Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPS6257106B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPS6257106B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6257106B2
JPS6257106B2 JP55175608A JP17560880A JPS6257106B2 JP S6257106 B2 JPS6257106 B2 JP S6257106B2 JP 55175608 A JP55175608 A JP 55175608A JP 17560880 A JP17560880 A JP 17560880A JP S6257106 B2 JPS6257106 B2 JP S6257106B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating layer
aluminum coating
lead frame
etching
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55175608A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5799763A (en
Inventor
Kenji Konishi
Mamoru Onda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
Priority to JP55175608A priority Critical patent/JPS5799763A/en
Publication of JPS5799763A publication Critical patent/JPS5799763A/en
Publication of JPS6257106B2 publication Critical patent/JPS6257106B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/01Manufacture or treatment
    • H10W70/04Manufacture or treatment of leadframes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/01Manufacture or treatment
    • H10W70/04Manufacture or treatment of leadframes
    • H10W70/042Etching

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集積回路用リードフレーム、特に長手
方向にアルミニウム被覆層をスポツト的に有する
リードフレームの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame for an integrated circuit, and more particularly to a lead frame having an aluminum coating layer spotted in the longitudinal direction.

従来、この種リードフレームとしては、コバー
ル又はFe−42%Ni合金からなるベース材料に、
アルミニウムを蒸着或いはクラツドしたものが安
くて実用的なリードフレームとして知られている
が、このアルミニウムを蒸着或いはクラツドした
リードフレームは、製造上次のような問題点を有
する。
Conventionally, this type of lead frame has a base material made of Kovar or Fe-42%Ni alloy,
Lead frames made of vapor-deposited or clad aluminum are known as inexpensive and practical lead frames, but lead frames made of vapor-deposited or clad aluminum have the following problems in manufacturing.

即ち、通常の方法では、アルミニウムはメツキ
ができないため、その被覆手段としては蒸着或い
はクラツドしかないが、それらの方法では、第1
図にみられるように、ベース材料1′に対してア
ルミニウム層2′をストライプ状に設けるのがせ
いぜいで、必要箇所のみスポツト的に設けるとい
うことは至難の技であつた。
In other words, since aluminum cannot be plated using normal methods, the only means of covering it are vapor deposition or cladding, but these methods require the first step.
As shown in the figure, the aluminum layer 2' can be provided in stripes at best on the base material 1', and it is extremely difficult to provide the aluminum layer 2' only in spots where necessary.

このため、打抜き後の製品としては第2図にみ
られるように、アルミニウム被覆層が存在する幅
方向にしかリード脚3′を出せない、比較的簡単
でピン数の少ないものにしか使用できなかつた。
For this reason, as shown in Figure 2, the punched product can only be used in relatively simple products with a small number of pins, in which the lead leg 3' can only be protruded in the width direction where the aluminum coating layer is present. Ta.

一方、第3図にみられるように、打抜き前或い
は打抜き後のベース材料4′の必要面5′に、金、
銀等の貴金属をスポツトメツキする方法が知られ
ているが、この方法では機械的マスクとメツキ液
用噴射ノズルを用いたスポツトメツキ方式によ
り、リード脚6′の方向が幅方向に限定されない
ですむため複雑なリードフレームを製造すること
ができる。しかし、このようなリードフレーム
は、金、銀等の貴金属を使用する関係から高価な
ものとならざるを得ない欠点がある。
On the other hand, as shown in FIG. 3, gold, gold,
A method of spot plating precious metals such as silver is known, but this method uses a mechanical mask and a plating liquid spray nozzle, so the direction of the lead leg 6' is not limited to the width direction, so it is complicated. lead frames can be manufactured. However, such lead frames have the disadvantage that they are expensive because they use precious metals such as gold and silver.

又、リードフレームは、その必要面上にICチ
ツプをボンデイングし、ワイヤボンデイング後レ
ジン等によりパツケージングされるが、リードフ
レームとパツケージ材とのなじみが良くないこと
のパツケージ作業が十分な密着をもつて行われ
ず、IC製品としての信頼性を減じることにな
る。
In addition, the lead frame is bonded with an IC chip on the required surface, and then packaged with resin or the like after wire bonding. However, the lead frame and the package material do not fit well, so it is difficult to ensure sufficient adhesion during the packaging process. This will reduce the reliability of the IC product.

