JPS5915635B2 - ７−（４−カルボキシブタンアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸化合物の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 （式中、Ｘはヒドロキシ基、アセトキシ基または求核性
残基を示す）で表わされる７−（４−カルボキシブタン
アミド）−３−セフェム−４−カルボン酸化合物の製法
ｌこ関する。

セファロスポリンＣ（ＣｅＣ）は７−アミノセファロス
ポラン酸（７−、ＡＣＡ）に変換され、それから優れた
抗菌活性を有するＣｅＣの７−アシルアミド同族体、例
えばセファロチン、セファロリジン、セファログリシン
、セファゾリンなどに変換することができる。

しかしながら、ＣｅＣのＮ−説アシル化による７−ＡＣ
Ａの製造は、化学的に行なう方法が数多く開示されてい
るが、生化学的ｌこは側鎖がＤ−５アミノ−５−カルボ
キシペンタノイル基の構造Ｅこより極めて困難であると
されでいる。

最近、一般式 （式中、Ｘは前記と同じ基を示す）で表わされる化合物
またはその塩Ｅこ好気的条件下アスペルギルス属、ペニ
シリウム属、ノイロスポラ属、エアロバクター属または
トリゴノプシズ・パリアビリスに属するＤ−アミノ酸酸
化酵素活性を有する菌体またはその処理物を作用させ、
そして目的物質のＲが−ＣＯＣＯＯＨ’基である場合ｌ
こはカタラーゼ活性を存在せしめることよりなる、一般
式（式中、Ｒは−ＣＯＯＨ基または−ＣＯＣＯＯＨ基、
Ｘは前記と同じ基を示す）で表わされるセファロスポリ
ン化合物の製造法（ベルギー特許第７３６９４３号明細
書、特開昭４７−３９５９５号公報）が開示された。

上記方法によれば、該Ｄ−アミノ酸酸化酵素活性を有す
る菌体またはその処理物Ｅこカタラーゼが存在するため
（こ、そのカタラーゼ阻害の有無によって式（１）のＲ
が−ＣＯＯＨ基である７−（４−カルボキシブタンアミ
ド）−３−セフェム−４−カルボン酸誘導体〔Ｉ〕（以
下化合物〔Ｉ〕と称す〕または式（１）のＲが−ＣＯＣ
０ＯＨ基である７−（５−カルボキシ−５−オキソペン
タンアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸誘導体が
生成される。

ところが、前者の化合物の方が後者の化合物より安定で
あるために、前者の化合物ＣＩ）の製造を目的とする方
が操作上好ましい。

その場合カタラーゼを失活させてＤ−アミノ酸酸化酵素
反応が行なわれる。

カタラーゼを失活させる方法としては、カタラーゼ阻害
剤、例えばアスコルビン酸、３−アミノ−１，２，３−
）リアゾール、アルカリ金属アジド、特ｌこナトリウム
アジドを用いる方法、または熱処理ｌこより失活させる
方法が開示されている。

しかしながら、ナトリウムアジドを使用する場合は、反
応液から目的の化合物ＣＩ）を分離精製する際、反応液
を酸性（こして非親水性有機溶媒で抽出するのであるが
、酸性にすることにより使用したナトリウムアジドが分
解して猛毒のアジ化水素ガスを発生し、作業上人体に非
常な危険性を与えるのみならず、廃水ｔども適さないの
で、工業的ｌこ極めて好泳しくない問題を生じる。

また熱処理により失活させる方法の場合には、カタラー
ゼを完全に失活させる条件ではＤ−アミノ酸酸化酵素も
失活し、Ｄ−アミノ酸酸化酵素を失活させない範囲の条
件ではカタラーゼが失活しないために化合物ＣＩ）とＲ
が−ＣＯＣＯＯＨ基である化合物ＣＩ）を生成すること
ｌこなり、化合物ＣＩ’）のみを高率よく得る方法とし
ては好ましい方法ではなＧ）。

