them. However, by providing the first electrode portion 1171 of the embodiment with the electrolytic Ni plating film 11733, which has lower electrical resistance than the electroless Ni plating film 11732, the electrical resistance can be reduced even if the electrolytic Au plating film 11734 is made thinner, and the film can be formed with high production efficiency.
以下、液体吐出ヘッド1を有するインクジェット記録装置2について、図11を参照して説明する。インクジェット記録装置2は、筐体2111と、媒体供給部2112と、画像形成部2113と、媒体排出部2114と、支持装置である搬送装置2115と、温調装置2116と、メンテナンス装置2117と、制御部2118と、を備える。また、インクジェット記録装置2は、液体吐出ヘッド1に供給するインクの温度を調整する温調装置を備えている。 The inkjet recording device 2 having the liquid ejection head 1 will be described below with reference to Figure 11. The inkjet recording device 2 comprises a housing 2111, a medium supply unit 2112, an image forming unit 2113, a medium ejection unit 2114, a transport device 2115 which is a support device, a temperature adjustment device 2116, a maintenance device 2117, and a control unit 2118. The inkjet recording device 2 also comprises a temperature adjustment device which adjusts the temperature of the ink supplied to the liquid ejection head 1.
インクジェット記録装置2は、媒体供給部2112から画像形成部2113を通って媒体排出部2114に至る所定の搬送路2001に沿って、吐出対象物である記録媒体として例えば用紙Pを搬送しながらインク等の液体を吐出することで、用紙Pに画像形成処理を行うインクジェットプリンタである。 The inkjet recording device 2 is an inkjet printer that performs an image formation process on a recording medium, such as paper P, by ejecting a liquid such as ink while transporting the recording medium, such as paper P, along a predetermined transport path 2001 that runs from the medium supply unit 2112 through the image forming unit 2113 to the medium discharge unit 2114.
媒体供給部2112は複数の給紙カセット21121を備える。画像形成部2113は、用紙を支持する支持部2120と、支持部2120の上方に対向配置された複数のヘッドユニット2130と、を備える。媒体排出部2114は、排紙トレイ21141を備える。 The medium supply unit 2112 has multiple paper feed cassettes 21121. The image forming unit 2113 has a support unit 2120 that supports paper and multiple head units 2130 arranged above and facing the support unit 2120. The medium discharge unit 2114 has a paper discharge tray 21141.
支持部2120は、画像形成を行う所定領域にループ状に備えられる搬送ベルト21201と、搬送ベルト21201を裏側から支持する支持プレート21202と、搬送ベルト21201の裏側に備えられた複数のベルトローラ21203と、を備える。 The support section 2120 includes a conveyor belt 21201 that is looped in a predetermined area where image formation is performed, a support plate 21202 that supports the conveyor belt 21201 from the back side, and multiple belt rollers 21203 that are provided on the back side of the conveyor belt 21201.
ヘッドユニット2130は、複数のインクジェットヘッドである液体吐出ヘッド1と、各液体吐出ヘッド1上にそれぞれ搭載された液体タンクとしての複数の供給タンク2132と、インクを供給するポンプ2134と、液体吐出ヘッド1と供給タンク2132とを接続する接続流路2135と、を備える。 The head unit 2130 includes multiple inkjet heads (liquid ejection heads 1), multiple supply tanks 2132 (liquid tanks) mounted on each liquid ejection head 1, a pump 2134 that supplies ink, and a connection flow path 2135 that connects the liquid ejection heads 1 and the supply tanks 2132.
本実施形態において、液体吐出ヘッド1としてシアン、マゼンダ、イエロー、ブラックの4色の液体吐出ヘッド1と、これらの各色のインクをそれぞれ収容する4色の供給タンク2132を備える。供給タンク2132は接続流路2135によって液体吐出ヘッド1に接続される。 In this embodiment, the liquid ejection heads 1 are provided in four colors: cyan, magenta, yellow, and black, and four supply tanks 2132 that contain ink of each color. The supply tanks 2132 are connected to the liquid ejection heads 1 by connection flow paths 2135.
ポンプ2134は、例えば圧電ポンプで構成される送液ポンプである。ポンプ2134は、制御部2118に接続され、制御部2118により駆動制御される。 Pump 2134 is a liquid delivery pump, for example, a piezoelectric pump. Pump 2134 is connected to control unit 2118 and is driven and controlled by control unit 2118.
