Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7809127B2 - Wiring formation method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7809127B2 - Wiring formation method - Google Patents

Wiring formation method

Info

Publication number
JP7809127B2
JP7809127B2 JP2023552659A JP2023552659A JP7809127B2 JP 7809127 B2 JP7809127 B2 JP 7809127B2 JP 2023552659 A JP2023552659 A JP 2023552659A JP 2023552659 A JP2023552659 A JP 2023552659A JP 7809127 B2 JP7809127 B2 JP 7809127B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
wiring
containing liquid
array pattern
ink
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023552659A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023058227A1 (en
Inventor
亮二郎 富永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of JPWO2023058227A1 publication Critical patent/JPWO2023058227A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7809127B2 publication Critical patent/JP7809127B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

本発明は、金属微粒子を含有する金属含有液により配線を形成する配線形成方法などに関する。 The present invention relates to a wiring formation method that forms wiring using a metal-containing liquid containing metal fine particles.

下記特許文献には、金属微粒子を含有する金属含有液により配線を形成する技術が記載されている。 The following patent document describes a technology for forming wiring using a metal-containing liquid that contains metal microparticles.

特開2012-084566号公報JP 2012-084566 A

金属微粒子を含有する金属含有液により配線が形成される際に、金属含有液が積層されて配線が形成される。そこで、本明細書は、金属含有液を積層させて、適切に配線を形成することを課題とする。 When wiring is formed using a metal-containing liquid containing metal microparticles, the metal-containing liquid is layered to form the wiring. Therefore, the objective of this specification is to properly form wiring by layering the metal-containing liquid.

上記課題を解決するために、本明細書は、金属微粒子を含有する金属含有液を、所定の方向に延びる複数行のインクドットの配列からなる第1の配列パターンで吐出する第1吐出工程と、前記第1吐出工程で吐出された金属含有液の上に、前記第1の配列パターンから前記所定の方向での端に位置する1列のインクドットを除去した第2の配列パターンで、前記第1吐出工程での金属含有液の吐出位置からインクドットのピッチより狭い間隔に相当する距離、前記所定の方向にズラした位置に金属含有液を吐出する第2吐出工程と、を含み、前記第1吐出工程は奇数層目の吐出工程であり、前記第2吐出工程は偶数層目の吐出工程であり、奇数層と偶数層とで吐出位置を異ならせて金属含有液を吐出し、複数層の金属含有液を積層することで配線を形成し、前記複数層のうちの奇数層は前記第1の配列パターンで金属含有液が吐出され、前記複数層のうちの偶数層は前記第2の配列パターンで金属含有液が吐出される配線形成方法を開示する。 In order to solve the above-mentioned problems, this specification discloses a wiring formation method including: a first discharging step of discharging a metal-containing liquid containing metal fine particles in a first array pattern consisting of an array of ink dots in multiple rows extending in a predetermined direction; and a second discharging step of discharging the metal-containing liquid onto the metal-containing liquid discharged in the first discharging step in a second array pattern obtained by removing one row of ink dots located at an end of the first array pattern in the predetermined direction from the first array pattern, the second discharging step being a position shifted in the predetermined direction from the discharge position of the metal-containing liquid in the first discharging step by a distance corresponding to an interval narrower than the pitch of the ink dots, wherein the first discharging step is a discharging step for odd-numbered layers and the second discharging step is a discharging step for even-numbered layers, the metal-containing liquid is discharged at different discharge positions for the odd-numbered layers and the even-numbered layers, and wiring is formed by stacking multiple layers of the metal-containing liquid, wherein the metal-containing liquid is discharged onto the odd-numbered layers of the multiple layers in the first array pattern and the metal-containing liquid is discharged onto the even-numbered layers of the multiple layers in the second array pattern .

本開示では、金属含有液が、所定の方向に延びる複数行のインクドットの配列からなる第1の配列パターンで吐出される。そして、その金属含有液の上に、第1の配列パターンから所定の方向での端に位置する1列のインクドットを除去した配列パターンで、第1配列パターンの吐出位置からインクドットのピッチより狭い間隔に相当する距離、所定の方向にズラした位置に金属含有液が吐出される。また、N層目の金属インクの配列パターンとして、所定の方向に延びる複数行のインクドットの配列からなる第1の配列パターンが演算される。そして、(N+1)層目の金属インクの配列パターンとして、第1の配列パターンから所定の方向での端に位置する1列のインクドットを除去するとともに所定の方向と交差する方向での端に位置する1行のインクドットを除去した配列パターンを、第1の配列パターンの吐出位置からインクドットのピッチより狭い間隔に相当する距離、所定の方向にズラした配列パターンが演算される。これにより、金属含有液を積層させて、適切に配線を形成することができる。 In the present disclosure, metal-containing liquid is ejected in a first array pattern consisting of an array of multiple rows of ink dots extending in a predetermined direction. Then, metal-containing liquid is ejected onto the metal-containing liquid in an array pattern obtained by removing one row of ink dots located at the end of the first array pattern in the predetermined direction, at a position shifted in the predetermined direction from the ejection position of the first array pattern by a distance corresponding to an interval narrower than the pitch of the ink dots. Furthermore, as the array pattern of the metal ink for the Nth layer, a first array pattern consisting of an array of multiple rows of ink dots extending in the predetermined direction is calculated. Then, as the array pattern of the metal ink for the (N+1)th layer, an array pattern obtained by removing one row of ink dots located at the end of the first array pattern in the predetermined direction and removing one row of ink dots located at the end in a direction intersecting the predetermined direction from the first array pattern is calculated, shifted in the predetermined direction from the ejection position of the first array pattern by a distance corresponding to an interval narrower than the pitch of the ink dots. This allows the metal-containing liquid to be layered to form appropriate wiring.

回路形成装置を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a circuit forming device. 制御装置を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a control device. 樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a circuit in a state where a resin laminate is formed. 樹脂積層体の上に配線が形成された状態の回路を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a circuit in a state where wiring is formed on a resin laminate. インクジェットヘッドのノズル面を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a nozzle surface of an inkjet head. 配列パターンを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement pattern. 配列パターンを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement pattern. 奇数層及び偶数層の配列パターン及び配線を示す図である。1A and 1B are diagrams showing arrangement patterns and wiring of odd-numbered and even-numbered layers; 従来の配線を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing conventional wiring. 奇数層の配列パターンを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement pattern of odd-numbered layers. 偶数層の配列パターンを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement pattern of even-numbered layers. 図10の配列パターンと図11の配列パターンとにより形成された配線を示す図である。12A and 12B are diagrams showing wiring formed by the arrangement pattern of FIG. 10 and the arrangement pattern of FIG. 11; 奇数層の配列パターンを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement pattern of odd-numbered layers. 偶数層の配列パターンを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement pattern of even-numbered layers.

