JPS6152554B2 - - Google Patents
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- JPS6152554B2 JPS6152554B2 JP11795778A JP11795778A JPS6152554B2 JP S6152554 B2 JPS6152554 B2 JP S6152554B2 JP 11795778 A JP11795778 A JP 11795778A JP 11795778 A JP11795778 A JP 11795778A JP S6152554 B2 JPS6152554 B2 JP S6152554B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気バブルメモリ素子、特に磁気バブ
ルメモリ素子の断面構造の改良に関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic bubble memory device, and more particularly to an improvement in the cross-sectional structure of a magnetic bubble memory device.
第1図は磁気バブルメモリ素子の一例を示す要
部構成図である。同図において、mは情報を貯え
るマイナループ、RMLは読み出し情報を転送す
るリードメイジヤライン、WMLは書き込み情報
を転送するライトメイジヤラインである。また、
Dは磁気バブルを電気信号に変換するバブル検出
器、Gは磁気バブルを発生するバブル発生器、R
はマイナループmの情報をリードメイジヤライン
RMLに複写または移すレプリケートゲート回
路、TはライトメイジヤラインWML上の情報を
マイナループmへ移すトランスフアゲート回路で
ある。また、これらの外周を囲んでいるGRは外
周からの磁気バブルの侵入を防止するガードレー
ル、BPはボンデイングパツドである。 FIG. 1 is a diagram illustrating a main part of an example of a magnetic bubble memory element. In the figure, m is a minor loop that stores information, RML is a read mager line that transfers read information, and WML is a write mager line that transfers write information. Also,
D is a bubble detector that converts magnetic bubbles into electrical signals, G is a bubble generator that generates magnetic bubbles, and R
is the major line that reads information about minor loop m.
A replicate gate circuit for copying or transferring to RML, T is a transfer gate circuit for transferring information on the light mager line WML to the minor loop m. Furthermore, the GR surrounding these outer peripheries is a guardrail that prevents magnetic bubbles from entering from the outer periphery, and the BP is a bonding pad.
また、第2図は第1図に示したトランスフアゲ
ート回路Tのパターンの一例を示す要部拡大平面
図である。同図において、10はパーマロイ等の
軟強磁性体の薄膜により形成された微細パターン
を所定形状に配列させて上記リードメイジヤライ
ンRML、ライトメイジヤラインWML、マイナル
ープmなどの磁気バブル転送回路を構成する転送
回路素片であり、20は例えばAl−Cu、Au−
Moなどの非磁性導体薄膜により形成されて磁気
バブルを制御する動作電流を流すヘアピン状のコ
ンダクタループであり、30は磁気バブル媒体で
ある。 Further, FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part showing an example of the pattern of the transfer gate circuit T shown in FIG. 1. In the figure, reference numeral 10 indicates a magnetic bubble transfer circuit such as the read mager line RML, write mager line WML, and minor loop m by arranging fine patterns formed of a thin film of soft ferromagnetic material such as permalloy in a predetermined shape. 20 is a transfer circuit element, for example, Al-Cu, Au-
It is a hairpin-shaped conductor loop formed of a non-magnetic conductor thin film such as Mo, through which an operating current for controlling the magnetic bubble flows, and 30 is a magnetic bubble medium.
また、第3図は上記磁気バブルメモリ素子を構
成するパターンの断面積層構造の一例を示す図で
ある。同図において、10は上記転送回路素片、
20はコンダクタループ、30は磁気バブル媒体
であり、40はスペーサ、41は絶縁膜、42は
保護膜であり、これらはSiO2膜、Al2O3膜などに
よつて形成されている。そして、一般に使用され
ている上記各層の膜厚は次の通りである。すなわ
ち、スペーサ40の膜厚は1000Å〜4000Å、絶縁
膜41の膜厚は1500Å〜6000Å、コンダクタ20
の膜厚は3000Å〜5000Å、転送回路素片10の膜
厚は3000Å〜4500Åである。この場合、上記各膜
厚に幅を有しているのは、使用する磁気バブルの
大きさ、つまり直径dに幅があるためで、現在よ
く用いられている磁気バブルの直径dは2μm〜
4μmであり、一般にこの直径dが小さくなれば
各膜厚も薄くなる。 Further, FIG. 3 is a diagram showing an example of the cross-sectional layer structure of the pattern constituting the magnetic bubble memory element. In the same figure, 10 is the above-mentioned transfer circuit element;
20 is a conductor loop, 30 is a magnetic bubble medium, 40 is a spacer, 41 is an insulating film, and 42 is a protective film, which are formed of a SiO 2 film, an Al 2 O 3 film, or the like. The film thicknesses of the above-mentioned layers that are generally used are as follows. That is, the thickness of the spacer 40 is 1000 Å to 4000 Å, the thickness of the insulating film 41 is 1500 Å to 6000 Å, and the thickness of the conductor 20 is 1000 Å to 4000 Å.