接続流路2135は、液体吐出ヘッド1のインク供給管123に接続される供給流路を備える。また、接続流路2135は、液体吐出ヘッド1のインク排出管124に接続される回収流路を備える。例えば、液体吐出ヘッド1が非循環式の場合には、回収回路は、メンテナンス装置2117に接続され、液体吐出ヘッド1が循環式の場合には、回収流路は、供給タンク2132に接続される。 The connection flow path 2135 has a supply flow path that is connected to the ink supply pipe 123 of the liquid ejection head 1. The connection flow path 2135 also has a recovery flow path that is connected to the ink discharge pipe 124 of the liquid ejection head 1. For example, if the liquid ejection head 1 is a non-circulation type, the recovery circuit is connected to the maintenance device 2117, and if the liquid ejection head 1 is a circulation type, the recovery flow path is connected to the supply tank 2132.
搬送装置2115は、媒体供給部2112の給紙カセット21121から画像形成部2113を通って媒体排出部2114の排紙トレイ21141に至る搬送路2001に沿って、用紙Pを搬送する。搬送装置2115は、搬送路2001に沿って配置される複数のガイドプレート対21211~21218と、複数の搬送用ローラ21221~21228と、を備えている。搬送装置2115は、用紙Pを液体吐出ヘッド1に相対移動可能に支持する。 The transport device 2115 transports paper P along a transport path 2001 that runs from the paper feed cassette 21121 of the medium supply unit 2112 through the image forming unit 2113 to the paper output tray 21141 of the medium output unit 2114. The transport device 2115 includes multiple guide plate pairs 21211-21218 and multiple transport rollers 21221-21228 arranged along the transport path 2001. The transport device 2115 supports the paper P so that it can move relative to the liquid ejection head 1.
温調装置2116は、温調水タンク21161、温調水を供給する配管やチューブ等の温調用回路21162、温調水を供給するポンプ及び温調水の温度を調整する温調器等を有する。温調装置2116は、温調器で所定の温度に調整した温調水タンク21161の温調水を、ポンプの送水によって温調用回路21162を介して液体吐出ヘッド1の温調水供給管125に供給する。また、温調装置2116は、マニフォールドユニット12を通って温調水排出管から排出された水を、温調用回路21162を介して温調水タンク21161に回収する。なお、温調器は、例えば、ヒーターやクーラーである。また、温調装置2116は、液体吐出ヘッド1に供給するインクの温度を調整する構成としてもよい。 The temperature adjustment device 2116 includes a temperature adjustment water tank 21161, a temperature adjustment circuit 21162 such as piping or tubes for supplying the temperature adjustment water, a pump for supplying the temperature adjustment water, and a temperature adjustment device for adjusting the temperature of the temperature adjustment water. The temperature adjustment device 2116 supplies the temperature adjustment water from the temperature adjustment water tank 21161, adjusted to a predetermined temperature by the temperature adjustment device, to the temperature adjustment water supply pipe 125 of the liquid ejection head 1 via the temperature adjustment circuit 21162 by pumping water. The temperature adjustment device 2116 also recovers water discharged from the temperature adjustment water discharge pipe through the manifold unit 12 back into the temperature adjustment water tank 21161 via the temperature adjustment circuit 21162. The temperature adjustment device 2116 may be, for example, a heater or cooler. The temperature adjustment device 2116 may also be configured to adjust the temperature of the ink supplied to the liquid ejection head 1.
メンテナンス装置2117は、例えば、メンテナンス時にノズルプレート114の外面に残存するインクを吸引し、回収する。また、液体吐出ヘッド1が非循環式である場合には、メンテナンス装置2117は、メンテナンス時に、ヘッド本体11内のインクを回収する。このようなメンテナンス装置2117は、回収したインクを貯留するトレイやタンク等を有する。 The maintenance device 2117, for example, sucks and recovers ink remaining on the outer surface of the nozzle plate 114 during maintenance. Furthermore, if the liquid ejection head 1 is a non-circulating type, the maintenance device 2117 recovers ink from inside the head body 11 during maintenance. Such a maintenance device 2117 has a tray, tank, or the like for storing the recovered ink.
制御部2118は、プロセッサの一例としてのCPU21181と、各種のプログラムなどを記憶するROM(Read Only Memory)、各種の可変データや画像データなどを一時的に記憶するRAM(Random Access Memory)等のメモリと、外部からのデータの入力及び外部へのデータの出力をするインターフェイス部と、を備える。 The control unit 2118 includes a CPU 21181 as an example of a processor, memory such as a ROM (Read Only Memory) that stores various programs, and a RAM (Random Access Memory) that temporarily stores various variable data and image data, and an interface unit that inputs and outputs data from the outside.
このように構成された液体吐出ヘッド1及び液体吐出装置2によれば、無電解Niめっき膜11732上に電解Niめっき膜11733を設けることで、電極117の抵抗値を低減できる。 With the liquid ejection head 1 and liquid ejection device 2 configured in this manner, the resistance value of the electrode 117 can be reduced by providing an electrolytic Ni plating film 11733 on the electroless Ni plating film 11732.
