JPS6258147B2

JPS6258147B2 -

Info

Publication number: JPS6258147B2
Application number: JP60290563A
Authority: JP
Inventors: Hiroto Nagatomo; Tetsuya Takagaki; Hisao Seki; Shiro Terasaki; Jun Suzuki; Hitoshi Horimuki
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-12-25
Filing date: 1985-12-25
Publication date: 1987-12-04
Also published as: JPS61166038A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、ウエハ処理における新規な装置に関
する。

現在の半導体工業では、半導体ウエハに種々の
ウエハ処理を行なつて、一枚のウエハから数多く
の半導体素子チツプを製作し、これをパツケージ
ングして半導体装置を得るということが行なわれ
ている。この種のウエハ処理における熱拡散など
の熱処理工程では、ウエハ表面に不純物をデイポ
ジシヨンしたり、拡散、酸化を行なう炉作業と、
その炉作業の前にウエハをエツチング、洗浄、乾
燥等の表面処理作業とがあるが、これらの作業は
最近自動化されつつある。しかしながら、従来、
この種の処理装置では、表面処理をする作業は数
千枚のウエハをカートリツジに入れて同時に処理
するバツチ処理のために、洗浄、乾燥における品
質のばらつきが生じている。

また、この種の処理装置では、各種の態様のカ
ートリツジたとえば保管用カートリツジ、洗浄用
カートリツジ（洗浄治具）、拡散用カートリツジ
（熱処理治具）をハンドリングするために装置全
体が大型のものであることと、これに搬送路等を
含め洗浄乾燥処理室を洗浄化するクリーンエア
（清浄な空気）を大量に消費する難点がある。

一方、これらの装置では、ウエハの方向合せ作
業は装置外で行なつているため、ウエハの方向合
せのハンドリング作業性が悪い。

それゆえ、本発明の目的はウエハ処理での品質
の安定化及び歩留の向上を図ることにある。

また、本発明の他の目的はウエハの方向合せも
含めた自動処理方法及びその装置を提供すること
により、作業の能率化、作業人員の削減化を図
り、処理コストを低減することにある。

また、本発明の他の目的は装置全体を小型化
し、クリーンエアの使用量の軽減、装置の据付ス
ペースの縮小化を図ることにある。

このような目的に適うための本発明の一実施例
によれば、カートリツジ単位でウエハ（被処理
体）をローデイングし、表面処理は一枚ずつ行な
い、熱処理はバツチ処理にて行なつてカートリツ
ジ単位で処理済みのウエハを収納するウエハ処理
装置であり、以下実施例により本発明を具体的に
説明する。

第１図に概略平面図、第２図に斜視図で示す本
発明の一実施例であるウエハ一貫処理装置は、大
別して左から右に向かつて並ぶローダ・アンロー
ダ部１、洗浄部２、乾燥部３、ウエハ搬出入部
４、スカベンジヤ５及び炉６並びにガス供給部７
を有する拡散炉部８、制御装置９を主要部とする
ものである。また、制御部（制御系）は前記制御
装置９、ローダ・アンローダ部１の側部の制御機
器部１０からなつている。

つぎに各部について説明する。

＜ローダ・アンローダ部１＞ローダ・アンローダ部は、第２図，第４図およ
び第５図に示すように、保管用カートリツジ１１
を収容するストツカ１２，ウエハ１３を最初の搬
送路に一枚ずつ送り出すローダ機構１４、一連の
処理群の最後の搬送路から一枚ずつウエハ１３を
回収するアンローダ機構１５、前記ストツカ１２
とローダ機構１４およびアンローダ機構１５との
間を動き回りカートリツジ１１内のウエハ１３の
受け渡しを行なう受渡機構１６とを有する。前記
ストツカ１２は縦横に複数整列配設され、装置の
外からカートリツジ１１を出し入れできる収容部
１７を有する。また、収容部１７の内側には、前
記受渡機構１６がある。これは、ストツカ１２内
の指定のカートリツジ１１を取り出した後、反転
テーブル１８に運んだり、反転テーブル１８から
収容部１７にカートリツジ１１を移す搬送機構１
９と、ローダ機構１４およびアンローダ機構１５
間を移動する反転テーブル１８と、反転テーブル
１８上のカートリツジ１１のウエハ１３をローダ
機構１４の収容箱２０に送り込む移換プツシヤ２
１と、アンローダ機構１５の収容箱２２のウエハ
１３を反転テーブル１８上の空カートリツジ１１
に送り込む移換プツシヤ２３とを有する。前記搬
送機構１９はカートリツジ１１の両側上縁部に設
けられる突条部２４の下面に臨むフオーク２５を
有している。このフオーク２５は移動板２６にロ
ーラ２７を介して取り付けられ収容部１７に出入
する方向に移動しうる｛たとえばこの装置の長手
方向をＸ方向とする。以下各機構においてもこの
方向に沿う移動はＸ移動と呼ぶことにする。これ
に対して装置の幅員方向をＹ方向、上下方向をＺ
方向と呼ぶことにする。また、Ｘ方向にあつては
ローダ・アンローダ部１から拡散炉装置部８に向
かう方向を、Ｙ方向にあつては装置の背面から前
方に向かう方向を、Ｚ方向にあつては上昇方向を
それぞれ＋（プラス）方向とし、その逆を−（マイ
ナス）方向とする。｝。

また、移動板２６はＹ方向に延びる細長のＹ方
向ガイド２８にローラ２９を介してＹ移動する台
座３０に180度正逆回転可能に取り付けられ、回
転機構３１によつて回転制御される。前記Ｙ方向
ガイド２８はその両端をＺ方向に延びるＺ方向ガ
イド３２にＺ移動可能に支持されている。したが
つて、移動板２６はＹ，Ｚ方向に自由に移動しう
るから指定の収容部１７にフオーク２５を臨ま
せ、フオーク２５を−Ｘ方向に前進させることに
よつて収容部１７のカートリツジ１１を抜き出
す。その後180度移動板２６を回転させてフオー
ク２５の向きを変えるとともにＹ，Ｚ方向に動作
して反転テーブル１８にフオーク２５を臨ませ、
フオーク２５を＋Ｘ方向に前進させて反転テーブ
ル１８上にカートリツジ１１を載置する。なお、
反転テーブル１８上からストツカ１２にカートリ
ツジ１１を移動する際には前記手順の逆を行な
う。

前記反転テーブル１８はＹ方向に延びる２本の
ガイド棒３３にローラ３４を介してＹ移動する基
板３５と、この基板３５上に配設されXZ面に沿
つて反転機構３６により90度正逆反転する受台３
７とからなつている。受台３７は直交する２板の
受板３８，３９からなり、90度の正転逆転によつ
て交互にカートリツジ１１を支える。また、一方
の受板３８には窓４０が設けられ、この窓４０に
は前記移換プツシヤ２１の受板４１が通過するよ
うになつている。また、ローダ機構１４の−Ｘ方
向側には移換プツシヤ２１が、アンローダ機構１
５の−Ｘ方向側には移換プツシヤ２３がそれぞれ
配設してある。収容箱２０，２２はそれぞれ上下
動し、カートリツジ１１の収容溝配列と同じで、
ウエハ１３の両縁を１対のＶ字形収容溝で支える
ものである。また、たとえばカートリツジ１１が
25枚のウエハを収容する場合は、これに照合し25
対の収容溝をもつ収容箱２０，２２を用いる。ま
た、収容箱２０，２２の収容溝をＸ方向に延ば
し、ウエハ１３を収容箱２０，２２内を通り抜け
るようにしている。さらに、ローダ機構１４に
は、１枚送出プツシヤ４２を配し、収容箱２０内
のウエハ１３を収容箱２０の１ピツチずつの上昇
毎に一枚ずつ搬送路４３上に送り出しうる。ま
た、搬出路４４からはウエハ１３が一枚ずつアン
ローダ機構１５に送り込まれ、収容箱２２の１ピ
ツチずつの上昇あるいは下降毎に一枚のウエハ１
３を収容箱２２に収容するようになつている。

したがつて、搬送機構１９によつて反転テーブ
ル１８の受台３７上にカートリツジ１１が送り込
まれると、受台３７は90度反転してカートリツジ
１１を立て（この際カートリツジのウエハ収容溝
は水平状態となる）、カートリツジ１１のウエハ
挿脱口をローダ・アンローダ機構１４，１５側に
向ける。その後、カートリツジ１１にウエハ１３
を収容してある場合には反転テーブル１８はロー
ダ機構１４に近接し、移換プツシヤ２１の＋Ｘ移
動による一時的な前進によつてカートリツジ１１
内のウエハ１３を収容箱２０に移し換え、カート
リツジ１１がウエハを収容しない空状態では反転
テーブル１８はアンローダ機構１５に接近し、移
換プツシヤ２３の−Ｘ移動による一時的な前進に
よつて収容箱２２内のウエハ１３をカートリツジ
１１内に移す。なお、これら収容箱２０，２２と
カートリツジ１１との間のウエハの移換は収容箱
２０，２２をカートリツジ１１の高さと一致させ
た後に行なう。

＜洗浄部２＞洗浄部２にはローダ機構１４から延びる搬送路
４３と、アンローダ機構１５に達する搬出路４４
とが設けられ、これら両者は洗浄部２の端から端
まで延びている。また、前記搬出路４４はウエハ
搬出入部４にまで達するとともに乾燥部３では二
又に別れて乾燥装置の搬出口に繋がつており、第
６図ａで示すように、ウエハ１３を案内し、噴射
孔４６をもつ溝４５と、ウエハ１３を移送する移
送アーム４７を有する。また、移送アーム４７に
は下方に２本の移送ピン４８が延びウエハ１３の
後縁を押すようになつている。溝底部には噴射孔
４６に連通している導孔４９があり、圧縮空気等
の気体が送り込まれ、ウエハが溝底から浮いて移
送しうるようになつている。したがつて、ウエハ
は溝と非接触でかつ溝の中心部で移送されるた
め、摩耗によるごみの発生もなく、ウエハへのご
みの付着も起きず、ウエハ加工処理の歩留が向上
する。

