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JPS6015278B2 - Drive circuit for thin film EL element - Google Patents
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JPS6015278B2 - Drive circuit for thin film EL element - Google Patents

Drive circuit for thin film EL element

Info

Publication number
JPS6015278B2
JPS6015278B2 JP13052977A JP13052977A JPS6015278B2 JP S6015278 B2 JPS6015278 B2 JP S6015278B2 JP 13052977 A JP13052977 A JP 13052977A JP 13052977 A JP13052977 A JP 13052977A JP S6015278 B2 JPS6015278 B2 JP S6015278B2
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JP
Japan
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electrode
voltage
transistor
thin film
circuit
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Application number
JP13052977A
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雅博 伊勢
憲三 稲崎
勝行 町野
忠二 鈴木
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はメモリ付薄膜EL素子の書込み駆動時に生じる
書込み絵素を消去する現象を防止する回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a circuit that prevents the phenomenon of erasing written picture elements that occurs during write driving of a thin film EL element with memory.

メモリ付薄膜ELマトリックス素子の構成及び特性は本
件出願人が出願した特願昭50−83767号「大容量
・性表示素子の駆動回路」(特閥昭52一6412号公
報参照)その他に説明したが、もう一度簡単に説明する
The structure and characteristics of the thin film EL matrix element with memory are explained in Japanese Patent Application No. 83767/1983 filed by the applicant entitled "Drive Circuit for Large Capacity/Gender Display Element" (see Japanese Patent Application Publication No. 52-6412) and others. However, I will briefly explain it again.

薄膜EL表示装置はガラス基板の上に透明電極を縞状に
配置し、この上に例えばY203、Si3N4、Ti0
2、Ai203等の誘電物質を、更にこの上に例えばM
nをドープしたZnS(黄燈発光)等の鞍光届を、その
上に更にY203、Si3N4、Ti02、AI203
等の誘電物質を蒸着法、スパッタ法等の薄膜技術により
500〜10000Aの厚さに被着して2重絶縁型3層
構造にして、その上に上記透明電極と直交する方向に縞
状電極を配置しマトリックス形電極を構成する。
In a thin film EL display device, transparent electrodes are arranged in stripes on a glass substrate, and on this, for example, Y203, Si3N4, Ti0
2. A dielectric material such as Ai203 is further applied, for example, M
N-doped ZnS (yellow light emitting), etc., and on top of that, Y203, Si3N4, Ti02, AI203
A dielectric material such as the above is deposited to a thickness of 500 to 10,000 A using thin film techniques such as vapor deposition or sputtering to form a double-insulated three-layer structure, and a striped electrode is placed on top of the dielectric material in a direction orthogonal to the transparent electrode. are arranged to form a matrix electrode.

かかる構造の3層構造薄膜EL表示菱直において、第1
の電極群のうちの一つと第2の電極群のうちの一つを選
び適当な交流電圧を印加すると、この両電極が交差して
挟まれた微少面積部分が発光する。これが画面の一絵素
に相当する。これの組合せによって、文字、記号模様等
を表示する。このような構造のELは輝度や寿命、安定
性の点で従釆の分散型EL素子に比して優れた特性を有
しているが、このELは新たに印加電圧と発光輝度の間
にヒステリシス特性を示す。
In a three-layer thin film EL display with such a structure, the first
When one of the electrode groups and one of the second electrode group are selected and an appropriate alternating current voltage is applied, a small area sandwiched between the two electrodes crosses and emits light. This corresponds to one picture element on the screen. By combining these, characters, symbol patterns, etc. are displayed. ELs with this type of structure have superior characteristics in terms of brightness, lifespan, and stability compared to conventional distributed EL elements, but this EL has a new effect between applied voltage and luminance. Shows hysteresis characteristics.

最初電圧振幅V,のパルスを印加すると、輝度は低レベ
ルの輝度B,にある。ここで維持電圧V,は発光関値電
圧VthとするとV,>V仇である。維持電圧V,の連
続印加では輝度B,は維持される。次に書込み電圧V2
を印加すると、輝度は高レベルの輝度&まで一挙に上昇
し、以後一定時間内に電圧が維持電圧V,に再び戻して
も輝度は先の輝度B,より大きい輝度&に落着く。維持
電圧V,の連続印加では輝度B2は維持される。この状
態のとき、次に消去電圧V3を印加すると、輝度レベル
は急激に減少し、再び維持電圧V,まで戻すと、前の低
レベルの輝度B,に落着く。この履歴現象は書き込み電
圧の振幅やパルス幅(図示せず)、パルス周波数に応じ
て任意の小ループをとりうる。即ち中間調の表示も可能
である。このように一度書込み電圧、又は消去電圧を与
えると、各絵素は維持パルスによってそれぞれ与えられ
た階調を失わずに発光し続けるのが、このEL表示装置
の他の表示装置に無い大きな特徴である。
When first applying a pulse of voltage amplitude V, the brightness is at a low level of brightness B,. Here, the sustaining voltage V, is V,>V, where Vth is the light emission function voltage. When the sustaining voltage V, is continuously applied, the brightness B, is maintained. Next, write voltage V2
When V is applied, the brightness increases all at once to a high level of brightness &, and even if the voltage is returned to the maintenance voltage V again within a certain period of time, the brightness settles to the previous brightness B, which is higher brightness &. The brightness B2 is maintained by continuously applying the sustaining voltage V. In this state, when the erase voltage V3 is next applied, the brightness level decreases rapidly, and when it is returned to the sustaining voltage V, it settles to the previous low level of brightness B. This hysteresis phenomenon can take any small loop depending on the amplitude, pulse width (not shown), and pulse frequency of the write voltage. That is, it is also possible to display halftones. A major feature of this EL display device, which other display devices do not have, is that once a write voltage or erase voltage is applied, each picture element continues to emit light without losing the gradation given to it by the sustain pulse. It is.

