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JPS5939070B2 - pattern recognition device - Google Patents
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JPS5939070B2 - pattern recognition device - Google Patents

pattern recognition device

Info

Publication number
JPS5939070B2
JPS5939070B2 JP52096618A JP9661877A JPS5939070B2 JP S5939070 B2 JPS5939070 B2 JP S5939070B2 JP 52096618 A JP52096618 A JP 52096618A JP 9661877 A JP9661877 A JP 9661877A JP S5939070 B2 JPS5939070 B2 JP S5939070B2
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JP
Japan
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pattern
standard pattern
mesh
standard
binary
Prior art date
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Application number
JP52096618A
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Japanese (ja)
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JPS5430738A (en
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修 加藤
清徳 宮田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、パターン認識装置、特に例えば活字文字認識
などに当つて、標準図形に対応した標準パターンに重み
付けを行なつた重み付けされた標準パターンをもつて照
合せしめるようにしたパターン認識装置において、上記
重み付けされた標準パターンを標準パターン・メモリ上
に格納することなく、該標準パターン・メモリ土に2値
標準パターンのみを格納しておき照合時に上記2値標準
パターンから重み付けされた標準パターンを生成するよ
うにし、上記標準パターン・メモリの記憶容量を軽減す
るようにしたパターン認識装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a pattern recognition device, particularly for recognizing printed characters, which uses a weighted standard pattern obtained by weighting a standard pattern corresponding to a standard figure to perform matching. In the pattern recognition device, only the binary standard pattern is stored in the standard pattern memory without storing the weighted standard pattern in the standard pattern memory, and weighting is performed from the binary standard pattern at the time of matching. The present invention relates to a pattern recognition device that is configured to generate a standard pattern based on a standard pattern, thereby reducing the storage capacity of the standard pattern memory.

例えば活字文字の認識などにおいては、標準パターン・
メモリ上に格納されている標準パターンと認識対象文字
から得られた認識対象文字パターンとをいわば重ね合わ
せ方式による照合によつて照合するようにしている。
For example, in the recognition of printed characters, standard patterns and
The standard pattern stored in the memory and the recognition target character pattern obtained from the recognition target characters are compared by a so-called superimposition method.

この場合、上記標準パターンと上記認識対象文字パター
ンとが全く同じ大きさをもちかつパターン自体も全く同
じと考えた場合にも、上記重ね合わせ方式によつてパタ
ーンが互いに合致するか否かを調べようとすると、公知
の如く位置ずれの問題が生じる。即ち、上記両者のパタ
ーンが正しい位置関係で重ね合わされると両者パターン
は100%一致するものとして検出されるが、例えば1
メッシュ分水平方向に位置がずれた状態で重ね合わされ
てしまつたとすると、例え両者パターンが100%一致
するものであつても、両者の間で当該位置ずれが生じて
いる箇所において不一致が生じ、見掛け上両者のパター
ンに不一致が存在しているものと見做された形で検出さ
れる。このような位置ずれに伴つて生じる不一致状態の
発生結果と、本来のパターン自体に不一致が生じている
状態での不一致発生結果とは、2値パターンの重ね合わ
せにおいては一般には区別できない。
In this case, even if the standard pattern and the character pattern to be recognized have exactly the same size and the patterns themselves are considered to be exactly the same, the overlay method is used to check whether the patterns match each other or not. If this is attempted, the problem of misalignment will occur as is known in the art. That is, when the above two patterns are superimposed in the correct positional relationship, the two patterns are detected as 100% matching, but for example, 1
If the two patterns are overlapped with a horizontal position shift by the mesh amount, even if the two patterns match 100%, a mismatch will occur at the location where the position shift occurs between the two patterns. It is detected as if there is an apparent mismatch between the two patterns. In general, the result of a mismatch state caused by such a positional shift and the result of a mismatch state where a mismatch occurs in the original pattern itself cannot be distinguished in the superposition of binary patterns.