The film thickness of the transfer circuit element 10 is 3000 Å to 5000 Å, and the film thickness of the transfer circuit element 10 is 3000 Å to 4500 Å. In this case, the reason why each film thickness has a width is because the size of the magnetic bubble used, that is, the diameter d has a width.
It is 4 μm, and generally, as the diameter d becomes smaller, the thickness of each film also becomes thinner.
しかしながら、上記構成による磁気バブルメモ
リ素子は、下記に示す二つの大きな問題点を有し
ている。すなわち、その一つは、磁気バブル媒体
30と転送回路素片10との間隔(以降スペーシ
ングと称する)が場所によつて異なつていること
に起因する問題である。すなわち、第3図に示す
ようにコンダクタループ20の上方に位置する転
送回路素片10のスペーシングは、コンダクタパ
ターン20の上方に位置していない転送回路素片
10のスペーシングに比べてコンダクタループ2
0の膜厚だけ大きくなつている。一般に転送回路
のスペーシングが異なると、転送回路が磁気バブ
ルを転送する特性も異なる。すなわち、スペーシ
ングが異なると、転送回路の安定動作領域が変動
する。その結果、これら二つの共通安定動作領域
が狭くなる。また、他の一つは、第3図に示すよ
うに転送回路素片10がその下方にコンダクタル
ープ20の存在していない場所から存在している
場所にわたつている境界部分Dに起因する問題で
ある。すなわち、この境界部分Dは転送回路素片
10のスペーシングが急激に変化する部分(以降
これを段差部分と称する)であり、一般に転送回
路素片10がこのような段差部分Dを有している
と、この部分で磁気バブル転送特性を著しく悪化
させ、転送回路の安定動作領域が狭くなる。 However, the magnetic bubble memory element with the above configuration has two major problems as shown below. That is, one of the problems is caused by the fact that the distance between the magnetic bubble medium 30 and the transfer circuit element 10 (hereinafter referred to as spacing) differs depending on the location. That is, as shown in FIG. 3, the spacing of the transfer circuit element 10 located above the conductor loop 20 is smaller than the spacing of the transfer circuit element 10 that is not located above the conductor pattern 20. 2
It is increased by the film thickness of 0. Generally, different spacings of transfer circuits result in different characteristics of the transfer circuits transferring magnetic bubbles. That is, if the spacing differs, the stable operating region of the transfer circuit changes. As a result, these two common stable operating regions become narrower. Another problem is caused by a boundary portion D where the transfer circuit element 10 extends from a place where the conductor loop 20 does not exist to a place where the conductor loop 20 does exist, as shown in FIG. It is. That is, this boundary portion D is a portion where the spacing of the transfer circuit element 10 changes rapidly (hereinafter referred to as a stepped portion), and generally the transfer circuit element 10 has such a stepped portion D. If there is, the magnetic bubble transfer characteristics will be significantly deteriorated in this part, and the stable operation area of the transfer circuit will be narrowed.
したがつて、このような上記従来の問題点を解
決しようとしたものとしては、発明者らは、次の
ような磁気バブルメモリ素子を特許出願してい
る。すなわち、それは動作電流を流すコンダクタ
ループ20を形成する層と同一の層中にこのコン
ダクタループ20とは別にスペーサ用コンダクタ
パターンを磁気バブルメモリ素子の各所に配置し
たものであつた。第4図はこの出願中のものを第
2図で述べたトランスフアゲート回路Tに適用し
た場合の一例を示す要部拡大平面図であり、第2
図と同記号は同一要素となるのでその説明は省略
する。第4図において、20は動作電流を流すコ
ンダクタループであり、20′は上記スペーサ用
のコンダクタパターンである。そして、このコン
ダクタループ20とスペーサ用コンダクタパター
ン20′は、コンダクタループ20の輪郭部分に
沿つて備けた絶縁帯200により電気的に絶縁さ
れている。なお、この絶縁帯200の幅gは1〜
2μm程度である。そしてこの場合、磁気バブル
メモリ素子の全面は、絶縁帯200の部分を除い
てコンダクタループ20またはスペーサ用コンダ
クタパターン20′で覆われることになる。この
結果、全ての転送回路素片10のスペーシングは
場所によつて異なることなく一様となる。すなわ
ち前述した第一番目の問題が解消できることにな
る。 Therefore, in an effort to solve the above-mentioned conventional problems, the inventors have filed a patent application for the following magnetic bubble memory element. That is, in the same layer as the layer forming the conductor loop 20 through which the operating current flows, conductor patterns for spacers are arranged at various locations of the magnetic bubble memory element, in addition to the conductor loop 20. FIG. 4 is an enlarged plan view of essential parts showing an example of the case where this pending application is applied to the transfer gate circuit T described in FIG.
