JPS6038789B2 - bubble element - Google Patents
bubble elementInfo
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- JPS6038789B2 JPS6038789B2 JP57065648A JP6564882A JPS6038789B2 JP S6038789 B2 JPS6038789 B2 JP S6038789B2 JP 57065648 A JP57065648 A JP 57065648A JP 6564882 A JP6564882 A JP 6564882A JP S6038789 B2 JPS6038789 B2 JP S6038789B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/02—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
- G11C19/08—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
- G11C19/0808—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure using magnetic domain propagation
- G11C19/0816—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure using magnetic domain propagation using a rotating or alternating coplanar magnetic field
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はバルブ素子に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a valve element.
従来、バルブ素子にはバルブ保持層の上に軟磁性体パタ
ーンを互いに間隔を設けて面内磁場回転によりバルブ転
送させる方式が採用されてきた。Conventionally, a method has been adopted for valve elements in which soft magnetic material patterns are provided on a valve holding layer at intervals and the valve is transferred by in-plane magnetic field rotation.
しかし、前記パターンの間隙は、バルブ密度の低下、バ
ルブの高速度転送に対する障害そしてパターン微細加工
の限界という点で好ましくなかった。これに対し、米国
特許第3828329号公報に無間隙のパターンを用い
てバルブを転送させる素子が提示され、最近急速に開発
が進められてきた。However, the gaps in the pattern are undesirable because they reduce bulb density, impede high-speed transfer of bulbs, and limit pattern microfabrication. On the other hand, U.S. Pat. No. 3,828,329 proposed an element that transfers bulbs using a gapless pattern, and its development has been progressing rapidly recently.
そこでパターンはイオン注入法で形成されている。その
素子は転送パターンが円を蓮らねた形状であったことか
ら、その後に開発された形状のものも含めてコンテイギ
ュアス・ディスク(以下CDと称す)素子と言われてい
る。現在、CD素子では大容量化、高密度化、高機能化
が進められている。Therefore, the pattern is formed by ion implantation. Since the transfer pattern of that device was in the shape of a spiral circle, it is called a continuous disk (hereinafter referred to as CD) device, including devices with shapes developed after that. Currently, CD elements are becoming larger in capacity, higher in density, and more sophisticated.
その際、バルブの発生、格納、ゲート動作、検出等の各
機能部構成において各機能部の配置に対し、転送路の折
り曲げ等の転送路の変更が自由に出来ることが望ましい
。例えば、ベル・システム・テクニカル・ジャーナル(
技11S$.TechJ.)第5甥登(1980王)第
229頁において転送ループ構成例が記載されている様
に、転送路の折り曲げの必要性が強い。しかしながら、
CD素子では転送の原理上、転送路各要素が連続してお
り、転送路折り曲げ等の転送略の変更は転送路全体の特
性と関連するため転送路変更は必ずしも自由でない難点
がある。転送路の折り曲げパターンの具体例は、例えば
、第1図に示すようなェー・アイ・ピー・コンファレン
ス・ブロシーデイングス(山PConf.Proc.)
第1碇蓋(1973年)第339頁記載の構成や、第2
図a〜cに示すような、アイ・イー・イー・ィー・トラ
ンザクシヨンズ・オン・マグネテイクス(lEEETr
ans.Magn.)第Mag−15巻(1979年)
第1323頁記載の構成があるだけである。これらのコ
ーナー部のバルブ転送については従来報告されていない
が、以下の実施例の項でも説明する様に、バルブがビッ
トをとび越すエラーやカスブ部にトラツプするエラーの
生じることが明らかにされている。本発明の目的はCD
素子の転送路折り曲げの難点を緩和するコーナーパター
ンを設けたバルブ素子を提供することにある。In this case, it is desirable to be able to freely change the transfer path, such as bending the transfer path, with respect to the arrangement of each functional section in the configuration of each functional section such as valve generation, storage, gate operation, and detection. For example, Bell System Technical Journal (
Skill 11S$. TechJ. ), No. 5 (King, 1980), p. 229, describes an example of a transfer loop configuration, and there is a strong need to bend the transfer path. however,
In a CD element, due to the principle of transfer, each element of the transfer path is continuous, and changing the transfer path such as bending the transfer path is related to the characteristics of the entire transfer path, so there is a drawback that the transfer path cannot always be changed freely. A specific example of the bending pattern of the transfer path is, for example, as shown in FIG.