図1に回路形成装置10を示す。回路形成装置10は、搬送装置20と、第1造形ユニット22と、第2造形ユニット24と、制御装置(図2参照)28とを備える。それら搬送装置20と第1造形ユニット22と第2造形ユニット24とは、回路形成装置10のベース29の上に配置されている。ベース29は、概して長方形状をなしており、以下の説明では、ベース29の長手方向をX軸方向、ベース29の短手方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向の両方に直交する方向をZ軸方向と称して説明する。なお、Z軸方向は、鉛直方向と同じ方向である。 Figure 1 shows a circuit forming apparatus 10. The circuit forming apparatus 10 includes a conveying device 20, a first modeling unit 22, a second modeling unit 24, and a control device (see Figure 2) 28. The conveying device 20, the first modeling unit 22, and the second modeling unit 24 are arranged on a base 29 of the circuit forming apparatus 10. The base 29 is generally rectangular, and in the following description, the longitudinal direction of the base 29 will be referred to as the X-axis direction, the lateral direction of the base 29 as the Y-axis direction, and the direction perpendicular to both the X-axis and Y-axis directions as the Z-axis direction. The Z-axis direction is the same as the vertical direction.

搬送装置20は、X軸スライド機構30と、Y軸スライド機構32とを備えている。そのX軸スライド機構30は、X軸スライドレール34とX軸スライダ36とを有している。X軸スライドレール34は、X軸方向に延びるように、ベース29の上に配設されている。X軸スライダ36は、X軸スライドレール34によって、X軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、X軸スライド機構30は、電磁モータ(図2参照)38を有しており、電磁モータ38の駆動により、X軸スライダ36がX軸方向の任意の位置に移動する。また、Y軸スライド機構32は、Y軸スライドレール50とテーブル52とを有している。Y軸スライドレール50は、Y軸方向に延びるように、ベース29の上に配設されており、X軸方向に移動可能とされている。そして、Y軸スライドレール50の一端部が、X軸スライダ36に連結されている。そのY軸スライドレール50には、テーブル52が、Y軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、Y軸スライド機構32は、電磁モータ(図2参照)56を有しており、電磁モータ56の駆動により、テーブル52がY軸方向の任意の位置に移動する。これにより、テーブル52は、X軸スライド機構30及びY軸スライド機構32の駆動により、ベース29上の任意の位置に移動する。 The transport device 20 includes an X-axis slide mechanism 30 and a Y-axis slide mechanism 32. The X-axis slide mechanism 30 includes an X-axis slide rail 34 and an X-axis slider 36. The X-axis slide rail 34 is disposed on the base 29 so as to extend in the X-axis direction. The X-axis slider 36 is held by the X-axis slide rail 34 so as to be slidable in the X-axis direction. The X-axis slide mechanism 30 also includes an electromagnetic motor (see Figure 2) 38, which is driven to move the X-axis slider 36 to any position in the X-axis direction. The Y-axis slide mechanism 32 also includes a Y-axis slide rail 50 and a table 52. The Y-axis slide rail 50 is disposed on the base 29 so as to extend in the Y-axis direction and is movable in the X-axis direction. One end of the Y-axis slide rail 50 is connected to the X-axis slider 36. A table 52 is held on the Y-axis slide rail 50 so as to be slidable in the Y-axis direction. Furthermore, the Y-axis slide mechanism 32 has an electromagnetic motor (see Figure 2) 56, and the table 52 moves to any position in the Y-axis direction when driven by the electromagnetic motor 56. As a result, the table 52 moves to any position on the base 29 when driven by the X-axis slide mechanism 30 and the Y-axis slide mechanism 32.

テーブル52は、基台60と、保持装置62と、昇降装置(図2参照)64とを有している。基台60は、平板状に形成され、上面にパレット(図3参照)70が載置される。保持装置62は、基台60のX軸方向の両側部に設けられている。そして、基台60に載置されたパレット70のX軸方向の両縁部が、保持装置62によって挟まれることで、パレット70が固定的に保持される。また、昇降装置64は、基台60の下方に配設されており、基台60を昇降させる。 The table 52 has a base 60, a holding device 62, and an elevating device (see Figure 2) 64. The base 60 is formed in a flat plate shape, and a pallet 70 (see Figure 3) is placed on its upper surface. The holding devices 62 are provided on both sides of the base 60 in the X-axis direction. The holding devices 62 clamp both edges of the pallet 70 in the X-axis direction when placed on the base 60, thereby holding the pallet 70 in a fixed position. The elevating device 64 is disposed below the base 60 and raises and lowers the base 60.

第1造形ユニット22は、回路基板の配線を造形するユニットであり、第1印刷部72と、焼成部74とを有している。第1印刷部72は、インクジェットヘッド(図2参照)76を有しており、インクジェットヘッド76が金属インクを線状に吐出する。金属インクは、ナノメートルサイズの金属、例えば、銀の微粒子が溶剤中に分散されたものである。なお、金属微粒子の表面は分散剤によりコーティングされており、溶剤中での凝集が防止されている。また、インクジェットヘッド76は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式によって複数のノズルから金属インクを吐出する。 The first modeling unit 22 is a unit that models the wiring of the circuit board and has a first printing unit 72 and a baking unit 74. The first printing unit 72 has an inkjet head (see Figure 2) 76 that ejects metal ink in a linear pattern. The metal ink is made by dispersing nanometer-sized metal particles, such as silver particles, in a solvent. The surfaces of the metal particles are coated with a dispersant to prevent aggregation in the solvent. The inkjet head 76 ejects the metal ink from multiple nozzles using, for example, a piezoelectric method using piezoelectric elements.

焼成部74は、赤外線照射装置(図2参照)78を有している。赤外線照射装置78は、吐出された金属インクに赤外線を照射する装置であり、赤外線が照射された金属インクは焼成し、配線が形成される。なお、金属インクの焼成とは、エネルギーを付与することによって、溶媒の気化や金属微粒子の保護膜、つまり、分散剤の分解等が行われ、金属微粒子が接触または融着をすることで、導電率が高くなる現象である。そして、金属インクが焼成することで、金属製の配線が形成される。 The baking unit 74 has an infrared irradiation device 78 (see Figure 2). The infrared irradiation device 78 is a device that irradiates the ejected metal ink with infrared rays, and the metal ink irradiated with infrared rays is baked to form wiring. Note that baking of metal ink is a phenomenon in which energy is applied, causing the solvent to evaporate and the protective film on the metal particles, i.e., the dispersant, to decompose, and the metal particles to come into contact or fuse together, thereby increasing conductivity. Then, when the metal ink is baked, metal wiring is formed.