また、この搬送によれば、大口径のウエハでも
単位面積当りの気体の噴射による浮力は変わらな
いので、浮いた状態で確実に搬送できる。

なお、第７図および第８図は他の態様の搬送路
を示し、第７図に示すものは溝４５の溝底にウエ
ハの搬送方向とは逆の方向に気体が流れるような
傾斜した予備噴射孔50群（第９図に示すように一
列でもよい。）を設けたもので、これから噴き出
る気体でウエハ１３を常に移送ピン４８に押し付
け、ウエハの搬送を安定化するとともに、移送ピ
ン４８とウエハ１３との繰り返し当接を防ぎウエ
ハの破損を防止するものである。また、第８図に
示すものは、移送ピン４８の移動域に沿つて溝４
５に細い溝５１を形成し、これに移送ピン４８の
下端を入れ、ウエハ１３が移送ピン４８と溝底と
の間に挾まらないようにしたもので、溝底に対す
る移送ピン４８の下端との間隙を調整する作業も
不要となる。

一方、搬送路４３の側方には３つの薬液処理槽
Ａ，Ｂ，Ｃが設けられ、ウエハ１３が搬出入され
る。この搬出入部の搬送路は不連続構造となつ
て、その途中の予備槽５２を介してウエハの受け
渡しを行なう。

第９図は、一つの薬液処理槽５３とそれに隣接
する搬送路４３及びその間のウエハ一枚搬送部を
示す斜視図である。同図において、５４は処理槽
本体、５５はウエハホルダ、５６はウエハ回転駆
動用モータ、５７はかくはん板、５８はかくはん
板駆動用モータである。槽本体５４の一側に予備
槽５２が連設され、搬入プツシヤ５９により予備
槽内のウエハを処理槽内のウエハホルダに送入
し、あるいは処理槽内から予備槽へ表面処理され
たウエハを取り出すようになつている。

６１は１枚処理水洗槽（搬送路４３）上のウエ
ハを予備槽へ送る水洗路用ウエハプツシヤ、６２
は１枚処理水洗槽上でウエハを搬送路にそつて送
るウエハ搬送器、軸Ａ，Ｂ，Ｃは上記プツシヤ５
９，６１ウエハ搬送器等を動作させるための駆動
軸である。槽５３は円形又は円環（ドーナツ）形
の浅底容器を槽本体とし、エツチング液を所定液
位にみたし、円形状のウエハを円環の円周方向に
そつてならべた状態で移動させ、一まわりする中
に槽内に入れたエツチング液で処理するようにな
つている。また、槽底部に液を所要温度に保持す
るためのヒーターを内蔵させてある。この槽の一
側に連設し同じ底面位を有するほぼ四角形の予備
槽５２は処理槽との境界部を低く形成すること
で、処理槽内の液が予備槽内に流通し、２つの槽
の液位とが同一に保てるようにしてある。この予
備槽は、外部から供給されたウエハを一たん予備
槽内に仮り置きし、この予備槽から処理槽へウエ
ハを送り込むとともに処理槽で処理されたウエハ
をこの予備槽を介して外部へ送出するようになつ
ている。ウエハ保持プレートは、２枚の扇形プレ
ートを重ねたものからなり、処理槽の円環状底面
にそつてウエハを12〜15個ならべ所定間隔に保持
した状態で、槽と同心の円環プレート上に一体的
に固定され、円環の中心部より延びる数本の回転
アームによつて全体が回転移動するようにしたも
のである。ウエハは隣り合う上記２組の扇形プレ
ートの間に側面方向から挿入され、ウエハの対向
する縁部が両側の扇形プレートの上下のプレート
によつて挾持される状態になり、回転アームを介
してのウエハ保持プレートの回転移動により、ウ
エハ１枚の移動を１ピツチとする間欠移動が行わ
れる。液かくはんプレートは、スリツトを有する
２枚の円環形（ドーナツ形）又は複数の扇状のプ
レートで前記扇状プレートを上下からはさむよう
にして回転アームにより保持されるとともに固定
台部上の駆動モータにより連結ギア等を介して円
環の円周方向にそつて回転する。ウエハ送りプレ
ートと液かくはんプレートとの回転数比を例えば
１対５にセツトできるようにしてある。ウエハ送
り込みプツシヤは予備槽外部に設置され、ウエハ
を矢印方向に押し処理槽との境界部を通して処理
槽内に送りこみ、扇形プレートの間で挾持させる
ようにする。ウエハ取出しプツシヤは処理槽の固
定台部下部に設置され、前記と逆の手順で円環形
処理槽内のウエハを予備槽内へ取出す。予備槽の
一側又は両側には同じ液面位を有する１枚処理水
洗槽（搬送路４３）が連設されている。液供給部
は、エツチ洗浄液をプールしたタンクに圧縮空気
を送りこむことによつて液を供給し、液排出部は
同じく下方に示すようなノズルから圧縮空気を噴
出することで液を強制排出する。

上記処理槽によるウエハの処理動作は、(1)円環
状処理槽においてウエハ保持プレートは間欠回転
運動の停止の状態にあり、予備槽と隣接する方向
のウエハ保持プレート上にウエハがあればウエハ
取出しプツシヤを操作してウエハを予備槽へ送り
出し、(2)予備槽にウエハがない状態であれば送り
リンクを動作して送りリンク機構により予備槽へ
ウエハを送りこむ、(3)予備槽内において送りリン
ク機構のスイングアームに保持されたウエハはウ
エハ供給プツシヤにより円環状処理槽のウエハ保
持プレートへ送り込まれ、(4)ウエハ保持プレート
の間欠回転運動と液かくはんプレートの回転動作
がつづき、(5)ウエハ保持プレートの1/12〜1/15回
転ごとに上記(1)〜(5)の動作をくりかえし、(6)ウエ
ハが処理槽を１回転し終ると取り出しプツシヤが
動作し、ウエハ保持プレートからウエハを１枚ご
とに予備槽内へ送り出す。

ウエハを１枚ずつ送る搬送路４３は、細長でか
つ底浅の流路を有し、この一端の下部に設けた供
給口から洗浄液（純水）を流路内に連続して送り
込むとともに、流路の他端の下部に設けた排水口
から順次流路を流れて来た洗浄液を排水してな
る。

供給口から流路内に送り込まれる洗浄液の流れ
が層流となつて流れ、また、ある一定の深さの流
れとなつてウエハの上下面を流れるように、供給
口の近傍には堰が設けられている。

このような搬送路（一枚処理水洗槽）にあつて
は、流路内に連続して純水を供給し、流路に沿つ
て流す。そして、流路の下流耐にウエハを１枚ず
つ供給した後、水洗路用ウエハプツシヤ（移送機
構）を上流側に移動（流れと逆方向）させて移送
片でウエハの後端を押し、ウエハをＶ字溝で案内
しながら水の流れに抗して移動させてウエハの洗
浄を行なう。この結果、ウエハの表裏面には常に
純水液が触れ、かつその流れは速いため、ウエハ
は流路内を移動する間に効果的に水洗される。

搬送路４３の終端と次の乾燥部３の搬入口の接
続部分においては、ウエハが流路の上流側端部に
設けられた枠状の昇降ステージ上に運ばれ、その
後昇降ステージの上昇により洗浄液中から抜けて
上方に運ばれる。

次に再び第１図に戻りウエハの連続洗浄処理動
作を説明する。

１１枚処理水洗槽４３へ移送されたウエハを水
洗路用プツシヤで水洗路上で移動させるととも
に水洗路に逆方向に純水を流して純水洗浄を行
なう。

２純水洗浄を完了したウエハは搬送器により水
洗槽４３から予備層５２へ両槽間の堰を越えて
搬送する。

３予備槽内のウエハを搬入プツシヤにより処理
槽本体５４の回転部へ送り込む。

４送りこまれたウエハはエツチ処理槽内の回転
するウエハホルダに線接触の状態でホールドさ
れ、処理槽内を回転し、一方かくはん板も回転
しウエハ面上の薬液を交換しながらウエハのエ
ツチングがなされる。

５エツチング完了後のウエハはウエハホルダよ
り搬出入プツシヤにより引出され、予備槽５２
を経て次の１枚処理水洗槽４３へ移送され、水
洗されながら乾燥器の方向へ搬送される。

この薬液処理装置によれば下記の効果を得るこ
とができる。(1)まずウエハ１３は処理槽内にあつ
て１枚ずつ周縁部で保持され、表裏面に対して液
が十分に接触し、ウエハ近傍に他のウエハ等の障
害物がないためエツチングを有効に行なうことが
できる、(2)どのウエハも同一手段で保持されかつ
槽内の同じ通路を通ることから全てのウエハは常
に同一条件で処理される、(3)液かくはんプレート
（円板）で液を流動させるとともに液の交換をは
かることによりエツチングの濃度、温度の分布状
態が均一化され、そのためウエハは常に均一かつ
清浄なエツチングがなされエツチング液の不均一
に起因する処理不良率を低減する、(4)槽の深さは
ウエハの厚さ（例えばｔ＝0.5mm）及びウエハ保
持プレート、液かくはんプレートの厚さに見合う
程度薄くすれば良く槽の実質的容積を小さくする
ことができるので液の消費量が少なくてすむ、(5)
上記(4)と同じ理由でウエハのみ（カートリツジを
使用しない）を搬送するだけで済むことから、搬
送機構が簡単になり複数の処理槽全体をコンパク
トに構成できる。このような処理槽によるウエハ
の個別エツチングの効果は従来の方式と比較し
て、例えばSiO₂膜被膜Siウエハを10％沸酸でエツ
チングした場合のSiO₂膜エツチ量のバラツキは
従来３σ＝83Åであつたのに対し、この処理槽で
は３σ＝56Åと減少した、(6)次に搬送路を兼ねる
１枚処理水洗槽についてはウエハは１枚ずつその
周縁部の一部をガイド溝に接触しながら流路内を
移動するため、ウエハの表裏面全域は水に接触し
ウエハの表裏面における洗浄液との間の摩擦力は
ウエハが液の流れに抗して移動するため大きくな
り、水洗が促進され、また、水は常に流れている
ことから、ウエハの表裏面には常に新鮮で清浄な
純水が連続して供給され、清浄度が優れた水洗が
常に行なわれる、(7)ウエハ１枚ずつ水洗処理され
るが、流路内を一定の距離だけ順次移動させられ
るだけで所望の清浄度に水洗され、したがつて、
ウエハ１枚当りの処理時間が短かくなる、(8)はウ
エハは流路内を１枚ずつ移動するため、流路は浅
くても充分効果的な水洗を行なうことができ、し
たがつて、従来のオーバーフロータイプに較べて
洗浄液の消費量が少なくなる。

