JPS6020390B2 - １−カルボキシベンゾピラン類の製造法 - Google Patents
１−カルボキシベンゾピラン類の製造法Info
- Publication number
- JPS6020390B2 JPS6020390B2 JP6147275A JP6147275A JPS6020390B2 JP S6020390 B2 JPS6020390 B2 JP S6020390B2 JP 6147275 A JP6147275 A JP 6147275A JP 6147275 A JP6147275 A JP 6147275A JP S6020390 B2 JPS6020390 B2 JP S6020390B2
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- Japan
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- represented
- general formula
- carboxybenzopyrans
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
（式中、Ｒ，およびＲ２は低級ァルキル基を表す）で示
される１ーカルボキシベンゾピラン類（ｍ）の製造法に
関するものである。
される１ーカルボキシベンゾピラン類（ｍ）の製造法に
関するものである。
本発明に関連する従来技術としては、フェネチルアルコ
ール類とホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒド
とを反応させることによって環化したペンゾピラン（イ
ンクロマン）類を得る方法が知られている（フランス特
許第２０８８８８６号）。しかしながら、このようなア
ルデヒド‘こ代えて、ケトンとの反応については不明で
ある。上記技術状況に鑑み、本発明者らは新規ペンゾピ
ラン類を得るべく、フェネチルアルコール類とケトンと
の反応を検討した結果、本発明を完成させるに至った。
ール類とホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒド
とを反応させることによって環化したペンゾピラン（イ
ンクロマン）類を得る方法が知られている（フランス特
許第２０８８８８６号）。しかしながら、このようなア
ルデヒド‘こ代えて、ケトンとの反応については不明で
ある。上記技術状況に鑑み、本発明者らは新規ペンゾピ
ラン類を得るべく、フェネチルアルコール類とケトンと
の反応を検討した結果、本発明を完成させるに至った。
その要旨は次の式によって示される。
（式中、Ｒ，，Ｒ２およびＲ３は低級アルキル基を表す
）。
）。
本合成法によれば前記の１−力ルボキシベンゾピラン類
は３ーアルコキシフェネチルアルコール類（１）とケト
カルポン酸ェステル類（ロ）とを無触媒あるいは塩酸、
パラトルェンスルホン酸、トリクロル酢酸等の触媒の存
在下、無溶媒あるいは適当な溶媒中反応させることによ
って製造される。この時の溶媒としては反応に関与しな
いものなら何でもよく、例えばメタノール、エタノール
、プロパノール、ブタノール類等の低級アルコール類で
あり、また（ロ）のケトカルボン酸ェステル類をそのま
ま溶媒とすることも出釆る。
は３ーアルコキシフェネチルアルコール類（１）とケト
カルポン酸ェステル類（ロ）とを無触媒あるいは塩酸、
パラトルェンスルホン酸、トリクロル酢酸等の触媒の存
在下、無溶媒あるいは適当な溶媒中反応させることによ
って製造される。この時の溶媒としては反応に関与しな
いものなら何でもよく、例えばメタノール、エタノール
、プロパノール、ブタノール類等の低級アルコール類で
あり、また（ロ）のケトカルボン酸ェステル類をそのま
ま溶媒とすることも出釆る。
反応温度は常温から２００ｏｏ程度が好ましい。反応時
間は１時間から３餌時間程度である。次に使用するケト
カルボン酸ェステル類（ロ）としては、アルキル基とし
て低級アルキル基すなわちメチル基、エチル基およびプ
ロピル基等があり、ェステル基としては低級アルキルェ
ステルすなわちメチルエステル、エチルエステルおよび
プロピルェステル等がある。
間は１時間から３餌時間程度である。次に使用するケト
カルボン酸ェステル類（ロ）としては、アルキル基とし
て低級アルキル基すなわちメチル基、エチル基およびプ
ロピル基等があり、ェステル基としては低級アルキルェ
ステルすなわちメチルエステル、エチルエステルおよび
プロピルェステル等がある。