また、第2造形ユニット24は、回路基板の樹脂層を造形するユニットであり、第2印刷部84と、硬化部86とを有している。第2印刷部84は、インクジェットヘッド(図2参照)88を有しており、インクジェットヘッド88は紫外線硬化樹脂を吐出する。紫外線硬化樹脂は、紫外線の照射により硬化する樹脂である。なお、インクジェットヘッド88は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式でもよく、樹脂を加熱して気泡を発生させ複数のノズルから吐出するサーマル方式でもよい。 The second modeling unit 24 is a unit that models the resin layer of the circuit board, and has a second printing unit 84 and a curing unit 86. The second printing unit 84 has an inkjet head (see Figure 2) 88 that ejects ultraviolet-curable resin. The ultraviolet-curable resin is a resin that hardens when exposed to ultraviolet light. The inkjet head 88 may be, for example, a piezo-type inkjet head using a piezoelectric element, or a thermal-type inkjet head that heats the resin to generate bubbles and ejects the resin from multiple nozzles.

硬化部86は、平坦化装置(図2参照)90と照射装置(図2参照)92とを有している。平坦化装置90は、インクジェットヘッド88によって吐出された紫外線硬化樹脂の上面を平坦化するものであり、例えば、紫外線硬化樹脂の表面を均しながら余剰分の樹脂を、ローラもしくはブレードによって掻き取ることで、紫外線硬化樹脂の厚みを均一させる。また、照射装置92は、光源として水銀ランプもしくはLEDを備えており、吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、吐出された紫外線硬化樹脂が硬化し、樹脂層が形成される。 The curing unit 86 has a planarizing device (see Figure 2) 90 and an irradiation device (see Figure 2) 92. The planarizing device 90 flattens the top surface of the UV-curable resin ejected by the inkjet head 88. For example, it makes the thickness of the UV-curable resin uniform by leveling the surface of the UV-curable resin and scraping off excess resin with a roller or blade. The irradiation device 92 is equipped with a mercury lamp or LED as a light source and irradiates the ejected UV-curable resin with ultraviolet light. This hardens the ejected UV-curable resin, forming a resin layer.

また、制御装置28は、図2に示すように、コントローラ110と、複数の駆動回路112とを備えている。複数の駆動回路112は、上記電磁モータ38,56、保持装置62、昇降装置64、インクジェットヘッド76、赤外線照射装置78、インクジェットヘッド88、平坦化装置90、照射装置92に接続されている。コントローラ110は、CPU,ROM,RAM等を備え、コンピュータを主体とするものであり、複数の駆動回路112に接続されている。これにより、搬送装置20、第1造形ユニット22、第2造形ユニット24の作動が、コントローラ110によって制御される。 As shown in FIG. 2, the control device 28 also includes a controller 110 and multiple drive circuits 112. The multiple drive circuits 112 are connected to the electromagnetic motors 38, 56, holding device 62, lifting device 64, inkjet head 76, infrared irradiation device 78, inkjet head 88, flattening device 90, and irradiation device 92. The controller 110 is primarily a computer, including a CPU, ROM, RAM, etc., and is connected to the multiple drive circuits 112. As a result, the operation of the transport device 20, first modeling unit 22, and second modeling unit 24 is controlled by the controller 110.

回路形成装置10では、上述した構成によって、テーブル52の基台60に載置されたパレット70の上に樹脂積層体が形成され、その樹脂積層体の上面に配線が形成されることで、回路基板が形成される。 In the circuit forming device 10, with the above-described configuration, a resin laminate is formed on the pallet 70 placed on the base 60 of the table 52, and wiring is formed on the upper surface of the resin laminate, thereby forming a circuit board.

具体的には、テーブル52の基台60にパレット70がセットされると、テーブル52が、第2造形ユニット24の下方に移動する。そして、第2造形ユニット24において、図3に示すように、パレット70の上に樹脂積層体122が形成される。樹脂積層体122は、インクジェットヘッド88からの紫外線硬化樹脂の吐出と、吐出された紫外線硬化樹脂への照射装置92による紫外線の照射とが繰り返されることにより形成される。 Specifically, when the pallet 70 is set on the base 60 of the table 52, the table 52 moves to below the second modeling unit 24. Then, in the second modeling unit 24, a resin laminate 122 is formed on the pallet 70, as shown in FIG. 3. The resin laminate 122 is formed by repeatedly ejecting ultraviolet curable resin from the inkjet head 88 and irradiating the ejected ultraviolet curable resin with ultraviolet light by the irradiation device 92.

詳しくは、第2造形ユニット24の第2印刷部84において、インクジェットヘッド88が、パレット70の上面に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。続いて、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出されると、硬化部86において、紫外線硬化樹脂の膜厚が均一となるように、紫外線硬化樹脂が平坦化装置90によって平坦化される。そして、照射装置92が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、パレット70の上に薄膜状の樹脂層124が形成される。 More specifically, in the second printing section 84 of the second modeling unit 24, the inkjet head 88 dispenses a thin film of UV-curable resin onto the top surface of the pallet 70. Then, once the UV-curable resin has been dispensed in a thin film, the UV-curable resin is flattened by the flattening device 90 in the curing section 86 so that the film thickness of the UV-curable resin is uniform. Then, the irradiation device 92 irradiates the thin film of UV-curable resin with ultraviolet light. This forms a thin film resin layer 124 on the pallet 70.

続いて、インクジェットヘッド88が、その薄膜状の樹脂層124の上に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。そして、平坦化装置90によって薄膜状の紫外線硬化樹脂が平坦化され、照射装置92が、その薄膜状に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、薄膜状の樹脂層124の上に薄膜状の樹脂層124が積層される。このように、薄膜状の樹脂層124の上への紫外線硬化樹脂の吐出と、紫外線の照射とが繰り返され、複数の樹脂層124が積層されることで、樹脂積層体122が形成される。 Next, the inkjet head 88 ejects a thin film of UV-curable resin onto the thin-film resin layer 124. The thin-film UV-curable resin is then flattened by the flattening device 90, and the irradiation device 92 irradiates the ejected thin-film UV-curable resin with UV light, thereby laminating thin-film resin layers 124 on top of each other. In this way, the ejection of UV-curable resin onto the thin-film resin layer 124 and the irradiation with UV light are repeated, laminating multiple resin layers 124 and forming the resin laminate 122.

次に、樹脂積層体122が形成されると、テーブル52が第1造形ユニット22の下方に移動する。そして、第1造形ユニット22の第1印刷部72において、インクジェットヘッド76が、図4に示すように、樹脂積層体122の上面に金属インク130を、回路パターンに応じて線状に吐出する。続いて、回路パターンに応じて吐出された金属インク130に、第1造形ユニット22の焼成部74において、赤外線照射装置78が赤外線を照射する。これにより、金属インク130が焼成し、樹脂積層体122の上面に配線132が形成される。 Next, once the resin laminate 122 is formed, the table 52 moves below the first modeling unit 22. Then, in the first printing section 72 of the first modeling unit 22, the inkjet head 76 ejects metal ink 130 in lines in accordance with the circuit pattern onto the upper surface of the resin laminate 122, as shown in FIG. 4. Next, in the baking section 74 of the first modeling unit 22, the infrared irradiation device 78 irradiates infrared rays onto the metal ink 130 ejected in accordance with the circuit pattern. This bakes the metal ink 130, and wiring 132 is formed on the upper surface of the resin laminate 122.