＜乾燥部３＞乾燥部３は第１０図に示すように、モータ１０
によつて回転駆動される回転テーブル１１１と、
その周囲に設けたリング状空隙を有する乾燥部カ
ツプ１１２を主体とする乾燥装置３Ａからなり、
回転テーブルをはさむようにガイド９５および同
一構造のガイド１１３を設け、回転テーブルの回
転中心に上方の供給管１１４から乾燥N₂を導入
し、乾燥カツプから強制排出するようになつてい
る。水洗路から移送されたウエハすすぎ部搬送路
の終端に移り、上下動作する前記ステージにより
ガイドの高さに上げられてガイドを経て回転テー
ブル上に載置される。回転テーブル上のウエハは
ピン等の脱出防止手段が施された状態で、テーブ
ルを高速回転させると同時に乾燥N₂を導入する
ことにより乾燥する。乾燥したウエハはテーブル
上から次のガイド１１３に移され、ウエハ振分け
テーブル１１６により次の工程のウエハ搬出入部
４又は戻りの搬出路４４のいずれかに選択的に移
送される。

ここで前記回転テーブルについて説明する。回
転テーブルの上面にはウエハを収容する収容溝１
１７が設けられるとともに、この収容溝の側壁に
はそれぞれＶ字溝が設けられ、この１対のＶ字溝
でウエハ１３の両側縁を支持するようになつてい
る。

また、前記回転テーブルの収容溝の一端部には
ストツパピン１１９が２本植設され、収容溝内に
搬入されたウエハはこれらストツパピンによつて
その移動を停止させられる。ストツパピンは回転
テーブルの一外縁に近い位置に配設されているた
め、ストツパピンによつて停止されたウエハの中
心（重心）は回転テーブルの回転中心から大きく
外れる。このため、この状態で回転テーブルが回
転しても、ウエハは遠心力がストツパピン方向に
動くため、ストツパピンによつて阻止され、回転
テーブルの収容溝からは飛び出さない。

また、前記回転テーブルの下方にはシリンダ等
によつて昇降するカツプ１２０が配設されてい
る。このカツプはほぼドーナツ状の空間１２１を
形作つている。空間１２１を形作る下板１２２の
内周部は回転テーブルの軸受部１２３の外周に気
密的に嵌合しかつ上下に摺動可能となつている。
また、空間１２１を形作る上板１２４の内周部は
途中から上方に立ち上がつて突出し、このリング
状の突出部は回転テーブルの外周と供給用・搬出
用ガイド９５，１１３との間の下方に常時は位置
するようになつている。そして、回転テーブルに
ウエハが供給されると、シリンダによつてカツプ
１２０が上昇し、カツプ１２０の上板１２４の突
出部は回転テーブルの上面よりも高い位置まで上
昇する。また、回転テーブルの上方には第１２図
ａ，ｂに示すように円板状のカバー１２５が配設
されていて、上昇した上板１２４の突出部の上端
はこのカバー１２５の下面に密着する。この結
果、カバー１２５およびカツプ１２０によつて処
理室（乾燥室）が形成され、この処理室内に回転
テーブルが位置するようになる。

なお、処理室をできるだけ小さくするためにも
回転テーブルはできるだけ薄くなるようにするこ
とが望ましい。また、カバー１２５の中央には供
給管１１４が配設され、この供給管からは乾燥し
た清浄な気体（たとえば窒素N₂）が処理室内に送
り込まれるようになり、乾燥促進機構を構成して
いる。また、カツプの下板１２２の外周部には図
示しない排気孔が設けられ、処理室内の空気や窒
素等を排出するようになつている。また、排気孔
は図示しない排出ポンプに接続され強制排出機構
を構成している。また、以上の各部材は架台１２
６上に配設される。

なお、ウエハが接触する部分は摩耗によつても
ごみが生じにくい石英ガラスやフツ素樹脂にす
る。

つぎに、ウエハの乾燥について説明する。洗浄
されたウエハは回転テーブル１１１の収容溝１１
７内に送られる。この際、回転テーブルの収容溝
はガイド９５の搬送路の延長上に沿つて延びると
ともに、ストツパピン１１９は搬出用のガイド１
１３側に位置している。そこで、回転テーブルの
収容溝１１７内に送り込まれたウエハ１３は収容
溝の奥深く入り、ストツパピン１１９に当接して
停止する。したがつて、この状態では、ウエハの
中心は回転テーブルの回転中心から大きく外れか
つその外方をストツパピン１１９で支えられるよ
うになる。

つぎに、カツプ１２０がシリンダ等によつて上
方に移動してカツプ１２０の上板１２４の突出端
をカバー１２５の下面に密着させ、カツプ１２０
とカバー１２５とで処理室を形作り、この処理室
内にウエハ１３を載置した回転テーブルを位置さ
せる。その後、カバー１２５の供給管１１４から
は清浄でかつ乾燥した窒素ガスが吹き出され、こ
の窒素ガスは回転テーブル上に当たる。また、カ
ツプ１２０に設けられた排気孔からは強制的に排
気がなされる。この状態にあつて、回転テーブル
は高速で回転（たとえば3000rpm）し、ウエハの
表面に付着する水分は遠心力によつて飛び散る。
ウエハは収容溝１１７のＶ字溝１１８およびスト
ツパピン１１９によつて点あるいは線接触状態で
接触支持されるだけであることから、ウエハ表面
の水滴は効率よく飛び散る。また、ウエハの表面
には窒素ガスが吹き付けられるため、ウエハの表
面の水滴は蒸発し易くなり、乾燥がさらに促進さ
れる。一定時間回転テーブルが回転すると、回転
テーブルは回転を停止し、処理室内からの窒素ガ
ス等の排気は停止する。また、カツプ１２０は下
方に降下する。この際、前記回転テーブルの収容
溝１１７は搬出用のガイド１１３の搬送路の延長
線上に沿うように停止するとともに、ストツパピ
ン１１９は供給用のガイド９５側に位置するよう
になる。

つぎに、回転テーブル上のウエハは図示しない
搬出用プツシヤ等によつて搬出されてガイド１１
３に移り、さらにウエハ振分けテーブル１１６に
送り込まれる。

このような乾燥装置によれば、次のような効果
が生ずる。

(1) ウエハは１枚ずつ乾燥室内に運ばれ、従来の
ようなカートリツジは使用されない。このた
め、乾燥室内は小さくなるため、強制排気効率
がよくなり、乾燥室内の新陳代謝が向上してウ
エハの乾燥化が促進される。また、乾燥室内に
持ち込まれる水分はウエハに付着する水分だけ
であることから乾燥時間が短かくなる。また、
ウエハに付着する水分のそのほとんどはウエハ
の面方向に沿つて飛散するような遠心力（特に
ウエハの中心が回転中心から大きく外れること
もあつて大きな遠心力を得ることができるので
ウエハに付着する水滴の飛散効果も大とな
る。）を受けかつその飛散方向には２本の細い
ストツパピンだけしか存在しないため、水分の
飛散は効率的に行なわれる。また、ウエハ表面
には清浄な乾燥した窒素ガスが吹き付けられ、
これら窒素ガスは回転テーブルの中心から放射
状に流れ、ウエハ面に速い気流を作るため乾燥
が促進される。さらに、回転テーブルから出た
ウエハは熱風乾燥炉内を通過するため、完全な
乾燥が図れる。このようなことから、ウエハの
乾燥は均一でかつ短時間で行なわれる。

(2) 回転テーブルでは単にウエハしか保持しな
い。このため、構造が簡単になるばかりか、気
流の流れも中心から外方に向かいかつ排気孔か
ら排気されるスムースな流れとなり易い。した
がつて、均一な品質の良好な乾燥がなされ易
い。

(3) 回転テーブルへのウエハのローダ・アンロー
ダはウエハが一枚でありかつその両端のみを支
持されて移動する構造となつていることから、
ローダ・アンローダ機構が簡素化できる利点も
ある。

(4) 回転テーブルは小型であることから、イナー
シヤが小さく、回転の立上がりが早くなるので
乾燥時間の短縮化が促進される。

なお、乾燥装置は前記実施例に限定されない。
すなわち、ウエハのローダ・アンローダ機構（プ
ツシヤ構造）は一般によく用いられるねじ送り機
構、ワイヤ巻き取り機構等でもよい。

また、熱風乾燥炉を設けないで、乾燥室内に熱
風を吹き込むようにしてもよい。

また、遠心分離乾燥ではウエハから振り切られ
た水滴がカツプの内壁に衝突し跳ね返り易い。ま
た、水滴は衝突により微細化されミスト状にな
り、回転テーブルの回転によつて生じた気流に乗
つて乾燥室内を飛び回り易い。そして、これらの
結果から、汚れた微細な水滴がウエハに再付着し
易い。そこで、飛散した水滴はカツプの内壁で跳
ね返り再びウエハ上に舞い戻ることのないよう
に、第１２図ａ，ｂで示すように、カツプ１２０
の内周壁面を円弧状として、内周壁に衝突した水
滴が下方に向かうような態様とすることもでき
る。また、この内周壁は回転テーブル１１１から
できるだけ遠くになるようにして、内周壁に衝突
した水滴が再び回転テーブル上に舞い戻りにくく
する態様とすることができる。