またカルボン酸ヱステル類（Ｗ）をアルカリまたは酸触
媒の存在下加水分解してカルボン酸（ｍ）を製造するこ
とが出来る。
媒の存在下加水分解してカルボン酸（ｍ）を製造するこ
とが出来る。
触媒としては、アルカリ触媒として水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭カリウム等があり
、水あるし、は含水アルコール等の溶媒で加水分解する
。
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭カリウム等があり
、水あるし、は含水アルコール等の溶媒で加水分解する
。
また酸触媒としては塩酸、臭化水素酸、硫酸等がある。
本発明者らは先に３ーヒドロキシフェネチルアミン類と
カルボニル化合物との反応により、種々の１，１ージ置
換インキノリン類を合成した（特許第６１１８９４号、
同第６５７８９６号）。
本発明者らは先に３ーヒドロキシフェネチルアミン類と
カルボニル化合物との反応により、種々の１，１ージ置
換インキノリン類を合成した（特許第６１１８９４号、
同第６５７８９６号）。
今回はフェネチルアミンの窒素原子を酸素原子に置き換
えてペンゾピラン類の合成に応用した。当該化合物は抗
炎症作用等を有し、医療上の価値を有する。次に実施例
にて本発明を説明するが、これらをもって本発明が制限
されるものでない。
えてペンゾピラン類の合成に応用した。当該化合物は抗
炎症作用等を有し、医療上の価値を有する。次に実施例
にて本発明を説明するが、これらをもって本発明が制限
されるものでない。
実施例 １
３，４−ジヒドロ−６−メトキシー１ーメトキシカルボ
ニル−１−メチル−ＩＨーベンゾピランの製造法３−メ
トキシフエネチルアルコール０．５夕、ピルビン酸メチ
ル３柵およびパラトルェンスルホン酸０．１９の混合物
を１００ｏで１筋寺間加熱する。
ニル−１−メチル−ＩＨーベンゾピランの製造法３−メ
トキシフエネチルアルコール０．５夕、ピルビン酸メチ
ル３柵およびパラトルェンスルホン酸０．１９の混合物
を１００ｏで１筋寺間加熱する。
反応終了後、過剰のピルビン酸メチルを減圧下留去する
。残留物をエーテル２０の‘に溶解し、水洗する。エー
テル層を硫酸ナトリウムで乾燥し留去する。残留物とし
て油状物６２０の９を得る。赤外線吸収スペクトル（ｌ
ｉｑｕｉｄ） １７３０ｃの−１（Ｃ＝０） 核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＣ１４） １．６０（３日，一重線，ＣＨ３） ２．８０（２日，三重線，ＣＨ２） ３．６５（犯，一重線，ＯＣＨ３） ３．７０（３日，一重線，ＣＯＯＣＨ３）４．０５（２
日，三重線，Ｃ比） ６．５〜６．９（２日，多重線、芳香核プロトン）７．
２６（ＩＨ，二重線，芳香核プロトン，Ｊ＝８．細Ｚ）
実施例 ２１ーカルボキシー３，４ージヒドロ−６−メ
トキシ−１−メチル−ＩＨ一２ーベンゾピランの製造法
３，４−ジヒドロ−６−メトキシ−１−メトキシカルボ
ニルー１ーメチル−ＩＨ−ペンゾピラン３夕と１０％水
酸化ナトリウム水溶液２０の｛の混合物を１００ｏ０に
て１時間加熱する。
。残留物をエーテル２０の‘に溶解し、水洗する。エー
テル層を硫酸ナトリウムで乾燥し留去する。残留物とし
て油状物６２０の９を得る。赤外線吸収スペクトル（ｌ
ｉｑｕｉｄ） １７３０ｃの−１（Ｃ＝０） 核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＣ１４） １．６０（３日，一重線，ＣＨ３） ２．８０（２日，三重線，ＣＨ２） ３．６５（犯，一重線，ＯＣＨ３） ３．７０（３日，一重線，ＣＯＯＣＨ３）４．０５（２
日，三重線，Ｃ比） ６．５〜６．９（２日，多重線、芳香核プロトン）７．
２６（ＩＨ，二重線，芳香核プロトン，Ｊ＝８．細Ｚ）
実施例 ２１ーカルボキシー３，４ージヒドロ−６−メ
トキシ−１−メチル−ＩＨ一２ーベンゾピランの製造法
３，４−ジヒドロ−６−メトキシ−１−メトキシカルボ
ニルー１ーメチル−ＩＨ−ペンゾピラン３夕と１０％水
酸化ナトリウム水溶液２０の｛の混合物を１００ｏ０に
て１時間加熱する。
反応終了後ヱー７ル洗浄して、水層を塩酸酸性としてエ
ーテル抽出する。エーテル層を硫酸ナトリウム乾燥し溶
媒留去する。残留物として淡黄色カラメル状物２．１夕
を得る。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ） １７００ｃＭ１（Ｃニ０） 核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤＣ１３）１．７（３日