このように、第2造形ユニット24においてパレット70の上に樹脂積層体122が形成されて、第1造形ユニット22において樹脂積層体122の上に配線132が形成されることで、回路基板136が形成される。なお、樹脂積層体122の上に形成される配線132は、金属インク130が積層されることで形成される。詳しくは、樹脂積層体122の上面に1層目の金属インク130が吐出され、その1層目の金属インク130に赤外線が照射される。これにより、1層目の金属インク130が焼成し、1層目の金属薄膜が形成される。次に、1層目の金属薄膜の上に2層目の金属インク130が吐出され、その2層目の金属インク130に赤外線が照射される。これにより、2層目の金属インク130が焼成し、2層目の金属薄膜が形成される。このように、金属インク130の吐出と赤外線の照射とが繰り返されることで、金属薄膜が積層されて、所定の厚さの配線132が形成される。 In this way, the resin laminate 122 is formed on the pallet 70 in the second modeling unit 24, and the wiring 132 is formed on the resin laminate 122 in the first modeling unit 22, thereby forming the circuit board 136. The wiring 132 formed on the resin laminate 122 is formed by layering metal ink 130. More specifically, a first layer of metal ink 130 is ejected onto the top surface of the resin laminate 122, and the first layer of metal ink 130 is irradiated with infrared rays. This causes the first layer of metal ink 130 to bake, forming a thin metal film of the first layer. Next, a second layer of metal ink 130 is ejected onto the first layer of thin metal film, and the second layer of metal ink 130 is irradiated with infrared rays. This causes the second layer of metal ink 130 to bake, forming a thin metal film of the second layer. In this way, by repeatedly ejecting the metal ink 130 and irradiating with infrared rays, thin metal films are layered and wiring 132 of a predetermined thickness is formed.

ただし、インクジェットヘッド76により金属インクが吐出される際に複数のノズル穴から金属インクが吐出されるが、複数のノズル穴から吐出された金属インクのドット(以下、「インクドット」と記載する)の位置ズレによって、断線した状態の配線が形成される虞がある。具体的には、図5に示すように、インクジェットヘッド76のノズル面150には、複数のノズル穴152が形成されている。ノズル面150は概して矩形であり、ノズル面150の長手方向がX方向を向く姿勢でインクジェットヘッド76に配設されている。そして、そのノズル面150に、複数のノズル穴152がX方向に延びるように2行に並んだ状態で形成されている。つまり、複数のノズル穴152が並ぶ長手方向が、ノズル面150の長手方向であり、X方向である。なお、X方向に並ぶ複数のノズル穴152は、等ピッチで形成されている。つまり、X方向に並ぶ複数のノズル穴152は、隣り合う2つのノズル穴152の間隔が同じとなるように形成されている。そして、インクジェットヘッド76により金属インクが吐出される際に、インクジェットヘッド76がY方向に移動することで、複数行のインクドットの配列からなる配列パターンで金属インクが吐出される。 However, when metal ink is ejected from the inkjet head 76, the metal ink is ejected from multiple nozzle holes. However, misalignment of the metal ink dots (hereinafter referred to as "ink dots") ejected from the multiple nozzle holes may result in disconnected wiring. Specifically, as shown in FIG. 5 , multiple nozzle holes 152 are formed in the nozzle surface 150 of the inkjet head 76. The nozzle surface 150 is generally rectangular and is disposed on the inkjet head 76 with its longitudinal direction facing the X direction. The multiple nozzle holes 152 are formed in two rows extending in the X direction on the nozzle surface 150. In other words, the longitudinal direction of the multiple nozzle holes 152 is the longitudinal direction of the nozzle surface 150, which is the X direction. The multiple nozzle holes 152 aligned in the X direction are formed at an equal pitch. In other words, the multiple nozzle holes 152 aligned in the X direction are formed so that the spacing between adjacent nozzle holes 152 is the same. When the inkjet head 76 ejects the metal ink, the inkjet head 76 moves in the Y direction, ejecting the metal ink in an array pattern consisting of multiple rows of ink dots.

具体的には、例えば、図6に示すように、X方向に延びる複数行のインクドット160の配列からなる配列パターンで金属インクが吐出される。なお、配列パターンは、インクドット160の重なり領域(図5での斜線)ができるように設計されており、配列パターンの設計時には、インクドット160の直径、つまり、金属インクの着弾径の直径に基づいてY方向での金属インクの吐出ピッチが演算される。そして、演算された吐出ピッチで金属インクが吐出されることで、インクドット160の重なり領域のある配列パターンで金属インクが吐出される。なお、配列パターンは、1層の金属インクの配列パターンであり、その配列パターンで吐出された金属インクが複数、積層されることで、配線が形成される。なお、複数層の各々の金属インクの吐出位置は同じとされている。つまり、配列パターンに従って金属インクが所定の位置で吐出される。そして、金属インクに赤外線が照射されることで、1層目の金属薄膜が形成される。続いて、1層目の金属薄膜の上に、1層目の金属インクの吐出位置と同じ位置に配列パターンに従って金属インクが吐出され、赤外線が照射されることで、2層目の金属薄膜が形成される。このように、配列パターンに従った同じ位置への金属インクの吐出と赤外線の照射とが繰り返されることで、金属薄膜が積層されて配線が形成される。 Specifically, as shown in FIG. 6, for example, the metal ink is ejected in an array pattern consisting of multiple rows of ink dots 160 extending in the X direction. The array pattern is designed to create overlapping areas of the ink dots 160 (hatched in FIG. 5). When the array pattern is designed, the ejection pitch of the metal ink in the Y direction is calculated based on the diameter of the ink dots 160, i.e., the diameter of the metal ink droplets at which the ink lands. The metal ink is then ejected at the calculated ejection pitch, resulting in an array pattern with overlapping areas of the ink dots 160. The array pattern is the array pattern of one layer of metal ink, and multiple layers of metal ink ejected in this array pattern are stacked to form wiring. The ejection position of the metal ink in each of the multiple layers is the same. In other words, the metal ink is ejected at a predetermined position according to the array pattern. The metal ink is then irradiated with infrared light to form the first layer of thin metal film. Next, metal ink is ejected onto the first metal thin film layer in accordance with an array pattern at the same positions as the first metal ink ejection positions, and infrared light is irradiated, forming a second metal thin film layer. In this way, by repeating the ejection of metal ink at the same positions according to the array pattern and the irradiation of infrared light, metal thin films are stacked and wiring is formed.