また、この種のものは、カバー１２５の上方か
ら吹き付けられる窒素ガスが回転テーブルの中心
から放射状に層流となつて流れるように、第１１
図ａ，ｂで示すように、回転テーブル１１１のウ
エハ１３を収容する使容溝（収容孔）１１７はト
ンネル状とし、回転テーブルの上面は層流を乱さ
ないように平担となつている。なお、ウエハ表面
に窒素ガスが当たるように、回転テーブルの中心
上部にはガイド管１２７が設けられ、このガイド
管１２７はカバー１２５の供給管１１４内に入つ
ている。また、ウエハの収容魂１１７内での搬送
は前後進する細長の２本のプツシヤ１２８に取り
付けられたピン１２９によつて行なわれ、これら
ピンは収容孔に設けられたガイド溝１３０内を移
動するようになつている。また、第１１図ａ，
ｂ、第１２図ａ，ｂの実施例では乾燥室を形成し
たり、収容孔１１７と供給用・搬出用のガイドと
の高さを一致させたりする動作は回転テーブル１
１１およびカバー１２５を上下動させることによ
つて行なつている。また、カツプ１２０の下板１
２２はその外周部から分離するとともに、軸受部
１２３との嵌合部には窒素ガスを吹き込む供給管
１３１が設けられている。また、図中１３２，１
３３はシールを示す。

また、この実施例ではウエハはトンネル内に位
置し、上面をも被われているため、仮りに回転テ
ーブル上に汚れた水滴が舞い戻つたりしてもウエ
ハに再付着することはない。したがつて、品質の
良好な乾燥が行なえる。

＜ウエハ搬出入部４及び拡散炉部８＞ウエハ搬出入部４および拡散炉部８について第
１３図〜第３１図を参照しながら説明する。ウエ
ハ搬出入部４は搬入経路１３４と搬出経路１３５
を有している。搬入経路１３４には前記乾燥部３
のウエハ振分けテーブル１１６から延び熱風乾燥
路１３６Ａを通るプツシヤによる搬送方式からな
る搬送路１３６Ｂからウエハ１３を１枚ずつ受け
取る受取部１３７から始まり、右に向かつて姿勢
修正機構１３８、搬入バツフア１３９が並び、左
右、体後動するトランスフア１４０上に臨んでい
る。また、搬出経路１３５は搬入経路１３４の手
前に沿つて配設され、トランスフア１４０の上方
左側から右に向かつて搬出バツフア１４１、１枚
送出機構１４２、搬出テーブル１４３が配設さ
れ、装置の左端からウエハ１３を１枚ずつ送り出
すようになつている。また、３段に配設される炉
心管（プロセスチユーブ）２０２の炉口部分には
トレイステーシヨン１４４を支持し、２本の直立
するガイド棒１４５に沿つて昇降（上下動）する
エレベータ１４６が配設されている。また、この
エレベータ１４６の上下動と同期してガイド棒１
４７に沿つて上下動するボートローダ１４８が装
置の背面側に設けられている。さらに、前記トラ
ンスフア１４０（トレイステーシヨン１４４）上
の熱処理治具１４９を保持してトレイステーシヨ
ン（トランスフア）上に運ぶ移載機１５０が配設
されている。

つぎに、各部を説明する。乾燥部３から送られ
て来たウエハは受取部１３７の対面する両側部に
設けたＶ字溝にウエハの両縁部を臨ませるように
して受け取られる。そして、この受取部１３７に
は姿勢修正装置１３８が前進して受取部のウエハ
を受け取る。この姿勢修正装置１３８は２本の平
行に延びるガイドレール１５１にガイドされて第
１３図に示すポジシヨンＡとポジシヨンＢを往復
動する表裏面修正機構１５２と、第１５図に示す
ポジシヨンＡ側の第１次方向修正ステーシヨン
A₁に配設される第１次方向修正機構１５３と、
ポジシヨンＢ側の第２次方向修正ステーシヨン
A₂に配設される第２次方向修正機構１５４とか
らなつている。

前記表裏面修正機構１５２は箱体１５５と、こ
の箱体１５５内に配設されるウエハ収容体１５６
と、ウエハ収容体１５６を裏返す方向に回転する
回転機構１５７とからなつている。前記箱体１５
５は平行に配設される２枚の側板１５８と、これ
ら側板１５８の各隅をそれぞれ連結する４本の連
結棒１５９とからなるとともに、一方の側板１５
８の外壁にはローラ１６０が複数取り付けられて
いる。そして、箱体１５５はこれらローラ１６０
を介してガイドレール１５１に懸架され、図示し
ない一般公知の搬送機構によつて移動するように
なつている。収容体１５６は基板１６１と、基板
１６１の上面に平行に配設される２本のガイド片
１６２と、基板に固定され側板１５８に回転可能
に取り付けられる回転軸１６３とを有している。
前記ガイド片１６２の対応面にはその長手方向に
沿つてＶ字溝からなるガイド溝１６４が設けら
れ、このガイド溝１６４内にウエハ１３の両端縁
が入り、保持されるようになつている。また、ウ
エハはガイド溝１６４の延びる方向の両端側から
自由に出入可能となり、基板１６２が水平状態の
際にはウエハは周縁部をガイド溝部分で支えられ
る。しかし、基板１６２を反転させるように傾斜
させ始めるとウエハはガイド溝１６４内を滑動し
てガイド溝１６４から抜けて脱落する。そこで、
収容体１５６のウエハ出入端にはそれぞれ２本の
ピン１６５，１６６からなる第１ストツパ１６７
および第２ストツパ１６８を配設している。そし
て、第１・第２ストツパ１６７，１６８がそれぞ
れ開状態の際にはそれぞれ２本のピン１６５，１
６６は互いに離れ、各ピン間をウエハが通過し、
閉状態の際にはそれぞれ２本のピン１６５，１６
６は接近してウエハの周縁を支えるようになつて
いる。

前記回転機構１５７は側板１５８の外壁に取り
付けられる支持板１６９に支持される正逆回転可
能な反転モータ１７０と、このモータ軸１７１の
先端に固定されるドライブ側傘歯車１７２とから
なつていて、ドライブ側傘歯車１７２は側板１５
８を貫通突出する回転軸１６３の一端に固定され
るドリブン側傘歯車１７３と噛み合つている。

一方、第１次方向修正ステーシヨンA₁に配設
される第１次方向修正機構１５３は昇降制御され
るブロツク１７４上に固定されるコの字形状のハ
ウジング１７５と、このハウジングの上部開口側
に配設される３本の修正軸１７６と、これら修正
軸を回転する無端状のベルト１７７と、このベル
トを回動させるモータ１７８とかなつている。ベ
ルトは第１６図でも示すように、モータ１７８の
回転軸に固定された駆動プーリ１７９およびガイ
ドプーリ１８０に掛けられ、駆動プーリ１７９の
回転によつて回動し、それぞれ３本の修正軸１７
６を回転させる。３本の修正軸における端の１本
は他の２本とは異なる方向に回転するとともに、
これらの修正軸３は同一の太さとなつている。ま
た、中央の修正軸１７６は両側の修正軸１７６の
高さよりもわずかに低い位置に配設され、林立状
態で並べられるウエハの弧状縁が３本の修正軸１
７６に全て接触するようになつている。また、ウ
エハのO.F.１８１がこれら３本の修正軸１７６
に臨んだ際には両端の修正軸１７６はO.F.１８
１に接触するが、中央の修正軸１７６は低いため
O.F.１８１には接触しないようになつている。

そこで、方向性がアトランダムとなつている収
容体１５６内のウエハを回動する３本の修正軸１
７６に一定時間載せる。すると、第１６図で示す
ように、円弧部分が３本の修正軸１７６に接触す
るウエハは３本の修正軸によつて受ける回転力が
一方に偏ることから回転する。そして、直線縁か
らなるO.F.１８１が下方にくると、両端の修正
軸しかウエハ６に接触しなくなる。両端の修正軸
は同一太さであることから回転力が同じであると
ともに、回転方向が相互に逆方向であることか
ら、ウエハは互いに反対方向の回転力を受けるた
めバランスし回転しなくなる。この結果、収容体
１５６内のウエハの方向性はほぼ修正され、O.
F.１８１は下部に位置するようになる。しか
し、これら３本の修正軸による修正では必ずしも
O.F.１８１は水平状態とはならない。そこで、
これを第２次方向修正ステーシヨンA₂で修正す
る。

第２次方向修正ステーシヨンA₂に配設される
第２次方向修正機構１５４はブロツク１８２に案
内されて昇降制御される上面が平担な修正板１８
３からなつている。そして、第２次方向修正ステ
ーシヨンA₂に停止した収容体１５６内のウエハ
１３に対して下方から修正板１８３を突き上げ、
その上面平担面でウエハ１３のO.F.１８１を水
平に揃える。

つぎに、搬入バツフア１３９について説明す
る。搬入バツフア１３９は搬出バツフア１４１と
同一構造となつていて、これらのバツフアは上
部、下部がそれぞれ開口した細長の箱体からな
り、対面する両側壁には平行にＶ字溝からなる収
容溝１８４が鉛直方向に複数（たとえば100本ず
つ）設けられ、対応する１対の収容溝１８４で１
枚のウエハ１３の両側縁をガイドするようになつ
ている。また、第１９図で示すように、バツフア
の下方には長手方向に沿つて延びる２本のストツ
パ１８５が設けられている。このストツパにはバ
ツフアのＶの字溝１８４に対応してＶの字溝が切
られている。このストツパは開閉し、閉状態では
ウエハを支え、開状態ではウエハは収容溝を通り
抜けて下方に落下するようになつている。また、
バツフアはその両側に配設されたガイド棒１８６
にローラ１８７を介して滑動自在に取り付けられ
ている。なお、搬出バツフア１４１は搬入バツフ
ア１３９に隣接している。また、搬出バツフア１
４１の上方には１枚送出機構１４２が配設されて
いる。この１枚送出機構は前記表裏面修正機構１
５２とほぼ同様な構造となり、ウエハを１対のＶ
字溝かならるガイド溝１８８に収容する回転する
収容体１８９および図示しない第１・第２ストツ
パ等からなる反転機構１９０と、搬出バツフア１
４１内のウエハを１枚ずつ上方に押し上げる突出
プツシヤ１９１と、反転機構１９０内に水平状態
に修正されたウエハを搬出テーブル１４３上に押
し出す送出プツシヤ１９２とからなつている。そ
して、搬出バツフア１４１から搬出テーブル１４
３へのウエハの送り出しは、搬出バツフアのピツ
チ移動毎の突上プツシヤ１９１の上昇、収容体１
８９の水平回転化、送出プツシヤ１９２の前進に
よる一連の動作によつて行なわれる。また、搬出
テーブルへ移送されたウエハは搬出テーブルの底
部から噴き出される気体が作り出す流れに乗つて
装置外へ１枚ずつ送り出される。なお、表裏面修
正機構１５２から搬入バツフア１３９へのウエハ
の移し換えは、第１７図に示すように受けプツシ
ヤ１９３の上昇によるウエハ下部の保持、それに
続くピン１６５の開動作、受けプツシヤ１９３の
下降によつて行なわれる。