しかし、従来から行われている重み付けを行 !う手段
を採用すると、上記両者の区別が可能となる。即ち当該
重み付けに当たつて、図形の白・黒の境界から黒内で遠
ざかる方向に向かうにつれて重みを「O」、「1」、「
2」と増大せしめ、一方白内で遠ざかる方向に向かうに
つれて重みを[0」、「−1」、「−2」と減少せしめ
るようにL,た標準パターンを用いるようにする。この
ようにすると、上記重ね合わせ時に多少上記位置ずれが
生じたとしても、当該位置ずれに伴つて生じる不一致箇
所は重みの小さい箇所であるために「重み加昧した不一
致」の合計は小さい値であり、−方本来のパターン自体
に不一致が存在する場合には重みの大きい箇所で不一致
となることから上記合計は大きい値となる。このような
ことから従来から上記標準パターンに対して重み付けを
行なつておくようにする。即ち文字境界に位置するメツ
シユに対して低い重みをつけ、文字境界から遠ざかるに
つれて高い重みをつけた重み付けされた標準パターンを
用意しておき、該重み付けされた標準パターンと認識対
象文字パターンと照合するようにする。この場合、上記
の如く重み付けを行なうと1メツシユ毎に複数ビツトの
情報を要することになり、標準パターン・メモリの記憶
容量がきわめて大となつてしまう。本発明は上記の点を
解決することを目的としており、本発明のパターン認識
装置は標準図形に対応した標準パターンに対して重み付
けが行われて当該重み付けされた標準パターンと認識対
象図形を走査して得た認識対象図形パターンとの照合を
行うパターン認識装置において、上記標準図形に対応し
た2値標準パターンを格納する標準パターン・メモリと
、該標準パターン・メモリの内容にもとづいて重み付け
処理を行う重みマスク発生回路と、該重みマスク発生回
路によつて生成された重み付けされた標準パターンと上
記認識対象図形パターンとが入力されて両者の間の照合
を行うマツチング回路とをそなえ、かつ上記重みマスク
発生回路は、上記2値標準パターンに対してm><nメ
ツシユの観測窓が重ね合わされたとき当該観測}フ 窓によつて観測される上記2値標準パターン士のパター
ンに対応して、当該パターン内の予め定めた1つのメツ
シユに予め定められた重みを生成するよう構成され、上
記重みマスク発生回路によつて生成された重み付けされ
た標準パターンと上記認識対象図形パターンとの照合を
行うようにしたことを特徴としている。
However, the weighting that has been done in the past! By adopting this method, it becomes possible to distinguish between the two. In other words, in weighting, the weight is set to "O", "1", "
A standard pattern L is used such that the weight increases to 2'', and the weight decreases to 0, -1, and -2 as the weight moves away from the white area. In this way, even if the positional shift occurs to some extent during the superimposition, the mismatch caused by the positional shift has a small weight, so the total of the "weighted mismatch" will be a small value. If there is a mismatch in the original pattern itself of the - side, the above sum will be a large value because the mismatch will occur at a location with a large weight. For this reason, weighting has been conventionally applied to the standard pattern. In other words, a weighted standard pattern is prepared in which a lower weight is given to meshes located at character boundaries, and higher weights are given as the distance from the character boundary increases, and the weighted standard pattern is compared with the character pattern to be recognized. Do it like this. In this case, if weighting is performed as described above, a plurality of bits of information will be required for each mesh, and the storage capacity of the standard pattern memory will become extremely large. The present invention aims to solve the above-mentioned problems, and the pattern recognition device of the present invention weights a standard pattern corresponding to a standard figure and scans the weighted standard pattern and the figure to be recognized. In the pattern recognition device that performs matching with the recognition target figure pattern obtained from the standard figure, a standard pattern memory stores a binary standard pattern corresponding to the standard figure, and a weighting process is performed based on the contents of the standard pattern memory. a weighted mask generation circuit; and a matching circuit that receives the weighted standard pattern generated by the weighted mask generation circuit and the recognition target graphic pattern and performs a comparison between the two, and the weighted mask. When m><n mesh observation windows are superimposed on the binary standard pattern, the generating circuit generates the corresponding binary standard pattern corresponding to the pattern of the binary standard pattern observed by the observation window. It is configured to generate a predetermined weight for one predetermined mesh in the pattern, and to compare the weighted standard pattern generated by the weight mask generation circuit with the recognition target graphic pattern. It is characterized by the fact that

以下図面を参照しつつ説明する。第1図A,Bは本発明
にいう2値標準パターンと重み付けされた標準パターン
とを説明する説明図、第2図は本発明のパターン認識装
置の要部を表わす一実施例構成、第3図および第4図A
,B,Cは本発明にいう重み付け回路による処理態様を
説明する説明図、第5図は重み付け回路の一実施例構成
を示す。
This will be explained below with reference to the drawings. 1A and 1B are explanatory diagrams for explaining a binary standard pattern and a weighted standard pattern according to the present invention, FIG. Figures and Figure 4A
, B, and C are explanatory diagrams for explaining processing aspects by the weighting circuit according to the present invention, and FIG. 5 shows the configuration of an embodiment of the weighting circuit.