しかしながら、インクジェットヘッド76のノズル面150に形成された複数のノズル穴の位置精度の公差によりインクドット160の位置ズレが生じる場合がある。また、大きな印刷エリアが1台のインクジェットヘッド若しくは複数台のインクジェットヘッドで分割して印刷される場合に、分割して印刷される繋ぎ目にインクドット160の位置ズレが生じる場合がある。このような場合に、インクドット160の位置ズレが、インクドット160の重なり領域より大きくなると、断線した配線が形成される虞がある。具体的には、配列パターンに従って金属インクを吐出しても、インクドット160の位置ズレにより、図7に示すように、インクドット160の重なり領域(斜線)の無い隙間166が生じる。このため、吐出された金属インクに赤外線が照射されると、隙間166のある状態の連続しない金属薄膜が形成される。そして、上述したように、配列パターンに従った同じ位置への金属インクの吐出と赤外線の照射とが繰り返されても、隙間166が残存し、断線した状態の配線が形成される。 However, misalignment of the ink dots 160 may occur due to tolerances in the positional accuracy of the multiple nozzle holes formed in the nozzle surface 150 of the inkjet head 76. Furthermore, when a large printing area is divided and printed using a single inkjet head or multiple inkjet heads, misalignment of the ink dots 160 may occur at the joints between the divided prints. In such cases, if the misalignment of the ink dots 160 becomes greater than the overlapping area of the ink dots 160, there is a risk of an open circuit being formed. Specifically, even when metal ink is ejected according to an array pattern, misalignment of the ink dots 160 results in gaps 166 without overlapping areas (hatched), as shown in Figure 7. Therefore, when the ejected metal ink is irradiated with infrared rays, a discontinuous metal thin film with gaps 166 is formed. As described above, even if metal ink is repeatedly ejected at the same position according to the array pattern and irradiated with infrared rays, gaps 166 remain, resulting in an open circuit.

このようなことに鑑みて、奇数層の金属インクの吐出位置と偶数層の金属インクの吐出位置とを異ならせて、配線が形成される。具体的には、例えば、1層目の金属薄膜の形成時に、所定の位置に配列パターンに従って金属インクが吐出されることで、図8に示すように、複数行のインクドット160aの配列からなる配列パターンで金属インクが吐出される。そして、金属インクに赤外線が照射されることで、1層目の金属薄膜168aが形成される。なお、1層目の金属薄膜168aには、隙間166aが生じる。また、2層目の金属薄膜の形成時には、1層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に配列パターンに従って金属インクが吐出される。これにより、図8に示すように、複数行のインクドット160bの配列からなる配列パターンで金属インクが吐出される。そして、金属インクに赤外線が照射されることで、2層目の金属薄膜168bが形成される。 In consideration of this, wiring is formed by differentiating the ejection positions of the metal ink for odd-numbered layers from the ejection positions of the metal ink for even-numbered layers. Specifically, for example, when forming the first layer of metal thin film, metal ink is ejected at a predetermined position according to an array pattern, resulting in the metal ink being ejected in an array pattern consisting of multiple rows of ink dots 160a, as shown in FIG. 8. The metal ink is then irradiated with infrared rays, forming the first layer of metal thin film 168a. Note that gaps 166a are formed in the first layer of metal thin film 168a. Furthermore, when forming the second layer of metal thin film, metal ink is ejected according to the array pattern at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the metal ink for the first layer. As a result, the metal ink is ejected in an array pattern consisting of multiple rows of ink dots 160b, as shown in FIG. 8. The metal ink is then irradiated with infrared rays, forming the second layer of metal thin film 168b.

なお、2層目の金属薄膜168bにも、隙間166bが生じる。このように、1層目の金属薄膜168aと2層目の金属薄膜168bとの各々を単独で記すと、図8に示すように、各金属薄膜168a,bに隙間166a,bが生じる。ただし、実際は、1層目の金属薄膜168aの上に2層目の金属薄膜168bが積層されるため、図8に示すように、隙間の無い配線170が形成される。なお、1ピクセルは、X方向に延びる複数のノズル穴152の形成ピッチである。つまり、1ピクセルは、X方向に延びる複数のノズル穴152の隣り合う2つのノズル穴の一方の中心と他方の中心との間の距離であり、X方向に延びる複数のインクドット160の隣り合う2つのインクドットの一方の中心と他方の中心との間の距離である。また、上記説明では、2層の金属薄膜168a,bを積層させて配線170が形成されているが、例えば、7層の金属薄膜を積層させて配線が形成される場合には、1、3、5、7層目の金属インクが所定の位置に配列パターンに従って吐出され、2、4、6層目の金属インクが所定の位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に配列パターンに従って吐出される。このように、奇数層目の金属インクが所定の位置に配列パターンに従って吐出され、偶数層目の金属インクが所定の位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に配列パターンに従って吐出されることで、隙間の無い配線を形成することができる。 A gap 166b also occurs in the second metal thin film 168b. Thus, when the first metal thin film 168a and the second metal thin film 168b are described individually, gaps 166a and 166b occur between the metal thin films 168a and 168b, as shown in FIG. 8. However, in reality, the second metal thin film 168b is stacked on top of the first metal thin film 168a, resulting in a gapless wiring 170, as shown in FIG. 8. One pixel is the formation pitch of the multiple nozzle holes 152 extending in the X direction. In other words, one pixel is the distance between the centers of two adjacent nozzle holes 152 of the multiple nozzle holes 152 extending in the X direction, and is the distance between the centers of two adjacent ink dots of the multiple ink dots 160 extending in the X direction. Furthermore, in the above explanation, the wiring 170 is formed by stacking two layers of metal thin films 168a, b, but if, for example, seven layers of metal thin films are stacked to form the wiring, the metal ink for the first, third, fifth, and seventh layers is ejected at a predetermined position according to an array pattern, and the metal ink for the second, fourth, and sixth layers is ejected at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the predetermined position according to an array pattern. In this way, by ejecting the metal ink for odd-numbered layers at a predetermined position according to an array pattern, and the metal ink for even-numbered layers at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the predetermined position according to an array pattern, wiring without gaps can be formed.

ただし、奇数層目の金属薄膜が所定の位置に配列パターンに従って金属インクが吐出され、偶数層目の金属薄膜が、所定の位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に配列パターンに従って金属インクが吐出されることで、配線の延びる方向によっては配線の幅が太くなる。具体的には、偶数層目の金属薄膜が、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に金属インクが吐出されても、図9に示すように、X方向に延びる配線170aでは、0.5ピクセルに相当する距離、長さが長くなるが、幅(=W1)は太くならない。一方、偶数層目の金属薄膜が、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に金属インクが吐出されることで、Y方向に延びる配線170bでは、長さは変わらないが、0.5ピクセルに相当する距離、幅(=W2)は太くなる。このように、Y方向に延びる配線170bの幅寸法(=W2)は、X方向に延びる配線170aの幅寸法(=W1)より0.5ピクセルに相当する距離、太くなる。 However, when metal ink is ejected onto the odd-numbered metal thin film layers according to an array pattern at a predetermined position, and metal ink is ejected onto the even-numbered metal thin film layers according to an array pattern at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the predetermined position, the width of the wiring may increase depending on the direction in which the wiring extends. Specifically, even if metal ink is ejected onto the even-numbered metal thin film layers at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the odd-numbered metal ink, as shown in Figure 9, the length of wiring 170a extending in the X direction increases by a distance equivalent to 0.5 pixels, but the width (= W1) does not increase. On the other hand, when metal ink is ejected onto the even-numbered metal thin film layers at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the odd-numbered metal ink, the length of wiring 170b extending in the Y direction remains unchanged, but the width (= W2) increases by a distance equivalent to 0.5 pixels. In this way, the width dimension (= W2) of the wiring 170b extending in the Y direction is wider than the width dimension (= W1) of the wiring 170a extending in the X direction by a distance equivalent to 0.5 pixels.