本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解
消し、機械的なマスクを利用しエツチング方式に
より長手方向にアルミニウム被覆層スポツト的に
有する複雑な構成のリードフレームを短時間で経
済的に有利に製造することができる方法を提供す
ることにある。
The object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and to economically advantageously fabricate a lead frame having a complex structure having aluminum coating layers spotted in the longitudinal direction in a short time by an etching method using a mechanical mask. The objective is to provide a method that can produce

即ち、本発明の要旨とするところは、長尺の帯
状体からなるベース材料の少なくとも片面全面に
もしくは片面の一部をストライプ状にアルミニウ
ムをクラツド或いは蒸着により被覆した後、前記
ベース材料から不要なアルミニウム被覆層を選択
的に除去することにより長手方向に必要なアルミ
ニウム被覆層をスポツト的に有するリードフレー
ムを製造する方法において、前記不要なアルミニ
ウム被覆層を除去するに際し、エツチング液を導
入する中空室を有し該中空室にその内部から前記
不要なアルミニウム被覆層に向けてエツチング液
を噴射するための複数の小孔を設けると共に、さ
らに該中空室にエツチングの際に前記必要なアル
ミニウム被覆層に当接して必要なアルミニウム被
覆層を機械的にマスキングするためのマスキング
用突起を設けてなるエツチング液供給装置を、上
記ベース材料にセツトしてエツチング処理を行う
ことを特徴とする長手方向にアルミニウム被覆層
をスポツト的に有するリードフレームの製造方法
にある。
That is, the gist of the present invention is to coat at least one entire surface or a part of one surface of a base material consisting of a long strip with aluminum in a striped manner by cladding or vapor deposition, and then remove unnecessary materials from the base material. In a method for manufacturing a lead frame having a necessary aluminum coating layer in spots in the longitudinal direction by selectively removing the aluminum coating layer, a hollow chamber into which an etching solution is introduced when removing the unnecessary aluminum coating layer. The hollow chamber is provided with a plurality of small holes for injecting the etching solution from the inside toward the unnecessary aluminum coating layer. Aluminum coating in the longitudinal direction, characterized in that the etching process is performed by setting an etching liquid supply device provided with a masking protrusion for mechanically masking the necessary aluminum coating layer in contact with the base material. A method of manufacturing a lead frame having a layer in spots is provided.

ベース材料の片面全面にもしくは片面の一部を
ストライプ状にクラツド或いは蒸着により被覆さ
れたアルミニウム被覆層から不要なアルミニウム
被覆層をエツチングにより除去する時期は、ベー
ス材料にアルミニウムをクラツド或いは蒸着した
直後、又はベース材料にアルミニウムをクラツド
或いは蒸着した後、さらに打抜加工した後のいず
れでも良い。
The time to remove the unnecessary aluminum coating layer by etching from the aluminum coating layer which is coated on the entire surface or a part of one side of the base material by cladding or vapor deposition in the form of stripes is immediately after the aluminum coating layer is coated on the base material by cladding or vapor deposition. Alternatively, aluminum may be clad or vapor-deposited on the base material, and then punched.

一般に、不要なアルミニウムを選択的に除去す
る方法としては、例えば次のような種々の方法が
ある。
Generally, there are various methods for selectively removing unnecessary aluminum, such as the following.

