JPS6252398B2 - - Google Patents
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- JPS6252398B2 JPS6252398B2 JP57090604A JP9060482A JPS6252398B2 JP S6252398 B2 JPS6252398 B2 JP S6252398B2 JP 57090604 A JP57090604 A JP 57090604A JP 9060482 A JP9060482 A JP 9060482A JP S6252398 B2 JPS6252398 B2 JP S6252398B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体記憶装置に関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device.
絶縁ゲートを持つ電気的に書き込み可能な読み
出し専用メモリー(以下、EPROMと記す)の読
み出し状態を示すブロツク図を第1図に示す。 FIG. 1 shows a block diagram showing the read state of an electrically writable read-only memory (hereinafter referred to as EPROM) having an insulated gate.
一般に、メモリーセルには、書き込み状態と非
書き込み状態とがある。書き込み状態のしきい値
(VT)は、読み出し時に、ゲート電極に印加され
る電圧よりも高い。そのため、このメモリーセル
を選択した場合、メモリーセルは非導通状態
(OFF)となる。今、これを“0”が記憶されて
いると定義する。非書き込み状態のメモリーセル
を選択した場合、メモリーセルは導通状態
(ON)となる。これを“1”が記憶されていると
定義する。 Generally, a memory cell has a written state and a non-written state. The threshold value (V T ) in the write state is higher than the voltage applied to the gate electrode during reading. Therefore, when this memory cell is selected, the memory cell becomes non-conductive (OFF). Now, this is defined as "0" being stored. When a memory cell in a non-written state is selected, the memory cell becomes conductive (ON). This is defined as "1" being stored.
第1図において、今、アドレス線X1とアドレ
ス線Y1により、メモリーセルM1が選択されたと
する。メモリーセルM1に“0”が記憶されてい
る時、点Lの電位をVoff(L)、点Mの電位を
Voff(M)とする。 In FIG. 1, it is assumed that memory cell M1 is selected by address line X1 and address line Y1 . When “0” is stored in memory cell M1 , the potential of point L is Voff(L), and the potential of point M is
Let it be Voff (M).
一方、アドレス線X2、アドレス線Y1により、
メモリーセルM2が選択され、このメモリーセル
M2に“1”が記憶されている時、点Lの電位を
Von(L)、点Mの電位をVon(M)とする。増
幅器1は、前記Voff(L)とVon(L)の電位差
を増幅している。点Lにはデイジツト線がつなが
つているので、大きな容量がついている。比較検
出器3は、メモリーセルに“0”が書き込みまれ
ている時の点Mの電位Voff(M)と基準電圧発生
回路2で得られた基準電圧VREFを比較し、(1)式
の関係が成り立つている時は、メモリーセルに
“0”が書き込まれていると判断し、点Mの電位
と基準電圧との差を増幅し、出力バツフア4を通
して、出力Voに“0”が出力される。 On the other hand, due to address line X 2 and address line Y 1 ,
Memory cell M 2 is selected and this memory cell
When “1” is stored in M 2 , the potential at point L is
Von(L), and the potential at point M is Von(M). The amplifier 1 amplifies the potential difference between the Voff (L) and Von (L). Since the digit line is connected to point L, it has a large capacity. The comparison detector 3 compares the potential Voff (M) at point M when "0" is written in the memory cell with the reference voltage V REF obtained by the reference voltage generation circuit 2, and calculates the equation (1). When the relationship holds true, it is determined that "0" is written in the memory cell, the difference between the potential at point M and the reference voltage is amplified, and "0" is output to the output Vo through output buffer 4. be done.
Voff(M)>VREF+α ……(1)
(α:比較検出器が検出可能な最小の電位差)
一方、メモリーセルに“1”が書き込まれてい
る時も同様に、点Mの電位Von(M)と基準電圧
発生回路2で得られた基準電圧VREFと比較し、
(2)式の関係が成り立つている時は、メモリーセル
に“1”が書き込まれていると判断し、点Mの電
位と、基準電圧との差を増幅して、出力バツフア
4を通して、出力Voに“1”が出力される。 Voff (M) > V REF +α ...(1) (α: Minimum potential difference that can be detected by the comparison detector) On the other hand, when "1" is written in the memory cell, the potential Von of point M (M) and the reference voltage V REF obtained by the reference voltage generation circuit 2,
When the relationship in equation (2) holds true, it is determined that "1" is written in the memory cell, and the difference between the potential at point M and the reference voltage is amplified and output through the output buffer 4. “1” is output to Vo.