今1つの標準図形が第1図Aに示す如く中央部に集中し
て黒メツシユ(図示論理「1」で表わす)が存在しかつ
その他の領域が白メツシユ(図示論理「O」で表わす)
である如き2値標準パターン1をもつているものとする
とき、照合時の位置ずれに対処するために第1図B図示
の如く重み付けされた標準パターン2を用意する。
As shown in Figure 1A, one standard figure has black mesh (represented by graphical logic "1") concentrated in the center, and white mesh (represented by graphical logic "O") in the other areas.
When we assume that we have a binary standard pattern 1 as shown in FIG. 1B, we prepare a weighted standard pattern 2 as shown in FIG.

そして図示しない認識対象図形パターンと照合をとるよ
うにされる。第1図B図示の重み付けされた標準パター
ン2は次の如く生成されたものと考えてよい。
Then, a comparison is made with a recognition target graphic pattern (not shown). The weighted standard pattern 2 shown in FIG. 1B can be considered to be generated as follows.

即ち、第1図A図示の2値標準パターン1において、(
i)図形枠に接するメツシユに対して重み「O」を付与
し、(4)黒領域に接するメツシユに対して重み「o」
を付与し、(Iii)白領域に接するメツシユに重み[
0」を付与し、(IV)重み「O]をもつ黒メツシユか
らの距離が例えば1メッシュ相当分ある黒メツシユに対
して重み「1」を付与し、(V)重み[0」をもつ黒メ
ツシユからの距離が例えば2メツシユ相当分以上ある黒
メツシユに対して重み「2」を付与し、(V1)重み[
0」をもつ白メツシユからの距離が例えば1メツシユ相
当分ある白メツシユに対して重み[−1」を付与し、!
}重み「0」をもつ白メツシユからの距離が例えば2メ
ツシユ相当分以上ある白メツシユに対して重み「−2]
を付与する。このように生成された、重み付けされた標
準パターン2を用いる場合、上述の如く照合時に位置ず
れに対して影響を受けにくい認識を行なうことができる
That is, in the binary standard pattern 1 shown in FIG. 1A, (
i) Give weight "O" to meshes that touch the figure frame, (4) Give weight "o" to meshes that touch black areas.
(Iii) weight [
(IV) A weight of "1" is assigned to a black mesh whose distance from the black mesh with a weight of "O" is equivalent to, for example, one mesh, and (V) a black mesh with a weight of "0" is assigned a weight of "1". For example, a weight of "2" is assigned to a black mesh whose distance from the mesh is equal to or more than 2 meshes, and (V1) weight [
For example, a weight of [-1] is assigned to a white mesh whose distance from the white mesh with "0" is equivalent to one mesh, and !
}For white meshes whose distance from the white mesh with weight "0" is, for example, 2 meshes or more, weight "-2"
Grant. When using the weighted standard pattern 2 generated in this way, recognition can be performed that is less susceptible to positional deviation during verification as described above.

しかし、重み付けされた標準パターンの各1メツシユと
して3ビツト分の情報が必要となる。このため標準パタ
ーン・メモリに要する記憶容量が、第1図A図示の2値
標準パターン1を記憶しておく場合にくらべて3倍とな
る。本発明においては、標準パターン・メモリ上には第
1図A図示の如き2値標準パターン1を格納しておき、
照合時に該2値標準パターン1から第1図B図示の如き
重み付けされた標準パターン2を生成した上で、照合を
とるようにしている。
However, each mesh of the weighted standard pattern requires three bits of information. Therefore, the storage capacity required for the standard pattern memory is three times that required for storing the binary standard pattern 1 shown in FIG. 1A. In the present invention, a binary standard pattern 1 as shown in FIG. 1A is stored on the standard pattern memory,
At the time of comparison, a weighted standard pattern 2 as shown in FIG. 1B is generated from the binary standard pattern 1, and then the comparison is performed.