薬品による溶解除去法 −1 マスキング法 (1) 機械的マスキング法 (2) 塗装レジスト法 a スプレー塗装法 b オフセツト印刷法 c フオトレジスト法 d スクリーン印刷法 I−2 溶解法 (1) 化学エツチング 例、カ性ソーダ水溶液(濃度1%〜飽和
水溶液)、塩酸水溶液(濃度1〜35%) (2) 電解エツチング 例、塩酸水溶液(濃度1〜35%) 機械的除去法 グラインダ、ワイヤブラシ、シヨツトプラス
ト法による除去 添付図面第4図は、本発明方法の一実施例とし
て、機械的マスキング法によるアルミニウム被覆
層のエツチング除去方法を示したものである。
Dissolution removal method using chemicals - 1 Masking method (1) Mechanical masking method (2) Paint resist method a Spray coating method b Offset printing method c Photo resist method d Screen printing method I-2 Dissolution method (1) Chemical etching Example, Caustic soda aqueous solution (concentration 1% to saturated aqueous solution), hydrochloric acid aqueous solution (concentration 1 to 35%) (2) Electrolytic etching Example, hydrochloric acid aqueous solution (concentration 1 to 35%) Mechanical removal method By grinder, wire brush, shotplast method Removal FIG. 4 of the accompanying drawings shows a method of etching and removing an aluminum coating layer by mechanical masking, as an embodiment of the method of the present invention.

図において、長尺帯状体からなるベース材料1
としては、Fe−42%Ni合金製の片面全面にアル
ミニウム2を蒸着してなるものを使用した。
In the figure, a base material 1 consisting of a long strip-shaped body
A material made of Fe-42%Ni alloy and having aluminum 2 deposited on the entire surface of one side was used.

3はベース材料1を支承する基台、4はマスキ
ング用突起5を有するエツチング液供給装置にし
て、エツチング液を満たした中空室6、複数の小
孔7、液入口8を有する。矢印はエツチング液の
流れ方向を示す。
3 is a base for supporting the base material 1; 4 is an etching liquid supply device having a masking protrusion 5; a hollow chamber 6 filled with etching liquid; a plurality of small holes 7; and a liquid inlet 8. Arrows indicate the flow direction of the etching solution.

不要なアルミニウム複数層の除去方法として
は、上記ベース材料1を基台3に固定し、マスキ
ング用突起5を前記ベース材料1の必要なアルミ
ニウム被覆層蒸着面に密着させてエツチング液供
給装置4をセツトする。
As a method for removing multiple unnecessary aluminum layers, the base material 1 is fixed to the base 3, the masking protrusion 5 is brought into close contact with the surface of the base material 1 on which the necessary aluminum coating layer is deposited, and the etching liquid supply device 4 is turned on. Set.

そして、この状態で液入口8より中空室6へエ
ツチング液を送り込み、複数の小孔7を通してエ
ツチング液をベース材料1の不要なアルミニウム
被覆層蒸着面に噴射させて前記不要なアルミニウ
ム被覆層をエツチング除去する。
Then, in this state, the etching liquid is sent into the hollow chamber 6 from the liquid inlet 8, and is injected through the plurality of small holes 7 onto the unnecessary aluminum coating layer deposition surface of the base material 1, thereby etching the unnecessary aluminum coating layer. Remove.

マスキング用突起5により機械的にマスクされ
て必要なアルミニウム被覆層蒸着面として残る部
分はスポツト状である。
The portion that is mechanically masked by the masking protrusion 5 and remains as the necessary aluminum coating layer deposition surface is in the form of a spot.

第4図では、ベース材料1を垂直に配置して不
要なアルミニウムの除去を行つたが、ベース材料
を水平に配置して行うことも当然可能である。
In FIG. 4, unnecessary aluminum is removed by arranging the base material 1 vertically, but it is of course also possible to remove unnecessary aluminum by arranging the base material horizontally.

上記のように遂行する本実施例リードフレーム
製造方法によれば、次のような効果がある。
According to the lead frame manufacturing method of this embodiment carried out as described above, the following effects can be obtained.