Von(M)+α<VREF ……(2)
(α:比較検出器が検出可能な最小の電位差)
以上述べたように、EPROMが正常動作するか
否かは、基準電圧が前記(1),(2)式の関係を満足す
るか否かにかかつている。従つて、製造上のばら
つき、電源電圧の変動に対して、安定な基準電圧
を作ることが必要である。 Von (M) + α < V REF ... (2) (α: Minimum potential difference that can be detected by the comparison detector) As stated above, whether the EPROM operates normally or not depends on the reference voltage , it depends on whether the relationship in equation (2) is satisfied or not. Therefore, it is necessary to create a stable reference voltage against manufacturing variations and power supply voltage fluctuations.
第2図は、従来技術によるEPROMの一部回路
図である。MOSトランジスタTr10,Tr11,
Tr12,Tr14は第1図における増幅器を構成するも
のである。MOSトランジスタTr15は、ゲート電
極にアドレス線Y11が入力される選択用トランジ
スタである。MOSトランジスタTr16,Tr17は共
にメモリーセルである。今、説明を簡単にするた
めに、トランジスタTr16には“0”が書き込まれ
ており、トランジスタTr17には“1”が書き込ま
れているとする。以上、トランジスタTr10,
Tr11,Tr12,Tr13,Tr14,Tr15,Tr16,Tr17で構
成される部分回路を第2図中Aとする。トランジ
スタTr3,Tr4,Tr5,Tr6,Tr7も増幅器を構成
し、Aにおける増幅器と同じ特性をもつ。トラン
ジスタTr8は、トランジスタTr15と同じ特性をも
つもので、ゲート電極には、選択時のY11の信号
(電源電圧)が印加されている。トランジスタ
Tr9は、メモリーセルと同じ構造と特性をもつト
ランジスタ(以下、ダミーセルと記す)であり、
ゲート電極にはデイプレツシヨン型MOSトラン
ジスタであるトランジスタTr1とTr2の抵抗分割
によつて得られる電圧が印加されており、トラン
ジスタTr9に流れる電流を制限している。以上、
トランジスタTr1,Tr2,Tr3,Tr4,Tr5,Tr6,
Tr7で構成される部分回路を第2図中Bとする。 FIG. 2 is a partial circuit diagram of an EPROM according to the prior art. MOS transistors Tr 10 , Tr 11 ,
Tr 12 and Tr 14 constitute the amplifier in FIG. The MOS transistor Tr15 is a selection transistor whose gate electrode receives the address line Y11 . Both MOS transistors Tr 16 and Tr 17 are memory cells. Now, to simplify the explanation, it is assumed that "0" is written in the transistor Tr 16 and "1" is written in the transistor Tr 17 . Above, transistor Tr 10 ,
A partial circuit composed of Tr 11 , Tr 12 , Tr 13 , Tr 14 , Tr 15 , Tr 16 and Tr 17 is designated as A in FIG. Transistors Tr 3 , Tr 4 , Tr 5 , Tr 6 , and Tr 7 also constitute an amplifier, and have the same characteristics as the amplifier in A. The transistor Tr 8 has the same characteristics as the transistor Tr 15 , and the signal Y 11 (power supply voltage) at the time of selection is applied to the gate electrode. transistor
Tr 9 is a transistor (hereinafter referred to as a dummy cell) that has the same structure and characteristics as a memory cell,
A voltage obtained by resistance division between transistors Tr 1 and Tr 2 , which are depletion type MOS transistors, is applied to the gate electrode, thereby limiting the current flowing through the transistor Tr 9 . that's all,
Transistors Tr 1 , Tr 2 , Tr 3 , Tr 4 , Tr 5 , Tr 6 ,
The partial circuit composed of Tr 7 is designated as B in Fig. 2.
従来例の動作を第2図、第3図を用いて説明す
る。今、アドレス線X11,Y11によりメモリーセル
Tr16が選択されたとする。Tr16には、“0”が書
き込まれているのでしきい値(VT)は、通常電
源電圧以上になつているので電源電圧がアドレス
線X11に印加されてもTr16が導通しない為にこの
時の点Dの電位VD(off)は(3)式で表わされる。 The operation of the conventional example will be explained using FIGS. 2 and 3. Now, address lines X 11 and Y 11 connect memory cells.
Suppose Tr 16 is selected. Since "0" is written in Tr 16 , the threshold value (V T ) is normally higher than the power supply voltage, so even if the power supply voltage is applied to the address line X 11 , Tr 16 will not conduct. The potential V D (off) at point D at this time is expressed by equation (3).
