JPS6154597B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6154597B2 JPS6154597B2 JP57039336A JP3933682A JPS6154597B2 JP S6154597 B2 JPS6154597 B2 JP S6154597B2 JP 57039336 A JP57039336 A JP 57039336A JP 3933682 A JP3933682 A JP 3933682A JP S6154597 B2 JPS6154597 B2 JP S6154597B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- workpiece
- monitoring
- evaporation source
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 29
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 29
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- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 7
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は被加工物上に複数の蒸発源からの蒸発
物質を多層の薄膜状に形成する多層薄膜形成装置
における膜厚監視装置に関する。
物質を多層の薄膜状に形成する多層薄膜形成装置
における膜厚監視装置に関する。
従来この種装置として第１図及び第２図示のよ
うに被加工物ａを真空処理室ｂ内の複数の蒸発源
ｃ上を移動させてこれに第３図示のような多層の
薄膜ｄ，ｄを形成すると共に、該被加工物ａの一
部ｅに、該被加工物ａと各蒸発源ｃとの間に介在
させた各蒸発源毎に段階的に遮蔽幅が減少する遮
板ｆの開口部ｇを介して監視用の薄膜ｈを形成
し、各段階ｉから新たに露出する薄膜ｈを投受光
器ｊ，ｊを用いて測定することにより膜厚を監視
する式のものは知られている（特公昭53−40189
号）。而してこの式のものでは投受光器ｊ，ｊの
設置個所は各蒸発源ｃの直後に制限されるので比
較的設置が困難であると共に各投受光器ｊ，ｊの
投受光面が蒸発物質により曇り勝ちで正確な測定
を行なえない不都合があり、多数の投光器ｊ，ｊ
を設置するのを要して装置が高価になるを免れな
い。
うに被加工物ａを真空処理室ｂ内の複数の蒸発源
ｃ上を移動させてこれに第３図示のような多層の
薄膜ｄ，ｄを形成すると共に、該被加工物ａの一
部ｅに、該被加工物ａと各蒸発源ｃとの間に介在
させた各蒸発源毎に段階的に遮蔽幅が減少する遮
板ｆの開口部ｇを介して監視用の薄膜ｈを形成
し、各段階ｉから新たに露出する薄膜ｈを投受光
器ｊ，ｊを用いて測定することにより膜厚を監視
する式のものは知られている（特公昭53−40189
号）。而してこの式のものでは投受光器ｊ，ｊの
設置個所は各蒸発源ｃの直後に制限されるので比
較的設置が困難であると共に各投受光器ｊ，ｊの
投受光面が蒸発物質により曇り勝ちで正確な測定
を行なえない不都合があり、多数の投光器ｊ，ｊ
を設置するのを要して装置が高価になるを免れな
い。
本発明はこうした不都合を解消することをその
目的としたもので、被加工物を真空処理室内の複
数の蒸発源上を移動させてこれに多層に薄膜を形
成すると共に該被加工物と一体にこれと各蒸発源
との間に介在させた遮板の開口部を介して監視用
の薄膜を形成し、該監視用薄膜を投受光器間の光
により測定して多層の膜厚を監視する式のものに
於て、該遮板の開口部を各蒸発源に対向した独立
した複数個の孔形に構成し、各開口部を該被加工
物の移動方向の側方に夫々分散配置したことを特
徴とする。
目的としたもので、被加工物を真空処理室内の複
数の蒸発源上を移動させてこれに多層に薄膜を形
成すると共に該被加工物と一体にこれと各蒸発源
との間に介在させた遮板の開口部を介して監視用
の薄膜を形成し、該監視用薄膜を投受光器間の光
により測定して多層の膜厚を監視する式のものに
於て、該遮板の開口部を各蒸発源に対向した独立
した複数個の孔形に構成し、各開口部を該被加工
物の移動方向の側方に夫々分散配置したことを特
徴とする。
本発明装置の実施の１例を別紙図面につき説明
するに、第４図に於て１は真空処理室、２は該処
理室１内を一方のロール３ａから解かれ他方のロ
ール３ｂに巻取られるべく移動するポリエステル
フイルムその他の被加工物、４は該真空処理室１
内の下方に該被加工物２と対向させてその移動方
向に配置した複数個の幅方向に長手の蒸発源を示
し、各蒸発源４から蒸発する物質がその上方を移
動する被加工物２の表面に順次附着して多層の薄
膜５が形成される。また該被加工物２と各蒸発源
４との間には開口部６を備えた遮板７が介在さ
れ、該開口部６を介して被加工物２の例えば１側
に予め用意した監視帯域２ａに監視用の薄膜８が