上記の各電圧は組成や膜厚の物理条件や製造条件、印加
波形により大分異なるが、因みにある試作例ではVth
=200V、V,:210V、V2=210〜280V
、V3=190Vである。本発明は上託した3層構造薄
膜EL表示装置の駆動回路に関し、本発明の−実施例の
回路を第1図に示して、以下これを説明する。
Each of the above voltages varies depending on the physical conditions of composition and film thickness, manufacturing conditions, and applied waveform, but in a prototype example, Vth
=200V, V, :210V, V2=210~280V
, V3=190V. The present invention relates to a driving circuit for a three-layer thin film EL display device, and a circuit according to an embodiment of the present invention is shown in FIG. 1 and will be described below.

10は前記薄膜EL素子であり、ここでは透明電極11
よりなる列X電極X,〜Xmと、アルミニウム電極12
よりなる行Y鰭極Y,〜Ynのみを示す。
10 is the thin film EL element, here the transparent electrode 11
A row of X electrodes X, ~Xm consisting of an aluminum electrode 12
Only the row Y fin poles Y, ~Yn are shown.

薄膜誼L素子は×電極の右端に読出し駆動時に用いる参
照電極rを有する。20はY電極へ正の維持電圧ys,
を電源ラインAより供孫舎する回路で、トランジスタ2
1,22よりなり、各電極Y,〜Ynとはダイオード2
01,・・・…を介して接続する。
The thin film L element has a reference electrode r used at the time of read drive at the right end of the x electrode. 20 is a positive sustaining voltage ys to the Y electrode,
In this circuit, transistor 2 is connected from power supply line A.
1 and 22, and each electrode Y, ~Yn is a diode 2.
Connect via 01, . . .

30はX電極をアースに導くスイッチング回路で、各電
極X,〜Xmに高耐圧トランジスタ31・・・・・・・
が電極X,〜Xmとアース間に接続される。
30 is a switching circuit that leads the X electrode to ground, and a high voltage transistor 31 is connected to each electrode X, ~Xm.
is connected between electrodes X, ~Xm and ground.

このトランジスタのベースには、ラインBに加えられる
維持信号SUS4と謙出し信号READがダイオード3
2,……を介して加えられ、またラインCに加えられる
書込み信号WRITE、消去信号ERASEと維持信号
SUS4が水平バイナリアドレス信号によって動作する
アナログスイッチ33を介して加えられる。このトラン
ジスタ31,……は維持パルスを薄膜EL素子の全面に
印加するスイッチング素子として作用し、また賢込み消
去、読出しの時の電極を選択するスイッチング素子とし
て作用する。40は全ての×電極へラインDより正の維
持電圧Vs,を供尊給する回路で、ライン8に加えられ
る維持信号SUS3によって動作するトランジスタ41
,42よりなり、各電極X,〜Xmとはダイオード43
.・・・・・・を介して接続される。
The base of this transistor has a diode 3 connected to the sustain signal SUS4 and the readout signal READ applied to the line B.
A write signal WRITE, an erase signal ERASE and a sustain signal SUS4 applied via lines C and C are applied via an analog switch 33 operated by a horizontal binary address signal. The transistors 31, . . . act as switching elements that apply sustain pulses to the entire surface of the thin film EL element, and also act as switching elements that select electrodes during smart erasing and reading. 40 is a circuit that supplies a positive sustaining voltage Vs from line D to all × electrodes, and a transistor 41 is operated by a sustaining signal SUS3 applied to line 8.
, 42, and each electrode X, ~Xm is a diode 43
.. Connected via...

50は全てのY電極ぷ,〜Ynをアースに導く回路で、
各電極はダイオード51.・・・・・・を介して維持信
号SUS2によって動作するトランジスタ52に接続さ
れる。
50 is a circuit that leads all Y electrodes P, ~Yn to ground,
Each electrode is a diode 51. . . , to the transistor 52 operated by the sustain signal SUS2.

60はY電極び,〜Ynを選択するスイッチング回路で
、各電極と電源ラインFの電圧V肥r間に高耐圧スイッ
チングトランジスタ61,・・・・・・とダイオード6
2.・・・・・・が接続され、上記トランジスタ61は
垂直バィナリアドレス信号によって、動作するデコーダ
63により選択動作される。
60 is a switching circuit for selecting the Y electrodes and Yn, and a high voltage switching transistor 61, . . . and a diode 6 is connected between each electrode and the voltage V of the power supply line F.
2. . . . are connected, and the transistor 61 is selectively operated by a decoder 63 operated in response to a vertical binary address signal.

