JPS6227530B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6227530B2 JPS6227530B2 JP54066191A JP6619179A JPS6227530B2 JP S6227530 B2 JPS6227530 B2 JP S6227530B2 JP 54066191 A JP54066191 A JP 54066191A JP 6619179 A JP6619179 A JP 6619179A JP S6227530 B2 JPS6227530 B2 JP S6227530B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- arm
- wafer
- heat treatment
- support arm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体工業で用いられる拡散炉、酸
化炉、低圧CVD装置、常圧CVD装置等の熱処理
装置の改良に関する。
化炉、低圧CVD装置、常圧CVD装置等の熱処理
装置の改良に関する。
従来、この種の熱処理装置において、反応管内
に半導体ウエハの如き被処理品を出し入れする操
作は次のようにして行なわれていた。すなわち、
石英製のウエハホルダーにウエハを装填した後、
該ホルダーをフオークリフトのアームで反応管内
に挿入し、ソフトランデイングさせてからフオー
クリフトのアームを管外に引出し、ウエハに所定
の熱処理を加える。しかる後、再びフオークリフ
トのアームを管内に挿入してウエハホルダーを保
持させ、そのままの状態でフオークリフトのアー
ムを管外に引出すことによりウエハを管外に取出
していた。そして、低圧CVD装置等におけるよ
うに反応管の開口部にドアが設置されている場合
には、ウエハの出し入れのたびにドアの開閉操作
を行なつていた。
に半導体ウエハの如き被処理品を出し入れする操
作は次のようにして行なわれていた。すなわち、
石英製のウエハホルダーにウエハを装填した後、
該ホルダーをフオークリフトのアームで反応管内
に挿入し、ソフトランデイングさせてからフオー
クリフトのアームを管外に引出し、ウエハに所定
の熱処理を加える。しかる後、再びフオークリフ
トのアームを管内に挿入してウエハホルダーを保
持させ、そのままの状態でフオークリフトのアー
ムを管外に引出すことによりウエハを管外に取出
していた。そして、低圧CVD装置等におけるよ
うに反応管の開口部にドアが設置されている場合
には、ウエハの出し入れのたびにドアの開閉操作
を行なつていた。
しかるに、上記した従来技術によると、ウエハ
と反応管内壁との間のクリアランスが２mm程度と
小さい場合には、ウエハの出し入れに非常な困難
をきたしていた。また、フオークリフトのアーム
の出し入れに伴つて管内に異物が侵入して歩留を
低下させていた。その上、ドアを開閉する場合に
は、その操作が面倒で、フオークリフトによるウ
エハ出し入れ操作と連動させるにしても装置が複
雑になる欠点があつた。
と反応管内壁との間のクリアランスが２mm程度と
小さい場合には、ウエハの出し入れに非常な困難
をきたしていた。また、フオークリフトのアーム
の出し入れに伴つて管内に異物が侵入して歩留を
低下させていた。その上、ドアを開閉する場合に
は、その操作が面倒で、フオークリフトによるウ
エハ出し入れ操作と連動させるにしても装置が複
雑になる欠点があつた。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をな
くした改良された熱処理装置を提供することにあ
る。
くした改良された熱処理装置を提供することにあ
る。
本発明の装置の一実施例は、ウエハ等の被処理
品を直接又は間接に支持する支持アームを、固定
ガイドで案内される往復動自在の移動台に取付
け、この移動台を適宜移動させることによりウエ
ハ等の被処理品の出し入れを行なえるようにした
ことを特徴とするものであり、所望により上記支
持アームには反応管の開口部にあてがうべきドア
部材を一体的に取付けることもできるものであ
る。
品を直接又は間接に支持する支持アームを、固定
ガイドで案内される往復動自在の移動台に取付
け、この移動台を適宜移動させることによりウエ
ハ等の被処理品の出し入れを行なえるようにした
ことを特徴とするものであり、所望により上記支
持アームには反応管の開口部にあてがうべきドア
部材を一体的に取付けることもできるものであ
る。
以下、添付図面に示す実施例について本発明を
詳述する。
詳述する。
第１図は、本発明の一実施例による熱処理装置
をそなえたクリーンベンチ１０を示すものであ
る。クリーンベンチ１０には石英製反応管１１が
設けられ、その周囲には図示しない抵抗加熱式ヒ
ーター等が設けられている。反応管１１の開口部
近傍には水平に延長するガイドロツド１２Ａ，１
２Ｂが設置されており、これらのガイドロツドに
は第２図に示す搬送機構２０が組合わされる。ガ
イドロツド１２Ｂの近傍に設けられた孔１３は、
第２図の駆動アーム２６が挿通されるものであ
る。
をそなえたクリーンベンチ１０を示すものであ
る。クリーンベンチ１０には石英製反応管１１が
設けられ、その周囲には図示しない抵抗加熱式ヒ
ーター等が設けられている。反応管１１の開口部
近傍には水平に延長するガイドロツド１２Ａ，１
２Ｂが設置されており、これらのガイドロツドに
は第２図に示す搬送機構２０が組合わされる。ガ
イドロツド１２Ｂの近傍に設けられた孔１３は、
第２図の駆動アーム２６が挿通されるものであ
る。
第２図において、２１は前述のガイドロツド１