そこで、本発明者らは、上記の欠点を解決すべく、カタ
ラーゼ活性を阻害し、工業的Ｅこ危険性がなく、且つ化
合物ＣＩ）までのＤ−アミノ酸酸化酵素反応を阻害しな
い物質を種々検索した結果、過ホウ酸塩が極めて安全且
つ有効に使用でき、化合物（１）を高率よく製造できる
ことを見出した（特願昭５Ｏ−１４５５０）。

本発明者らは、さらに研究を続けた結果、カタラーゼ活
性の阻害剤を添加する代りに、カタラーゼ作用により分
解されない程の量の過酸化水素を添加することｆこより
、Ｄ−アミノ酸酸化酵素反応を阻害することなく、極め
て安全ｌこ化合物（１）を高率よく製造できることを見
出した。

本発明は、上記の知見に基いて完成されたものであり、
一般式（ＩＩ）で表わされる化合物（以下化合物（ＩＩ
〕と称す）またはその塩ｌこ好気的条件下アスペルギル
ス属、フサリウム属、セファロスポリウム属またはトリ
ゴノプシス・パリアビリスに属するＤ−アミノ酸酸化酵
素生産菌またはその処理物を作用させて化合物ＣＩ）を
製造するｔこ際し、過酸化水素の存在下で作用させるこ
とを特徴とする化合物ＣＩ、ｌの製法であって、その目
的とするところは、化合物（ｎ）から化合物〔Ｉ〕を製
造する方法において、工業的に危険性がなく、安全ｌこ
使用でき、且つＤ−アミノ酸酸化酵素活性を阻害しない
過酸化水素を使用して工業的（こ高率よく化合物〔Ｉ〕
を製造する方法を屍供することにある。

本発明Ｅこおいて使用されるＤ−アミノ酸酸化酵素生産
菌としては、アスペルギルス属、フサリウム属、セファ
ロスポリウム属またはトリゴノプシス・パリアビリスに
属する微生物が適宜利用される。

このような微生物は菌株保存機関に保存されているタイ
プ・カルチャーの中から選択することもできるし、自然
界から分離することもできる。

また目的の化合物〔■〕の生成活性を高めるために上記
の微生物から通常の手段で得られる変異株も本発明に有
利ｆこ使用され得る上記のＤ−アミノ酸酸化酵素生産菌
としては、 アスペルギルス・ウスタスＩＭ１１６０４５（Ａｓｐｅ
ｒｇｉｌｌｕｓ ｕｓｔｕｓ ）アスペルギルス°フ
ラブスＩＭ Ｉ ５２１０４ （Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕ
ｓ ｆｌａｖｕｓ ）アスペルギルス・フラブスーオ
リゼエＩＭＩ４４（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｌａ
ｖｕｓ −ｏｒｙｚａｅ ） ２４２アスペルギルス
・バラシチカスＩＭ１１５９４７（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌ
ｕｓ ｐａｒａｓｉｔｉｃｕｓ ）フザリウム・ソラ
ニＭ −０００９（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ５ｏｌａｎｉ
）フザリウム・ソラニＭ−０７１８（Ｆ Ｅ ＲＭ−Ｐ
２６８８）（菌学的性状は特願昭４９−１１７２０５号
明細書に記載）セファロスポリウム・ポトロニＩ Ｆ
０５３０６ （Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｕｍ ｐｏｔ
ｒｏｎｉｉ ）セファロスポリウム・ポトロニＩＦＯ５
７０６セフアロスポリウム・スピーシーズＭ−４２６７
トリコソプシス・パリアビリスＣＢ５４０９５（Ｔｒｉ
ｇｏｎｏｐｓｉｓ Ｖａｒｉａｂｉｌｉｓ ）などが挙
げられるこのようなり一アミノ酸酸化酵素生産菌を用い
て目的の化合物〔Ｉ〕を製造するためには、通常、先ず
これらの微生物を培養し、得られる菌体またはその処理
物を化合物（ｎ）に適当な条件下で作用させるのがよい
。