デコーダ63は高電圧トランジスタにより直接トランジ
スタ61のベースを駆動するよう機成され、或いはオプ
トアイソレータ等によりバィナリアドレス信号のレベル
シフトを行い、5ボルト程度の出力によりトランジスタ
61のベースを駆動するよう構成される。上記電源ライ
ンFは後述する第2図の回路によって書込み電圧、消去
電圧、読出し電圧を薄膜EL素子の動作モードに合わせ
て選択的に出力し、上記トランジスタ61の1個を通し
て選ばれたY電極の1つに上記電圧を印加する。70は
トランジスタ71,……のコレクタをX電極にそれぞれ
接続して×電極を選択する選択講出しスイッチング回路
である。
The decoder 63 is configured to directly drive the base of the transistor 61 with a high voltage transistor, or to level shift the binary address signal using an opto-isolator or the like and drive the base of the transistor 61 with an output of about 5 volts. be done. The power supply line F selectively outputs a write voltage, an erase voltage, and a read voltage according to the operation mode of the thin-film EL element by a circuit shown in FIG. 2, which will be described later. The above voltage is applied to one. 70 is a selective switching circuit which connects the collectors of the transistors 71, . . . to the X electrodes and selects the X electrode.

上記トランジスタ71,・・・・・・のェミツタは全て
講出し電流検出用抵抗R,に接続される。トランジスタ
71,….・・はバイナリアドレス信号を受けてその出
力がベースに供V給されるアナログマルチプレクサ72
によって選択的に1個のトランジスタのオン・オフが制
御される。このアナログマルチプレクサにはRCA製C
D−4051が適当である。上記アナログマルチプレク
サはMOSトランジスタで構成されており、MOSトラ
ンジスタは電圧制御型素子であるので、入力ゲート容量
が数pF以下と小さく、そのため僅かな過渡電流が流れ
た後は電流が流れない。しかも論出し電流検出用抵抗R
,の両端は逆並列に接続したダイオードでクランプされ
ているので、両端の電位降下は0.7V以上にはならな
い。このためアナログマルチプレクサのアドレス入力は
バイナリアドレス回路の出力からせいぜい0.7V下が
るのみであり、この程度ではアナログマルチプレクサ中
のデコーダの動作には全く問題がない。特にC−MOS
を用いればロジック動作には裕んど電流が要らず、選択
トランジスタのベース電流分のみが主として流れるだけ
であり消費電力はごく僅かである。80は議出し回路で
、トランジスタ81は議出し時と維持駆動時に全ての×
電極をアースする時、インバータ82を介して得られる
信号SUS4とREADによってオンになり、論出し時
には消去電流を除去するための参照電流を抵抗R2に発
生させるためのトランジスタである。
The emitters of the transistors 71, . . . are all connected to an output current detection resistor R. Transistor 71,... ... is an analog multiplexer 72 which receives a binary address signal and whose output is supplied to the base.
The on/off of one transistor is selectively controlled by. This analog multiplexer has RCA C
D-4051 is suitable. The analog multiplexer is made up of MOS transistors, and since the MOS transistors are voltage-controlled elements, the input gate capacitance is as small as several pF or less, so no current flows after a small transient current flows. Moreover, the resistance for current detection R
, are clamped by diodes connected in antiparallel, so the potential drop across both ends does not exceed 0.7V. Therefore, the address input of the analog multiplexer is only 0.7 V lower than the output of the binary address circuit, and at this level there is no problem at all with the operation of the decoder in the analog multiplexer. Especially C-MOS
If this is used, the logic operation does not require much current, and only the base current of the selection transistor flows, resulting in very little power consumption. Reference numeral 80 is an output circuit, and a transistor 81 is used to control all the
When the electrode is grounded, this transistor is turned on by the signals SUS4 and READ obtained through the inverter 82, and is used to generate a reference current in the resistor R2 to remove the erase current during logic logic.

このときトランジスタ81のベース電流が電流検出用抵
抗R2に流れるのを防止するため、トランジスタ81が
オフの期間常に一定電圧を供給し、トランジスタ81が
オンのときだけコンデンサC,により抵抗R3とともに
構成する時定数(=C,R3)の時間だけトランジスタ
81をオンにして、ベース電流はコンデンサC,、抵抗
R3のベースェミッタ間を流れるよう工夫されている。
増幅器83は抵抗R,に得られる読出電流と抵抗R2が
得られる参照電流を受け、同相の信号成分、即ち続出電
流中の変位電流を除去する。この増幅器83の出力はし
ベル検出及び判定回路に接続され、薄膜EL素子の選択
された絵素の発光状態(書込み状態と消去状態)を検出
する。第2図は第1図の回路において、維持電圧、誓込
み電圧、消去電圧、議出し電圧を供v給する電源回路を
示し、維持電圧に等しい電圧を持つ電源101はトラン
ジスタ102を介して電源ラインA,Dに維持電圧ys
,を供給する。
At this time, in order to prevent the base current of the transistor 81 from flowing to the current detection resistor R2, a constant voltage is always supplied while the transistor 81 is off, and only when the transistor 81 is on, the capacitor C is configured together with the resistor R3. The transistor 81 is turned on for a time equal to a time constant (=C, R3), and the base current flows between the capacitor C and the base emitter of the resistor R3.
The amplifier 83 receives the read current obtained through the resistor R, and the reference current obtained through the resistor R2, and removes the in-phase signal component, ie, the displacement current in the successive current. The output of this amplifier 83 is connected to a bell detection and determination circuit to detect the light emitting state (written state and erased state) of the selected picture element of the thin film EL element. FIG. 2 shows a power supply circuit that supplies the sustain voltage, commit voltage, erase voltage, and reset voltage in the circuit of FIG. Maintaining voltage ys on lines A and D
, is supplied.