第2図は本発明の一実施例構成を示し、図中1MEMは
2値標準パターン・メモリ、3は重みマスク発生回路、
4−0,4−1は夫々重み付け回路、5は反転回路、6
は和回路、7は黒領域・白領域決定回路、8はマツチン
グ回路、Sは2値標準パターン1メツシユ情報であつて
第1図A図示の如きパターンが図示矢印Aの方向に順次
1メツシユずつ出力されるもの、ZO,Zl,Z2は重
み付けされた標準パターン2(第1図B図示)の1メツ
シユに対応する3ビツト情報を表わしている。
FIG. 2 shows the configuration of an embodiment of the present invention, in which 1MEM is a binary standard pattern memory, 3 is a weight mask generation circuit,
4-0 and 4-1 are weighting circuits, 5 is an inversion circuit, 6
7 is a sum circuit, 7 is a black area/white area determining circuit, 8 is a matching circuit, and S is binary standard pattern 1 mesh information, in which the pattern as shown in FIG. What is output, ZO, Zl, Z2, represents 3-bit information corresponding to one mesh of the weighted standard pattern 2 (shown in FIG. 1B).

本発明の場合、第1図A図示の如き2値標準パターン1
が2値標準パターン・メモリ1MEM内に格納されてい
る。
In the case of the present invention, a binary standard pattern 1 as shown in FIG.
is stored in the binary standard pattern memory 1MEM.

なお言うまでもなく2値標準パターン・メモリ1MEM
V)3には他の2値標準パターンも格納されており、照
合時に各2値標準パターンに対応した1メツシユ情報が
図示Sの如く順次読出されてゆく。2値標準パターン1
は#0重み付け回路4−0に導びかれ、2値標準パター
ン1に示される黒メツシユ点に対応して重み付けを行な
い1メツシユ毎に2ビツトXOラxlの出力を発生する
Needless to say, binary standard pattern memory 1MEM
Other binary standard patterns are also stored in V) 3, and one mesh information corresponding to each binary standard pattern is sequentially read out as shown in FIG. Binary standard pattern 1
#0 is led to a weighting circuit 4-0, which weights the black mesh points shown in the binary standard pattern 1 and generates an output of 2 bits XO xl for each mesh.

また2値標準パターン1は反転回路5をへて#1重み付
け回路4−1に導びかれ、2値標準パターン1に示され
る白メッシュ点に対応して重み付けを行ない1メツシユ
毎に2ビツトYO,ylの出力を発生する。なお重み付
け回路4による処理態様と構成とは第3図ないし第5図
を参照して後述される。重み付け回路4−0,4−1の
夫々の出力は和回路6に導びかれて、該和回路6は第1
図B図示の如き重み付けされた標準パターン2の各1メ
ツシユに対応して3ビツト情報ZO,Zl,Z2をマツ
チング回路8に導びく。
Further, the binary standard pattern 1 is led to the #1 weighting circuit 4-1 through the inverting circuit 5, and is weighted corresponding to the white mesh points shown in the binary standard pattern 1. , yl. Note that the processing manner and configuration of the weighting circuit 4 will be described later with reference to FIGS. 3 to 5. The respective outputs of the weighting circuits 4-0 and 4-1 are led to a summation circuit 6, and the summation circuit 6 is connected to the first
3-bit information ZO, Zl, Z2 is led to the matching circuit 8 corresponding to each mesh of the weighted standard pattern 2 as shown in FIG.

一方図示しない認識対象図形パターンはビデオ信号VI
DEOの形で黒領域・白領域決定回路7に導びかれ、該
決定回路7は黒領域と白領域とを区分したメツシユ情報
をマツチング回路8に供給する。マツチング回路8は該
メツシユ情報と上記3ビツト情報ZO,Zl,Z2との
照合をとり、最もよくマツチした1つの標準パターン名
を出力する。以下、重み付け回路4による処理態様と構
成とを第3図ないし第5図を参照して説明する。
On the other hand, the figure pattern to be recognized (not shown) is the video signal VI.
It is guided in the form of a DEO to a black area/white area determining circuit 7, and the determining circuit 7 supplies mesh information that distinguishes black areas and white areas to a matching circuit 8. The matching circuit 8 compares the mesh information with the 3-bit information ZO, Zl, and Z2, and outputs one standard pattern name that matches best. Hereinafter, the processing mode and configuration of the weighting circuit 4 will be explained with reference to FIGS. 3 to 5.