VD(off)=VCC−VT12
(VT12:Tr12のしきい値) ……(3)
一方、アドレス線、X21,Y11により、メモリー
セルTr17が選択されたとする。Tr17には“1”が
書き込まれているので電源電圧がアドレス線X21
に印加された場合、通常しきい値(VT)は電源
電圧以下であるので、Tr17は導通する。この時の
点Dの電位VD(on)は、Tr12,Tr13,Tr14,
Tr15,Tr17の抵抗によつて決まる値となる。Bに
おける点Eの電位は、点Fの電位が電源電圧以下
である為に“1”が書き込まれたメモリーセルを
選んだ時に流れる電流に比べてTr9に流れる電流
が少なくなるために、点Eの電位VREF1は、
“0”が書き込まれたメモリーセルを選んだ場合
の点Dの電位VD(off)の値と“1”が書き込ま
れたメモリーセルを選んだ場合の点Dの電位VD
(on)の値の間に設定される。 V D (off) = V CC −V T12
(V T12 :Threshold value of Tr 12 ) ...(3) On the other hand, assume that memory cell Tr 17 is selected by the address lines X 21 and Y 11 . Since “1” is written in Tr 17 , the power supply voltage is connected to the address line
Tr 17 becomes conductive since the threshold voltage (V T ) is normally below the power supply voltage. The potential V D (on) at point D at this time is Tr 12 , Tr 13 , Tr 14 ,
The value is determined by the resistance of Tr 15 and Tr 17 . The potential at point E at point B is lower than the current flowing through Tr 9 compared to the current flowing when a memory cell written with "1" is selected because the potential at point F is lower than the power supply voltage. The potential V REF1 of E is
The value of the potential V D (off) at point D when a memory cell written with “0” is selected and the potential V D at point D when a memory cell written with “1” is selected.
(on).
第3図は選択されたメモリーセルに“0”が書
き込まれている場合の点Dの電位VD(off)と、
選択されたメモリーセルに“1”が書き込まれて
いる場合の点Dの電位VD(on)と、Bの基準電
圧発生回路より得られた基準電圧VREF1の電源電
圧依存性を示したものである。 FIG. 3 shows the potential V D (off) at point D when "0" is written in the selected memory cell, and
This shows the power supply voltage dependence of the potential V D (on) at point D when “1” is written in the selected memory cell and the reference voltage V REF1 obtained from the reference voltage generation circuit at B. It is.
第3図に従い、電源電圧を0から順次上昇さし
た時の点Dの電位VD(off)、VD(on)点Eの電
位VREF1の値について説明する。 Referring to FIG. 3, the values of the potential V D (off) at point D, V D (on) and potential V REF1 at point E when the power supply voltage is sequentially increased from 0 will be explained.
アドレス線により“0”が書き込まれているメ
モリーセルが選択された場合(3)式の様に、VD
(off)=VCC−VT12となる。電源電圧を“0”が
書き込まれているメモリーセルのしきい値(VTM
0)よりも大きくすると(3)式の曲線に乗らなくな
るが、この電圧は通常高いので第3図には示して
いない。アドレス線により、“1”が書き込まれ
ているメモリーセルが選択された場合、電源電圧
がメモリーセルのしきい値(VTM)より大きくな
ると、メモリーセルが導通状態となるため、点D
の電位D(on)は、電源電圧を上昇するに従い、
VD(off)の曲線で表わされる値とかけ離れてい
き、VD(off)の直線と比べて傾きの小さな曲線
で近似できる。 When a memory cell in which “0” is written by the address line is selected, V D
(off)=V CC −V T12 . The threshold value (V TM
If it is made larger than 0 ), it will not follow the curve of equation (3), but this voltage is usually high, so it is not shown in Figure 3. When a memory cell in which "1" is written is selected by the address line, when the power supply voltage becomes larger than the threshold value (V TM ) of the memory cell, the memory cell becomes conductive, so the point D
As the power supply voltage increases, the potential D (on) of
It becomes far away from the value represented by the V D (off) curve, and can be approximated by a curve with a smaller slope than the V D (off) straight line.