菌体を得るための培養方法としては、通常好気的培養が
望ましく、好適ｆこは液体通気攪拌培養により行なわれ
る。

培地組成としては、通常カビの培地として使用される培
地、例えばペプトン、肉エキス、酵母エキス、コーン・
スチープ・リカー、大豆蛋白解物、アミノ酸などの窒素
源、糖蜜、ブドウ糖、シュクロースなどの炭素源、リン
酸塩、マグネシウム塩、食塩その他の無機塩、または場
合（こよりその他の生育促進物質などを適宜含有する栄
養培地をｐＨを適宜に調製して使用するが、培地中ｔこ
Ｄ−（またはＤＬ−）アミノ酸、例えばＤ−（またはＤ
Ｌ−）メチオニン、Ｄ−（またはＤＬ−）アラニン、Ｄ
−（またはＤＬ−）バリンなどを含有している場合には
優れたＤ−アミノ酸酸化酵素活性が得られる。

培養温度は２３〜２８°Ｃ１培養時間は培養条件特（こ
培養装置、培養組成、培養温度などにより異なるが、Ｄ
−アミノ酸酸化酵素活性が最大を示す時点に培養を終了
するよう決定するのがよく、通常２〜１０日間が適当で
ある。

こうして得られた菌体またはその処理物が化合物（ＩＩ
）のＤ−アミノ酸酸化反応に使用されるが、ここでいう
菌体の処理物とは、菌体ｔこ適当な処理を加えてＤ−ア
ミノ酸酸化酵素活性を高め化合物〔Ｉ〕の製造に有利な
形にしたものを指し、例えば本発明におけるＤ−アミノ
酸酸化酵素活性は通常菌体内に存在するので、Ｄ−アミ
ノ酸酸化酵素生産菌の培養物から集菌洗浄された菌体か
ら物理的あるいは化学的手段を適用して得られる無細胞
抽出液、または無細胞抽出液から公知の酵素分離精製方
法を適用して得られる部分精製あるいは精製されたＤ−
アミノ酸酸化酵素、または部分精製あるいは精製された
後、物理的あるいは化学的手段によって水不溶性高分子
物質または無機担体に結合されたＤ−アミノ酸酸化酵素
活性体、または菌体を活性化処理して得られる活性化菌
体などを指す。

本発明においては、前記の可溶性酵素の調製および再使
用は実用性が限られているの（こ対し、活性化菌体を使
用するような不溶性酵素を使用することは、回収および
再使用が可能な点で便利である。

前記の菌体の活性化処理は、菌体をある種の緩和な損傷
を与え、崩壊を起こさせる程ではない条件に付すること
によりもたらせる。

これら活性化処理の例としては、酸１’ｆＥｐＨ例えば
ｐＨ約３〜４で一１０°Ｃ以下で凍結させ、次いで融解
させる方法、菌体を１種またはそれ以上の有機溶媒、例
えばアセトン、ｎ−ブタノール、２−フェニルエタノー
ル、ジメチルエーテル、ジクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエンなどと共に水相中で処理する方法、０゜１〜１０
％の表面活性剤、例えばアセチルトリメチルアンモニウ
ム、セチルピリジニウム、セチルジメチルベンジルアン
モニウムハライドなどのカチオン界面活性剤、ドデシル
サルフェート、アルキルアリールスルフォン酸アルカリ
金属塩、ナトリウムデスオキシコレートなどのアニオン
界面活性剤、ソルビタンモノラウレートトライトン×１
００などの非イオン界面活性剤の水溶液で処理する方法
、水酸化カリウムまたは水酸化すｌ−ＩＪウムの希薄溶
液で処理する方法、高浸透圧溶液、例えば２Ｍ蔗糖溶液
中に懸濁させ、次いで急速に水で希釈する方法などが挙
げられる。

これらの活性化処理は、温度、処理時間、ｐＨ１試薬の
濃度などの種々の袈素により左右されるので、活性化の
至適条件を適宜確かめることが必妥である。

このようｔこして得られるＤ−アミノ酸酸化酵素生産菌
の菌体またはその処理物を過酸化水素の存在下水性媒体
中で化合物（ＩＩ）ｉこ接触させればよい。

過酸化水素はカタラーゼ作用により分解を受けずに残存
するに足りるだけの量が使用されるが、その使用量は菌
体またはその処理物の量、本酵素力価、カタラーゼ作用
、化合物〔■〕の使用量およびその濃度ｌこより左右さ
れる。