なお重み付け回路4−0と4−1とは、入力情報が互に
反転した形で相異するだけで、全く同じ構成をもつてお
り、以下重み付け回路4−0に対応して説明をつづける
。重み付け回路4−0に対して、第2図図示の如く2値
標準パターン1が1メツシユ(1ビツト)情報Sの形で
順次入力されてくる。
Note that the weighting circuits 4-0 and 4-1 have exactly the same configuration except that the input information is inverted, and the explanation will be continued below for the weighting circuit 4-0. As shown in FIG. 2, the binary standard pattern 1 is sequentially input to the weighting circuit 4-0 in the form of one mesh (one bit) information S.

これによつて重み付け回路4−0は、第3図図示の如く
例えば5×5メツシユの観測窓wを図示矢印B方向に走
査してゆき、該観測窓wを介して観測されるパターンに
よつて重み付けを行なつてゆくものと考えてよい。そし
て図示観測窓W1の場合には図示丸で囲つた中央メツシ
ユに対して重み[0]を付与し、図示観測窓W2の場合
には中央メツシユに対して重み「0」を付与し、図示観
測窓W3の場合には中央メツシユに対して重み「1」を
付与する。第4図Aは5×5メツシユの観測窓wを示し
、図示中央のメツシユ[33]に対する重みを対応する
に当つて、図示メツシユ[11」ないし「55]がどの
ようなパターンをとつているかを調べるようにする。即
ち、第4図Bは、メツシュ「33」に対応した標準パタ
ーンのメツシユが重み「2」をもつ場合のパターン例を
示しており、(1)メツシユ「33」が論理1であるこ
と、かつ(6)メツシュ「23」,「34」,「43」
,「32」が共に理論1であること、かつ(111)メ
ツシユ「13」,「24」,・・・・・・・・・・・・
・・・「22]が共に論理「1]であることによつて、
メツシュ「33」に対応した標準パターンのメツシユに
重み「2」を附与する。即ち条件式Aが論理1のとき、
その時点で観測窓wのメツシユ「33]が対応している
2値標準パターンのメツシユに対して重み「2」を与え
る。第4図Cは、メツシユ「33」に対応した標準パタ
ーンのメツシユが重み「1]をもつ場合のパターン例を
示しており、(!V)メツシユ「33]が論理1である
こと、かつ〜)メツシユ[33],「34」 ,「43
],[32」が共に論理「1」であること、かつ(Vi
メツシユ[13」 ,「24」,「35」 ,「4(,
「53」 ,「42」 ,「31」,「22」のいずれ
か1つが論理「O」であることによつて、メツシユ「3
3」に対応した標準パターンのメツシユに重み「1」を
附与する。即ち条件式Bが論理「1]のとき、その時点
で観測窓wのメツシユ「33」が対応している2値標準
パターンのメツシユに対して重み「1」を与える。更に
上記条件式A.Bのいずれもが論理1とならない場合、
その時点で観測窓wのメツシユ「33]が対応している
2値標準パターンのメツシユに対して重み「O]を与え
る。なお、#1重み付け回路4−1の場合、第1図A図
示の2値標準パターン1において、論理1であるメツシ
ユが論理0になつており、かつ論理0であるメツシユが
論理1になつた形で入力信号が供給される。
As a result, the weighting circuit 4-0 scans, for example, a 5×5 mesh observation window w in the direction of arrow B as shown in FIG. It can be thought of as weighting. In the case of the illustrated observation window W1, a weight [0] is assigned to the central mesh surrounded by the illustrated circle, and in the case of the illustrated observation window W2, a weight of ``0'' is assigned to the central mesh, and the illustrated observation In the case of window W3, a weight of "1" is given to the central mesh. FIG. 4A shows an observation window w of 5×5 meshes, and what kind of pattern the meshes [11” to “55] in the figure have when assigning weights to the mesh [33] in the center of the figure. In other words, FIG. 4B shows an example of a pattern in which the mesh of the standard pattern corresponding to mesh "33" has a weight of "2", and (1) mesh "33" is logical. 1, and (6) mesh “23”, “34”, “43”
, "32" are both theory 1, and (111) meshes "13", "24", etc.
...Since "22] is both logic "1],
A weight of "2" is given to the standard pattern mesh corresponding to mesh "33". That is, when conditional expression A is logical 1,
At that point, a weight of "2" is given to the mesh of the binary standard pattern to which the mesh "33" of the observation window w corresponds. FIG. 4C shows an example of a pattern in which the mesh of the standard pattern corresponding to mesh "33" has a weight of "1", and (!V) mesh "33" is logical 1, and ~ ) Metsuyu [33], “34”, “43
], [32] are both logic “1”, and (Vi
mesh[13], ``24'', ``35'', ``4(,
If any one of "53", "42", "31", and "22" is logic "O", mesh "3" is set.
A weight of "1" is given to the mesh of the standard pattern corresponding to "3". That is, when conditional expression B is logical "1", a weight of "1" is given to the mesh of the binary standard pattern to which mesh "33" of observation window w corresponds at that time. Furthermore, the above conditional expression A. If none of B is logical 1,
At that point, a weight "O" is given to the mesh of the binary standard pattern to which the mesh "33" of the observation window w corresponds.In the case of the #1 weighting circuit 4-1, the mesh "33" of the observation window w corresponds to the mesh of the binary standard pattern. In the binary standard pattern 1, the input signal is supplied in such a manner that a mesh which is a logic 1 becomes a logic 0, and a mesh which is a logic 0 becomes a logic 1.