一方、ダミーセルのゲート電極には、電源電圧
より低い電圧が印加されるのでVREF1の値の電源
電圧依存性を示した場合、しきい値(VT)が高
くなつたように見える。この等価的なしきい値を
VTM′とする。電源電圧がVTM′より少し高い間
は、ダミーセルの導電度が悪いので、電源電圧を
上昇しても点Eの電位はVD(off)の曲線で表わ
される値に近く、VD(off)の値とVREF1の値の
差を比較検出器で検出することができなくなる。
(Pの領域)さらに電源電圧を上昇していくと比
較検出器が正常動作する。(Qの領域)しかし、
電源電圧を上昇していくに従い、第2図BのTr2
の導電度の増加よりも、Tr1の導電度の増加が大
きい為に、点Fの電位が急激に上昇する。このた
め、点Eの電位は今度は、VD(on)の直線で表
わされる値に近づき、比較検出器は、VREF1の値
と、VD(on)の値の差を検出することができな
くなる。 On the other hand, since a voltage lower than the power supply voltage is applied to the gate electrode of the dummy cell, when the dependence of the value of V REF1 on the power supply voltage is shown, the threshold value (V T ) appears to be higher. Let this equivalent threshold be V TM '. While the power supply voltage is slightly higher than V TM ', the conductivity of the dummy cell is poor, so even if the power supply voltage is increased, the potential at point E is close to the value represented by the V D (off) curve, and V D (off ) and the value of V REF1 cannot be detected by the comparison detector.
(Region P) When the power supply voltage is further increased, the comparison detector operates normally. (Area of Q) However,
As the power supply voltage increases, Tr 2 in Figure 2B
Since the increase in the conductivity of Tr 1 is greater than the increase in the conductivity of Tr 1 , the potential at point F rises rapidly. Therefore, the potential at point E now approaches the value represented by the straight line of V D (on), and the comparison detector can detect the difference between the value of V REF1 and the value of V D (on). become unable.
(Rの領域)
以上述べたように、従来技術を用いた本例で
は、基準電圧を広い電源電圧の範囲で適切に設定
することが難しく、EPROMが正常動作する最低
の電圧VCCminは、“0”が書き込まれたメモリ
ーセルを選択した時に制限され、最高の電圧VCC
maxは、“1”が書き込まれているメモリーセル
を選択した時に制限される結果となり、片方を良
くしようとしても、もう一方が悪くなるという欠
点がある。(Region of R) As described above, in this example using the conventional technology, it is difficult to appropriately set the reference voltage in a wide range of power supply voltages, and the lowest voltage V CC min at which the EPROM operates normally is When a memory cell written with “0” is selected, it is limited to the highest voltage V CC
max is limited when a memory cell in which "1" is written is selected, and there is a drawback that even if one is tried to improve one, the other becomes worse.
本発明の目的は、前述の欠点を除去し、容易に
設定でき、しかも広い電源電圧の範囲で正常動作
する比較検出器の基準電圧発生回路を提供するも
のである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a reference voltage generation circuit for a comparison detector which eliminates the above-mentioned drawbacks, can be easily set, and operates normally over a wide range of power supply voltages.
本発明の記憶装置は、複数個のメモリーセルを
含み、前記メモリーセルを、Xアドレス線とYア
ドレス線により、1つのメモリーセルを選択し、
前記メモリーセルに接続されるデイジツト線の電
圧が、選択されたメモリーセルの記憶内容に応じ
て変化することにより、記憶内容を判断し、前記
デイジツト線の電圧を増幅する第1の増幅器と、
前記メモリーセルから成る第1の部分回路と、前
記メモリーセルと同じ構造と特性をもち、ゲート
電極には、選択時のXアドレス線と同じ電圧が印
加される素子を含み、前記第1の増幅器と同じ特
性をもつ第2の増幅器の出力部と、定電圧源との
間にそう入された複数個の抵抗素子から成り、前
記複数個の抵抗性素子の接続点から出力を取り出
した基準電圧発生回路と、差動増幅器を含み、前
記第1の部分回路の前記第1の増幅器の出力を、
前記差動増幅器の入力とし、前記基準電圧発生回
路の出力を、前記差動増幅器の基準電圧入力とし
たことを特徴とする。 The storage device of the present invention includes a plurality of memory cells, and one memory cell is selected by an X address line and a Y address line,
a first amplifier that determines the memory content by changing the voltage of the digit line connected to the memory cell in accordance with the memory content of the selected memory cell, and amplifies the voltage of the digit line;
a first partial circuit consisting of the memory cell; and an element having the same structure and characteristics as the memory cell, to which the same voltage as the X address line is applied at the time of selection to the gate electrode, and the first amplifier; A reference voltage consisting of a plurality of resistive elements inserted between the output section of a second amplifier having the same characteristics as the constant voltage source and the output from the connection point of the plurality of resistive elements. a generation circuit and a differential amplifier, the output of the first amplifier of the first partial circuit;
It is characterized in that the output of the reference voltage generation circuit is used as the input of the differential amplifier, and the output of the reference voltage generation circuit is used as the reference voltage input of the differential amplifier.