このように、配線の延びる方向によって配線の幅が太くなると、配線が太くなることで、短絡が発生する虞がある。また、回路設計において配線の幅寸法はW1であるのに、幅寸法がW2の配線が形成されることは、設計通りに配線が形成されないこととなり、望ましくない。このようなことに鑑みて、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に金属インクが吐出される偶数層目の配列パターンは、奇数層目の配列パターンからX方向での端に位置する1列のインクドット160を除去した配列パターンとされている。具体的には、例えば、奇数層目の配列パターン180aを図10に示す。そして、その奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット(図10の点線)160cを除去する。これにより、図11に示すように、偶数層目の配列パターン180bは、奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット160cを除去した配列パターンとなる。そして、奇数層目の金属インクが所定の位置に配列パターン180a(図10)に従って吐出され、偶数層目の金属インクが所定の位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に配列パターン180b(図11)に従って吐出されることで、配線の延びる方向に関わらず同じ幅の配線を形成することができる。つまり、図12に示すように、Y方向に延びる配線170bの幅(=W1)と、X方向に延びる配線170aの幅(=W1)とを同じにすることができる。 As such, if the wiring width increases depending on the direction in which the wiring extends, the thicker wiring may result in a short circuit. Furthermore, forming a wiring with a width of W2 when the wiring width is W1 in the circuit design is undesirable, as it results in wiring not being formed as designed. In light of this, the array pattern for even-numbered layers, in which metal ink is ejected at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the metal ink for odd-numbered layers, is an array pattern obtained by removing a row of ink dots 160 located at the edge in the X direction from the array pattern for odd-numbered layers. Specifically, for example, array pattern 180a for odd-numbered layers is shown in Figure 10. Then, a row of ink dots 160c (dotted line in Figure 10) located at the edge in the X direction is removed from array pattern 180a for odd-numbered layers. As a result, array pattern 180b for even-numbered layers, as shown in Figure 11, is an array pattern obtained by removing a row of ink dots 160c located at the edge in the X direction from array pattern 180a for odd-numbered layers. Then, by ejecting the metal ink in odd-numbered layers at a predetermined position according to array pattern 180a (Figure 10), and the metal ink in even-numbered layers at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the predetermined position according to array pattern 180b (Figure 11), it is possible to form wires of the same width regardless of the direction in which the wires extend. In other words, as shown in Figure 12, the width (= W1) of wire 170b extending in the Y direction can be made the same as the width (= W1) of wire 170a extending in the X direction.

ただし、偶数層目の配列パターン180bを、奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット160cを除去した配列パターンとすることで、配線の幅を同じにすることはできるが、配線の延びる方向によって配線の電気的な品質が変わる。具体的には、偶数層目の配列パターン180bを、奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット160cを除去した配列パターンとした場合に、Y方向に延びる配線170bでは、幅方向(X方向)の1列のインクドット160cが除去されている。一方、X方向に延びる配線170aでは、長さ方向(X方向)の1列のインクドット160cが除去されている。つまり、X方向に延びる配線170aでは、幅方向(Y方向)のインクドット160cは除去されていない。このため、Y方向に延びる配線170bの幅方向での断面積は、X方向に延びる配線170aの断面積より小さくなる。このように、Y方向に延びる配線170bの幅方向での断面積と、X方向に延びる配線170aの断面積とが異なると、配線の延びる方向によって抵抗値などが異なり、配線の電気的な品質が変わる。 However, by making the even-layer array pattern 180b an array pattern in which one row of ink dots 160c located at the end in the X direction is removed from the odd-layer array pattern 180a, the width of the wiring can be made the same, but the electrical quality of the wiring changes depending on the direction in which the wiring extends. Specifically, when the even-layer array pattern 180b is an array pattern in which one row of ink dots 160c located at the end in the X direction is removed from the odd-layer array pattern 180a, one row of ink dots 160c in the width direction (X direction) is removed from the wiring 170b extending in the Y direction. On the other hand, one row of ink dots 160c in the length direction (X direction) is removed from the wiring 170a extending in the X direction. In other words, the ink dots 160c in the width direction (Y direction) are not removed from the wiring 170a extending in the X direction. For this reason, the cross-sectional area in the width direction of the wiring 170b extending in the Y direction is smaller than the cross-sectional area of the wiring 170a extending in the X direction. In this way, if the cross-sectional area in the width direction of the wiring 170b extending in the Y direction differs from the cross-sectional area of the wiring 170a extending in the X direction, the resistance value and other properties will differ depending on the direction in which the wiring extends, and the electrical quality of the wiring will change.

このようなことに鑑みて、偶数層目の配列パターンを、奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット160cだけでなく、X方向での端に位置する1列のインクドットも除去した配列パターンする。具体的には、図13に示すように、奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット160cを除去するとともに、Y方向での端に位置する1行のインクドット(図10の一点鎖線)160dも除去する。これにより、図14に示すように、偶数層目の配列パターン180cは、奇数層目の配列パターン180aからX方向での端に位置する1列のインクドット160cだけでなく、Y方向での端に位置する1行のインクドット160dも除去した配列パターンとなる。そして、奇数層目の金属インクが所定の位置に配列パターン180a(図13)に従って吐出され、偶数層目の金属インクが所定の位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に配列パターン180c(図14)に従って吐出されることで、配線の延びる方向に関わらず配線の幅方向の断面積を同じにすることができる。これにより、Y方向に延びる配線170bの電気的品質と、X方向に延びる配線170aの電気的品質とを同じにすることができる。つまり、配線の延びる方向に関わらず同じ電気的品質の配線を形成することができる。 In consideration of this, the array pattern for the even-numbered layers is an array pattern in which not only a row of ink dots 160c located at the end in the X direction is removed from the array pattern 180a for the odd-numbered layers, but also a row of ink dots located at the end in the X direction. Specifically, as shown in Figure 13, a row of ink dots 160c located at the end in the X direction is removed from the array pattern 180a for the odd-numbered layers, and a row of ink dots 160d located at the end in the Y direction (shown by the dashed-dotted line in Figure 10) are also removed. As a result, as shown in Figure 14, the array pattern 180c for the even-numbered layers is an array pattern in which not only a row of ink dots 160c located at the end in the X direction is removed from the array pattern 180a for the odd-numbered layers, but also a row of ink dots 160d located at the end in the Y direction. Then, by ejecting the metal ink for odd-numbered layers at a predetermined position according to array pattern 180a (Figure 13), and the metal ink for even-numbered layers at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the predetermined position according to array pattern 180c (Figure 14), it is possible to make the cross-sectional area of the wiring in the width direction the same regardless of the direction in which the wiring extends. This makes it possible to make the electrical quality of wiring 170b extending in the Y direction the same as the electrical quality of wiring 170a extending in the X direction. In other words, wiring with the same electrical quality can be formed regardless of the direction in which the wiring extends.