通常は本酵素力価１万単位／ＴＩＬｌ当り３５係過酸化
水素水量７〜１０ＴＬｌ（約０．０７〜０．１モル）の
量が使用される。

添加時期は、反応時に一度に添加すると反応液中の過酸
化水素濃度が極めて上るためにＤ−アミノ酸酸化酵素活
性が失活したり、あるいは化合物ＣＩ）の１位の硫黄原
子が酸化を受けを恐れがあるので、少量づつ断続的に添
加するか、あるいは反応中を通して連続的に添加するの
が好ましい。

従って、上記の酵素反応は、通常過酸化水素が反応中を
通して連続的に添加されるような濃度の条件下で行なわ
れる。

本酵素反応は、通常６〜８のｐＨで行なわれる。

反応温度としては３０〜４０℃で行なうのが望ましい。

反応時間は主として酵素力価により左右されるが、通常
１〜５時間である。

上記の酵素反応は好気的条件下で行なわれるのｒ通常攪
拌あるいは空気または酸素の通気下で行なうのが好まし
い。

ＣｅＣはその両性的な構造および吸湿性のために醗酵プ
ロスから抽出することが困難であるが、本発明方法によ
れば、ＣｅＣ醗酵プロス中で、菌体を除去した後、適当
な条件下で行なうことができ生成した化合物ＣＩ）（Ｘ
−アセトキシ基）を溶媒抽出またはイオン交換樹脂吸着
などにより回収することができる。

Ｘがアセトキシ基である化合物ＣＩ、］は、反応液から
、例えばｐ Ｈ２，５またはそれ以下に調節し、適当な
有機溶媒、例えば酢酸エチル、ｎ−ブタノールなどで抽
出することができぬ。

またイオン交換樹脂と溶媒抽出の組合せを使用すると好
結果が得られる。

適当なイオン交換樹脂は液体アミンアニオン交換樹脂で
ある。

好ましい溶媒は酢酸エチル酢酸ブチル、 ｎ−ブタノー
ルなどである。

ＣｅＣ醗酵ブロスを使用した反応液からの抽出は、予め
ブロスのｐＨを３〜５程度に調節して行なうと有利であ
る。

また個体のイオン交換樹脂を使用してＸがアセトキシ基
である化合物ＣＩ）を分離することができる。

その場合の適当な溶出溶媒としては、予備的実験で容易
に決めることができるが、アセトンが有利である。

Ｘがヒドロキシ基または求核性残基である化合物（Ｉ）
はそれらが生成された水性媒体から前記したと同様の方
法で回収することができる。

その場合Ｘ基の性質により前記の抽出条件が左右される
力＼これらは予備的な実験によって容易に決定すること
ができる。

〔■〕は相当する４−エステル化合物をイミドハライド
に変換し、これをイミノエーテルＥこ変換し、これを分
解することによって相当する７β−アミノ化合物ｆこ変
換することができる。

またコマモナス属またはシュードモナス属に属する微生
物の培養物またはその処理物を用いて７β−アミノ化合
物ｌこ変換することもできる（特願昭４９−１０４７１
号明細書、同昭４９−１４２７６１号明細書）。

Ｘがヒドロキシ基である本発明方法の出発物質は、特公
昭３９−９８９４号公報、特公昭４２−７５５３号公報
記載の方法により製造することができ、Ｘが求核性残基
である場合には、特公昭３８−２６１７９号公報記載の
ようＥこしてピリジンまたは他の３級アミンと、特公昭
３９−１７９３６号公報記載のようｌこして硫黄結合、
窒゛素結合または無機求核性化合物と、特公昭４１−４
７１４号公報、特公昭４２−１３０５号公報記載のよう
Ｅこして値黄結合求核性化合物と、特公昭４６−１３０
２３号公報、特公昭４６−１４７３５号公報、特公昭４
６−１５９５１号公報記載のようにしてチオールと反応
させることにより製造することができる。