第4図は、本発明による実施例を示す回路図で
ある。左側Aの部分は、第2図Aの部分と同じも
のである。トランジスタTr20,Tr21,Tr22,
Tr23,Tr24で構成される増幅器は、Aのトランジ
スタTr10,Tr11,Tr12,Tr13,Tr14で構成される
増幅器と同じ特性をもつものである。トランジス
タTr25はAにおけるTr15と同じ特性をもつもので
あり、ゲート電極には、選択時のY11の信号(電
源電圧)が印加されている。 FIG. 4 is a circuit diagram showing an embodiment according to the present invention. The part A on the left side is the same as the part A in FIG. Transistors Tr 20 , Tr 21 , Tr 22 ,
The amplifier composed of Tr 23 and Tr 24 has the same characteristics as the amplifier composed of transistors Tr 10 , Tr 11 , Tr 12 , Tr 13 and Tr 14 in A. The transistor Tr 25 has the same characteristics as the transistor Tr 15 in A, and the signal Y 11 (power supply voltage) at the time of selection is applied to the gate electrode.
Tr26はAにおけるTr16等のメモリーセルと同じ
構造と特性をもつダミーセルでゲート電極には選
択時のX11等の信号(電源電圧)が印加されてい
る。トランジスタTr27,Tr28は抵抗が大きいデイ
プレツシヨン型MOSトランジスタである。トラ
ンジスタTr29はAにおけるトランジスタTr12と同
じ特性をもつトランジスタである。 Tr 26 is a dummy cell having the same structure and characteristics as the memory cells such as Tr 16 in A, and a signal (power supply voltage) such as X 11 at the time of selection is applied to the gate electrode. Transistors Tr 27 and Tr 28 are depletion type MOS transistors with large resistance. Transistor Tr 29 is a transistor having the same characteristics as transistor Tr 12 in A.
本発明による実施例の動作を第4図、第5図を
用いて説明する。 The operation of the embodiment according to the present invention will be explained using FIGS. 4 and 5.
Aの出力電圧VD(on),VD(off)を得る部分
は、第2図と同じ構成であるので、説明を省略す
る。Cにおいて点Hの電位VHは、Aにおいて
“1”が書き込まれているメモリーセルTr17を選
んだ時の点Dの電位VD(on)とほぼ同じ値であ
る。又、点Gの電位VGは、Aにおいて“0”が
書き込まれたメモリーセルTr16を選んだ時の点D
の電位VD(off)とほぼ同じ値である。なぜな
ら、Aにおいて、“0”が書き込まれたメモリー
セルを選んだ場合は、メモリーセルのゲートに印
加される信号が印加されても、メモリーセルは導
通状態とならないのでメモリーセルには電流が流
れない。従つて、点Dの電位は(3)式で表わされる
値となるが、この値は、AのTr12と同じ特性をも
つCのTr29で表わされるトランジスタ1つで近似
することにより得られる。Tr27,Tr28は、点Hの
電位VHの値と、点Gの電位VGの値を抵抗分割す
るために用いるデイプレツシヨン型MOSトラン
ジスタであり、Tr27の抵抗をR1,Tr28の抵抗を
R2とした場合、点Iの電位、VREF2は(4)式のよう
に表わされる。 The portion for obtaining the output voltages V D (on) and V D (off) of A has the same configuration as that in FIG. 2, so a description thereof will be omitted. The potential V H at point H in C is approximately the same value as the potential V D (on) at point D when the memory cell Tr 17 in which "1" is written in A is selected. Also, the potential V G at point G is the potential at point D when the memory cell Tr 16 in which “0” is written at A is selected.
This value is almost the same as the potential V D (off) of . This is because, in A, if a memory cell in which "0" is written is selected, even if a signal is applied to the gate of the memory cell, the memory cell will not become conductive, so current will flow through the memory cell. do not have. Therefore, the potential at point D is the value expressed by equation (3), but this value can be obtained by approximating it with one transistor expressed by Tr 29 of C, which has the same characteristics as Tr 12 of A. . Tr 27 and Tr 28 are depletion type MOS transistors used to divide the value of the potential V H at point H and the value of the potential V G at point G by resistance, and the resistance of Tr 27 is divided by the resistance of R 1 and Tr 28 . resistance
When R 2 is assumed, the potential at point I, V REF2 , is expressed as in equation (4).