トランジスタ102はこのトランジスタのコレクタベー
ス間に挿入された抵抗R4によって常にベース電流が供
給されており常時オンしている。またトランジスタ10
2のベースとアース間に抵抗R5とコンデンサC2の並
列回路と全面消去用トランジスタ103が挿入される。
トランジスタ103のベースに全面消去信号ALERA
SEが加えられるとき、トランジスタ103がオンして
トランジスタ102のベースがアースされる。このため
電源ラインA,Dの電圧は維持電圧以下、即ち消去電圧
以下あるいは消去電圧になる。しかし、トランジスタ1
02のベースにコンデンサC2と抵抗R5が接続されて
いるため、この時定数(約数100の秒)に従ってトラ
ンジスタ102のコレクタェミツタ間の電圧際下は小さ
くなり、除々に維持電圧ys,に回復する。電源ライン
A,Dは回路20のラインAと40ラインDに電圧を供
給するので、回路20,30,40と50のスイッチン
グ動作により薄膜EL素子全電極にX電極より、あるい
はY電極より維持電圧Vs又は消去電圧が加えられ、薄
膜EL素子は交番に維持駆動と全面消去駆動をする。ト
ランジスタ104は抵抗R6とR7によって設定されて
ライン105に消去電圧を供v給する。
The transistor 102 is constantly supplied with base current by a resistor R4 inserted between the collector and base of this transistor, and is always turned on. Also, transistor 10
A parallel circuit of a resistor R5 and a capacitor C2, and a full erase transistor 103 are inserted between the base of the transistor 2 and the ground.
The entire erase signal ALERA is applied to the base of the transistor 103.
When SE is applied, transistor 103 is turned on and the base of transistor 102 is grounded. Therefore, the voltages of the power supply lines A and D become equal to or lower than the sustain voltage, that is, equal to or lower than the erase voltage. However, transistor 1
Since the capacitor C2 and the resistor R5 are connected to the base of the transistor 102, the voltage drop between the collector and emitter of the transistor 102 decreases according to this time constant (about several hundred seconds), and gradually recovers to the maintenance voltage ys. do. Since the power supply lines A and D supply voltage to the lines A and 40 of the circuit 20 and D, the switching operations of the circuits 20, 30, 40, and 50 apply a maintaining voltage to all electrodes of the thin film EL element from the X electrode or from the Y electrode. Vs or an erase voltage is applied, and the thin film EL element alternately performs sustain drive and full erase drive. Transistor 104 is set by resistors R6 and R7 to provide an erase voltage on line 105.

ライン105には消去信号ERASEによって動作する
トランジスタ106,107が挿入され、消去信号が加
えられるとき回路60の電源ラインF‘こ消去電圧を供
給する。消去信号ERASEが発生するとき、選択絵素
を含むX電極とY電極を選択するため、水平バイナリア
ドレス信号がアナログスイッチ33に加えられ、トラン
ジスタ31を選択し、また垂直バィナリアドレス信号が
デコーダ63に加えられ、トランジスタ61を選択する
。トランジスタ108はライン109に読出し電圧を供
V給する。トランジスタ108は議出し信号READに
よって動作するトランジスタ11川こよってオンオフ制
御される。議出し信号READが得られるとき、選択絵
素を含む×電極とY電極を選択するため、前述のように
動作してトランジスタ61の1個がオンになり、トラン
ジスタ31の1個だけがオフになり、トランジスタ71
の1個がオンになる。しかして読出し出力が抵抗R,に
現われ、これが同相除去増幅器83を経て議出し信号を
検出する。トランジスタ111と112は常時オンして
おりコンデンサC3に図示する極性に充電する。
Transistors 106 and 107 operated by the erase signal ERASE are inserted in the line 105, and when the erase signal is applied, the power supply line F' of the circuit 60 supplies an erase voltage. When the erase signal ERASE is generated, a horizontal binary address signal is applied to the analog switch 33 to select the transistor 31, and a vertical binary address signal is applied to the decoder 63 to select the X electrode and Y electrode containing the selected picture element. is added to select transistor 61. Transistor 108 provides a read voltage on line 109. The transistor 108 is turned on and off by the transistor 11 operated by the read signal READ. When the output signal READ is obtained, in order to select the x electrode and the Y electrode that include the selected picture element, one of the transistors 61 is turned on and only one of the transistors 31 is turned off as described above. Therefore, transistor 71
One of them is turned on. The readout output then appears at resistor R, which passes through common mode rejection amplifier 83 to detect the readout signal. Transistors 111 and 112 are always on and charge capacitor C3 to the polarity shown.