上記の求核性残基は限定的列挙ではなく説明のためにの
み挙げたものであって、セファロスポリン化合物ｌこ関
する他の明細書に列挙されている他の求核性残基も使用
できる。

次に参考例および実施例を挙げて本発明方法を更に詳細
に説明するが、これにより本発明を限定するものではな
い。

参考例 １ トリゴノプシス・パリアビリスの培養 グルコース２チ、Ｄ−メチオニン０．３％、酵母エキス
０．５係、ＫＨ２ＰＯ４０，４先ＭｇＳＯ４・７Ｈ２０
０，１％、ＫＣｌ０．０５％、Ｆ ｅ ＳＯ４” ７
Ｈ２００，００２５％を含む液体培地（ｐＨ６，０）１
００ｄを５００ｗＬｌ容三角フラスコｌこ分注し、１２
０℃で１５分間蒸気滅菌後、トリゴノプシス・パリアビ
リスＣＢ５４０９５を接種し、３０℃で４８時間振盪培
養する。

培養後、培養液３４分を集め、遠心分離して集菌し、湿
潤菌体（含水率約９０係）６８ｇを得る。

参考例 ２ トリゴノプシス・パリアビリスの活性化 （２ａ）参考例１で得た湿潤菌体２０９を０．１Ｍリン
酸塩緩衝液（ｐＨ７，５）に懸濁し、１００ｍ１とする
。

これにトルエンＩＴＬｌを加え、３７℃、６０分間攪拌
処理した後、集菌してトルエン処理菌体を得る。

（２ｂ）参考例１で得た湿潤菌体２０ｇを０．１Ｍリン
酸塩緩衝液（ｐＨ７，５）に懸濁し、１００ｄとする。

これ（こトルエン１１ｒＬｌを加え、５０℃、５時間攪
拌処理した後、集菌してトルエン熱処理菌体を得る。

（２ｃ）参考例１で得た湿潤菌体２０ｇをジメチルエー
テル１００ＴＩＬｌで４回浸漬振盪後、ジメチルエーテ
ルを除去してＭＯＭ処理菌体を得る。

参考例 ３ フザリウム・ソラニの培養 グルコース２チ、コーン・スチーブ・リカー２係、ＤＬ
−アラニン０．２％を含む液体培地（ｐＨ５，０）１０
０ｍ１３を５００１ｄ容三角フラスコニ分注し、１２０
℃で１５分間蒸気滅菌した後、フザリウム・ソラニＭ−
０７１８（ＦＥ ＲＭ−Ｐ２６８８）を接種し、２６°
Ｃで２日間回転振盪培養する。

培養後、培養液３１分を集め、集菌後水洗して湿潤菌体
９０ｇを得る。

参考例 ４ セファロスポリウム・ポトロニの培養 参考例３１こおいて、フザリウム・ソラニＭ−０７１８
の代りにセファロスポリウム・ポトロニＩＦ０５３０６
を用いて湿潤菌体８５ｇを得る。

参考例 ５ フザリウム・ソラニの活性化 参考例３で得たフザリウム・ソラニＭ−０７１８（ＦＥ
ＲＭ−Ｐ２６８８）の湿潤菌体１０ｇを０．１Ｍリン酸
塩緩衝液（ｐＨ７，５）４０ＴＩＬｌに懸濁し、これｌ
こトルエン０．４ ｒｕｌ、を加えて３７℃、１時間攪
拌した後、集菌してトルエン処理菌体を得る。

参考例 ６ セファロスポリウム・ポトロニの活性化 参考例４で得たセファロスポリウム・ポトロニＩＦ０５
３０６の湿潤菌体１（ｌを０．１Ｍリン酸塩緩衝液（ｐ
Ｈ７，５） ４０ｍ１ｌこ懸濁し、これＩこトルエン０
．４ ｍｌを加えて３７°Ｃ１１時間攪拌した後、集菌
してトルエン処理菌体を得る。