VREF2=R2VH+R1VG/R1+R2 ……(4)
第2図の従来回路では上述の如く、VREF1のV
CC依存性は大きい。しかし、本発明の基準電圧発
生回路は、上述の如く、VD(off)に相当する電
圧を点Gで発生(VG)させ、VD(on)に相当
する電圧を点Hで発生(VH)させて点Gと点H
を抵抗R1とR2で接続することにより構成され
る。従つて、VREF2は、(4)式で表わされることに
なる。VREF2が(4)式で表わされることにより、V
REF2は常に、VGとHの間つまり、VD(off)とV
D(on)の間に設定されることになり、次段の比
較検出器が、プロセスパラメータが多少変化して
も常に安定に動作する。又、R1=R2に設定する
ことによりVCCが変化してもVREF2はVD(off)
とVD(on)の中間付近に常に設定される。 V REF2 = R 2 V H + R 1 V G /R 1 + R 2 ...(4) In the conventional circuit shown in Fig. 2, as mentioned above, the V of V REF1
It is highly dependent on CC . However, as described above, the reference voltage generation circuit of the present invention generates a voltage corresponding to V D (off) at point G (V G ), and generates a voltage corresponding to V D (on) at point H ( V H ) and point G and point H
It is constructed by connecting resistors R 1 and R 2 . Therefore, V REF2 is expressed by equation (4). By expressing V REF2 by equation (4), V
REF2 is always between V G and H , that is, between V D (off) and V
D (on), so that the comparison detector in the next stage always operates stably even if the process parameters change slightly. Also, by setting R 1 = R 2 , even if V CC changes, V REF2 remains V D (off).
and V D (on).
第5図は、第3図と同様に、選択されたメモリ
ーセルに“0”が書き込まれている場合の点Dの
出力電圧VD(off)と、選択されたメモリーセル
に“1”が書き込まれている場合の点Dの出力電
圧VD(on)と、本発明のCの基準電圧発生回路
より得られた基準電圧VREF2の電源電圧依存性を
示したものである。図中、VD(off)、VD(on)
で表わされる曲線は、第3図のものと対応する。
Cにおける点Gの電位VGの電源電圧依存性は、
前記のように、VD(off)とほぼ同じであり、点
Hの電位VHの電源電圧依存性も同様にVD
(on)とほぼ同じである。ここで、ほぼと言つた
のは、電源から点G―点I―点Hと、余計な電流
パスができるためであるが、Tr27,Tr28の抵抗を
大きくすることにより、無視することができる。
第2図に示す従来技術の基準電圧発生回路はダミ
ーセルTr9のゲート電圧が、Tr1とTr2により制御
されるが、本発明の基準電圧発生回路のダミーセ
ルTr26のゲートはVCCが接続されている。従つ
て、メモリーセルとダミーセルTr26に流れる電流
値は、VCCが変化しても常に同一となる。従つ
て、VHのVCC依存性はVD(on)とほぼ同一に
なるので、(4)式から、VCCが変化しても、VREF2
が、VD(off)とVD(on)の中間付近に常に設
定されることにより、次段の比較検出器が正常動
作するVCCの範囲が、従来技術の場合に比べ広
い。従つて、例えば、Tr27の抵抗R1とTr28の抵
抗R2を等しくすると、電源電圧を0から順次上
昇していつた場合、基準電圧VREF2は、“0”が
書き込まれているメモリーセルを選択した時の点
Dの電圧VD(off)と“1”が書き込まれている
メモリーセルを選択した場合の点Dの電位VD
(on)の中間の位置近辺に、常に設定されること
になり、比較検出器が正常動作する範囲が、
“0”又は“1”が書き込まれているメモリーセ
ルを選んだ時に左右されることがなく、比較検出
器が正常動作する最低の電圧(VCC′min)は、
“1”が書き込まれているメモリーセルのしきい
値(VTM)によつて決まり、最大の電圧(VCC
max)は、“0”が書き込まれているメモリーセ
ルのしきい値(VTM0によつて決まると考えら
れ、EPROMが正常動作する電源電圧の範囲が広
く、しかも、基準電圧を容易に設定することがで
きる。 Similar to FIG. 3, FIG. 5 shows the output voltage V D (off) at point D when "0" is written in the selected memory cell, and the output voltage V D (off) when "1" is written in the selected memory cell. It shows the power supply voltage dependence of the output voltage V D (on) at point D in the case of writing and the reference voltage V REF2 obtained from the reference voltage generation circuit C of the present invention. In the figure, V D (off), V D (on)
The curve represented by corresponds to that in FIG.
The power supply voltage dependence of the potential V G at point G at C is
As mentioned above, it is almost the same as V D (off), and the dependence of the potential V H at point H on the power supply voltage is also V D
It is almost the same as (on). Here, I say almost because there is an extra current path from the power supply to point G - point I - point H, but this can be ignored by increasing the resistance of Tr 27 and Tr 28 . .