The structure described on page 339 of Ikarigatari (1973),
IEE Transactions on Magnetics (lEEETr) as shown in Figures a-c.
ans. Magn. ) Volume 15 (1979)
There is only the configuration described on page 1323. Valve transfer at these corner portions has not been previously reported, but as will be explained in the Examples section below, it has been revealed that errors in which the valve jumps over the bit or traps in the cusp portion occur. There is. The object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a valve element provided with a corner pattern that alleviates the difficulty of bending the transfer path of the element.
本発明によれば、バルブ保持層にイオン注入し非イオン
注入領域のパターンに沿ってバルブを転送させるCD素
子において、第1と第2の転送路を結ぶ折れ曲リコーナ
ー部分に、前記第1と第2の転送路のパターン周期より
も大きな寸法をもつ円または楕円状パターンを前記第1
と第2の転送路のコーナーパターンとして設けることを
特徴とするバルブ素子が得られる。According to the present invention, in the CD element in which ions are implanted into the valve holding layer and the valve is transferred along the pattern of the non-ion implanted region, the first and a circular or elliptical pattern having a dimension larger than the pattern period of the second transfer path.
A valve element is obtained in which the second transfer path is provided as a corner pattern.
次に本発明について図面を参照して詳細に説明する。Next, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.
第3図は本発明の第1の実施例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.
参照数字31は第1の転送路パターン、同数子32は第
2の転送路パターン、同数字33は第1と第2の転送路
を結ぶパターン、同数字34は第1の転送路と第2の転
送路のなす角度である。本実施例に示すコーナーパター
ン33は、第1および第2の転送路のパターン周期の約
2倍の直径をもつ点が第2図aに示す様な従来のコ−ナ
ーパターンと異なっている。第2図aの様な従来のコ−
ナーパターンでは、例えば、凸部のコーナー4外回りコ
ーナー)の場合、バルブがビットとび越しするエラーが
見られる。The reference numeral 31 is the first transfer path pattern, the same numeral 32 is the second transfer path pattern, the same numeral 33 is the pattern connecting the first and second transfer paths, and the same numeral 34 is the first transfer path and the second transfer path pattern. is the angle formed by the transfer path. The corner pattern 33 shown in this embodiment differs from the conventional corner pattern shown in FIG. 2a in that it has a diameter approximately twice the pattern period of the first and second transfer paths. Conventional code as shown in Figure 2a
In the inner pattern, for example, in the case of the corner 4 of the convex portion (outer corner), an error in which the valve bit skips over can be seen.
これは、CD素子のバルブ駆動力である滋荷壁(チャー
ジド・ウオール)の性質がコーナー部で変わるためと考
えられる。このエラーは、本実施例の様にコーナーパタ
ーンの外径を転送路パターン周期Pの約2倍程度にする
ことで改善された。コ−ナーパターンの外径が約1.斑
の場合、また約3倍ないし約4倍の場合もそれぞれ改善
がみられた。さらに、第2図の様な従来のコーナーパタ
ーンでは凹部のコーナー(内回りコーナー)ではバルブ
がコーナーのカスブ部分にトラップされる(時にはコー
ナー部分のビットとびこしする)エラーのため転送マー
ジンが削られていた。これに対し、本実施例のパターン
の場合コーナー部のカスブ部分が広いため、良好な転送
マージンが得られる。第4図は本発明の第2の実施例を
示す図である。This is thought to be because the properties of the charged wall, which is the valve driving force of the CD element, change at the corner. This error was improved by making the outer diameter of the corner pattern approximately twice the transfer path pattern period P as in this embodiment. The outer diameter of the corner pattern is approximately 1. Improvements were also seen in the case of plaques and in the cases of about 3 to 4 times as much. Furthermore, in the conventional corner pattern as shown in Figure 2, the transfer margin is reduced due to an error in which the valve is trapped in the cusp part of the corner (sometimes the bit in the corner part jumps out) at the corner of the concave part (inner corner). Ta. On the other hand, in the case of the pattern of this embodiment, since the corner portion has a wide webbing portion, a good transfer margin can be obtained. FIG. 4 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.