書込み信号WRITEが加えられると、ィンバータ11
3を介してトランジスタ112のベース電位を0電位に
してこれをオフさせる。一方、信号WRITEによつて
トランジスタ1 14,1 15,116がオンし、コ
ンデンサC3の一側を電源101の電位に持ち上げ、従
ってトランジスタ111をオフして、ライン117に電
源101とコンデンサC3の充電電圧の合計電圧を供給
する。コンデンサC3の充電電圧は書込み電圧と電源1
01の電圧の差の電圧に設定されているのでライン11
7には書込み電圧が得られる。書込み信号が得られると
き、選択絵素を含むX電極とY電極を選択するため、前
述のように動作してトランジスタ61の1個とトランジ
スタ31の1個がオンする。また光消去動作の場合を第
3図のタイムチャートとともに説明すると、維持パルス
SUB1〜SUS4を加えて、回路20と30、回路4
0と50‘こより交番維持駆動を行ない、光消去駆動を
する場合は、薄膜EL素子の両端電圧が0であるとき維
持パルスSUS2のパルスaとSUS4のパルスbを加
えて薄膜EL素子10のX電極とアース間にあるトラン
ジスタ31,・・・・・・、Y電極とアース間にあるト
ランジスタ52をオンにして、X電極とY電極を短絡さ
せる。
When the write signal WRITE is applied, the inverter 11
3, the base potential of the transistor 112 is set to 0 potential to turn it off. On the other hand, the signal WRITE turns on transistors 1 14, 1 15, and 116, raising one side of capacitor C3 to the potential of power supply 101, thus turning off transistor 111, and charging power supply 101 and capacitor C3 to line 117. Supply the total voltage of the voltage. The charging voltage of capacitor C3 is the write voltage and power supply 1.
Line 11 is set to the voltage difference between the voltages of 01 and 01.
A write voltage is obtained at 7. When a write signal is obtained, one of the transistors 61 and one of the transistors 31 are turned on by operating as described above in order to select the X electrode and Y electrode including the selected picture element. Further, to explain the case of optical erasing operation with reference to the time chart of FIG. 3, by adding sustain pulses SUB1 to SUS4, circuits 20 and 30,
When performing alternating sustain drive from 0 and 50' and optical erasing drive, when the voltage across the thin film EL element is 0, pulse a of sustain pulse SUS2 and pulse b of SUS4 are added to The transistors 31, . . . between the electrode and the ground, and the transistor 52 between the Y electrode and the ground are turned on to short-circuit the X electrode and the Y electrode.

同時に上記パルスaとbが加わっているとき、クセノン
ランプ(図示しない。)のトリガパルスCが出力され、
クセノンランプの光が薄膜EL素子に照射される。この
光照射のため、EL層の界面に蓄積された分極電荷がE
L層の光伝導により緩和され消去が行われる。光消去に
よる緩和電流は上記トランジスタ31,・・・・・・、
52を介して流れる以外に、ダイオード201,202
を介しても流れ、本発明では分極緩和電流の回路をトラ
ンジスタ31,・・・・・・52によって薄膜由L素子
→アースへ流れる回路とダイオード201,202によ
ってアース→薄膜EL素子へ流れる回路を形成し、分極
緩和電流の流れる回路を多く形成して光消去を容易にし
ている。この光消去時には維持パルスを印加していない
期間薄膜由L素子の両端をダイオード201トランジス
タ31,……、ダイオード202、トランジスタ52に
よって短絡しているため電気的書込み、消去、謙出し‘
ま行うことができず、従ってこれらの動作を光消去時に
禁止するように制御しなければならないが、維持パルス
の周波数は500HZ程度であるのに対して通常のクセ
ノンランプの繰返し周波数は40HZ程度が限度である
から、光消去を連続的に行う場合でも光消去の一周期期
間を待つだけで次に書込み等の動作に移ることができ、
実際問題としては上記禁止させるための制御は不必要で
ある。薄膜EL素子の光消去以外の動作を第3図のタイ
ムチャートとともに説明すると、光書込み駆動は維持駆
動パルスが加えられているとき、クセノントリガパルス
dが与えられ、光書込みが行われる。
When the above pulses a and b are applied at the same time, a trigger pulse C of the xenon lamp (not shown) is output,
The thin film EL element is irradiated with light from the xenon lamp. Due to this light irradiation, the polarized charges accumulated at the interface of the EL layer are
It is relaxed and erased by photoconduction in the L layer. The relaxation current due to photo erasure is the transistor 31,...
In addition to flowing through diodes 201 and 202
In the present invention, a polarization relaxation current circuit is constructed by using transistors 31, . By forming many circuits through which polarization relaxation current flows, photo erasure is facilitated. During this optical erasing, both ends of the thin film L element are short-circuited by the diode 201, transistor 31, .
However, the sustain pulse frequency is about 500 Hz, whereas the repetition frequency of a normal xenon lamp is about 40 Hz. Therefore, even if optical erasing is performed continuously, it is possible to proceed to the next operation such as writing by simply waiting for one cycle of optical erasing.
As a practical matter, the above-mentioned prohibition control is unnecessary. The operation of the thin film EL element other than optical erasing will be explained with reference to the time chart of FIG. 3. In the optical writing drive, when the sustain driving pulse is applied, the xenon trigger pulse d is applied, and optical writing is performed.

なお、この光書込み駆動をするとき、パルスa,bはな
く、パルスa,bの部分に点線で示すタイムチヤートに
なる。上記光消去及び光書込み駆動時にクセノンランプ
が薄膜EL素子の全面に光照射されるならば、全面同時
消去、全面同時書込みが行われる。
Note that when performing this optical writing drive, there are no pulses a and b, and a time chart is shown by dotted lines in the portions of pulses a and b. If the xenon lamp irradiates the entire surface of the thin film EL element with light during the optical erasing and optical writing driving described above, simultaneous erasing and writing of the entire surface are performed.

またクセノンランプが薄膜EL素子に部分的に光照射さ
れるならば部分的な光消去、部分的な光書込みが行われ
ることになる。議出し駆動をするとき謙出しパルスRE
ADが維持パルスのない期間に発生してラインF‘こ論
出しパルスを供V給する。
Furthermore, if the xenon lamp partially irradiates light onto the thin film EL element, partial light erasing and partial light writing will be performed. When performing the start-up drive, the start-up pulse RE
AD occurs during a period in which there is no sustain pulse and supplies a logic start pulse to line F'.