一方、搬入・搬出バツフア１３９，１４１およ
び移載機１５０の移動域の下方には前後左右動す
るトランスフア１４０が配設されている。このト
ランスフア上には熱処理治具１４９が載置され
る。この熱処理治具１４９は４群の収容溝群１９
４が設けられ単一の収容溝群１９４は市販の洗浄
治具あるいは保管用治具の収容ピツチおよび収容
溝数と同一となつている。また、各収容溝群１９
４が位置するトランスフア部分には窓１９５が設
けられ、この窓には第１８図および第１９図で示
すように補助プツシヤ１９６の上端受板１９７が
下方から侵入するようになつている。また熱処理
治具１４９をささえるテーブルには上下動できる
構造になつている。これら受板１９７の上面には
熱処理治具１４９の収容溝１９８に対応する受溝
１９９が設けられ、熱処理治具と搬入・搬出バツ
フア１３９，１４１との間のウエハの受け渡し時
には熱処理治具１４９を上昇させまず搬入バツフ
ア１３９に近づきウエハを受溝１９９に支持した
状態で補助プツシヤ１９６が上下動して一方から
他方にウエハを移換させて、熱処理治具１４９を
載せたテーブルが下降する。

他方、前記移載機１５０はガイドレール２００
上を前後動してトランスフア１４０とエレベータ
１４６との間を往復動するとともに、トランスフ
ア１４０あるいはエレベータ１４６上の熱処理治
具１４９をチヤツク機構２０１で一時的にクラン
プするようになつている。なお、トランスフア上
の熱処理治具１４９をクランプするときテーブル
が上昇して行なわれることから移載機１５０の接
近時トランスフア１４０上のウエハにチヤツク機
構２０１が当接しない。

また、前記ボートローダ１４８は第２１図およ
び第２２図で示すように、ボート２０３を炉心管
２０２に出入する引出棒２０４をボートローダ駆
動部２０５に取り付けた構造となつている。すな
わち、ボートローダ駆動部上には固定軸２０６を
有する固定ブロツク２０７が固定され、前記固定
軸には回動可能に引出棒支持ブロツク２０８が取
り付けられ、この引出棒支持ブロツクには引出棒
２０４の一端が固定されている。そして、この引
出棒２０４は固定軸２０６を中心にその先端引掛
端２０９を上下に首振りするようになつている。

また、前記固定ブロツク２０７上にはガイドブ
ロツク２１０が固定され、このガイドブロツク２
１０には前記固定軸２０６に対して平行に延びる
回転軸２１１が回動自在に取り付けられている。
この回転軸２１１の一端は前記引出棒支持ブロツ
ク２０８の上方に離れて位置する制御棒支持ブロ
ツク２１２に固定され、制御棒支持ブロツク２１
２を支えるようになつている。そして、この制御
棒支持ブロツク２１２には制御棒２１３の一端が
固定される。この制御棒２１３は前記引出棒２０
４に対して平行に延びるとともに他端先端は屈曲
してフツク部２１４を形作り、このフツク部２１
４で引出棒２０４の途中を支えるようになつてい
る。また、前記回転軸２１１の他端には従動側傘
歯車２１５はボートローダ駆動部２０４に支持台
２１６を介して固定されるモータ２１７の回転軸
にカツプリング２１８を介して連結された駆動側
傘歯車２１９に噛み合つている。そして、前記制
御棒２１３はモータ２１７の正逆回転によつて第
２２図に示すように、水平方向から上方にθだけ
上下動する。この回転角度θはたとえば１度と設
定され、上下回動は引出棒２０４の先端の引掛端
２０９をボート２０３の引掛孔２２０に着脱する
際に自動的に行なわれるようになつている。ま
た、ガイド棒１４７はＸ方向に延びるガイド棒２
２１に沿つて往復動するようになつている。

このような機構のボートローダにあつては、常
時は引出棒２０４は制御棒２１３に支えられて水
平方向に延びているが、先端の引掛端２０９をト
レーステーシヨン上のボート２０３あるいは炉心
管２０２内のボート２０３の引掛孔２２０に挿脱
する際には上方に上下動して、その挿脱を行な
う。そして、ボートローダ駆動部２０５の前後進
によつてボート２０３の炉心管２０２に対する出
入（ロード，アンロード）を自動的に行なう。し
たがつて、このようなボートローダによれば、ボ
ートの出入は自動的に行なわれるので、作業者の
引出棒の取り扱いも不要となることから作業者の
動きによる塵埃の舞い上がりも防止され、引出棒
炉心管内の汚染も少なくなり、ウエハの汚染も防
止できる。

また、このボートローダでは、引出棒はボート
ローダに常設され、かつボートのロード，アンロ
ードも機械的に行なわれる。

ここで、本発明の特長の１つである炉心管支持
構造について第２３図〜第２５図を用いて説明す
る。従来の拡散炉装置ではつぎのような欠点があ
る。

(1) 炉心管の取外時、炉心管はボート搬送部（製
品搬送部）側の装置前面に抜き出している。こ
の際、ボート搬送側に装備している前面の装
置、治具類が障害になり取り外しが困難であ
る。

(2) 炉心管の取外時発生する塵埃が抜取部周辺の
前面の各装置、治具等に付着し、これら塵埃が
その後のウエハ等の製品に付着する。この付着
の結果、均一な拡散ができなくなつたりその後
の工程においてウエハに鮮明なパターンが形成
できない等の不良が発生し、歩留が低下してし
まう。

(3) 拡散炉装置は炉心管を多段に配設しているの
が一般的であるが、このうち１本でも炉心管を
交換すると、その交換時は他の炉心管は使用で
きず、装置の稼動率は低下する。

そこで、このような欠点を解消するための構造
内容について説明する。第２３図は拡散炉装置の
一部外観図、第２４図は一部の平面図、第２５図
は炉心管の回転機構を示す斜視図である。第２３
図および第２４図にはスカベンジヤ５、炉６、ガ
ス供給部７が示されている。前記炉６内には多段
に３本の炉心管２０２が配設されている。各炉心
管はその外周部を図示しない均熱管で被われ、そ
の外周にはヒータ２２２が取り付けられている。
そして、各炉心管およびヒータは第２５図で示す
ように、細長の回転板２２３上にガイド２２４に
よつて位置決めされて載置されている。この回転
板は基板２２５上にレール２２６を介して滑動自
在に載つているとともに、炉心管の尾管２２７側
の基板に植設された支持軸に回動自在に嵌合され
ている。また、回転板よりも上方に突出する支持
軸には従動側傘歯車２２８が回動自在に嵌合され
ている。この従動側傘歯車２２９は下面で回転板
に固定されている。

また、前記従動側傘歯車には歯数の少ない駆動
側傘歯車２３０が噛み合い、この駆動側傘歯車は
基板２２５に固定された支持ブロツク２３１に回
動自在に取り付けられた回転軸２３２の一端に固
定されている。また、この回転軸の他端にはハン
ドルが挿脱自在に取り付けられている。したがつ
て、ハンドル２３３は他の回転軸にも使用できる
ため、この拡散炉装置には１つのハンドルを用意
しておけばよい。このような基板２２５を含む炉
心管は第２３図の破線で示すように３組積層配設
されている。また、炉６を被うカバー２３４内に
あつて、電源トランスを含む制御回路部２３５は
炉６の高さを低くするために炉心管２０２の側部
に配設されている。また回転後炉心がもとの位置
（高さ、横方向）に復帰できるよう位置決めピン
２３６をもうける。

つぎに、炉心管の交換（取り外し、取り付け）
について説明する。まず、炉のカバー２３４の背
面部を開けた後、交換を必要とする炉心管２０２
の尾管２２７とガス供給機構２３７との分離を図
り、また回転時、炉心管２０２とトレイステーシ
ヨン１４４との接触をさけるため炉心管２０２を
ガス供給部７の方向に10mm程度おしこみその後、
位置決めピン２３６を抜き取り交換する炉心管２
０２を支持する基板２２５の回転軸２３２にハン
ドル２３３を取り付けてハンドルを逆転させて、
炉心管２０２を載せる回転板２２３を回動させ、
第２４図で示すようにカバー２３４の背面側に突
出させる。つぎに、カバーの背面側でヒータ２２
２から炉心管２０２を抜き出す。そして、新しい
炉心管を再びヒータ２２２内に入れた後、ハンド
ルを正転させて回転板２２３を炉内に納め位置決
めピン２３６をさしこんで位置決めを行ない炉心
管２０２をスカベンジヤ５の方向に移動（10mm程
度）させてトレイステーシヨン１４４と突き合せ
る。さらに尾管２２７とガス供給機構２３７との
連結を図り、ハンドルを回転軸２３２から取り外
してカバー２３４を閉じ、一連の炉心管交換作業
を完了する。この炉心管交換時、交換しない炉心
管は使用できる。

このような装置によればつぎのような効果が得
られる。

(1) 炉心管の交換は装置の背面側で行なわれるこ
とから、前面の装置部分や治具部分に炉心管交
換時に発生する塵埃は付着しにくい。このた
め、ウエハの汚染は少なく歩留の向上が図れ
る。

(2) 炉心管は装置の背面側で行なうことから、ボ
ート搬送部には自動ボートローダ等を常設して
おくこともできる。また、装置の背面に炉心管
交換用のスペースを設けておくだけで簡単に炉
心管の交換が行なえることから、作業性も向上
する。

(3) 多段の炉心管は各部独立して交換ができるよ
うになつていることから、部分的な炉心管の交
換にあつては、交換しない炉心管はそのまま使
用でき、装置の稼動率が向上する。