実施例中のＲｆ値および化合物ＣＩ）の生成率は次の方
法ｆこより求めた。

（１）Ｒｆ値 担体；シリカゲルニスポットフィルム（東京化成社製） 展開溶媒； ａｌｎ−ブタノール−酢酸−水（３：１：１）ｂ：ｎ−
ブタノール−酢酸−水−ホルムアルデヒド（３：１：１
：５） を用いる薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）ｌこより求
めた。

（２）化合物ＣＩ）の生成率 試料溶液を高圧ｐ紙電気泳動（３，５ＫＶ、１時間、蟻
酸−酢酸−水（２２ニア５ ：９００）の混合溶媒（ｐ
Ｈ１，８）使用〕ｆこかける。

化合物ＣＩ）のスポットを０．１ Ｍ ＩＪン酸塩緩衝
液（ｐＨ７，０）で抽出し、この抽出液をＯ，Ｄ、２６
０ｍμにおける吸光度を測定し、標品の化合物ＣＩ）の
検量線からプロットして化合物（１）量を求めることに
より算定する。

上記のスポットは、例えばＣｅＣを用いた場合（こは、
残存するＣｅＣば陰極側へ１．３ｃｒｆＬ移動し、生成
した３−アセトキシメチル−７−（４−カルボキシブタ
ンアミド）−３−セフェム−４−カルボン（Ｘがアセト
キシ基である化合物ＣＩ）は陽極側へ４．１ ａｍ移動
する点に示す。

３−アセトキシメチル−７−（５−カルボキシ−５−オ
キソ−ベンクンアミド）−３−セフェム−４−カルボン
酸の生成した場合は陽極側へ５．５ （ｍ移動する点ｌ
こ示す。

実施例 １ ３−アセトキシメチル−７−（４−カルボキシブタンア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 ２３３６γ／１ｒＬｌを含有するＣｅＣ水溶液５１をｐ
Ｈ７，６に調節し、これｌこ参考例２ｂ記載と同様の
方法で得たトリゴノプシス・パリアビリスＣＢ５４０９
５のトルエン−熱処理菌体３１５ＴＩＬｌ（全り一アミ
ノ酸酸化酵素力価３６９０００単位）を加え、３７°Ｃ
で通気量毎分１２１、攪拌速度毎分３００回転の条件下
、３５％過酸化水素水２３ＴＬｌを３時間かけて連続的
ｌこ添加する。

反応液から菌体を除菌して得られる溶液（目的物質量１
６１０γ／ＴＬｌ、生成率９１．４％、ＣｅＣの残存率
９係、ＲニーＣ０Ｃ０ＯＨである化合物（１）は検出で
きなかった）を塩酸でｐＨ１に調節し、酢酸エチルで抽
出する。

酢酸エチル層を無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥後、減圧
濃縮する。

残渣を酢酸エチル−ヘキサンで処理して目的物質の粉末
８．２５ｇを得る。

Ｒ，ｆ ＝０．４８（ａ）、 ０．７６ら）上記の方法
において、過酸化水素を使用しない場合の目的物質の生
成率は６５％、残りはＲ＝−ＣＯＣＯＯＨである化合物
（１）の生成を認めた。

実施例 ２ ３−アセトキシメチル−７−（４−カルボキシブタンア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 実施例ＩＩこおいて、酢酸エチル層を乾燥、減圧濃縮す
る代りＥこＩＮ水酸化ナトリウム水溶液で中和的ｌこ抽
出して抽出液１．２５１（目的物質含量５．８ｍ９／ｒ
ｒＬｌ）を得る。

（の抽出液は特願昭４９−１０４７１または特願昭４９
−１４２７６１号の方法による７−ＡＣＡの製造にその
まメの形で使用される。

実施例 ３ ３−アセトキシメチル−７−（４−カルボキシブタンア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 ＣｅＣ醗酵から得た培養プロスを除菌した培養Ｐ液（Ｃ
ｅＣ５０００γ／１ｒＬｌ）２０ＴＬ１１こ参考例５で
得たフザリウム・ソラニＭ−０７１８（ＦＥＲＭ−Ｐ２
６８８）のトルエン処理菌体６ｇを加え、３７℃で３時
間回転振盪機で攪拌する。