同時にデコーダ63が動作して選択絵素を含むY電極に
接続されたトランジスタ61をオンにする。またアプロ
グマルチプレクサ33が動作して選択絵素を含むX電極
以外の電極に接続されたトランジスタ31をオンにし、
またアナログマルチプレクサ72が動作して選択給素を
含むX電極に接続されたトランジスタ71をオンにして
議出し出力を読出回路80に供給する。鋳出しパルスが
供給されるとき選択絵素には0パルス電圧eが加えられ
、非選択絵素には電圧が加えられない。電気的な書込み
駆動、又は消去駆動するとき、パルスWRITE又はE
RASEが発生してラインFに書込みパルス電圧g又は
消去パルス鰭圧fがデコーダ63とアナログマルチプレ
クサ33により選択絵素にのみ加えられる。
At the same time, the decoder 63 operates to turn on the transistor 61 connected to the Y electrode including the selected picture element. Further, the applog multiplexer 33 operates to turn on the transistor 31 connected to the electrode other than the X electrode including the selected picture element,
Further, the analog multiplexer 72 operates to turn on the transistor 71 connected to the X electrode including the selected feed element, and supplies the output to the readout circuit 80 . When the casting pulse is supplied, 0 pulse voltage e is applied to the selected picture element, and no voltage is applied to the non-selected picture element. When electrically writing or erasing, the pulse WRITE or E
When RASE occurs, a write pulse voltage g or an erase pulse fin pressure f is applied to line F only to the selected picture element by the decoder 63 and analog multiplexer 33.

第3図中、維持パルス印加後、及び書込み、消去パルス
印加後に回路30と5川こパルスhを加えているが、こ
れは薄膜EL素子に維持パルス、書込みパルス、消去パ
ルスによる電圧印加時間を可及的に短か〈し、またこれ
らパルスの印加のために残留している電荷を放電させ、
薄膜EL素子のブレークダウンを防止するためのもので
ある。
In Fig. 3, a circuit 30 and a pulse h are applied after the application of the sustain pulse and after the application of the write and erase pulses. as short as possible, and discharge the charge remaining due to the application of these pulses,
This is to prevent breakdown of the thin film EL element.

また維持書込み、消去、光書込み、光消去の各動作間に
は少しの時間的余裕があるが、これはトランジスタがベ
ース蓄積電荷の影響でトランジスタはすぐにオフになる
ことができないため、蓄積電荷を解放させているためで
ある。以上のようにして薄膜EL素子は第1図及び第2
図の回路により、電気的な維持駆動、全面消去駆動、選
択的消去駆動、選択的書込み駆動、選択的議出し駆動及
び光消去駆動が行われる。
In addition, there is a small time margin between each operation of sustain writing, erasing, optical writing, and optical erasing, but this is because the transistor cannot turn off immediately due to the influence of the accumulated charge at the base. This is because it frees up As described above, the thin film EL device is manufactured as shown in FIGS. 1 and 2.
The illustrated circuit performs electrical sustain drive, full erase drive, selective erase drive, selective write drive, selective output drive, and optical erase drive.

ところで、上記した選択的書込み駆動において、Y電極
には各1個の選択トランジスタ61,・・・・・・が接
続され、X電極には各2個の選択トンジスタ31,……
,71……が接続されているため、トランジスタのコレ
クタェミッタ間容量によるX電極とY電極の浮遊容量値
が異なり、その結果、半選択の書込み絵素に消去電圧に
ほぼ等しい電圧が加わり、半選択の絵素では消去が行わ
れてしまう。
By the way, in the selective write drive described above, one selection transistor 61, . . . is connected to each Y electrode, and two selection transistors 31, . . . are connected to each X electrode.
, 71... are connected, the stray capacitance values of the X and Y electrodes due to the collector-emitter capacitance of the transistor are different, and as a result, a voltage almost equal to the erase voltage is applied to the half-selected write picture element. Half-selected picture elements are erased.

以下この現象について第4図〜第6図を用いて説明する
This phenomenon will be explained below using FIGS. 4 to 6.

選択絵素に書込み駆動をする場合の等価回路図を第4図
に示す。
FIG. 4 shows an equivalent circuit diagram when writing to a selected picture element.

図中、CEは1絵素容量、CsvはY電極1本当りの浮
遊容量で、Y電極自身の容量とトランジスタ61のコレ
クタェミツタ間容量を含む。CsHはX電極1本当りの
浮遊容量でトランジスタ31,71のコレクタェミツタ
間容量を含む。この図において、X電極及びY電極と各
ドライバーはフラットケーブルで接続これ、このケーブ
ルの浮遊容量もあるが、×電極とY電極の各電極の浮遊
容量は等しいので、駆動の際にアンバランスの原因とは
ならないから省略している。なお、書込みのために選択
されたY電極の1本YjとX電極の1本Xiにそれぞれ
対応するトランジスタ61及び31はオン状態であり、
これらのコレクタヱミッタ間容量(浮遊容量)Csv及
びCsHは存在せず、YjとXiについては短絡した形
となつている。第4図の回路において、同電位の電極を
接続して簡単にした回路を第5図aに示す。
In the figure, CE is the capacitance of one pixel, and Csv is the stray capacitance of one Y electrode, which includes the capacitance of the Y electrode itself and the collector-emitter capacitance of the transistor 61. CsH is a stray capacitance per X electrode and includes the collector-emitter capacitance of the transistors 31 and 71. In this figure, the X electrode, Y electrode, and each driver are connected by a flat cable. Although there is also the stray capacitance of this cable, the stray capacitance of each electrode, the X electrode and the Y electrode, is equal, so there is no unbalance during driving. This is omitted because it is not the cause. Note that the transistors 61 and 31 corresponding to one of the Y electrodes Yj and one of the X electrodes Xi selected for writing are in an on state, respectively.
These collector-emitter capacitances (stray capacitances) Csv and CsH do not exist, and Yj and Xi are short-circuited. FIG. 5a shows a simplified circuit in the circuit of FIG. 4 by connecting electrodes of the same potential.