形成される。該監視用の薄膜８は投光器９ａと受
光器９ｂとの１対からなる投受光器９によりその
厚さが監視されるもので、投光器９ａからの該薄
膜８の透過光量或は反射光量をアンプ１０、記録
装置１１に連結された受光器９ｂに於て測定し、
該監視用薄膜８の膜厚の異常が測定されると例え
ば蒸発源４の蒸発量を制御して予定の膜厚が得ら
れるように制御される。
するに、第４図に於て１は真空処理室、２は該処
理室１内を一方のロール３ａから解かれ他方のロ
ール３ｂに巻取られるべく移動するポリエステル
フイルムその他の被加工物、４は該真空処理室１
内の下方に該被加工物２と対向させてその移動方
向に配置した複数個の幅方向に長手の蒸発源を示
し、各蒸発源４から蒸発する物質がその上方を移
動する被加工物２の表面に順次附着して多層の薄
膜５が形成される。また該被加工物２と各蒸発源
４との間には開口部６を備えた遮板７が介在さ
れ、該開口部６を介して被加工物２の例えば１側
に予め用意した監視帯域２ａに監視用の薄膜８が
形成される。該監視用の薄膜８は投光器９ａと受
光器９ｂとの１対からなる投受光器９によりその
厚さが監視されるもので、投光器９ａからの該薄
膜８の透過光量或は反射光量をアンプ１０、記録
装置１１に連結された受光器９ｂに於て測定し、
該監視用薄膜８の膜厚の異常が測定されると例え
ば蒸発源４の蒸発量を制御して予定の膜厚が得ら
れるように制御される。
以上の構成は従来のものと特に変わりがないが
本発明のものに於ては遮板７の開口部６を第５図
に明らかなように各蒸発源４に対向した独立した
複数個の孔形６ａに構成し、各蒸発源４からの蒸
発物質の一部が該孔形６ａを介してその上方の被
加工物２の監視帯域２ａに監視用薄膜８として附
着するようにし、さらに各開口部６は該被加工物
２の移動方向の側方に夫々分散配置し、各開口部
６を介して該監視帯域２ａに附着する監視用薄膜
８は第５図示のように各蒸発源４毎に区分された
帯状に形成されるようにした。各薄膜５，８の膜
厚は各蒸発源４を過ぎた巻取ロール３ｂの前方に
設けた複数組の投受光器９間の反射光量の測定に
より測定されるが、各投光器９ａを被加工物２の
背後に設けて第４図点線示の如く光線を当て透過
光量を測定するようにしてもよい。また該投受光
器９を構成する投光器９ａと受光器９ｂを第６図
示のように被加工物２に沿つて走行自在のミラー
１２ａ，１２ｂに対向させ、両ミラー１２ａ，１
２ｂを走行させると光軸１３が該被加工物２の前
方に傾斜固定して設けた長手のミラー１４ａ，１
４ｂにより反射されて被加工物２の幅方向に移動
し、各薄膜５，８の膜厚が１組の投受光器９によ
り測定されるように構成することも出来る。各開
口部６の孔形６ａは第７図示のように千鳥形に配
置形成することも可能であり、第８図及び第９図
示のように三角形に形成してもよく、また第１０
図示の如く各開口部６の長さを変化させてもよ
い。尚第８図示のように開口部６を配置すること
によつて奇数番目の蒸発源による薄膜と偶数番目
の蒸発源による薄膜を監視帯域２ａの１側と他側
とに区分して形成出来る。その作動を第４図及び
第５図示の実施例について説明するに、ロール３
ａ，３ｂを回動して被加工物２を図面右方に移動
させると下方の各蒸発源４からのZnS，MgF2等
の蒸発物質が順次附着し、該被加工物２の下面に
多層の薄膜５が形成される。これと同時に監視帯
域２ａには孔形の開口部６を介して各蒸発源４毎
の単層の帯状の監視用薄膜８が形成され、各蒸発
源４を過ぎてロール３ｂに該被加工物２が巻取ら
れる前に投受光器９により各薄膜８の膜厚が測定
される。
本発明のものに於ては遮板７の開口部６を第５図
に明らかなように各蒸発源４に対向した独立した
複数個の孔形６ａに構成し、各蒸発源４からの蒸
発物質の一部が該孔形６ａを介してその上方の被
加工物２の監視帯域２ａに監視用薄膜８として附
着するようにし、さらに各開口部６は該被加工物
２の移動方向の側方に夫々分散配置し、各開口部
６を介して該監視帯域２ａに附着する監視用薄膜
８は第５図示のように各蒸発源４毎に区分された
帯状に形成されるようにした。各薄膜５，８の膜
厚は各蒸発源４を過ぎた巻取ロール３ｂの前方に
設けた複数組の投受光器９間の反射光量の測定に
より測定されるが、各投光器９ａを被加工物２の
背後に設けて第４図点線示の如く光線を当て透過
光量を測定するようにしてもよい。また該投受光
器９を構成する投光器９ａと受光器９ｂを第６図
示のように被加工物２に沿つて走行自在のミラー
１２ａ，１２ｂに対向させ、両ミラー１２ａ，１
２ｂを走行させると光軸１３が該被加工物２の前
方に傾斜固定して設けた長手のミラー１４ａ，１
４ｂにより反射されて被加工物２の幅方向に移動
し、各薄膜５，８の膜厚が１組の投受光器９によ
り測定されるように構成することも出来る。各開
口部６の孔形６ａは第７図示のように千鳥形に配
置形成することも可能であり、第８図及び第９図
示のように三角形に形成してもよく、また第１０
図示の如く各開口部６の長さを変化させてもよ
い。尚第８図示のように開口部６を配置すること