攪拌中３５係過酸化水素水０．６１１Ｌｌを６回に分け
て３０分毎に添加する。

反応液中の目的物質の生成率は７９．５係、Ｒ−−ＣＯ
ＣＯＯＨである化合物（１）の生成は検出されなかった
。

過酸化水素水を添υ口しない場合の目的物質の生成率は
３８係であった。

実施例 ４ ３−アセトキシメチル−７−（４−カルボキシブタンア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 実施例３において、フザリウム・ソラニＭ−０７１８（
ＦＥＲＭ−Ｐ２６８８）のトルエン処理菌体の代りにセ
ファロスポリウム・ポトロニ■ＦＯ５３０６のトルエン
処理菌体を用いて目的物質を７７．６％の生成率で得た
。

Ｒ＝−ＣＯＣＯＯＨである化合物（１，１の生成は検出
されなかった。

過酸化水素水を添加しない場合は４０係であった。

実施例 ５ ３−アセトキシメチル−７−（４−カルボキシブタンア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 実施例１において、参考例２ｂで得たトルエン熱処理菌
体の代りに参考例２ａで得たトルエン処理菌体３１５ｍ
Ａ！および参考例２ｃで得たＭＯＭ処理菌体４０ｇを用
いて、各々目的物質を８６％および７２係の生成率で得
た。

実施例 ６ ７−（４−カルボキシブタンアミド） −３−（５−メ
チル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 ７−（Ｄ−アミノアジピンアミド）−３−（５−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸１００曙を０．１Ｍリ
ン酸塩緩衝液（ｐＨ７，５）ｆこ溶解し、これに参考例
２ｂで得たトルエン−熱処理菌体３１ｒＬｌを加え、３
７℃で３時間回転振盪機で攪拌する。

攪拌中３５％過酸化水素水０．６ ｙｄを６回に分けて
３０分毎に添加する。

反応液を塩酸でｐ Ｈ１＃こ調節し、酢酸エチルで抽出
する。

酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮
して目的物質を得る。

Ｒｆ＝０．３８（ａ） 実施例 ７ ３−ヒドロキシメチル−７−（４−カルボキシブタンア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の製造 実施例６において、７−（［）−５−アミノアジピンア
ミド）−３−（５−メチル−１、３、４−チアジアゾー
ル−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸の代りに３−ヒドロキシメチル−７−（Ｄ＝５−ア
ミノアジピンアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸
を用いて目的物質を６９．５％の生成率で得た。

Ｒｆ ＝０．４４（ａ）Ｒ＝−ＣＯＣＯＯＨである化合
物（１）の生成は認められなかった。

実施例 ８ Ｎ−（７−（４−カルボキシブタンアミド）−３−セフ
ェム−３−イルメチル〕ピリジニウムー４−カルボキシ
レートの製造 実施例６において、７−（Ｄ−５−アミノアジピンアミ
ド）−３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾール
−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸の代りにＮ−（７−（Ｄ−５−アミノアジピンアミド
）−３−セフェム−３−イルメチル〕ピリジニウムー４
−カルボキシレートを用いて目的物質を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ｘはヒドロキシ基、アセトキシ基または求核性
   残基を示す）で表わされるセファロスポリン化合物また
   はその塩に好気的条件下トリゴノプシス・パリアビリス
   、フザリウム属またはセファロスポリウム属に属するＤ
   −アミノ酸酸化酵素生産菌の菌体またはその処理物を作
   用させて一般（式中、Ｘは前記と同じ基を示す）で表わ
   される７−（４−カルボキシブタンアミド）−３−セフ
   ェム−４−カルボン酸化合物を製造するに際し、過酸化
   水素の存在下で作用させることを特徴とする７−（４−
   カルボキシブタンアミド）−３−セフェム−４−カルボ
   ン酸化合物の製法。