２Ａ，１２Ｂがそれぞれ可動的に挿通される孔２
２Ａ，２２Ｂを有するステンレススチール製の移
動台、２３はウエハを支持して反応管１１内に出
し入れされるべく移動台２１に取付けられた石英
製の支持アーム、２４は反応管１１の開口部にあ
てがわれるべく支持アーム２３に一体的に取付け
られたステンレススチール製のドア部材、２５は
移動台２１の突出部である。
２Ａ，１２Ｂがそれぞれ可動的に挿通される孔２
２Ａ，２２Ｂを有するステンレススチール製の移
動台、２３はウエハを支持して反応管１１内に出
し入れされるべく移動台２１に取付けられた石英
製の支持アーム、２４は反応管１１の開口部にあ
てがわれるべく支持アーム２３に一体的に取付け
られたステンレススチール製のドア部材、２５は
移動台２１の突出部である。
移動台２１の孔２２Ａ，２２Ｂには図示しない
ベアリング機構が設けられており、このため、移
動台２１はガイドロツド１２Ａ，１２Ｂに接着さ
れるとスムーズに往復動するようになつている。
このような装着状態において、移動台２１の突出
部２５には、前述の孔１３から突出する駆動アー
ム２６の一端が取付けられるようになつており、
駆動アーム２６の他端は第２図に示すようにして
ねじ２６ａが切られ、そのねじ２６ａにはステツ
ピングモータ等の駆動装置２７のシヤフト２８の
ねじ２８ａが係合している。このため、駆動アー
ム２６は駆動装置２７の回転力で往復動し、この
駆動アーム２６の往復動作に伴つて移動台２１も
ガイドロツド１２Ａ，１２Ｂに沿つて往復動す
る。ここで、移動台２１に取付けた支持アーム２
３は、第３図に示すようにウエハ３０を装填した
ウエハホルダー３１を支持した状態で反応管１１
内に挿入されたり、引出されたりするが、その往
復動の過程でアーム２３自体もあるいはウエハ３
０又はウエハホルダー３１も反応管１１の内壁に
接触しないようになつているものである。そし
て、支持アーム２３に取付けたドア部材２４はア
ーム２３が管内の所定位置へ挿入されたときは自
動的に反応管１１の開口部をとじ、アーム２３が
管外へ引出されるときは自動的にその開口部をあ
けるように作用する。なお、熱処理中は、ドア部
材２４が反応管１１の開口部をとじると共に、支
持アーム２３と、ウエハホルダー３１と、ウエハ
３０とは第３図に示すように管壁に非接触の状態
で反応管１１内に保持される。
ベアリング機構が設けられており、このため、移
動台２１はガイドロツド１２Ａ，１２Ｂに接着さ
れるとスムーズに往復動するようになつている。
このような装着状態において、移動台２１の突出
部２５には、前述の孔１３から突出する駆動アー
ム２６の一端が取付けられるようになつており、
駆動アーム２６の他端は第２図に示すようにして
ねじ２６ａが切られ、そのねじ２６ａにはステツ
ピングモータ等の駆動装置２７のシヤフト２８の
ねじ２８ａが係合している。このため、駆動アー
ム２６は駆動装置２７の回転力で往復動し、この
駆動アーム２６の往復動作に伴つて移動台２１も
ガイドロツド１２Ａ，１２Ｂに沿つて往復動す
る。ここで、移動台２１に取付けた支持アーム２
３は、第３図に示すようにウエハ３０を装填した
ウエハホルダー３１を支持した状態で反応管１１
内に挿入されたり、引出されたりするが、その往
復動の過程でアーム２３自体もあるいはウエハ３
０又はウエハホルダー３１も反応管１１の内壁に
接触しないようになつているものである。そし
て、支持アーム２３に取付けたドア部材２４はア
ーム２３が管内の所定位置へ挿入されたときは自
動的に反応管１１の開口部をとじ、アーム２３が
管外へ引出されるときは自動的にその開口部をあ
けるように作用する。なお、熱処理中は、ドア部
材２４が反応管１１の開口部をとじると共に、支
持アーム２３と、ウエハホルダー３１と、ウエハ
３０とは第３図に示すように管壁に非接触の状態
で反応管１１内に保持される。
上記した本発明の装置によれば、(1)支持アーム
２３は常にウエハと共に出し入れされるので、そ
の出し入れ回数が従来の半分に減り、管内に異物
が侵入して歩留を低下させる機会が大幅に減るこ
と、(2)反応管１１の管壁に接触するものがないの
で、管壁をこすることで生ずる異物発生が全くな
くなること、(3)ドアの開閉がウエハの出し入れに
連動しているので、操作が簡略化されることなど
の優れた作用効果が得られる。
２３は常にウエハと共に出し入れされるので、そ
の出し入れ回数が従来の半分に減り、管内に異物
が侵入して歩留を低下させる機会が大幅に減るこ
と、(2)反応管１１の管壁に接触するものがないの
で、管壁をこすることで生ずる異物発生が全くな
くなること、(3)ドアの開閉がウエハの出し入れに
連動しているので、操作が簡略化されることなど
の優れた作用効果が得られる。
第１図は、本発明の一実施例による熱処理装置
をそなえたクリーンベンチを示す斜視図、第２図
は、第１図の装置に組合わせて用いられる搬送機
構を示す斜視図、第３図は、反応管内へのウエハ
挿入状態を示す断面図である。 １０……クリーンベンチ、１１……反応管、１
２Ａ，１２Ｂ……ガイドロツド、２０……搬送機
構、２１……移動台、２３……支持アーム、２４
……ドア部材、３０……ウエハ、３１……ウエハ
ホルダ。
をそなえたクリーンベンチを示す斜視図、第２図
は、第１図の装置に組合わせて用いられる搬送機
構を示す斜視図、第３図は、反応管内へのウエハ
挿入状態を示す断面図である。 １０……クリーンベンチ、１１……反応管、１
２Ａ，１２Ｂ……ガイドロツド、２０……搬送機
構、２１……移動台、２３……支持アーム、２４
……ドア部材、３０……ウエハ、３１……ウエハ
ホルダ。
Claims (1)