(1) 不要なアルミニウム被覆層を除去するに際
し、エツチング液を導入する中空室を有し該中
空室にその内部から前記不要なアルミニウム被
覆層に向けてエツチング液を噴射するための複
数の小孔を設けると共に、さらに該中空室にエ
ツチングの際に前記必要なアルミニウム被覆層
に当接して必要なアルミニウム被覆層を機械的
にマスキングするためのマスキング用突起を設
けてなるエツチング液供給装置を、ベース材料
にセツトしてエツチング処理を行うことによ
り、ちようどスポツトメツキの場合とは逆の意
味で同じように機械的マスクーエツチング液噴
射方式を採用することにより不要なアルミニウ
ム被覆層を連続的にしかも短時間で効率的に除
去(高速除去)することができると同時に必要
なアルミニウム被覆層をスポツト的に残すこと
ができる。そして、その結果として複雑な構成
のアルミニウム被覆リードフレームを経済的に
得ることができ、アルミニウム被覆リードフレ
ームの使用範囲を著しく拡大することが可能と
なる。
(1) When removing an unnecessary aluminum coating layer, a hollow chamber is provided for introducing an etching liquid into the hollow chamber, and a plurality of small holes are used to spray the etching liquid from inside the hollow chamber toward the unnecessary aluminum coating layer. and a masking protrusion for mechanically masking the necessary aluminum coating layer by contacting the necessary aluminum coating layer during etching in the hollow chamber. By setting it on the material and performing the etching process, the unnecessary aluminum coating layer can be continuously removed by using a mechanical mask etching liquid spray method, which is the opposite of spot plating. It can be efficiently removed in a short time (high-speed removal), and at the same time, the necessary aluminum coating layer can be left in spots. As a result, an aluminum-coated lead frame with a complicated structure can be obtained economically, and the range of use of the aluminum-coated lead frame can be significantly expanded.

(2) 上記方法によりいつたんクラツド或いは蒸着
により被覆されたアルミニウム被覆層がエツチ
ングにより除去されたあとの面は、梨地状の微
少な凹凸面が残ることになり、この凹凸面の存
在によりパツケージングに際してはリードフレ
ームとパツケージ材とのなじみが良くなり、相
互間の把持力が著しく向上する。その結果、パ
ツケージ内への水分の浸入を確実に防止し得、
水分の浸入によるボンデイングワイヤの腐食を
防止し得ることにより、IC製品における信頼
性を著しく向上させることができる。
(2) After the aluminum coating layer coated by cladding or vapor deposition using the above method is removed by etching, a satin-like slightly uneven surface remains, and the existence of this uneven surface makes it difficult to package. At this time, the lead frame and package material become more compatible, and the gripping force between them is significantly improved. As a result, it is possible to reliably prevent moisture from entering the package,
By being able to prevent corrosion of bonding wires due to moisture intrusion, the reliability of IC products can be significantly improved.

又、かかる凹凸面は半田付等の際、半田とも
非常になじみやすいという効果がある。
Moreover, such an uneven surface has the effect of being very easily compatible with solder during soldering.