(4) 従来装置では下部に制御回路部等が内蔵され
ていたが、この装置では細部に設けることがで
き、装置全体が低くできると共にコンパクトに
できる。

なお、他の実施態様としてはたとえば、炉心管
は装置の背面方向に平行移動するように取り外し
ができるようにしてもよい。

つぎに、ウエハ１３を所望の方向性に揃えて炉
心管２０２内に入れ、かつ取り出す動作につい
て、第１４図ａ，ｂを参照しながら説明する。ウ
エハの姿勢修正としては、熱処理治具上にウエハ
のO.Fを上にしかつウエハの主面が拡散炉の炉心
管２０２の奥に向く方向（以下略称して炉奥向と
称す。これに対してウエハの主面が炉心管の入口
側に向くのを略称して炉口向と称する。）、すなわ
ち、ウエハ主面をウエハの搬送方向の前面となる
向きに揃える姿勢形態Ａ第１７図の最上段の動作
群を参考にして説明する。なお、１４図ａ，ｂで
示すポジシヨンＡ〜Ｊは第１３図で示すＡ〜Ｊに
対応する。まず、表裏面修正機構１５２は最初に
ポジシヨンＡに位置し、この状態では収容体１５
６は前記乾燥部から受取部１３７に送り込まれる
ウエハを収容できるように水平状態となり、ガイ
ド溝１６４を水平にしている。また、搬入側に位
置する第２ストツパ１６８の２本のピン１６６は
互いに離反して開き、移動して来たウエハがピン
１６６に当接しないようになるとともに、搬出側
に位置する第１ストツパ１６７のピン１６５は互
いに接近する閉状態となり、ガイド溝１６４内に
入つてきたウエハ収容体１５６から脱落しないよ
うになる。この際、ウエハはその周縁の一部をＶ
の字溝型ガイド溝１６４によつて保持されること
から、ウエハの上面の主面および裏面はこすられ
ることもなく傷が付いたりしない。

ウエハを収容した表裏面修正機構１５２はガイ
ドレール１５１に沿つて第１次方向修正ステーシ
ヨンA₁に移動して停止する。この移動時、第２
ストツパ１６８は閉じ、代りに第１ストツパ１６
７が開き、その後、回転機構１５７によつて収容
体１５６は回転軸１６３を中心に逆転して（左回
転し）、ウエハを直立させる。第１次方向修正ス
テーシヨンA₁では第１次方向修正機構１５３が
上昇した後修正軸１７６を回転させ、ウエハを回
転させて第１７図で示す動作で示すようにウエ
ハO.F.１８１を下方に位置させる。その後、第
１次方向修正機構１５３が下降した後、表裏面修
正機構１５２は再びガイドレール１５１に沿つて
第２次方向修正ステーシヨンA₂に達して停止す
る。すると、第２次方向修正機構１５４が上昇し
て修正板183の平担な上面で傾斜しているかも知
れないウエハのO.F.１８１をわずかに押し上げ
る。この結果、動作で示すようにウエハのO.
F.１８１は水平に揃えられる。

つぎに、第２次方向修正機構１５４が下降する
と、表裏面修正機構１５２は第２次方向修正ステ
ーシヨンA₂からポジシヨンＢに移動し、保持し
ているウエハを第１８図で示すように受けプツシ
ヤ１９３を用いて下方に位置する搬入バツフア１
３９内に落下挿入する（第１７図動作参照）。
ところで、第２次方向修正機構１５４がポジシヨ
ンＢに移動する間には図示してないが、第１７図
で示す動作、動作で示すように、収容体１５
６は90度ずつの正転を２度繰返してウエハのO.
F.１８１を上にする。また、２回の正転動作の
間には第１ストツパ１６７は閉じ、第２ストツパ
１６８は開く。そして、O.F.１８１が上になつ
て直立するウエハは下方を第１ストツパで支えら
れ、第１ストツパの開放動作によつてストツパ１
８５が閉状態の搬入バツフア１３９内に落下す
る。搬入バツフアの１本の収容溝１８４内にウエ
ハが入ると、搬入バツフア１３９は１ピツチ動
き、同様な手順で順次収容溝１８４内にはウエハ
が入れられる。なお、熱処理治具１４９の収容溝
群間に対応する搬入バツフアにあつては搬入バツ
フアは一度に数ピツチ移動する。このようにして
搬入バツフア内に所望の方向性（姿勢）を有して
ウエハが入れられる。

なお、ウエハの姿勢形態は第１７図Ｂ〜Ｄに示
すように他の３例が考えられる。すなわち、Ｂで
は主面を炉口向にし、O.F.面を下とする。Ｃで
は、主面を炉口向にするとともにO.F.面を上と
する。さらにＤでは主面を炉奥向にし、O.F.面
を下とする。そして、これら姿勢修正は、それぞ
れ動作，動作，動作にあつて収容体を所望
の方向に回転させることによつて行なうことがで
きる。

つぎに、たとえば100枚ウエハを収容した搬入
バツフア１３９はポジシヨンＣに移動するととも
に、ポジシヨンＣにはトランスフア１４０も前進
して来る。そして、両者の位置合せが終了する
と、熱処理治具を載せたテーブルが上昇し、搬入
バツフア１３９に近接する。次に補助プツシヤ１
９６が上昇して搬入バツフア１３９上のウエハを
支持し、ストツパ１８５の開放動作後に下降して
トランスフア１４０上の熱処理治具１４９上にウ
エハを移し、熱処理治具１４９を載せたテーブル
が下降する。

つぎに、トランスフアは＋Ｘ方向に後退してポ
ジシヨンＤで停止する。すると、移載機１５０が
トランスフア上に移動して来て次にトランスフア
のテーブルが上昇し、チヤツク位置まで移動し、
そのチヤツク機構２０１でトランスフア上の熱処
理治具１４９を掴み、トランスフアのテーブルが
下降して所定の高さに停止しているエレベータ１
４６上に運ぶ。この際、必要ならばポジシヨンＤ
で熱処理治具にダミーウエハを挿し込む。また、
エレベータ上には熱処理治具はエレベータの上に
載せられているボート２０３上に載せられる。

つぎに、エレベータ１４６は使用中でない所定
の炉心管２０２の炉口に移動する（ポジシヨンＦ
参照）。そして、エレベータ１４６と同期して上
昇したボートローダ１４８が動作してボート２０
３を炉心管内に入れる（ポジシヨンＧ参照）。ボ
ートを炉心管の中央部に入れると引出棒２０４は
わずかに上方に回動してその先端の引掛端２０９
をボートの引掛孔２２０から抜き、後退し、炉心
管の入口部はシヤツター機構２３８によつて塞が
れる。

一方、炉心管からのウエハの搬出時には、エレ
ベータおよびボートローダ１４８は自動的に指令
を受けた炉口に移動する。その特定の炉口はエレ
ベータ移動前あるいは後に扉（シヤツタ）が開
く。そこで、炉口にエレベータが停止するとボー
トローダ１４８が動作して、引出棒の先端引掛端
２０９を炉心管内のボートの引掛孔内に差し込ま
せ、後退してボートをエレベータ上のトレイステ
ーシヨン１４４上に引き出す。その後、エレベー
タが所定の高さに達すると、移載機１５０が移動
して来てエレベータ上の熱処理治具１４９を掴
み、搬出側に位置するトランスフア上に熱処理治
具を載置する。ここで、図示しない機構で熱処理
治具上のダミーウエハを取り出す。

つぎに、トランスフアは搬出バツフアの下方
（ポジシヨンＨ）に移動し、この位置で熱処理治
具上のウエハは移動して来た補助プツシヤ１９６
によつて搬出バツフアに一度に移し換えられる。

つぎに、ポジシヨンの位置に移動して来たウ
エハは１枚送出機構によつて順次搬出テーブル上
に送り出される。そして、搬出テーブル上のウエ
ハは気流に載せられて搬出テーブルの延長上に位
置する搬出路４４上に送り出される。

なお、前記各装置、機構群は保管用のカートリ
ツジ１１を搬出入するストツカ１２の収容部１７
の一端開口側を除いてはカバー２３８で被われて
いて、カバー外からカバー内に汚れた空気が入り
込まないようになつている。また、カバー内には
特に図示はしないが、清浄な空気が送り込まれる
とともに排気がなされている。また、カバー内は
大気圧よりもわずかに圧力が高くなり、カバー外
の空気が入り込まないように配慮されている。

また、制御部（制御系）は第３２図で示すよう
に、各装置、機構の動作順序、作業条件を記憶す
る記憶部を有するとともに、各装置、機構等の作
業状況およびウエハの処理状況を監視、管理し、
各部の制御を行なう。

つぎに、このような一貫処理装置におけるウエ
ハの処理作業について第３図のフローチヤートを
も参考にして説明する。まず、ウエハ１３を収容
したカートリツジ（たとえばウエハ25枚を収容す
る保管用カートリツジ）１１を保管棚となるスト
ツカ１２の収容部１７に収容する。この際、スト
ツカにおけるカートリツジの収容状況やカートリ
ツジ内に収容されるウエハの種類、処理条件、処
理優先順位等は制御系に記憶される。そこで、作
業者が制御系の操作盤等を操作することによつて
以下に箇条書きする順序でウエハ処理が成され
る。

(1) 装置が駆動すると、受渡機構１６によつてロ
ーダ機構１４に１つのカートリツジ１１のウエ
ハが移し換えられ、ローダ機構１４から順次ウ
エハが搬送路４３に１枚ずつ送り込まれる。

(2) 搬送路４３内を純水の流れに抗して洗浄され
ながら移動したウエハはＡなる薬液処理槽（処
理槽）の前に位置する予備槽５２内に入れら
れ、その後搬出入プツシヤ５９によつて処理槽
内に送り込まれる。処理槽内に移つたウエハは
この処理槽内のエツチング液中を円環状に移動
して再び元の回動開始位置に戻り、前記搬出入
プツシヤ５９のウエハの処理槽への送り動作時
の戻り動作によつて予備槽５２内に戻る。その
後、このウエハは予備槽５２から搬出路４３を
通つて次のＢなる薬液処理槽に運ばれ再びエツ
チングがなされる。このようにして、順次ウエ
ハはＡ，Ｂ，Ｃなる薬液処理装置で処理され、
搬送路４３を通つて次の乾燥部に送られる。