Since the same symbols as those in the figure represent the same elements, their explanation will be omitted. In FIG. 4, 20 is a conductor loop through which an operating current flows, and 20' is a conductor pattern for the spacer. The conductor loop 20 and the spacer conductor pattern 20' are electrically insulated by an insulating band 200 provided along the contour of the conductor loop 20. Note that the width g of this insulating band 200 is 1 to
It is about 2 μm. In this case, the entire surface of the magnetic bubble memory element, except for the insulating band 200, is covered with the conductor loop 20 or the spacer conductor pattern 20'. As a result, the spacing of all the transfer circuit pieces 10 becomes uniform without varying depending on the location. In other words, the first problem mentioned above can be solved.
しかしながら、第4図からも容易にわかるよう
に転送回路素片10は、絶縁帯200の上に第5
図に示したような段差部分Dを生じ、前述した第
二番目の問題が依然として解決されない。すなわ
ち第5図において、第3図と同記号は同一要素と
なるのでその説明は省略する。ここで、20はコ
ンダクタループ、20′はスペーサ用コンダクタ
パターンであり、このコンダクタループ20とコ
ンダクタパターン20′とは間隔g〓1〜2μm
の絶縁帯200により電気的に絶縁されている。
そして、このV字状の絶縁帯200上の転送回路
素片10は図示したような段差Dを持つことにな
る。 However, as can be easily seen from FIG.
A stepped portion D as shown in the figure is generated, and the second problem mentioned above is still unsolved. That is, in FIG. 5, the same symbols as those in FIG. 3 are the same elements, so the explanation thereof will be omitted. Here, 20 is a conductor loop, 20' is a conductor pattern for a spacer, and the distance g between the conductor loop 20 and the conductor pattern 20' is 1 to 2 μm.
It is electrically insulated by an insulating band 200.
The transfer circuit element 10 on this V-shaped insulating band 200 has a step D as shown.
したがつて本発明の目的は、上記従来の磁気バ
ブルメモリ素子の問題点を解消し、転送回路素片
のスペーシングが場所によらず一様であり、さら
に転送回路素片が段差部分を持たない磁気バブル
メモリ素子を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional magnetic bubble memory element, so that the spacing of the transfer circuit element is uniform regardless of the location, and furthermore, the transfer circuit element has a stepped portion. The object of the present invention is to provide a magnetic bubble memory device with no magnetic bubbles.
このような目的を達成するために本発明による
磁気バブルメモリ素子は、動作電流を供給するコ
ンダクタループとは別にこのコンダクタループの
輪郭部分に沿つて絶縁帯で電気的に絶縁するスペ
ーサ用コンダクタパターンを設け、さらに絶縁層
としてPIQ(ポリ・イミド・イソインドロ・キナ
ドリン・ジオン)等のポリイミド系樹脂を用いた
ものである。以下図面を用いて本発明による磁気
バブルメモリ素子について詳細に説明する。 In order to achieve this purpose, the magnetic bubble memory device according to the present invention includes a spacer conductor pattern that is electrically insulated with an insulating band along the contour of the conductor loop, in addition to the conductor loop that supplies the operating current. In addition, a polyimide resin such as PIQ (polyimide isoindroquinadrine dione) is used as an insulating layer. The magnetic bubble memory device according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第6図は本発明による磁気バブルメモリ素子の
一例を示す要部断面構造図であり、第5図と同記
号は同一要素となるのでその説明は省略する。同
図において、20は動作電流を流すコンダクタル
ープ、20′はスペーサ用コンダクタパターンで
ある。200はコンダクタループ20の輪郭部分
に沿つて備けた絶縁帯であり、コンダクタループ
20とスペーサ用コンダクタパターン20′とを
電気的に絶縁している。10は磁気バブル転送回
路素片である。41′はPIQからなる絶縁層であ
り、このPIQからなる絶縁層41′は、コンダク
タループ20、スペーサ用コンダクタパターン2
0′の層と転送回路素片10の層との間に介在さ
れている。すなわち、この絶縁層41′は、その
材質が従来の場合、SiO2、Al2O3であつたのに対
し、本発明ではポリイミド系樹脂、たとえばPIQ
を用いた点に特徴を有している。ここで、この
PIQは、公知のようにポリ・イミド・イソインド
ロ・キナドリン・ジオンという有機物であり、使
用前は粘性のある物質であ、使用後は固化する特