このため、上記条件式Aを満足するメツシユに重み「−
2」が付与され、条件式Bを満足するメツシユに重み「
−1」が付与され、条件式A.Bのいずれを満足しない
メツシユに重み[0」が付与されるものと考えてよい。
第5図は重み付け回路4−0(又は4−1)の一実施例
構成を示している。
Therefore, the mesh that satisfies the above conditional expression A has a weight of "-".
2" is given, and the mesh that satisfies conditional expression B is given a weight of "
-1'' is assigned, and conditional expression A. It may be considered that a weight of [0] is given to meshes that do not satisfy any of B.
FIG. 5 shows the configuration of an embodiment of the weighting circuit 4-0 (or 4-1).

入力される1ビツト情報S(又はS)はシフト・レジス
タ9−1,9一2,・・・・・・・・・・・・・・・,
9−5に受取られて順次シフトされてゆく。第3図図示
の2値標準パターン1における太線枠内が例えば13×
17メツシユでありかつ第3図図示矢印Bの如く観測窓
wによつて走査されるものとするとき、各シフト・レジ
スタ9−1,9−2,・・・・・・・・・・・・・・・
,9−5は夫々17ステツプのシフト段をもつているも
のと考えてよい。このため、例えば第3図図示の如き2
値標準パターン1が図示右下隅から上方へ進みかつ次に
1メツシユ分左方向にシフトした下端から上方へ進み・
・・・・・・・・・・.・・・してゆくように各メツシ
ユの値が読み出されて、順次情報Sとしてシフト・レジ
スタ9−1ないし9−5に入力されてゆくが、この間に
、第5図図示の「11」,「12」,・・・.・・・・
・・・・・・・「54」,「55」でポイントされてい
る位置に到来した上記情報Sの値を観測すると、ちよう
ど第4図A図示の如き5×5メツシユの観測窓Wによつ
て第3図図示の2値標準パノーン1を図示矢印Bの如く
下から土へかつ1メツシユ左にシフトしては下から土へ
の如く走査したと同じとなる。このことから今第4図図
示の観測窓wのメツシユ[55」に対応する1メツシユ
情報Sがシフト・レジスタ9−1に入力され終つたとき
、各シフト・レジスタ9−1,9−2,・・・・・・・
・・・・・・・・,9−5から一斉にメツシユ「11」
,[12],・・・・・・・・・・・・・・・「55
」に対応する1メツシユ情報が重み付け回路4−0に供
給されると、当該時点(位置)において上記観測窓wに
よつて観測された25個の各メツシユの値が一斉に重み
付け回路4−0に供給されたこととなる。重み付け回路
4−0は、A条件決定回路10AとB条件決定回路10
Bとをそなえており、夫々第4図に示すA条件式とB条
件式とを満足するか否かを調べる。
The input 1-bit information S (or S) is sent to shift registers 9-1, 9-2, . . .
9-5 and are sequentially shifted. For example, the area within the thick line frame in binary standard pattern 1 shown in Figure 3 is 13×
17 meshes and is scanned by the observation window w as shown by arrow B in FIG. 3, each shift register 9-1, 9-2,...・・・・・・
, 9-5 can be considered to have a shift stage of 17 steps each. For this reason, for example, as shown in FIG.
Value standard pattern 1 advances upward from the lower right corner of the diagram and then advances upward from the bottom edge shifted one mesh to the left.
・・・・・・・・・・・・・・・..., the values of each mesh are read out and sequentially inputted as information S to the shift registers 9-1 to 9-5. During this time, the value of "11" shown in FIG. , "12", ...・・・・・・
......When observing the value of the above information S that has arrived at the positions pointed at "54" and "55", a 5x5 mesh observation window W as shown in Fig. 4A will appear. Therefore, if the binary standard pannon 1 shown in FIG. 3 is shifted from the bottom to the bottom and one mesh to the left as shown by the arrow B in the figure, it is the same as scanning from the bottom to the bottom. From this, when one mesh information S corresponding to the mesh [55] of the observation window w shown in FIG.・・・・・・・・・
・・・・・・・・・Metsushi ``11'' all at once from 9-5
, [12], ・・・・・・・・・・・・・・・ ``55
” is supplied to the weighting circuit 4-0, the values of each of the 25 meshes observed by the observation window w at the time (position) are sent to the weighting circuit 4-0 all at once. This means that it was supplied to The weighting circuit 4-0 includes an A condition determining circuit 10A and a B condition determining circuit 10.
B, and it is checked whether conditional expression A and conditional expression B shown in FIG. 4 are satisfied.