In the conventional reference voltage generation circuit shown in FIG. 2, the gate voltage of dummy cell Tr 9 is controlled by Tr 1 and Tr 2 , but in the reference voltage generation circuit of the present invention, the gate of dummy cell Tr 26 is connected to V CC. has been done. Therefore, the current values flowing through the memory cell and dummy cell Tr26 are always the same even if V CC changes. Therefore, since the V CC dependence of V H is almost the same as V D (on), from equation (4), even if V CC changes, V REF2
is always set near the midpoint between V D (off) and V D (on), so that the range of V CC in which the comparison detector in the next stage normally operates is wider than in the case of the prior art. Therefore, for example, if the resistance R 1 of Tr 27 and the resistance R 2 of Tr 28 are made equal, and the power supply voltage is gradually increased from 0, the reference voltage V REF2 will be equal to the value of the memory cell in which "0" is written. The voltage at point D when V D (off) is selected and the potential at point D when a memory cell in which "1" is written is selected.
It is always set near the middle position of (on), and the range in which the comparison detector operates normally is
The lowest voltage (V CC 'min) at which the comparison detector operates normally, regardless of whether a memory cell in which "0" or "1" is written is selected, is:
It is determined by the threshold value (V TM ) of the memory cell in which "1" is written, and the maximum voltage (V CC
max) is considered to be determined by the threshold value (V TM0) of the memory cell in which "0" is written, and the power supply voltage range in which the EPROM operates normally is wide, and the reference voltage can be easily set. be able to.
本発明の記憶装置は、以上述べたように、比較
検出器に用いる基準電圧が、広い電源電圧の範囲
で容易に、しかも適切な位置に設定されるので、
正常動作する電源電圧の範囲が広いので、比較検
出器に負担をかけることがない。従つて、
EPROM等の記憶装置に有効である。 As described above, in the storage device of the present invention, the reference voltage used for the comparison detector can be easily set at an appropriate position over a wide power supply voltage range.
Since the power supply voltage range for normal operation is wide, there is no burden on the comparison detector. Therefore,
Effective for storage devices such as EPROM.
以上の実施例は、EPROMを例にとり説明した
が、選択されたメモリーセルを含むデイジツト線
の電位がメモリーセルの内容によつて変化する構
成をとるものであるかぎり、本発明は有効であ
り、EPROMに限らない。又、第4図で、デイプ
レツシヨン型MOSトランジスタを2個用いる例
を示したが、抵抗性のある素子で複数個用いて、
設定すべき電位を出す場合においても本発明は有
効である。又、第4図では、選択したメモリーセ
ルに“0”が書き込まれている時の点Dの電位V
D(off)はTr291つで達成できるが、VD(off)と
近い電位が出るものであれば、どんな構成をとつ
ても本発明は有効である。 The above embodiments have been explained using an EPROM as an example, but the present invention is effective as long as the potential of the digit line containing the selected memory cell changes depending on the contents of the memory cell. Not limited to EPROM. In addition, although Fig. 4 shows an example in which two depletion type MOS transistors are used, it is also possible to use multiple resistive elements.
The present invention is also effective when generating a potential to be set. In addition, in FIG. 4, the potential V at point D when "0" is written in the selected memory cell
Although D (off) can be achieved with one Tr 29 , the present invention is effective with any configuration as long as it produces a potential close to V D (off).
第1図は、不揮発性メモリにおいて、読み出し
を行なう場合のブロツク図である。第2図は、基
準電圧を発生するための従来の回路例である。第
3図は第2図Aにおいて、“0”が書き込まれた
メモリーセルを選択した時の点Dの電位VD
(off)と、“1”が書き込まれたメモリーセルを
選択した時の点Dの電位VD(on)と、基準電圧
VREF1の値の電源電圧依存性をを示すものであ
る。第4図は、本発明の一実施例を示すものであ
る。第5図は、第4図において“0”が書き込ま
れたメモリーセルを選択した時の、点Dの電位V
D(off)と“1”が書き込まれたメモリーセルを
選択した時の点Dの電位VD(on)と、基準電圧
VREF2の値の電源電圧依存性を示すものである。
ここにおいて、VD(off)とVD(on)は第3図
のものに対応する。又、第4図のH点の電位VH
とG点の電位VGの電源電圧依存性は、それぞ
れ、VD(on),VD(off)で表わされる曲線とほ
ぼ等しい。
1……点Lの電位変化を増幅する増幅器、2…
…基準電圧発生回路、3……1の増幅器の出力と
2の基準電圧発生回路の出力の差を比較、増幅す
る比較検出器、4……出力バツフアである。
X1,X2,X3,Xo……どれか一本が選択された時
に電源電圧が印加されるアドレス線、Y1……選
択時に電源電圧が印加されるYアドレス線であ
る。
FIG. 1 is a block diagram when reading data from a nonvolatile memory. FIG. 2 is an example of a conventional circuit for generating a reference voltage. Figure 3 shows the potential V D at point D when a memory cell written with "0" is selected in Figure 2A.