ちなみに、制御装置28のコントローラ110は、図2に示すように、第1演算部200と第2演算部202と第1吐出部204と第2吐出部206とを有している。第1演算部200は、コントローラ110が複数行のインクドットの配列からなる奇数層目の配列パターン180aを演算するための機能部である。第2演算部202は、奇数層目の配列パターン180aから1列のインクドット160cと1行のインクドット160dを除去して、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした配列パターンを、偶数層目の配列パターン180cとして演算するための機能部である。第1吐出部204は、奇数層目の配列パターン180aに従って金属インクを吐出するための機能部である。第2吐出部206は、奇数層目に吐出された金属インクの上に、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に偶数層目の配列パターン180cに従って金属インクを吐出するための機能部である。 As shown in FIG. 2, the controller 110 of the control device 28 has a first calculation unit 200, a second calculation unit 202, a first ejection unit 204, and a second ejection unit 206. The first calculation unit 200 is a functional unit that allows the controller 110 to calculate the odd-layer array pattern 180a, which consists of an array of multiple rows of ink dots. The second calculation unit 202 is a functional unit that removes one column of ink dots 160c and one row of ink dots 160d from the odd-layer array pattern 180a and calculates an array pattern shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the metal ink for the odd layer as the even-layer array pattern 180c. The first ejection unit 204 is a functional unit that ejects metal ink according to the odd-layer array pattern 180a. The second ejection unit 206 is a functional unit for ejecting metal ink onto the metal ink ejected in the odd-numbered layers, at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the metal ink in the odd-numbered layers, according to the array pattern 180c for the even-numbered layers.

なお、上記実施例において、制御装置28は、情報処理装置の一例である。ノズル穴152は、ノズル穴の一例である。第1演算部200は、第1演算部の一例である。第2演算部202は、第2演算部の一例である。また、第1吐出部204により実行される工程は、第1吐出工程の一例である。第2吐出部206により実行される工程は、第2吐出工程の一例である。 In the above embodiment, the control device 28 is an example of an information processing device. The nozzle hole 152 is an example of a nozzle hole. The first calculation unit 200 is an example of a first calculation unit. The second calculation unit 202 is an example of a second calculation unit. Furthermore, the process performed by the first discharge unit 204 is an example of a first discharge process. The process performed by the second discharge unit 206 is an example of a second discharge process.

なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。例えば、上記実施例では、奇数層目の配列パターン180aから1列のインクドット160cと1行のインクドット160dを除去した配列パターン180cに従って、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に偶数層目の金属インクが吐出されている。一方で、奇数層目の配列パターン180aから1列のインクドット160cを除去した配列パターン180bに従って、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に偶数層目の金属インクが吐出されてもよい。このような場合には、配線の延びる方向によって配線の電気的な品質は変わるが、配線の延びる方向に関わらず同じ幅の配線を形成することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented in various forms with various modifications and improvements based on the knowledge of those skilled in the art. For example, in the above-described embodiment, the metal ink for the even-numbered layers is ejected at a position shifted by 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the metal ink for the odd-numbered layers according to array pattern 180c, which is obtained by removing one column of ink dots 160c and one row of ink dots 160d from array pattern 180a for the odd-numbered layers. On the other hand, the metal ink for the even-numbered layers may be ejected at a position shifted by 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the metal ink for the odd-numbered layers according to array pattern 180b, which is obtained by removing one column of ink dots 160c from array pattern 180a for the odd-numbered layers. In such a case, although the electrical quality of the wiring varies depending on the direction in which the wiring extends, wiring of the same width can be formed regardless of the direction in which the wiring extends.

また、上記実施例では、奇数層目の金属インクの吐出位置から0.5ピクセル、X方向にズラした位置に偶数層目の配列パターン180cに従って金属インクが吐出されているが、ズレ量は1ピクセルより狭い間隔であればよい。このため、奇数層目の金属インクの吐出位置から0ピクセルより広く、1ピクセルより狭い間隔、X方向にズラした位置に偶数層目の配列パターン180cに従って金属インクが吐出されればよい。 In addition, in the above embodiment, metal ink is ejected in accordance with the even-layer array pattern 180c at a position shifted 0.5 pixels in the X direction from the ejection position of the odd-layer metal ink, but the amount of shift need only be narrower than 1 pixel. Therefore, metal ink should be ejected in accordance with the even-layer array pattern 180c at a position shifted in the X direction by a distance greater than 0 pixels and narrower than 1 pixel from the ejection position of the odd-layer metal ink.

また、上記実施例では、制御装置28のコントローラ110において、配列パターンが演算されて、その演算された配列パターンで金属インクを吐出するように第1造形ユニット22の作動が制御される。一方で、制御装置28と異なる情報処理装置において、配列パターンが演算されてもよい。そして、情報処理装置で演算された配列パターンが制御装置28に入力されて、制御装置28において、入力された配列パターンで金属インクを吐出するように第1造形ユニット22の作動が制御されてもよい。つまり、情報処理装置が、第1演算部200と第2演算部202とを備え、制御装置28のコントローラ110が第1吐出部204と第2吐出部206とを備えていてもよい。 In addition, in the above embodiment, the array pattern is calculated in the controller 110 of the control device 28, and the operation of the first modeling unit 22 is controlled so that metal ink is ejected according to the calculated array pattern. Alternatively, the array pattern may be calculated in an information processing device different from the control device 28. The array pattern calculated in the information processing device may then be input to the control device 28, and the control device 28 may control the operation of the first modeling unit 22 so that metal ink is ejected according to the input array pattern. In other words, the information processing device may include the first calculation unit 200 and the second calculation unit 202, and the controller 110 of the control device 28 may include the first ejection unit 204 and the second ejection unit 206.

また、上記実施例では、配線を形成するための金属インクが金属含有液として採用されているが、金属微粒子を含有するものであれば、種々の金属含有液を採用することができる。具体的に、例えば、マイクロメートルサイズの金属微粒子が溶剤中に分散された導電性ペーストを、金属含有液として採用することができる。 In addition, in the above examples, metal ink for forming wiring is used as the metal-containing liquid, but various metal-containing liquids can be used as long as they contain metal microparticles. Specifically, for example, a conductive paste in which micrometer-sized metal microparticles are dispersed in a solvent can be used as the metal-containing liquid.