第1の実施例との違いは第1と第2の転送路のなす角度
34を90oではなく12ぴとした点である。第2図c
に示す様な従来のパターンに比べバルブ転送が改善され
た。第2の実施例において、第1と第2の転送路のなす
角度34を1200ではなく600とした場合も第2図
bに示す様な従来のパターンに比べ転送の改善効果が大
きかった。The difference from the first embodiment is that the angle 34 formed by the first and second transfer paths is 12 degrees instead of 90 degrees. Figure 2c
Valve transfer has been improved compared to the conventional pattern shown in . In the second embodiment, when the angle 34 between the first and second transfer paths was set to 600 degrees instead of 1200 degrees, the effect of improving transfer was greater than in the conventional pattern as shown in FIG. 2B.
同様に、角度34が、約450や約13y等他の値のと
きもコーナー部転送は良好であった。第5図は本発明の
第3の実施例を示す図である。Similarly, when the angle 34 was other values such as about 450 or about 13y, the corner transfer was good. FIG. 5 is a diagram showing a third embodiment of the present invention.
参照数字51は第1と第2の転送路、パターン周期Pよ
りも大きな寸法をもつ楕円状パターンである。パターン
サイズは、長髄と短藤の長さがそれぞれ約2.肥と約1
.がである。同数字34は約90oである。従来パター
ン(第2図a)に比べ転送の改善効果が顕著であった。
以上、説明した様に、本発明によれば、転送路折り曲げ
が従来よりも容易で、転送エラーの少ないCD素子を提
供することができ、バルブ素子の大容量化と高機能化を
達成できるという効果がある。Reference numeral 51 indicates the first and second transfer paths, an elliptical pattern having a dimension larger than the pattern period P. The pattern size is approximately 2.5 cm long and short wisteria length. Fertilizer and approx.
.. There is. The number 34 is approximately 90o. The improvement in transfer was remarkable compared to the conventional pattern (Fig. 2a).
As explained above, according to the present invention, it is possible to provide a CD element in which the transfer path can be bent more easily than in the past and with fewer transfer errors, and it is possible to achieve larger capacity and higher functionality of the valve element. effective.
第1図および第2図a〜cは従来の折れ曲り転送路を示
す図ならびに第3図、第4図および第5図はそれぞれ本
発明の第1、第2および第3の実施例を示す図である。
図において、31・・・第1の転送路パターン、32・
・・第2の転送路パターン、33,51・・・コーナー
パターン、34・・・第1と第2の転送路のなす角度。
矛′図才2図
矛3図
ネ4図
矛よ図FIGS. 1 and 2 a to 2 c show conventional bent transfer paths, and FIGS. 3, 4, and 5 show first, second, and third embodiments of the present invention, respectively. It is a diagram. In the figure, 31...first transfer path pattern, 32...
...Second transfer path pattern, 33, 51... Corner pattern, 34... Angle formed by the first and second transfer paths.
Spear 'Zai 2 Spear 3 Spear 4 Spear 4
Claims (1)
ターンに沿つてバルブを転送させるコンテイギユアス・
デイスク・バルブ素子において、第1と第2の転送路を
結ぶ折れ曲りコーナー部分に、前記第1と第2の転送路
のパターン周期よりも大きな寸法をもつ円または楕円状
パターンを前記第1と第2の転送路コーナーパターンと
して設けることを特徴とするバルブ素子。1 Contiguous method in which ions are implanted into the valve holding layer and the valve is transferred along the pattern of the non-ion implanted region.
In the disk valve element, a circular or elliptical pattern having a dimension larger than the pattern period of the first and second transfer paths is formed at a bent corner portion connecting the first and second transfer paths. A valve element characterized in that it is provided as a second transfer path corner pattern.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57065648A JPS6038789B2 (en) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | bubble element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57065648A JPS6038789B2 (en) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | bubble element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182182A JPS58182182A (en) | 1983-10-25 |
| JPS6038789B2 true JPS6038789B2 (en) | 1985-09-03 |
Family
ID=13293031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57065648A Expired JPS6038789B2 (en) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | bubble element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6038789B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS576485A (en) * | 1980-06-10 | 1982-01-13 | Fujitsu Ltd | Consecuive ball-shape disk bubble eraser |
| JPS5913105B2 (en) * | 1980-07-15 | 1984-03-27 | 富士通株式会社 | Beaded disk pattern magnetic bubble device |
| JPS5837892A (en) * | 1981-08-28 | 1983-03-05 | Fujitsu Ltd | Erasing circuit of magnetic bubble memory |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP57065648A patent/JPS6038789B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58182182A (en) | 1983-10-25 |
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