(n一1)Csvは非選択(Yi≠)のY電極側浮遊容
量をまとめたものであり、(m−1)CsHは非選択(
Xi≠)のX電極側浮遊容量をまとめたものである。ま
た、(n−1)CEは×電極(Xi)に接続された半選
択絵素の総容量を、(m−1)C8はY電極(Yi)に
接続された半選択絵素の総容量を表わす。(n−1)(
m−1)C8は選択電極〆i,Yi以外で交差する非選
択絵素の総容量である。
(n-1)Csv is a collection of unselected (Yi≠) stray capacitances on the Y electrode side, and (m-1)CsH is an unselected (Yi≠) stray capacitance on the Y electrode side.
This is a summary of the stray capacitances on the X electrode side of (Xi≠). In addition, (n-1) CE is the total capacitance of the half-selected picture elements connected to the × electrode (Xi), and (m-1) C8 is the total capacitance of the half-selected picture elements connected to the Y electrode (Yi). represents. (n-1)(
m-1) C8 is the total capacitance of non-selected picture elements that intersect at points other than the selected electrodes i and Yi.

第5図aのYi線及びYj≠線を1つの線でまとめて、
更に簡単化すると第5図bのようになる。
Combine the Yi line and Yj≠ line in Figure 5a into one line,
When further simplified, it becomes as shown in FIG. 5b.

第5図bの回路において、mill、nillであるか
ら、(m−1)(n−1)CEは他の容量に比べて非常
に大きく無限大と考えて除くことができるのでこの等価
回路は第6図のように書き換えることができる。第6図
からY電極(Yj)上の半選択絵秦(総容量(m−1)
CEで表わされる)に印加される電圧をVv、×電極(
Xj)上の半選択絵素(総容量(n−1)CEで表わさ
れる)に印加される電圧をVHとすると、VV=;筆a
V8 ‐…‐‐‘11VH=;章三V8……■ ここでC,=(m一1)C8十(n一1)CsvC2=
(n−1)C8十(m−1)SsHとなる。
In the circuit of Figure 5b, since mill and nill are present, (m-1) (n-1) CE is very large compared to other capacitances and can be considered infinite and can be removed, so this equivalent circuit is It can be rewritten as shown in FIG. From Figure 6, the half-selected picture on the Y electrode (Yj) (total capacitance (m-1)
The voltage applied to the electrode (denoted by CE) is Vv, × electrode (
If the voltage applied to the half-selected picture element (represented by the total capacitance (n-1) CE) on Xj) is VH, then VV=; brush a
V8 ‐…‐‐'11VH=;Chapter 3 V8...■ Here C,=(m11)C80(n11)CsvC2=
(n-1)C80(m-1)SsH.

実際の回路では容量Csvはダイオード62とPNPト
ランジスタ61のコレクタェミツタ間の逆方向直列容量
であるので、約1.5pFであり、容量CsHは2つの
NPNトランジスタ31と71の逆方向並列容量である
ので、約6pFである。
In the actual circuit, the capacitance Csv is the reverse series capacitance between the diode 62 and the collector-emitter of the PNP transistor 61, and is approximately 1.5 pF, and the capacitance CsH is the reverse parallel capacitance of the two NPN transistors 31 and 71. Therefore, it is about 6 pF.

例えば6インチ薄膜ELマトリックス素子ではY電極は
180本、X電極は240本であり、1絵素容量Csは
3pF、書込み電圧Vwが210V、維持電圧Vsが1
80Vのとき、Vv=140V、VH=70Vとなる。
このように電圧Vvは電圧VHの2倍にもなる。ところ
で、薄膜EL素子の消去電圧は145V付近に最適鰭圧
があり、この電圧の上下10〜20Vの範囲の電圧が薄
膜8L素子に電圧がかかると消去方向に働く。上記電圧
Vvは140yであるから、明らかにこの電圧は消去電
圧として作用し、書込み絵素があるX電極上の他の絵素
に書込みを行うと、書込み絵素の麹度は書込み回数が増
えるに従って顕著に低下する。
For example, in a 6-inch thin film EL matrix element, there are 180 Y electrodes and 240 X electrodes, the capacitance Cs per pixel is 3 pF, the write voltage Vw is 210 V, and the sustain voltage Vs is 1 pF.
When the voltage is 80V, Vv=140V and VH=70V.
In this way, voltage Vv is twice as high as voltage VH. By the way, the erasing voltage of the thin film EL element has an optimum fin pressure near 145V, and when a voltage in the range of 10 to 20 V above and below this voltage is applied to the thin film 8L element, it acts in the erasing direction. Since the above voltage Vv is 140y, this voltage obviously acts as an erasing voltage, and when writing is performed to other pixels on the X electrode where the writing picture element is located, the number of times of writing increases in the scorchness of the writing picture element. It decreases markedly according to

このような現象は×電極とY電極の1本当りの浮遊容量
に差があるためによって生じるものと思われる。
This phenomenon is thought to be caused by the difference in stray capacitance between the × electrode and the Y electrode.

本発明は以上の点に鑑み、X電極とY電極の1本当りの
浮遊容量を等しくするものである。
In view of the above points, the present invention makes the stray capacitance of each X electrode and Y electrode equal.

