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JPS5952518B2 - Connector manufacturing method - Google Patents
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JPS5952518B2 - Connector manufacturing method - Google Patents

Connector manufacturing method

Info

Publication number
JPS5952518B2
JPS5952518B2 JP14874077A JP14874077A JPS5952518B2 JP S5952518 B2 JPS5952518 B2 JP S5952518B2 JP 14874077 A JP14874077 A JP 14874077A JP 14874077 A JP14874077 A JP 14874077A JP S5952518 B2 JPS5952518 B2 JP S5952518B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
present
circuit board
metal layer
thin metal
conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP14874077A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5482092A (en
Inventor
馨 大村
武 渡辺
一郎 柴崎
武夫 木村
秀彦 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP14874077A priority Critical patent/JPS5952518B2/en
Publication of JPS5482092A publication Critical patent/JPS5482092A/en
Publication of JPS5952518B2 publication Critical patent/JPS5952518B2/en
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  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高密度化が可能な新規コネクターの製造方法
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a novel connector that allows high density.

最近、電子部品の高密度化が進んでおり、それに伴なつ
て、容易に電子部品の接続を可能にするファインコネク
ターの開発が要請されているが、現在用いられている導
電性ゴムと絶縁性ゴムを交互に積層したコネクターは、
高密度化に限界がある。
Recently, the density of electronic components has been increasing, and along with this, there is a demand for the development of fine connectors that can easily connect electronic components. The connector is made of alternating layers of rubber.
There are limits to high density.

本発明者らは、上記要請に答えるべく鋭意研究した結果
、剥離可能な基板上にフアインライ、ン導体回路を形成
し、次いで基板を剥離して積層し所望の寸法に切断する
ことにより、高信頼性のファインコネクターが得られる
事を見い出し、本発明を完成するに到つた。
As a result of intensive research to answer the above request, the inventors of the present invention have developed a highly reliable circuit by forming a fine-line conductor circuit on a peelable substrate, then peeling the substrates, stacking them, and cutting them into desired dimensions. The present inventors discovered that a fine connector with excellent properties can be obtained, and completed the present invention.

即ち、本発明は、剥離可能な基板上に、ポリマー層を塗
布した後、金属薄層を形成し、該金属薄層にパターンを
生じさせるに充分な量のエネルギーを印加してパターン
を形成し、次いでパターン化された金属薄層上に導電性
金属をメッキして導体回路板を得る工程と、得られた導
体回路板を剥離可能な基板から剥離して積層し、次いで
所望する寸法に切断する積層物切断工程とを有すること
を特徴とするコネクターの製造方法を提供することによ
り、上記目的を達成しようとするものである。
That is, the present invention involves forming a thin metal layer after applying a polymer layer on a peelable substrate, and forming a pattern by applying an amount of energy sufficient to generate a pattern in the thin metal layer. , then plating a conductive metal on the patterned metal thin layer to obtain a conductive circuit board, peeling the obtained conductive circuit board from the peelable substrate, laminating it, and then cutting it into desired dimensions. It is an object of the present invention to achieve the above object by providing a method for manufacturing a connector, which includes a step of cutting a laminate.

本発明に使用される剥離可能な基板としては、テフロン
、シリコン或いは従来公知の剥離剤処理を施したフィル
ム又はシートなどが好ましく使用され、これらの基板と
しては、ポリマーとの接着性がある程度弱いものが選ば
れる。
As the removable substrate used in the present invention, Teflon, silicone, or a film or sheet treated with a conventionally known release agent is preferably used, and these substrates have a somewhat weak adhesion to the polymer. is selected.

本発明に使用されるポリマー層としては、熱分解し難い
特性を有するものが好ましい。
The polymer layer used in the present invention is preferably one that is resistant to thermal decomposition.

また使用する金属薄層に対する密着性は優れているが、
基板に対しては密着性のある程度弱いものが特に好適で
ある。上記ポリマーは熱可塑性でもあるいは熱硬化性で
も使用し得るが、特に熱硬化性のものが好ましい。本発
明に好適に使用され得るポリマーとしては、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート
、ポリアミド、ポりイミド、ポリエステル、シリコンゴ
ムなどを挙げることができ、熱硬化型の場合は適宜の開
始剤或いは硬化剤を配合するとよい。これらは適当な溶
媒に溶解して塗布され、所望の膜厚を得ることができる
。これらは単層でもまた多層構造でも良.く、膜厚とし
てはより好ましい範囲は1〜100μである。本発明に
使用され得る金属薄膜は、ニツケル、銅、チタン、スズ
、インジウム、パラジウム、鉛、亜鉛、ビスマス、テル
ル、鉄、コバルト、アlンチモン、ゲルマニウム、金、
銀、アルミニウム、クロムなどの金属およびこれらの合
金などを、任意の便宜的装置によつて、例えば真空蒸気
、スパツタリング、イオンブレーテイングなどの方法に
より形成することができ、これらは一層,でもよく、ま
た必要に応じ二層以上の多層構造としても良い。
In addition, the adhesion to the thin metal layer used is excellent, but
Particularly suitable is one that has a somewhat weak adhesion to the substrate. The above-mentioned polymers can be either thermoplastic or thermosetting, but thermosetting ones are particularly preferred. Examples of polymers that can be suitably used in the present invention include epoxy resins, phenolic resins, polyurethanes, polycarbonates, polyamides, polyimides, polyesters, silicone rubbers, etc. In the case of thermosetting types, suitable initiators or It is advisable to add a hardening agent. These can be applied by dissolving them in a suitable solvent to obtain a desired film thickness. These may have a single layer or multilayer structure. However, a more preferable range of film thickness is 1 to 100 μm. Metal thin films that can be used in the present invention include nickel, copper, titanium, tin, indium, palladium, lead, zinc, bismuth, tellurium, iron, cobalt, antimony, germanium, gold,
Metals such as silver, aluminum, chromium, and alloys thereof, etc., can be formed by any convenient equipment, such as vacuum steaming, sputtering, ion blating, etc.; Moreover, it may have a multilayer structure of two or more layers, if necessary.