によつて奇数番目の蒸発源による薄膜と偶数番目
の蒸発源による薄膜を監視帯域２ａの１側と他側
とに区分して形成出来る。その作動を第４図及び
第５図示の実施例について説明するに、ロール３
ａ，３ｂを回動して被加工物２を図面右方に移動
させると下方の各蒸発源４からのZnS，MgF2等
の蒸発物質が順次附着し、該被加工物２の下面に
多層の薄膜５が形成される。これと同時に監視帯
域２ａには孔形の開口部６を介して各蒸発源４毎
の単層の帯状の監視用薄膜８が形成され、各蒸発
源４を過ぎてロール３ｂに該被加工物２が巻取ら
れる前に投受光器９により各薄膜８の膜厚が測定
される。
以上のように本発明によるときは遮板に各蒸発
源に対向させて独立した孔形の開口部を形成し、
各開孔部を側方に分散配置したので、被加工物の
監視帯域に各蒸発源毎の単層の監視用薄膜を形成
させ得、これら単層の薄膜の膜厚は投受光器によ
り比較的正確に測定出来、監視精度が多層の薄膜
の全体を測定する従来のものよりも向上し、その
測定は各蒸発源を過ぎた個所に於て行い得るので
投受光器の設置も容易であり、投受光面が蒸発物
質により曇り難くなる等の効果がある。
源に対向させて独立した孔形の開口部を形成し、
各開孔部を側方に分散配置したので、被加工物の
監視帯域に各蒸発源毎の単層の監視用薄膜を形成
させ得、これら単層の薄膜の膜厚は投受光器によ
り比較的正確に測定出来、監視精度が多層の薄膜
の全体を測定する従来のものよりも向上し、その
測定は各蒸発源を過ぎた個所に於て行い得るので
投受光器の設置も容易であり、投受光面が蒸発物
質により曇り難くなる等の効果がある。
第１図は従来例の截断側面図、第２図はその
−線截断面図、第３図は多層の薄膜の拡大断面
図、第４図は本発明装置の１例の截断側面図、第
５図はその−線截断面図、第６図は投受光器
の測定状態の１例の線図、第７図乃至第１０図は
開口部の変形例の線図である。 １……真空処理室、２……被加工物、４……蒸
発源、５……多層の薄膜、６……開口部、７……
遮板、８……監視用の薄膜、９……投受光器、６
ａ……孔形。
−線截断面図、第３図は多層の薄膜の拡大断面
図、第４図は本発明装置の１例の截断側面図、第
５図はその−線截断面図、第６図は投受光器
の測定状態の１例の線図、第７図乃至第１０図は
開口部の変形例の線図である。 １……真空処理室、２……被加工物、４……蒸
発源、５……多層の薄膜、６……開口部、７……
遮板、８……監視用の薄膜、９……投受光器、６
ａ……孔形。
Claims (1)
- １ 被加工物を真空処理室内の複数の蒸発源上を
移動させてこれに多層に薄膜を形成すると共に該
被加工物と一体にこれと各蒸発源との間に介在さ
せた遮板の開口部を介して監視用の薄膜を形成
し、該監視用薄膜を投受光器間の光により測定し
て多層の薄膜の膜厚を監視する式のものに於て、
該遮板の開口部を各蒸発源に対向した独立した複
数個の孔形に構成し、各開口部を該被加工物の移
動方向の側方に夫々分散配置したことを特徴とす
る多層薄膜形成装置における膜厚監視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57039336A JPS58158254A (ja) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | 多層薄膜形成装置における膜厚監視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57039336A JPS58158254A (ja) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | 多層薄膜形成装置における膜厚監視装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58158254A JPS58158254A (ja) | 1983-09-20 |
| JPS6154597B2 true JPS6154597B2 (ja) | 1986-11-22 |
Family
ID=12550246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57039336A Granted JPS58158254A (ja) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | 多層薄膜形成装置における膜厚監視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58158254A (ja) |
-
1982
- 1982-03-15 JP JP57039336A patent/JPS58158254A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58158254A (ja) | 1983-09-20 |
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