，一重線，ＣＨ３） ２．７（２日，三重線，Ｃ比） ３．７（知日，一重線，ＯＣＨ３） ４．０（２日，三重線，ＣＨ２） ６．５〜６．９（２日，多重線，芳香核プロトン）７．
４（ＩＨ，二重線，芳香核プロトン，Ｊ＝８．犯Ｚ）１
０．５（ＩＨ，一重線，ＣＯＯＨ）
ーテル抽出する。エーテル層を硫酸ナトリウム乾燥し溶
媒留去する。残留物として淡黄色カラメル状物２．１夕
を得る。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ） １７００ｃＭ１（Ｃニ０） 核磁気共鳴スペクトル ６（ＣＤＣ１３）１．７（３日
，一重線，ＣＨ３） ２．７（２日，三重線，Ｃ比） ３．７（知日，一重線，ＯＣＨ３） ４．０（２日，三重線，ＣＨ２） ６．５〜６．９（２日，多重線，芳香核プロトン）７．
４（ＩＨ，二重線，芳香核プロトン，Ｊ＝８．犯Ｚ）１
０．５（ＩＨ，一重線，ＣＯＯＨ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を表す）で示される
３−アルコキシフエネチルアルコール（I）と一般式Ｒ
＿２ＣＯＣＯＯＲ＿３ （II） （式中、Ｒ＿２およびＲ＿３は低級アルキル基を表す
）で示されるケトカルボン酸エステル（II）とを反応さ
せた後、加水分解することを特徴とする一般式▲数式、
化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は低級アルキル基を表す
）で示される１−カルボキシベンゾピラン類（III）の
製造法。 ２ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１，Ｒ＿２およびＲ＿３は低級アルキル
基を表す）で示される１−アルコキシカルボニルベンゾ
ピラン類（IV）を加水分解することを特徴とする一般式
▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１お
よびＲ＿２は低級アルキル基を表す）で示される１−カ
ルボキシベンゾピラン類（III）の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6147275A JPS6020390B2 (ja) | 1975-05-24 | 1975-05-24 | １−カルボキシベンゾピラン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6147275A JPS6020390B2 (ja) | 1975-05-24 | 1975-05-24 | １−カルボキシベンゾピラン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51138681A JPS51138681A (en) | 1976-11-30 |
| JPS6020390B2 true JPS6020390B2 (ja) | 1985-05-21 |
Family
ID=13172020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6147275A Expired JPS6020390B2 (ja) | 1975-05-24 | 1975-05-24 | １−カルボキシベンゾピラン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6020390B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6390396A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 溶接台車 |
-
1975
- 1975-05-24 JP JP6147275A patent/JPS6020390B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6390396A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 溶接台車 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51138681A (en) | 1976-11-30 |
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