膜厚としては、50人〜1μ特に100〜5000入が
好ましい範囲である。本発明に使用される金属薄層にパ
ターンを形成する方法としては、マスクを用いて露光す
る方法二或いは画像状に変調されたエネルギーを走査さ
せる方法などがあり、露光部の金属薄層が分散除去され
るに充分な量のエネルギーを印加せしめる。
The film thickness is preferably in the range of 50 to 1μ, particularly 100 to 5000. Methods for forming a pattern on the thin metal layer used in the present invention include exposure using a mask and scanning with image-modulated energy, so that the thin metal layer in the exposed area is dispersed. A sufficient amount of energy is applied to remove the material.

エネルギーの種類としては、輻射エネルギーおよび粒子
エネルギーがあり、これらはパルス型がよCり好ましい
。たとえば、フラツシユランプ、赤外線ランプ、レーザ
ー、電子ビーム等を挙げることができる。本発明に使用
される導電性金属のメツキ法としては、無電解メツキ法
或いは電気メツキ法などがあり、これらは単独或いは併
用して用いることができる。
Types of energy include radiant energy and particle energy, and pulse type is more preferable. Examples include flash lamps, infrared lamps, lasers, and electron beams. The conductive metal plating method used in the present invention includes an electroless plating method and an electroplating method, and these methods can be used alone or in combination.

導電性金属としては銅、銀、金、ニツケル、スズなどが
あり、通常公知の方法によつてメツキが行なわれる。本
発明に用いられる導体回路板を基板から剥離して積層す
る方法としては、剥離した導体回路板をそのま・積層し
てもよいが、導体回路板のポリマー層が半硬化の状態で
、別の基板上(その上にポリマー層を塗布)に導体回路
板を基板から剥離転移し、剥離転移をくり返して積層し
た後、加熱圧着する方法が好ましい。
Examples of conductive metals include copper, silver, gold, nickel, and tin, and plating is usually performed by a known method. As for the method of peeling the conductor circuit board used in the present invention from the substrate and laminating it, the peeled conductor circuit board may be laminated as is, but the polymer layer of the conductor circuit board is in a semi-cured state and then separated. A preferred method is to peel and transfer the conductive circuit board from the substrate (on which a polymer layer is applied), repeat the peeling and transfer to laminate, and then heat and press the board.

本発明にかかる導体回路板を積層したものを所望の寸法
に切断する方法としては、従来公知の法が用いられる。
A conventionally known method can be used to cut the laminated conductive circuit board according to the present invention into desired dimensions.

また、より信頼性を向上する為に、切断後端子部の個々
の端子に導電性金属をメツキしても良く、更に必要に応
じて個々の端子にメツキした後に、熱処理などの処理を
施しても良い。
In addition, in order to further improve reliability, each terminal of the terminal section may be plated with a conductive metal after cutting, and if necessary, heat treatment or other treatment may be applied after plating each terminal. Also good.

以下に本発明の態様を一層明確にするために、実施例を
挙げて説明するが、本発明は以下の実施例に限定される
ものではなく、種々の変形が可能である。
EXAMPLES In order to further clarify aspects of the present invention, examples will be described below, but the present invention is not limited to the following examples, and various modifications are possible.

実施例 テフロンシート上に、ボスチツク杜製エポキシ系接着剤
「XA−564−4」を乾燥後50μ厚になるように塗
布して、180℃で10分間加熱した後に、銅を100
人厚に、次いでニツケルを100人厚に蒸着した。
Example: On a Teflon sheet, epoxy adhesive "XA-564-4" manufactured by Bostikku Mori was applied to a thickness of 50 μm after drying, heated at 180°C for 10 minutes, and then coated with 100 μm of copper.
Next, nickel was deposited to a thickness of 100 people.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 剥離可能な基板上にポリマー層を塗布した後、金属
薄層を形成し、該金属薄層にパターンを生じさせるに充
分な量のエネルギーを印加してパターンを形成し、次い
でパターン化された金属薄層上に導電性金属をメッキし
て導体回路板を得る工程と、得られた導体回路板を剥離
可能な基板から剥離して積層し、次いで所望する寸法に
切断する積層物切断工程とを有することを特徴とするコ
ネクターの製造方法。
1. After applying a polymer layer on a peelable substrate, forming a thin metal layer and applying an amount of energy sufficient to cause a pattern to the thin metal layer to form a pattern; a step of plating a conductive metal on a thin metal layer to obtain a conductive circuit board; a laminate cutting step of peeling the obtained conductor circuit board from a peelable substrate, laminating it, and then cutting it into desired dimensions; A method for manufacturing a connector, characterized by having the following.
JP14874077A 1977-12-13 1977-12-13 Connector manufacturing method Expired JPS5952518B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14874077A JPS5952518B2 (en) 1977-12-13 1977-12-13 Connector manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14874077A JPS5952518B2 (en) 1977-12-13 1977-12-13 Connector manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5482092A JPS5482092A (en) 1979-06-29
JPS5952518B2 true JPS5952518B2 (en) 1984-12-20

Family

ID=15459552

Family Applications (1)

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JP14874077A Expired JPS5952518B2 (en) 1977-12-13 1977-12-13 Connector manufacturing method

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JPS5482092A (en) 1979-06-29

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