(off), the potential V D (on) at point D when a memory cell in which "1" is written is selected, and the dependence of the value of the reference voltage V REF1 on the power supply voltage. FIG. 4 shows an embodiment of the present invention. Figure 5 shows the potential V at point D when the memory cell in which "0" is written in Figure 4 is selected.
It shows the power supply voltage dependence of the potential V D (on) at point D and the value of the reference voltage V REF2 when a memory cell in which D (off) and "1" are written is selected.
Here, V D (off) and V D (on) correspond to those in FIG. Also, the potential V H at point H in FIG.
The dependence of the potential V G at point G on the power supply voltage is approximately equal to the curves represented by V D (on) and V D (off), respectively. 1... An amplifier that amplifies the potential change at point L, 2...
. . . a reference voltage generation circuit, 3 . . . a comparison detector that compares and amplifies the difference between the output of the amplifier 1 and the output of the reference voltage generation circuit 2, and 4 . . . an output buffer.
X 1 , X 2 , X 3 , X o . . . address lines to which a power supply voltage is applied when one of them is selected; Y 1 . . . a Y address line to which a power supply voltage is applied when selected.
Claims (1)
セルをXアドレス線とYアドレス線により、1つ
のメモリーセルを選択し、前記メモリーセルに接
続されるデイジツト線の電圧が、選択されたメモ
リーセルの記憶内容に応じて、変化することによ
り、記憶内容を判断し、前記デイジツト線の電圧
を増幅する第1の増幅器と前記メモリーセルから
成る第1の部分回路と、前記メモリーセルと同じ
構造と特性をもち、ゲート電極には選択時のXア
ドレス線と同じ電圧が印加される素子を含み、前
記第1の増幅器と同じ特性をもつ第2の増幅器か
ら成る第2の部分回路と、前記第2の部分回路の
第2の増幅器の出力部と、定電圧源との間にそう
入された複数個の抵抗性素子から成り、前記複数
個の抵抗性素子の中間接続点から出力を取り出し
た基準電圧発生回路と、差動増幅器を含み、前記
第1の部分回路の前記第1の増幅器の出力を、前
記差動増幅器の入力とし、前記、基準電圧発生回
路の出力を前記差動増幅器の基準電圧入力とした
ことを特徴とする記憶装置。1 Including a plurality of memory cells, one memory cell is selected by an X address line and a Y address line, and the voltage of a digit line connected to the memory cell is set to the memory of the selected memory cell. a first subcircuit consisting of a first amplifier for determining the memory content and amplifying the voltage of the digit line by changing it depending on the content; and a first partial circuit comprising the memory cell; a second partial circuit comprising a second amplifier having the same characteristics as the first amplifier; A reference voltage consisting of a plurality of resistive elements inserted between the output part of the second amplifier of the partial circuit and a constant voltage source, and an output taken from an intermediate connection point of the plurality of resistive elements. a generation circuit and a differential amplifier, the output of the first amplifier of the first partial circuit is used as an input of the differential amplifier, and the output of the reference voltage generation circuit is used as the reference voltage of the differential amplifier. A storage device characterized in that it is used as an input.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57090604A JPS58208990A (en) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | Storage device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57090604A JPS58208990A (en) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | Storage device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58208990A JPS58208990A (en) | 1983-12-05 |
| JPS6252398B2 true JPS6252398B2 (en) | 1987-11-05 |
Family
ID=14003070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57090604A Granted JPS58208990A (en) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | Storage device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58208990A (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59186197A (en) * | 1983-04-07 | 1984-10-22 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor storage device |
| JPS60150297A (en) * | 1984-01-13 | 1985-08-07 | Nec Corp | Memory |
| JPH01220295A (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Nec Corp | Semiconductor memory |
| JPH0668685A (en) * | 1993-04-19 | 1994-03-11 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1497210A (en) * | 1975-05-13 | 1978-01-05 | Ncr Co | Matrix memory |
-
1982
- 1982-05-28 JP JP57090604A patent/JPS58208990A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58208990A (en) | 1983-12-05 |
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