(3) 乾燥部ではウエハは回転テーブル１１１に保
持されて回転乾燥され、その後ウエハ振分けテ
ーブル１１６に至る。そして、このウエハ振分
けテーブル１１６によつてアンローダ機構１５
に転送される指令がない限り、ウエハ搬出入部
４に続く搬送路１３６Ｂに移り、熱風乾燥路１
３６Ａを通つてウエハ搬出入部に移る。

(4) ウエハ搬出入部４に移つたウエハは姿勢修正
機構１３８によつてウエハのO.F.１８１およ
び回路素子パターンを形作る主面の方向性を一
定に揃えられて順次搬入バツフア１３９に入れ
られる。搬入バツフア１３９に所望枚数（たと
えば100枚）のウエハが収容されるとウエハ処
理作業はバツチ処理形態に変わり、前記搬入バ
ツフア１３９のウエハは熱処理治具１４９に移
し換えられる。この熱処理治具１４９はトラン
スフア１４０、移載機１５０によつてエレベー
タ１４６上のトレイステーシヨン１４４のボー
ト２０３上に運ばれた後、エレベータ１４６に
よつて指定された炉口に運ばれ、ボートローダ
１４８によつて炉心管２０２内に挿入される。
炉心管２０２内に熱処理治具１４９が収容され
ると炉口はシヤツター機構で塞がれ、熱処理治
具１４９上のウエハは拡散等の熱処理が施こさ
れる。

(5) ウエハの熱処理後は、炉心管２０２内の熱処
理治具１４９は再びボートローダ１４８、エレ
ベータ１４６、移載機１５０の連撃動作によつ
て搬出側位置であるポジシヨンＨに位置するト
ランスフア１４０に運ばれる。その後、トラン
スフア１４０上の熱処理治具１４９に収容され
るウエハは搬出バツフア１４１に100枚同時に
移される。つぎに、搬出バツフア１４１内のウ
エハは１枚送出機構１４２によつて１枚ずつ搬
出路４４上に送り出される。搬出路４４上に送
り出されたウエハは搬出路４４に沿つて移動し
てアンローダ機構１５の収容箱２２に順次収容
される。アンローダ機構１５の収容箱２２にウ
エハが一杯になると再び受渡機構１６が動作し
て、アンローダ機構に保持される25枚のウエハ
１３を空のカートリツジ１１に移し換え、ウエ
ハで一杯になつたカートリツジ１１をストツカ
１２の空の収容部１７に収容して一連のウエハ
処理作業を完了する。なお、炉心管２０２や薬
液処理槽５３は複数設置されていることから、
前記各作業は有機的に行なわれ、少なくとも３
本の炉心管２０２は常に有効に使用される。

このようなウエハ一貫処理方法およびその装置
によればつぎのような多くの効果を生じさせる。

(1) 各作業は機械で自動的に行なわれる。また装
置全体はカバーで被われ、ウエハ通過空間は常
に清浄な空気で充されるようになつている。し
たがつて、従来のように作業処理空間内には発
塵源となる作業者もいないことから、ウエハの
汚染は極めて少なくなり、品質の低下を防止で
きる。

(2) 熱処理作業前のウエハの清浄化にあつては、
ウエハは個別処理されるため、ウエハの清浄度
は良好であるばかりでなく各ウエハ間の処理が
均一化し、その状態で熱処理作業が行なわれ
る。したがつて、品質が高くかつ歩留が向上す
る。

(3) 各作業は自動化されているため作業人員の削
減を図ることができるばかりでなく、従来のよ
うな作業者の取扱ミスによるウエハの破損は防
止できる。特に各装置間のウエハの運搬作業が
不要となつた点でこの効果は大きい。

(4) 各装置部はマイクロ・コンピユータ等の制御
部によつて最適化制御されるため効率的な作業
が行なえ、ウエハ処理コストの低減化も図るこ
とができる。

なお、本発明は前記実施例に限定されない。た
とえば、第２６図ａ，ｂ〜第３１図で示すよう
に、１枚ずつ送り込まれるウエハを所定枚数（た
とえば25枚）一時的に貯蔵し、この25枚のウエハ
を同時に方向合せを行なつてから熱処理治具に運
ぶようにしてもよい。この実施例の構造は基本的
思想において前記第１３図〜第２０図で示す実施
例と同じであることから各部は同一あるいは極め
て似ているものが多く、大きく異なる部分は１枚
ずつ送られてくるウエハを一時貯蔵して所定枚数
（たとえば25枚）になると、姿勢修正機構に移し
変えて全てのウエハの姿勢修正を行なう部分と、
これら25枚単位でのウエハの受授機構と、ボート
ローダおよびトレイステーシヨンを各炉心管毎に
配設した部分とである。つぎにこの実施例におい
て特に説明を必要とする部分の構造動作について
説明する（説明省略部分は前記実施例の同一対応
部の説明を参照。また、前記実施例と同一あるい
は近似する機構の名称、指示番号はそのまま用い
る。）。装置外部から送り込まれるウエハはポジシ
ヨンＡの受取ガイド２４０によつて両縁部をのみ
支えられるようにして受け取られ、この受取ガイ
ド２４０はガイド棒２４１に沿つてポジシヨンＢ
に移動する。ポジシヨンＢではプツシヤ２４２が
ガイド棒２４３に沿つて移動し、プツシヤで受取
ガイド２４０内のウエハを移送して搬入カートリ
ツジ２４４に入れる。この搬入カートリツジはた
とえば25枚のウエハを収容できるように平行に25
対の収容溝が設けられ、各１対の収容溝にウエハ
を収容する。また、この搬入カートリツジは上下
動し、ウエハが１枚入れられる毎に１ピツチ上昇
して順次ウエハを収容する。なお、直接ポジシヨ
ンＡからウエハをこの搬入カートリツジに入れる
ようにしてもよい。

つぎに、この搬入カートリツジに25枚のウエハ
が収容されると下降して、第２７図で示すように
搬入カートリツジは一定高さに静止する。する
と、移換プツシヤ２４５が前進して搬入カートリ
ツジ内の25枚のウエハを姿勢修正機構１３８に移
し換える。移換プツシヤ２４５の先端は平行に25
条の受溝２４６が設けられ、この受溝で各ウエハ
の後端を押す。以下、説明の便宜上25枚のウエハ
を移し換えるプツシヤは全て移換プツシヤ２４５
と呼ぶことにする。

つぎに、姿勢修正機構１３８ではポジシヨンＤ
でウエハの姿勢修正を行ない、ポジシヨンＥで搬
入バツフア１３９に移管プツシヤを用いてウエハ
を25枚移し換える。ここで第３０図で示す25枚収
容の姿勢修正機構１３８について簡単に説明す
る。収容体１５６には複数、たとえば25枚のウエ
ハが並列的にガイド溝１６４を利用して収容され
るようになつている。そして、この収容体１５６
はポジシヨンＤに設けられた第１次方向修正機構
１５３および第２次方向修正機構１５４を組み込
んだ方向修正機構２４７によつて、O.F.整列が
なされるようになつている。また、第１次方向修
正機構の修正軸１７６と第２次方向修正機構の修
正板１８３はそれぞれガイドレール１５１に沿つ
て移動する収容体１５６の真下に交互に位置でき
るように、方向修正機構２４７の基台２４８に支
片２４９を介して取り付けられる２本のガイド棒
２５０に沿つて往復動できるようになつている。
また、第１・第２次方向修正機構１５３，１５４
の昇降軸２５１，２５２はガイド棒に摺動自在に
取り付けられるスライダ２５３に固定されたブロ
ツク２５４に上下動可能に取り付けられ、これら
昇降軸２５１，２５２はカム２５５（一方のカム
は図示されていないが）によつて上下動する。ま
た、スライダ２５３の往復動もカム２５６によつ
て行なわれる。また、昇降軸２５１，２５２の上
昇力およびスライダ２５３の一方の移動力はばね
２５７，２５８によつて与えられる。

つぎに、25枚ずつのウエハの搬送を４回繰り返
して搬入バツフア１３９に100枚のウエハが収容
されると、搬入バツフアは第２７図および第２８
図で示すように、ポジシヨンＦに位置するトラン
スフア１４０上に移動する。このトランスフアは
ウエハを25枚ずつ支持する補助プツシヤ１９６
（移換プツシヤ２４５）を有するとともに、熱処
理治具１４９を支持する載置テーブル２５９をも
有している。また、この載置テーブルには図示は
しないが補助プツシヤ１９６の受板１９７が通過
する窓が設けられている。また、この載置テーブ
ルも昇降プツシヤ２６０によつて上下動する。さ
らに、このトランスフア１４０はポジシヨンＪ，
Ｆ，Ｇ間をガイド棒２６１に沿つて移動する。

つぎに、トランスフアの載置テーブル２５９お
よび補助プツシヤ２６０が上昇して搬入バツフア
１３９に収容されている100枚のウエハを載置テ
ーブル上の熱処理治具上に移し換える。ウエハの
移換えが終わるとトランスフアは第２９図で示す
ようにポジシヨンＧに移動する。その後、上方か
ら移載機１５０が下降し、そのチヤツク機構２０
１でトランスフア上の熱処理治具１４９を掴み上
昇する。そして、トランスフアがポジシヨンＧか
ら外れると、炉口に配設されたトレイステーシヨ
ン１４４の１つがガイド棒２６２に沿つて前進し
てポジシヨンＧで停止する。すると、再び移載機
１５０は下降してトレイステーシヨン１４４の上
方で停止し、チヤツク機構２０１を開放してポジ
シヨンＨにあるトレイステーシヨンのボート２０
３上に熱処理治具を載置する。

つぎに、再び移載機が上昇すると、トレイステ
ーシヨンは後退して炉口にトレイステーシヨンを
位置させる。すると、ボートローダ１４８の引出
棒２０４は前進してボート２０３と共に熱処理治
具をポジシヨンで示す炉心管２０２内に入れ、
一連のウエハ搬入作業を終了する。