性を有し、すでに半導体などの分野で絶縁膜とし
て利用されている。 FIG. 6 is a cross-sectional structural view of essential parts showing an example of the magnetic bubble memory element according to the present invention, and since the same symbols as those in FIG. 5 represent the same elements, a description thereof will be omitted. In the figure, 20 is a conductor loop through which an operating current flows, and 20' is a spacer conductor pattern. 200 is an insulating band provided along the contour of the conductor loop 20, electrically insulating the conductor loop 20 and the spacer conductor pattern 20'. 10 is a magnetic bubble transfer circuit element. 41' is an insulating layer made of PIQ, and this insulating layer 41' made of PIQ is used to connect the conductor loop 20 and the spacer conductor pattern 2.
It is interposed between the layer 0' and the layer of the transfer circuit element 10. In other words, the material of this insulating layer 41' was SiO 2 or Al 2 O 3 in the conventional case, but in the present invention, it is made of polyimide resin, such as PIQ.
It is distinctive in that it uses Here, this
PIQ, as is well known, is an organic material called polyimide, isoindro, quinadrine, and dione.It is a viscous substance before use, and has the property of solidifying after use, and has already been used as an insulating film in fields such as semiconductors. It's being used.
このように構成された磁気バブルメモリ素子に
おいて、コンダクタループ20、スペーサ用コン
ダクタパターン20′の層と転送回路素片10の
層間に絶縁層41′としてポリイミド系樹脂、た
とえばPIQを用いると、コンダクタループ20層
とスペーサ用コンダクタパターン20′層間の絶
縁帯200はポリイミド系樹脂の粘性により平坦
に埋められ、第6図に示したように絶縁層41′
の上面は平坦面となる。ここで、絶縁帯200の
幅gの大きさが1〜2μmと小さい場合、絶縁層
41′の上面はほぼ完全な平坦となるが、これに
対して幅gが5μm以上と大きい場合は、ポリイ
ミド系樹脂に粘性を有していても絶縁帯200部
を平坦に埋められず、したがつて、絶縁層41′
の上面も平坦にならない。ところが、本発明によ
る磁気バブルメモリ素子では、絶縁帯200の幅
gを1〜2μmとしているため、絶縁層41′の
上面は平坦となり、第6図に示すようになる。こ
の結果、絶縁層41′上に形成される転送回路素
片10層は、第6図に示したように平坦となり、
絶縁帯200の上に第5図で述べた段差Dが生じ
なくなる。また、転送回路素片10のスペーシン
グも場所によらず一様となる。 In the magnetic bubble memory element configured in this way, if a polyimide resin such as PIQ is used as the insulating layer 41' between the conductor loop 20, the layer of the spacer conductor pattern 20', and the layer of the transfer circuit element 10, the conductor loop The insulating band 200 between the layer 20 and the spacer conductor pattern 20' is filled flat with the viscosity of the polyimide resin, and the insulating layer 41' is formed as shown in FIG.
The top surface of is a flat surface. Here, when the width g of the insulating band 200 is as small as 1 to 2 μm, the upper surface of the insulating layer 41' becomes almost completely flat, but on the other hand, when the width g is as large as 5 μm or more, polyimide Even if the system resin has viscosity, it is not possible to fill 200 parts of the insulating band flatly, and therefore the insulating layer 41'
The top surface is also not flat. However, in the magnetic bubble memory device according to the present invention, since the width g of the insulating band 200 is 1 to 2 μm, the upper surface of the insulating layer 41' is flat, as shown in FIG. As a result, the 10 layers of transfer circuit elements formed on the insulating layer 41' become flat as shown in FIG.
The step D described in FIG. 5 no longer occurs on the insulating band 200. Further, the spacing of the transfer circuit element 10 is also uniform regardless of the location.