以上のように、本発明は機械的マスクを利用し
たエツチング方式の採用により、長手方向にアル
ミニウム被覆層をスポツト的に有する複雑な構成
のリードフレームを短時間で経済的に有利に製造
することができる方法を提供したものであり、そ
の工業的価値はきわめて大きいものがあるといえ
る。
As described above, the present invention employs an etching method using a mechanical mask to economically advantageously manufacture a lead frame having a complex structure having an aluminum coating layer spotted in the longitudinal direction in a short time. It can be said that the industrial value of this method is extremely large.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第3図は従来例説明図、第4図は本発
明に係るリードフレームの製造方法の一実施例説
明図である。 1:ベース材料、2:アルミニウム、3:基
台、4:エツチング液供給装置、5:マスキング
用突起、6:中空室、7:小孔、8:液入口。
1 to 3 are explanatory diagrams of a conventional example, and FIG. 4 is an explanatory diagram of an embodiment of a lead frame manufacturing method according to the present invention. 1: Base material, 2: Aluminum, 3: Base, 4: Etching liquid supply device, 5: Masking protrusion, 6: Hollow chamber, 7: Small hole, 8: Liquid inlet.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 長尺の帯状体からなるベース材料の少なくと
も片面全面にもしくは片面の一部をストライプ状
にアルミニウムをクラツド或いは蒸着により被覆
した後、前記ベース材料から不要なアルミニウム
被覆層を選択的に除去することにより長手方向に
必要なアルミニウム被覆層をスポツト的に有する
リードフレームを製造する方法において、前記不
要なアルミニウム被覆層を除去するに際し、エツ
チング液を導入する中空室を有し、該中空室にそ
の内部から前記不要なアルミニウム被覆層に向け
てエツチング液を噴射するための複数の小孔を設
けると共に、さらに該中空室にエツチングの際に
前記必要なアルミニウム被覆層に当接して必要な
アルミニウム被覆層を機械的にマスキングするた
めのマスキング用突起を設けてなるエツチング液
供給装置を、上記ベース材料にセツトしてエツチ
ング処理を行うことを特徴とする長手方向にアル
ミニウム被覆層をスポツト的に有するリードフレ
ームの製造方法。
1. After coating at least one entire surface or a part of one surface of a base material consisting of a long strip with aluminum in a striped manner by cladding or vapor deposition, selectively removing an unnecessary aluminum coating layer from the base material. In the method for manufacturing a lead frame having a necessary aluminum coating layer in spots in the longitudinal direction, the lead frame has a hollow chamber into which an etching solution is introduced when removing the unnecessary aluminum coating layer, and the inside of the lead frame is A plurality of small holes are provided in the hollow chamber for injecting the etching solution toward the unnecessary aluminum coating layer, and the hollow chamber is further provided with a plurality of small holes for spraying the etching solution onto the unnecessary aluminum coating layer during etching. A lead frame having an aluminum coating layer spotted in the longitudinal direction, characterized in that an etching liquid supply device provided with masking protrusions for mechanical masking is set on the base material to perform the etching process. Production method.
JP55175608A 1980-12-12 1980-12-12 Manufacture of lead frame for integrated circuit Granted JPS5799763A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55175608A JPS5799763A (en) 1980-12-12 1980-12-12 Manufacture of lead frame for integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55175608A JPS5799763A (en) 1980-12-12 1980-12-12 Manufacture of lead frame for integrated circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5799763A JPS5799763A (en) 1982-06-21
JPS6257106B2 true JPS6257106B2 (en) 1987-11-30

Family

ID=15999063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55175608A Granted JPS5799763A (en) 1980-12-12 1980-12-12 Manufacture of lead frame for integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5799763A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6372889A (en) * 1986-09-12 1988-04-02 Showa Alum Corp Production of lead frame
JPS63160367A (en) * 1986-12-24 1988-07-04 Hitachi Ltd Plastic-sealed semiconductor device
DE10348715B4 (en) * 2003-10-16 2006-05-04 Infineon Technologies Ag Method for producing a leadframe with improved adhesion between it and plastic as well as leadframe

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4952976A (en) * 1972-09-22 1974-05-23
JPS553642A (en) * 1978-06-23 1980-01-11 Hitachi Ltd Manufacturing semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5799763A (en) 1982-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7521295B2 (en) Leadframe and method of manufacturing the same
US3042591A (en) Process for forming electrical conductors on insulating bases
TWI600131B (en) Lead frame manufacturing method
JPH10199905A (en) Surface roughening method for chip support plate
JP2000195984A (en) Carrier substrate for semiconductor device, method of manufacturing the same, semiconductor device and method of manufacturing the same
JPS6257106B2 (en)
JP4852802B2 (en) Lead frame
JP5812891B2 (en) Carrier tape, electronic component series, and electronic component mounting method
JP5531172B2 (en) Lead frame and manufacturing method thereof
JPH0621625A (en) Printed wiring board and manufacture thereof
JP2806712B2 (en) Semiconductor device manufacturing equipment
JPH022132A (en) Manufacture of bump electrode
JPH02106059A (en) Lead frame and its manufacture
JP2971250B2 (en) Plating equipment for semiconductor products
JPS6248386B2 (en)
JPH04269817A (en) Manufacture of chip type solid electrolytic capacitor
JP3230318B2 (en) Lead frame for semiconductor device
JPH02281749A (en) Manufacture of lead frame
JP2925403B2 (en) Plating equipment for semiconductor products
JPS6138187Y2 (en)
JPS58139457A (en) Jet solder bath
JPS61225839A (en) Forming method for bump electrode
JPS61131473A (en) Forming method for lead frame pattern by etching
JPS6192777A (en) Pretreatment for soldering
JPH0330298B2 (en)