そしてA条件式が満足されるとき、A条件決定回路10
Aは論理1を出力する。またB条件式が満足されるとき
、B条件決定回路10Bは論理1を出力する。このため
の構成は、例えば上記供給されるメツシユ[11」ない
し[55」の値をアドレスとしてROMを索引する如き
構成によつて達成されると考えてよい。デコード回路1
0Cは、上記両決定回路10Aと10Bとの出力にもと
ずいて、重み「2]、「1」又は「0」のときX1、X
O(又はy1、YO)として[10]、[01」、又は
「00」を出力する。第2図図示の和回路6は、次の条
件にもとずいて3ビツト情報ZO,Zl,Z2を発する
When the A conditional expression is satisfied, the A condition determining circuit 10
A outputs a logic 1. Further, when the B conditional expression is satisfied, the B condition determining circuit 10B outputs logic 1. A configuration for this can be considered to be achieved by, for example, a configuration in which the ROM is indexed using the supplied values of meshes [11'' to [55] as addresses. Decode circuit 1
0C is based on the outputs of both decision circuits 10A and 10B, and when the weight is "2", "1" or "0",
[10], [01], or "00" is output as O (or y1, YO). The summation circuit 6 shown in FIG. 2 generates 3-bit information ZO, Zl, Z2 based on the following conditions.

即ち、ノ(但し「刊はオア論理) したがつて、和回路6からの出力ZO,Zl,Z2は、
(A) 2値標準パターンにおける黒メツシユに対して
Z2,Zl,ZOとして「000」、「001」又は[
010」のいずれかを発し、重み[0」、r1」、又は
「2」のいずれかを指示する。
That is, ノ (However, "or logic") Therefore, the outputs ZO, Zl, Z2 from the sum circuit 6 are as follows.
(A) "000", "001" or [ as Z2, Zl, ZO for the black mesh in the binary standard pattern
010'' and indicates the weight [0'', r1'', or 2.