以上説明したように本発明による磁気バブルメ
モリ素子によれば、転送回路素片のスペーシング
が場所によらず一様となり、さらに転送回路素片
に段差部分がなくなるため、磁気バブルの転送特
性を向上させ、転送回路の安定動作領域が広くな
るなどの極めて優れた効果が得られる。 As explained above, according to the magnetic bubble memory device according to the present invention, the spacing of the transfer circuit pieces is uniform regardless of the location, and there is no step part in the transfer circuit pieces, so that the transfer characteristics of the magnetic bubble can be improved. It is possible to obtain extremely excellent effects such as increasing the stability of the transfer circuit and widening the stable operation area of the transfer circuit.
第1図は磁気バブルメモリ素子の一例を示す要
部構成図、第2図はゲート回路のパターンを示す
要部平面図、第3図は第2図の断面積層構造図、
第4図はゲート回路のパターンを示す要部平面
図、第5図は第4図の断面積層構造図、第6図は
本発明による磁気バブルメモリ素子の一例を示す
断面積層構造図である。
10……転送回路素片、20……コンダクタル
ープ、20′……スペーサ用コンダクタパター
ン、30……磁気バブル媒体、40……スペー
サ、41……絶縁膜、41′……絶縁層、42…
…保護膜、200……絶縁帯。
FIG. 1 is a configuration diagram of main parts showing an example of a magnetic bubble memory element, FIG. 2 is a plan view of main parts showing a pattern of a gate circuit, and FIG. 3 is a cross-sectional layer structure diagram of FIG. 2.
FIG. 4 is a plan view of a main part showing a pattern of a gate circuit, FIG. 5 is a cross-sectional layer structure diagram of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional layer structure diagram showing an example of a magnetic bubble memory element according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Transfer circuit element, 20... Conductor loop, 20'... Conductor pattern for spacer, 30... Magnetic bubble medium, 40... Spacer, 41... Insulating film, 41'... Insulating layer, 42...
...Protective film, 200...Insulating band.
Claims (1)
送回路素片層と、前記磁気バブルを制御する動作
電流を流すコンダクタループ層と、前記二層間に
介在された絶縁層とを具備した多層積層構造を有
する磁気バブルメモリ素子において、前記コンダ
クタループ層と同一層中に、前記コンダクタルー
プ層の輪郭部分に沿つて絶縁帯を介して電気的に
絶縁するスペーサ用コンダクタパターンを設け、
前記絶縁層にポリイミド系樹脂を用いたことを特
徴とする磁気バブルメモリ素子。 2 前記ポリイミド系樹脂としてPIQを用いたこ
とを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の
磁気バブルメモリ素子。[Claims] 1. A transfer circuit element layer forming a transfer circuit for transferring magnetic bubbles, a conductor loop layer through which an operating current flows to control the magnetic bubbles, and an insulating layer interposed between the two layers. In the magnetic bubble memory element having a multilayer laminated structure, a conductor pattern for a spacer is provided in the same layer as the conductor loop layer and electrically insulated via an insulating band along the outline of the conductor loop layer,
A magnetic bubble memory element characterized in that the insulating layer is made of polyimide resin. 2. The magnetic bubble memory element according to claim 1, wherein PIQ is used as the polyimide resin.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11795778A JPS5545159A (en) | 1978-09-27 | 1978-09-27 | Magnetic bubble memory element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11795778A JPS5545159A (en) | 1978-09-27 | 1978-09-27 | Magnetic bubble memory element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5545159A JPS5545159A (en) | 1980-03-29 |
| JPS6152554B2 true JPS6152554B2 (en) | 1986-11-13 |
Family
ID=14724419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11795778A Granted JPS5545159A (en) | 1978-09-27 | 1978-09-27 | Magnetic bubble memory element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5545159A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5925308B2 (en) * | 1978-04-14 | 1984-06-16 | 株式会社日立製作所 | Magnetic bubble memory element and its manufacturing method |
| JPS54149529A (en) * | 1978-05-17 | 1979-11-22 | Hitachi Ltd | Magnetic bubble element |
| JPS6128313Y2 (en) * | 1980-12-16 | 1986-08-22 | ||
| JPS57205886A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-17 | Fujitsu Ltd | Manufacture of magnetic bubble memory chip |
| JPS59112487A (en) * | 1982-12-20 | 1984-06-28 | Fujitsu Ltd | Manufacture of bubble memory device |
-
1978
- 1978-09-27 JP JP11795778A patent/JPS5545159A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5545159A (en) | 1980-03-29 |
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