ところで、前記ボートローダ１４８の引出棒２
０４は常にボートローダ駆動部２０５に取り付け
られる構造となつている。すなわち、引出棒２０
４の屈曲した引掛端２０９は従来と同様に単にボ
ート２０３の引掛孔２２０に上方から挿脱自在に
挿し込まれるだけであるが、他の一端はボートロ
ーダ駆動部に回転自在に取り付けられる回転体２
６３に摺動可能に取り付けられている。また、こ
の取付端には引出棒を炉心管２０２に向かつて前
進させる際前記回転体の周面が当接し引出棒２０
４が押すための挿入用ストツパ２６４と、ボート
２０３を炉心管２０２から引き出す際、回転体の
周面に当接する抜取用ストツパ２６５とが鍔状に
固定されている。また、挿入用ストツパ２６４と
抜取用ストツパとの間隔ｌ（たとえばｌ＝15mm、
トレイステーシヨン水平移動距離180mm）は広く
形成され、トレイステーシヨン１４４を移動した
際、回転体２６３の位置とトレイステーシヨン１
４４上のボート２０３の引掛孔２２０との長さの
変化を回転体での引出棒２０４の摺動変化によつ
て吸収できるようになつている。また、引出棒は
回転体に対して上下方向に首振りできるようにな
つていて、トレイステーシヨン１４４上のボート
の引掛孔２２０から引出棒の引掛端を挿脱できる
ようになつている。また、引出棒は常時その引掛
端をボートの引掛孔に挿入する状態となり、拡散
時にはその引掛端部を炉心管２０２内に入れる。
なお、図中２６６はボートローダ駆動部２０５の
下面に固定される支持ブロツクであつて、回転体
の下部を回動自在に支持するものである。

ウエハ搬出作業にあつては前記搬入作業の手順
の逆を行なわせて、炉心管２０２から熱処理治具
１４９を取り出し、トランスフア１４０でポジシ
ヨンＪに運び、補助プツシヤ１９６および昇降プ
ツシヤ２６０を動作させて搬出バツフア１４１に
100枚のウエハを移し換える。その後、搬出バツ
フアはポジシヨンＫに進み、そこで移換プツシヤ
２４５を用いて前記収容体１５６（25枚収容）と
同一構造の搬出収容体２６７に25枚のウエハを移
し換える。この搬出収容体はガイド棒２６８に沿
つてポジシヨンＭに移動する間（ポジシヨンＬ）
に90度反転し、ウエハを水平状態にする。ポジシ
ヨンＭに到達すると、水平方向に前後進する移換
プツシヤが上昇した後作動して、搬出収容体内に
収容されている25枚のウエハを全て搬出カートリ
ツジ２６９に移し換える。この搬出カートリツジ
は前記搬入カートリツジ２４４と構造および動き
も同じであることから、順次上方にピツチ移動す
る。そして、１ピツチ動作毎に１枚のウエハは図
示しない送出プツシヤによつて搬出カートリツジ
から押し出されて搬出テーブル１４３（搬出路４
４）上に送り出される。搬出テーブル１４３上に
送り出されたウエハ１３は気流によつてアンロー
ダ機構１５に運ばれる。搬出カートリツジ内のウ
エハ１３が全て送り出されると、再び搬出収容体
２０７は搬出バツフア１４１から25枚のウエハを
運んで来る。これら以上の各動作は制御装置９で
自動的に制御される。また、装置全体はカバー２
７０で被われ塵埃が入り込まないようになつてい
る。

この実施例は前記実施例が有する各効果に加え
て、所定枚数のウエハを一度で姿勢修正するた
め、作業速度が向上する特長もある。

以上のように、本発明のウエハ一貫処理装置に
よれば、ウエハは個別清浄化処理されることから
品質のばらつきがなく安定し、その状態で熱処理
が行なわれる。このため、ウエハ処理の品質向
上、歩留向上を図ることができる。

また、本発明によれば、各作業処理間のウエハ
の搬送はウエハの１枚が主体的であり、従来のよ
うなウエハを収容する大きな保管用（搬送用）カ
ートリツジは不要となる。このため、ウエハの搬
送空間も小さくなり、装置全体が小型化する。ま
た、装置全体が小型化できるため、設備費が安価
となるばかりでなく清浄化（クリーン化）を必要
とする空間が狭くなり、空間清浄化に必要な清浄
空気の使用量が低減し、装置の維持コストが大幅
に軽減される。

さらに、本発明によれば、各装置部は制御系で
最適制御されるため、各装置部は最適稼動し、ウ
エハ処理コストの低減化も図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３２図は本発明の一実施例による一
貫処理装置を示す図であつて、第１図は概略平面
図、第２図は外観を示す斜視図、第３図はウエハ
の処理工程を示すフローチヤート、第４図はロー
ダ・アンローダ部の機構を示す斜視図、第５図は
同じく一部の正面図、第６図ａ，ｂは搬出路を示
す斜視図および断面図、第７図、第８図は搬出路
の他の実施態様を示す斜視図および断面図、第９
図は洗浄部における洗浄装置を示す斜視図、第１
０図は乾燥部の斜視図、第１１図ａ，ｂは乾燥装
置における回転テーブルの斜視図および断面図、
第１２図ａ，ｂは同じく乾燥装置の断面図、第１
３図はウエハ搬出入部の斜視図、第１４図ａ，ｂ
はウエハの移動経路を示す斜視図、第１５図はウ
エハ姿勢修正機構を示す斜視図、第１６図はウエ
ハ方向合せ機構を示す正面図、第１７図はウエハ
姿勢修正形態例を示す図、第１８図は収容体とバ
ツフアとの間のウエハ受渡し動作を示す断面図、
第１９図および第２０図はバツフアと熱処理治具
との間のウエハ受渡し機構を示す正面図および側
面図、第２１図はボートローダを示す斜視図、第
２２図は同じく一部を示す正面図、第２３図は拡
散炉装置を示す斜視図、第２４図は同じく平面
図、第２５図は炉心管を支持する回転機構の斜視
図、第２６図ａ，ｂ〜第３１図ａ，ｂは本発明の
他の実施例を示す図であつて、第２６図ａ，ｂは
ウエハの移動経路を示す斜視図、第２７図はウエ
ハ搬出入部の正面図、第２８図は同じく平面図、
第２９図は同じく側面図、第３０図はウエハ姿勢
修正機構を示す斜視図、第３１図ａ，ｂはボート
ローダを示す斜視図、第３２図はウエハ一貫処理
装置の自動処理系統を示す系統図である。１…ローダ・アンローダ部、２…洗浄部、３…
乾燥部、３Ａ…乾燥装置、４…ウエハ搬出入部、
５…スカベンジヤ、６…炉、７…ガス供給部、８
…拡散炉装置部、９…制御装置、１０…制御機器
部、１１…保管用のカートリツジ、１２…ストツ
カ、１３…ウエハ、１４…ローダ機構、１５…ア
ンローダ機構、１６…受渡機構、１８…反転テー
ブル、１９…搬送機構、２５…フオーク、４２…
１枚送出プツシヤ、４３…搬送路、４４…搬出
路、４６…噴射孔、４７…移送アーム、５２…予
備槽、５３…薬液処理槽（処理槽）、５４…処理
槽本体、５５…ウエハホルダ、５７…かくはん
板、５９…搬入プツシヤ、６１…水洗路用ウエハ
プツシヤ、６３…ヒーター、６４…境界部、６５
…ウエハ保持プレート、６６…扇形プレート、７
４…液かくはんプレート、７５…回転アーム、７
６…ウエハ送りこみプツシヤ、９４…ステージ、
１０７…連結棒、１１１…回転テーブル、１１２
…乾燥カツプ、１１５…すすぎ部搬送路、１１６
…ウエハ振分けテーブル、１１９…スツパピン、
１２０…カツプ、１３４…搬入経路、１３５…搬
出経路、１３６Ａ…熱風乾燥炉、１３９…搬入バ
ツフア、１４０…トランスフア、１４１…搬出バ
ツフア、１４４…トレイステーシヨン、１４６…
エレベータ、１４８…ボートローダ、１４９…熱
処理治具、１５０…移載機、１５２…表裏面修正
機構、１５３…第１次方向修正機構、１５４…第
２次方向修正機構、１６５，１６６…ピン、１６
７…第１ストツパ、１６８…第２ストツパ、１８
１…O.F.、２０２…炉心管、２０３…ボート、
２０４…引出棒、２３５…制御回路部、２３８…
シヤツタ機構、３３９…カバー、２４０…受取ガ
イド、２４１…ガイド棒、２４２…プツシヤ、２
４３…ガイド棒、２４４…搬入カートリツジ、２
４５…移換プツシヤ、２４７…方向修正機構、２
５５，２５６…カム、２６０…昇降プツシヤ、２
６９…搬出カートリツジ、２７０…カバー。

Claims

【特許請求の範囲】１実質的に水平にされた搬送路を介して順次に
供給される各ウエハを順次に表面処理する表面処
理装置と、熱処理治具に収納された複数枚のウエ
ハを同時に熱処理する熱処理装置と、複数枚のウ
エハの収納のためのカートリツジから一枚づつウ
エハを送り出すローダ機構とかかるローダ機構に
よつて送り出されたウエハを順次に搬送しかつ上
記表面処理装置を通過させる上記搬送路とを備え
た搬送機構系と、上記搬送機構系から送られたウ
エハの外周部が回転修正軸に当接されるようにウ
エハ面を回転せしめる機構とウエハのオリエンテ
ーシヨンフラツト部以外の外周部が当接されてい
るときにウエハにその外周方向に沿う回転力を与
えかつ上記オリエンテーシヨンフラツト部が当接
されたときウエハへの回転力の付与を停止する上
記回転修正軸とを少なくとも持つ姿勢修正機構と
上記姿勢修正機構によつてオリエンテーシヨンフ
ラツト部の方向が揃えられた複数枚のウエハを上
記熱処理治具へ収納する移載機構と上記熱処理治
具の上記熱処理装置への搬入搬出を行なう搬入搬
出機構とを備えた搬入出機構系と、上記搬入出機
構系から供給されたウエハの複数枚をカートリツ
ジに収納するアンロード機構を含む搬出機構系
と、上記装置及び機構系の動作制御を行なう制御
手段とからなることを特徴とするウエハ処理装
置。２すくなくとも上記搬送機構系、搬入出機構系
及び搬出機構系はカバーで被われるとともに、カ
バー内は清浄な雰囲気とされる様にしたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のウエハ処理
装置。