28:制御装置(情報処理装置) 152:ノズル穴 200:第1演算部 202:第2演算部 204:第1吐出部(第1吐出工程) 206:第2吐出部(第2吐出工程) 28: Control device (information processing device) 152: Nozzle hole 200: First calculation unit 202: Second calculation unit 204: First discharge unit (first discharge process) 206: Second discharge unit (second discharge process)

Claims (3)

金属微粒子を含有する金属含有液を、所定の方向に延びる複数行のインクドットの配列からなる第1の配列パターンで吐出する第1吐出工程と、
前記第1吐出工程で吐出された金属含有液の上に、前記第1の配列パターンから前記所定の方向での端に位置する1列のインクドットを除去した第2の配列パターンで、前記第1吐出工程での金属含有液の吐出位置からインクドットのピッチより狭い間隔に相当する距離、前記所定の方向にズラした位置に金属含有液を吐出する第2吐出工程と、
を含み、
前記第1吐出工程は奇数層目の吐出工程であり、
前記第2吐出工程は偶数層目の吐出工程であり、
奇数層と偶数層とで吐出位置を異ならせて金属含有液を吐出し、複数層の金属含有液を積層することで配線を形成し、
前記複数層のうちの奇数層は前記第1の配列パターンで金属含有液が吐出され、前記複数層のうちの偶数層は前記第2の配列パターンで金属含有液が吐出される配線形成方法。
a first ejection step of ejecting a metal-containing liquid containing metal fine particles in a first arrangement pattern consisting of an arrangement of ink dots in a plurality of rows extending in a predetermined direction;
a second ejection step of ejecting the metal-containing liquid onto the metal-containing liquid ejected in the first ejection step, in a second arrangement pattern obtained by removing one row of ink dots located at an end in the predetermined direction from the first arrangement pattern, at a position shifted in the predetermined direction by a distance corresponding to an interval narrower than the pitch of the ink dots from the ejection position of the metal-containing liquid in the first ejection step;
Including,
the first discharge step is a discharge step for an odd-numbered layer,
the second discharge step is a discharge step for an even-numbered layer,
The metal-containing liquid is discharged at different discharge positions for odd-numbered layers and even-numbered layers, and wiring is formed by stacking multiple layers of the metal-containing liquid .
The wiring forming method , wherein the metal-containing liquid is discharged onto odd-numbered layers of the plurality of layers in the first arrangement pattern, and onto even-numbered layers of the plurality of layers in the second arrangement pattern .
前記第2吐出工程は、
前記第1吐出工程で吐出された金属含有液の上に、前記第1の配列パターンから前記1列のインクドットだけでなく、前記所定の方向と交差する方向での端に位置する1行のインクドットを除去した配列パターンで、金属含有液を吐出する請求項1に記載の配線形成方法。
The second discharge step includes:
2. The wiring formation method according to claim 1, wherein the metal-containing liquid is ejected onto the metal-containing liquid ejected in the first ejection process in an arrangement pattern obtained by removing not only the one column of ink dots from the first arrangement pattern but also one row of ink dots located at the end in a direction intersecting the specified direction.
前記所定の方向は、金属含有液を吐出する複数のノズル穴の並ぶ長手方向である請求項1または請求項2に記載の配線形成方法。 The wiring formation method described in claim 1 or claim 2, wherein the predetermined direction is the longitudinal direction of an array of nozzle holes that eject the metal-containing liquid.
JP2023552659A 2021-10-08 2021-10-08 Wiring formation method Active JP7809127B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2021/037360 WO2023058227A1 (en) 2021-10-08 2021-10-08 Wiring forming method, and information processing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2023058227A1 JPWO2023058227A1 (en) 2023-04-13
JP7809127B2 true JP7809127B2 (en) 2026-01-30

Family

ID=85804065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023552659A Active JP7809127B2 (en) 2021-10-08 2021-10-08 Wiring formation method

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7809127B2 (en)
WO (1) WO2023058227A1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005057140A (en) 2003-08-06 2005-03-03 Seiko Epson Corp Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
JP2008160105A (en) 2006-12-20 2008-07-10 Palo Alto Research Center Inc Smooth microscale shape printing method
JP2011181701A (en) 2010-03-01 2011-09-15 Seiko Epson Corp Method of forming conductor pattern, wiring substrate, droplet discharge apparatus, and program
JP2012084566A (en) 2010-10-06 2012-04-26 Fuji Mach Mfg Co Ltd Formation method of lamination printing part
JP2013110315A (en) 2011-11-22 2013-06-06 Fujifilm Corp Conductive pattern formation method and conductive pattern formation system
WO2013103298A1 (en) 2012-01-02 2013-07-11 Mutracx B.V. Inkjetsystem for printing a printed circuit board

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005057140A (en) 2003-08-06 2005-03-03 Seiko Epson Corp Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
JP2008160105A (en) 2006-12-20 2008-07-10 Palo Alto Research Center Inc Smooth microscale shape printing method
JP2011181701A (en) 2010-03-01 2011-09-15 Seiko Epson Corp Method of forming conductor pattern, wiring substrate, droplet discharge apparatus, and program
JP2012084566A (en) 2010-10-06 2012-04-26 Fuji Mach Mfg Co Ltd Formation method of lamination printing part
JP2013110315A (en) 2011-11-22 2013-06-06 Fujifilm Corp Conductive pattern formation method and conductive pattern formation system
WO2013103298A1 (en) 2012-01-02 2013-07-11 Mutracx B.V. Inkjetsystem for printing a printed circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023058227A1 (en) 2023-04-13
JPWO2023058227A1 (en) 2023-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104772981B (en) Circuit board manufacturing method and ink-jet printer
CN109315066B (en) Circuit forming method
WO2017212567A1 (en) Method for forming circuit
JP7809127B2 (en) Wiring formation method
JP6714109B2 (en) Circuit forming method and circuit forming apparatus
WO2016189577A1 (en) Wiring forming method
US8304015B2 (en) Resin film forming method, resin film forming apparatus, and electronic circuit board manufacturing method
JP7428470B2 (en) Circuit formation method
CN101573768B (en) Electronic component and method for manufacturing the same
JP6871435B2 (en) Inkjet printing equipment
JP6663516B2 (en) Circuit forming method and circuit forming apparatus
JP7573723B2 (en) Judging device
JP6909920B2 (en) Information processing device
JP2023131281A (en) Electric circuit formation method and control program
JP6816283B2 (en) Wiring forming method and wiring forming device
JP7811218B2 (en) Circuit forming method and circuit forming device
JP2020080379A (en) Film forming apparatus and method
CN112213877A (en) Substrate, display panel and substrate manufacturing method
JP7670801B2 (en) Printing machine, work system, and printing method
JP6866198B2 (en) Circuit forming device
JP7495836B2 (en) Capping device and three-dimensional object manufacturing device equipped with same
WO2019123629A1 (en) Method and device for manufacturing additively manufactured electronic device
JP6808050B2 (en) Wiring forming method and wiring forming device
JP2007130572A (en) Work processing method, work processing system, electro-optical device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240808

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250617

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250806

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20250902

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20251126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20260106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20260120

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7809127

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150