- １ 反応管内に被処理品を挿入して所定の熱処理
を加えた後前記反応管から前記被処理品を取出す
為の熱処理装置において、前記被処理品を支持し
て前記反応管内に出し入れされる支持アームと、
この支持アームが取付けられた往復動自在の移動
台と、前記移動台の移動を案内するガイド手段と
を有し、前記ガイド手段によつて案内されるよう
に前記移動台を移動させかつ前記支持アーム及び
前記被処理品を前記反応管の内壁に接触しない状
態で前記反応管内に挿入し、前記支持アーム及び
前記被処理品が前記反応管内に挿入された状態で
所定の熱処理を施すことを特徴とする熱処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6619179A JPS55158626A (en) | 1979-05-30 | 1979-05-30 | Heat treating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6619179A JPS55158626A (en) | 1979-05-30 | 1979-05-30 | Heat treating apparatus |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60215083A Division JPS61184822A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 熱処理方法 |
| JP60215082A Division JPS61184821A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55158626A JPS55158626A (en) | 1980-12-10 |
| JPS6227530B2 true JPS6227530B2 (ja) | 1987-06-15 |
Family
ID=13308699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6619179A Granted JPS55158626A (en) | 1979-05-30 | 1979-05-30 | Heat treating apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55158626A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5636129A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Hitachi Ltd | Method and device for heat treatment of semiconductor thin plate |
| JPS58212146A (ja) * | 1982-04-29 | 1983-12-09 | ヘレウス・クアルツシユメルツエ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング | マガジン内のシリコン・ウエフアを炉内へ導入するための装置 |
| JPS58207626A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-03 | Hitachi Ltd | 半導体処理装置 |
| JPS59158953A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-08 | Ushio Inc | 光照射加熱装置 |
| JPS59158954A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-08 | Ushio Inc | 光照射加熱装置 |
| JPS59200431A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-13 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウエハ−ボ−ト搬送用具 |
| JPS6173324A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 熱処理装置 |
| JPH0797563B2 (ja) * | 1985-08-12 | 1995-10-18 | 株式会社日立製作所 | 熱処理装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3744650A (en) * | 1971-10-26 | 1973-07-10 | Semiconductor Elect Memories | Boat mover for semiconductor fusion process |
| JPS50139778A (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-08 | ||
| JPS5729042B2 (ja) * | 1974-06-07 | 1982-06-21 |
-
1979
- 1979-05-30 JP JP6619179A patent/JPS55158626A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55158626A (en) | 1980-12-10 |
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