容量CsvとCsHの差は4.5pFであるから、Y電
極に1本当り4.5pFの容量を付加すれば、上記電圧
Vv=VH=105Vとなる。105Vは薄膜EL素子
のスレツショルド電圧以下であり、この電圧が加わって
も薄膜EL素子は何の動作もしない。
Since the difference between the capacitances Csv and CsH is 4.5 pF, if a capacitance of 4.5 pF is added to each Y electrode, the above voltage Vv=VH=105V. 105V is below the threshold voltage of the thin film EL element, and even if this voltage is applied, the thin film EL element does not perform any operation.

本発明は更に1絵素当りの容量が3pFであることに着
目して、これを各Y電極に接続したのと等価にして用い
ることを特徴とするものである。
The present invention is further characterized by paying attention to the fact that the capacitance per picture element is 3 pF, and using this capacitance as equivalent to connecting each Y electrode.

本発明は第1図の回路中に、薄膜伍L素子のX電極1本
、例えば右端の×電極Cを容量配分補償用電極として設
定し、この電極Cに電源ラインGよりトランジスタ30
1を介して書込み駆動時だけ書込み電圧を印加する。ま
た電極Cとアース間にトランジスタ302が接続されて
おり、このトランジスタ302のベースには議出しパル
スSUS4と議出しパルスREADが印加され、読出し
駆動時及び維持駆動時に電極Cをアースする。本発明に
よれば書込み駆動時は電極Cに書込み電圧が印加され、
実質的に各Y電極に1絵素容量が付加されたこととなり
、容量Csvは4.5pFとなる。
In the present invention, in the circuit shown in FIG. 1, one X electrode of the thin film 5 L element, for example, the rightmost X electrode C, is set as a capacitance distribution compensation electrode, and a transistor 30 is connected to this electrode C from a power supply line G.
1, a write voltage is applied only during write drive. Further, a transistor 302 is connected between the electrode C and the ground, and a start pulse SUS4 and a start pulse READ are applied to the base of the transistor 302, and the electrode C is grounded during read drive and sustain drive. According to the present invention, a write voltage is applied to the electrode C during write drive,
Substantially, one pixel capacitor is added to each Y electrode, and the capacitance Csv becomes 4.5 pF.

従って上記1式及び2式より電圧Vv=120V、Vけ
=9肌となる。この電圧は薄膜EL素子のスレッショル
ド電圧以下であるので、薄膜EL素子は何らの動作(消
去)もしない。また読出し駆動時は電極Cをアースして
いるから読出し出力に悪影響を及ぼすことはない。
Therefore, from equations 1 and 2 above, the voltage Vv=120V and Vke=9. Since this voltage is below the threshold voltage of the thin film EL element, the thin film EL element does not perform any operation (erasing). Furthermore, since the electrode C is grounded during read driving, there is no adverse effect on the read output.

以上のように本発明によれば、書込み駆動時に×電極と
Y電極の浮遊容量の差を補償用コンデンサを接続するこ
とにより、実質的に等しくして書込み駆動時の半選択絵
素への影響を防止することができる。しかも上記実施例
では補償用コンデンサを1本の×電極を用いて付加する
から、各Y電極へ1個づつコンデンサを接続する手間及
びコンデンサを配置する場所を省略することができる。
As described above, according to the present invention, by connecting a compensating capacitor, the difference in stray capacitance between the can be prevented. Moreover, in the above embodiment, since the compensation capacitor is added using one x electrode, the effort of connecting one capacitor to each Y electrode and the location where the capacitor is arranged can be omitted.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の回路の一実施例の回路図、第2図は第
1図の各部分へ所要の各電圧を印加するための電源回路
、第3図は光消去駆動を説明するタイムチャート、第4
図〜第6図は書込み駆動時の薄膜EL素子の等価回路図
である。 10:薄膜EL素子、X,〜Xm:X電極、Y,〜Yn
:Y電極、20:維持電圧供給回路、30:スイッチン
グ回路、40:維持電圧供給回路、50:アース回路、
60:スイッチング回路、70:選択読出しスイッチン
グ回路、80:議出し回路、201,202:ダイオー
ド、C:容量配分補償用電極。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図
Fig. 1 is a circuit diagram of one embodiment of the circuit of the present invention, Fig. 2 is a power supply circuit for applying each required voltage to each part of Fig. 1, and Fig. 3 is a timing diagram for explaining optical erasing drive. chart, 4th
6 to 6 are equivalent circuit diagrams of the thin film EL element during write driving. 10: Thin film EL element, X, ~Xm: X electrode, Y, ~Yn
: Y electrode, 20: Sustaining voltage supply circuit, 30: Switching circuit, 40: Sustaining voltage supply circuit, 50: Earth circuit,
60: switching circuit, 70: selective readout switching circuit, 80: output circuit, 201, 202: diode, C: capacitance distribution compensation electrode. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 互いに直交するX電極とY電極を持つ薄膜EL素子
の駆動回路において、上記X電極又はY電極のいずれか
に、上記X電極とY電極の浮遊容量の差に等しいコンデ
ンサを形成する容量配分補償用電極を設けてなることを
特徴とする薄膜EL素子の駆動回路。
1. Capacitance distribution compensation in which a capacitor equal to the difference in stray capacitance between the X electrode and the Y electrode is formed in either the X electrode or the Y electrode in a drive circuit for a thin film EL element having an X electrode and a Y electrode that are orthogonal to each other. 1. A drive circuit for a thin film EL element, characterized in that it is provided with an electrode.
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