(B) 2値標準パターンにおける白メツシュに対して
Z2,Zl,ZOとして「000」、「101」、又は
「110」のいずれかを発し、重み「O]、[−1]、
又は「−2]のいずれかを指示する。以上説明した如く
、本発明によれば重み付けされた標準パターン2をもつ
て照合をとるにも拘らず、第2図に示す標準パターン・
メモリ1MEMは各標準図形に対応した2値標準パター
ン1を格納しておけば足りる。このため、該メモリのメ
モリ容量を、重み付けされた標準パターン2を格納する
場合にくらべて、%に減小することが可能となる。
(B) For the white mesh in the binary standard pattern, either "000", "101", or "110" is emitted as Z2, Zl, ZO, and the weight is "O", [-1],
or "-2".As explained above, according to the present invention, although the weighted standard pattern 2 is used for matching, the standard pattern shown in FIG.
It is sufficient for the memory 1MEM to store the binary standard pattern 1 corresponding to each standard figure. Therefore, the memory capacity of the memory can be reduced by 1% compared to the case where the weighted standard pattern 2 is stored.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図A,Bは本発明にいう2値標準パターンと、重み
付けされた標準パターンとを説明する説明図、第2図は
本発明のパターン認識装置の要部を表わす一実施例構成
、第3図および第4図A,B,Cは本発明にいう重み付
け回路による処理態様を説明する説明図、第5図は重み
付け回路の一実施例構成を示す。 図中、1は2値標準パターン、2は重み付けされた標準
パターン、1MEMは標準パターン・メモリ、3は重み
マスク発生回路、4−0,4−1は夫々重み付け回路、
5は反転回路、6は和回路、8はマツチング回路、「Z
O,Zl,Z2」は重み付けされた標準パターンの1メ
ツシユに対応する3ビツト情報を表わす。
1A and 1B are explanatory diagrams for explaining a binary standard pattern and a weighted standard pattern according to the present invention, and FIG. FIG. 3 and FIGS. 4A, B, and C are explanatory diagrams illustrating processing aspects by the weighting circuit according to the present invention, and FIG. 5 shows the configuration of an embodiment of the weighting circuit. In the figure, 1 is a binary standard pattern, 2 is a weighted standard pattern, 1MEM is a standard pattern memory, 3 is a weight mask generation circuit, 4-0 and 4-1 are weighting circuits, respectively.
5 is an inversion circuit, 6 is a summation circuit, 8 is a matching circuit, "Z
"O, Zl, Z2" represents 3-bit information corresponding to one mesh of the weighted standard pattern.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 標準図形に対応した標準パターンに対して重み付け
が行われて当該重み付けされた標準パターンと認識対象
図形を走査して得た認識対象図形パターンとの照合を行
うパターン認識装置において、上記標準図形に対応した
2値標準パターンを格納する標準パターン・メモリと、
該標準パターン・メモリの内容にもとづいて重み付け処
理を行う重みマスク発生回路と、該重みマスク発生回路
によつて生成された重み付けされた標準パターンと上記
認識対象図形パターンとが入力されて両者の間の照合を
行うマッチング回路とをそなえ、かつ上記重みマスク発
生回路は、上記2値標準パターンに対してm×nメッシ
ュの観測窓が重ね合わされたとき当該観測窓によつて観
測される上記2値標準パターン上のパターンに対応して
、当該パターン内の予め定めた1つのメッシュに予め定
められた重みを生成するよう構成され、上記重みマスク
発生回路によつて生成された重み付けされた標準パター
ンと上記認識対象図形パターンとの照合を行うようにし
たことを特徴とするパターン認識装置。 2 上記重みマスク発生回路は、上記2値標準パターン
の黒領域に対応した重み付け回路と、上記2値標準パタ
ーンの白領域に対応した重み付け回路とをそなえたこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のパターン認識
装置。
[Claims] 1. A pattern recognition device that weights a standard pattern corresponding to a standard figure and matches the weighted standard pattern with a figure pattern to be recognized obtained by scanning the figure to be recognized. a standard pattern memory storing a binary standard pattern corresponding to the standard figure;
A weighted mask generation circuit performs weighting processing based on the contents of the standard pattern memory, and a weighted standard pattern generated by the weighted mask generation circuit and the recognition target graphic pattern are inputted, and a weighting process is performed between the two. and a matching circuit that performs matching, and the weight mask generation circuit is configured to generate the binary values observed by the observation window when an m×n mesh observation window is superimposed on the binary standard pattern. It is configured to generate a predetermined weight for one predetermined mesh in the pattern in accordance with a pattern on the standard pattern, and the weighted standard pattern generated by the weight mask generation circuit and A pattern recognition device characterized in that a comparison is made with the graphic pattern to be recognized. 2. The weight mask generation circuit includes a weighting circuit corresponding to the black area of the binary standard pattern and a weighting circuit corresponding to the white area of the binary standard pattern. The pattern recognition device according to item 1.
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