なお、本発明の実施形態は上述した構成に限定されない。例えば、上述した例では、液体吐出ヘッド1は、一対のヘッド本体11を設ける構成を説明したがこれに限定されず、一つのヘッド本体11を有する構成としてもよい。また、上述した例では、液体吐出ヘッド1は、非循環式の例を説明したが循環式でもよい。 Note that embodiments of the present invention are not limited to the configurations described above. For example, in the above example, the liquid ejection head 1 is described as having a pair of head bodies 11, but this is not limited to this and may also be configured as having a single head body 11. Also, in the above example, the liquid ejection head 1 is described as being of a non-circulating type, but it may also be of a circulating type.
また、上述した例では、電極117の第1電極部1171を、複数の個別電極118及び共通電極119にそれぞれ設ける構成を説明したがこれに限定されない。例えば、液体吐出ヘッド1は、共通電極119を第1電極部1171及び第2電極部1172により形成し、複数の個別電極118を第2電極部1172により形成する構成としてもよい。 In addition, in the above example, a configuration was described in which the first electrode portion 1171 of the electrode 117 is provided on each of the multiple individual electrodes 118 and the common electrode 119, but this is not limited to this. For example, the liquid ejection head 1 may be configured such that the common electrode 119 is formed by the first electrode portion 1171 and the second electrode portion 1172, and the multiple individual electrodes 118 are formed by the second electrode portion 1172.
また、上述した例では、第1電極部1171の第1電解金属めっき膜11733の例として、電解Niめっき膜とし、第2電解金属めっき膜11734の例として、電解Auめっき膜11734とする例を説明したがこれに限定されない。即ち、第1電解金属めっき膜11733は、無電解Niめっき膜11732に電解めっき法により成膜可能であって、且つ、無電解Niめっき膜11732よりも電気抵抗が低くければ、金属材料は限定されない。同様に、第2電解金属めっき膜11734は、第1電解金属めっき膜11733に電解めっき法により成膜可能であって、且つ、第1電解金属めっき膜11733と異種金属であれば、金属材料は限定されない。 In the above example, the first electrolytic metal plating film 11733 of the first electrode portion 1171 is an electrolytic Ni plating film, and the second electrolytic metal plating film 11734 is an electrolytic Au plating film, but this is not limited to this. In other words, the metal material of the first electrolytic metal plating film 11733 is not limited as long as it can be formed on the electroless Ni plating film 11732 by electrolytic plating and has lower electrical resistance than the electroless Ni plating film 11732. Similarly, the metal material of the second electrolytic metal plating film 11734 is not limited as long as it can be formed on the first electrolytic metal plating film 11733 by electrolytic plating and is a different metal from the first electrolytic metal plating film 11733.
以上説明した少なくともひとつの実施形態によれば、無電解Niめっき膜上に第1電解金属めっき膜及び第2電解金属めっき膜を設けることで、電極の抵抗値を低減できる。 According to at least one of the embodiments described above, the resistance value of the electrode can be reduced by providing a first electrolytic metal plating film and a second electrolytic metal plating film on the electroless Ni plating film.
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 While several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments may be embodied in a variety of other forms, and various omissions, substitutions, and modifications may be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their variations are within the scope and spirit of the invention, and are also included in the scope of the invention and its equivalents as set forth in the claims.
1…液体吐出ヘッド(インクジェットヘッド)、2…液体吐出装置(インクジェット記録装置)、11…ヘッド本体、12…マニフォールドユニット、13…回路基板、14…カバー、111…基板、112…枠部材、113…アクチュエータ、114…ノズルプレート、116…共通液室、117…電極、118…個別電極、119…共通電極、121…マニフォールド、122…天板、123…インク供給管、124…インク排出管、125…温調水供給管、131…配線フィルム、132…ドライバIC、133…プリント配線基板、141…外郭体、142…マスクプレート、1111…供給口、1112…排出口、1116…接続部、1131…圧力室、1132…空気室、1133…圧電体(駆動素子)、1134…傾斜面、1135…防液壁、1141…ノズル、1142…ノズル列、1161…第1共通液室、1162…第2共通液室、1163…第3共通液室、1171…第1電極部、1172…第2電極部、1211…供給流路、1213…温調用流路、2001…搬送路、2111…筐体、2112…媒体供給部、2113…画像形成部、2114…媒体排出部、2115…搬送装置、2116…温調装置、2117…メンテナンス装置、2118…制御部、2120…支持部、2130…ヘッドユニット、2132…供給タンク、2134…ポンプ、2135…接続流路、11731…Niスパッタ膜、11732…無電解Niめっき膜、11733…電解Niめっき膜(第1電解金属めっき膜)、11734…電解Auめっき膜(第2電解金属めっき膜)、21121…給紙カセット、21141…排紙トレイ、21201…搬送ベルト、21202…支持プレート、21203…ベルトローラ、21211…ガイドプレート対、21212…ガイドプレート対、21213…ガイドプレート対、21214…ガイドプレート対、21215…ガイドプレート対、21216…ガイドプレート対、21217…ガイドプレート対、21218…ガイドプレート対、21221…搬送用ローラ、21222…搬送用ローラ、21223…搬送用ローラ、21224…搬送用ローラ、21225…搬送用ローラ、21226…搬送用ローラ、21227…搬送用ローラ、21228…搬送用ローラ、P…用紙。 1...Liquid ejection head (inkjet head), 2...Liquid ejection device (inkjet recording device), 11...Head main body, 12...Manifold unit, 13...Circuit board, 14...Cover, 111...Substrate, 112...Frame member, 113...Actuator, 114...Nozzle plate, 116...Common liquid chamber, 117...Electrode, 118...Individual electrode, 119...Common electrode, 121...Manifold, 122...Top plate, 123...Ink supply pipe, 124...Ink discharge pipe, 125...Temperature-controlled water supply pipe, 131...Wiring film, 132...Driver IC, 133...Printed wiring Substrate, 141... outer shell, 142... mask plate, 1111... supply port, 1112... discharge port, 1116... connection portion, 1131... pressure chamber, 1132... air chamber, 1133... piezoelectric body (driving element), 1134... inclined surface, 1135... liquid-proof wall, 1141... nozzle, 1142... nozzle array, 1161... first common liquid chamber, 1162... second common liquid chamber, 1163... third common liquid chamber, 1171... first electrode portion, 1172... second electrode portion, 1211... supply flow path, 1213... temperature adjustment flow path, 2001... transport path, 2111... housing, 2112... medium supply portion, 2113... image forming portion, 21 14...medium discharge unit, 2115...transport device, 2116...temperature control device, 2117...maintenance device, 2118...control unit, 2120...support unit, 2130...head unit, 2132...supply tank, 2134...pump, 2135...connection flow path, 11731...Ni sputtered film, 11732...electroless Ni plating film, 11733...electrolytic Ni plating film (first electrolytic metal plating film), 11734...electrolytic Au plating film (second electrolytic metal plating film), 21121...paper feed cassette, 21141...paper output tray, 21201...transport belt, 21202...support plate, 21 203...belt roller, 21211...guide plate pair, 21212...guide plate pair, 21213...guide plate pair, 21214...guide plate pair, 21215...guide plate pair, 21216...guide plate pair, 21217...guide plate pair, 21218...guide plate pair, 21221...conveying roller, 21222...conveying roller, 21223...conveying roller, 21224...conveying roller, 21225...conveying roller, 21226...conveying roller, 21227...conveying roller, 21228...conveying roller, P...paper.
Claims (5)
前記アクチュエータが設けられる基板と、
前記基板及び前記アクチュエータに形成され、前記基板に形成される導体部分がNiスパッタ膜、無電解Niめっき膜、第1電解金属めっき膜及び前記第1電解金属めっき膜と異種金属の第2電解金属めっき膜を含む多層膜により形成され、前記アクチュエータに形成される導体部分が、前記Niスパッタ膜及び前記無電解Niめっき膜により形成され、前記圧力室を駆動する電極と、
を備える液体吐出ヘッド。 an actuator having a plurality of pressure chambers arranged in one direction;
a substrate on which the actuator is provided;
an electrode for driving the pressure chamber, the electrode being formed on the substrate and the actuator, the conductor portion formed on the substrate being formed of a multilayer film including a Ni sputtered film, an electroless Ni plated film, a first electrolytic metal plated film, and a second electrolytic metal plated film of a metal different from the first electrolytic metal plated film, and the conductor portion formed on the actuator being formed of the Ni sputtered film and the electroless Ni plated film;
A liquid ejection head comprising:
前記第2電解金属めっき膜は、電解Auめっき膜である、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド。 the first electrolytic metal plating film is an electrolytic Ni plating film,
4. The liquid ejection head according to claim 1, wherein the second electrolytic metal plating film is an electrolytic Au plating film.
前記アクチュエータは、一対設けられ、
前記基板には、前記一対のアクチュエータの間に、前記アクチュエータの長手方向に沿って延びる長孔が形成される、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド。 the actuator has a plurality of air chambers adjacent to the pressure chambers and arranged alternately with the pressure chambers;
The actuator is provided in pair,
5. The liquid ejection head according to claim 1, wherein the substrate is formed with a slot extending along the longitudinal direction of the actuators between the pair of actuators.
Priority Applications (1)
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