JPS6310858B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6310858B2 JPS6310858B2 JP15937879A JP15937879A JPS6310858B2 JP S6310858 B2 JPS6310858 B2 JP S6310858B2 JP 15937879 A JP15937879 A JP 15937879A JP 15937879 A JP15937879 A JP 15937879A JP S6310858 B2 JPS6310858 B2 JP S6310858B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass panel
- evaporation source
- film
- mesh structure
- metal back
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/28—Luminescent screens with protective, conductive or reflective layers
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はカラーブラウン管のメタルバツク膜
形成方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a metal back film for a color cathode ray tube.
第1図はカラーブラウン管製造の一工程である
メタルバツク工程を説明するための図である。第
1図に示すように、カラーブラウン管のフエース
プレートを形成するガラスパネル1の内面に蛍光
体層2が形成され、かつ蛍光体層2上に有機質中
間膜3が形成されており、この有機質中間膜3の
表面にアルミニウムAlの平滑な蒸着薄膜すなわ
ちメタルバツク膜4を真空蒸着法によつて形成す
る。この工程をメタルバツク工程と称しており、
メタルバツク膜4はカラーブラウン管の動作時に
蛍光体層2から発した光をできるだけ多く、観視
者側へ取出し、カラーブラウン管の発光輝度を増
大させるための光反射面の役割を果すと同時に、
蛍光体のイオン焼けを防止する機能も有してい
る。具体的には蛍光体層2および有機質中間膜3
が形成されたガラスパネル1をメタルバツク機5
のパネル支持台6上に載置し、真空ポンプ8で蒸
着槽7の内部が高真空状態になるまで排気する。
蒸着槽7の内部には蒸発源としてアルミニウム棒
11をチヤージしたタングステンW線からなるヘ
リカルコイル状ヒータ10がガラスパネル1の中
心線Cl上に位置するようにヒータ支持電極9に固
定されている。蒸着槽7の内部が規定の真空度に
達すると、蒸着槽7の外部に設けられた電源装置
12によりヒータ支持電極9を通してヘリカルコ
イル状ヒータ10の両端に一定の電圧がかけられ
る。ヘリカルコイル状ヒータ10は良好な抵抗加
熱体であるため、その発熱によつてヘリカルコイ
ル状ヒータ10の内部にチヤージされたアルミニ
ウム棒11が加熱、溶融、蒸発させられ、ガラス
パネル1の内面に形成された有機質中間膜3上に
アルミニウムの蒸着薄膜すなわちメタルバツク膜
4が形成される。メタルバツク膜4の形成が終る
と、電源装置12からの電圧の供給を停止し、蒸
着槽7のリークを行つて蒸着槽7の内部を大気圧
に戻し、その後、メタルバツク工程が完了したガ
ラスパネル1をメタルバツク機5から取外す。ヘ
リカルコイル状ヒータ10に新しいアルミニウム
棒をチヤージし、次のガラスパネルをセツトし
て、以後は前述したと同様な手順で次々にアルミ
ニウムの蒸着を行う。 FIG. 1 is a diagram for explaining the metal back process, which is one process of manufacturing color cathode ray tubes. As shown in FIG. 1, a phosphor layer 2 is formed on the inner surface of a glass panel 1 forming the face plate of a color cathode ray tube, and an organic intermediate film 3 is formed on the phosphor layer 2. A smooth vapor-deposited thin film of aluminum, ie, a metal back film 4, is formed on the surface of the film 3 by vacuum evaporation. This process is called the metal back process.
The metal back film 4 extracts as much of the light emitted from the phosphor layer 2 as possible to the viewer during operation of the color cathode ray tube, and at the same time plays the role of a light reflecting surface to increase the luminance of the color cathode ray tube.
It also has the function of preventing ion burnout of the phosphor. Specifically, the phosphor layer 2 and the organic intermediate film 3
The glass panel 1 on which is formed is transferred to a metal bag machine 5
The vapor deposition tank 7 is placed on a panel support stand 6 and evacuated using a vacuum pump 8 until the inside of the vapor deposition tank 7 reaches a high vacuum state.
Inside the vapor deposition tank 7, a helical coil heater 10 made of a tungsten W wire charged with an aluminum rod 11 as an evaporation source is fixed to the heater support electrode 9 so as to be located on the center line Cl of the glass panel 1. When the inside of the vapor deposition tank 7 reaches a specified degree of vacuum, a constant voltage is applied to both ends of the helical coil heater 10 through the heater support electrode 9 by a power supply device 12 provided outside the vapor deposition tank 7 . Since the helical coil heater 10 is a good resistance heating element, the aluminum rod 11 charged inside the helical coil heater 10 is heated, melted, and evaporated by the heat generated by the helical coil heater 10, and is formed on the inner surface of the glass panel 1. A vapor-deposited aluminum film, that is, a metal back film 4, is formed on the organic intermediate film 3. When the formation of the metal back film 4 is completed, the supply of voltage from the power supply device 12 is stopped and the vapor deposition tank 7 is leaked to return the inside of the vapor deposition tank 7 to atmospheric pressure, and then the glass panel 1 on which the metal back process has been completed is removed. Remove it from the metal bag machine 5. A new aluminum rod is charged to the helical coil heater 10, the next glass panel is set, and aluminum is deposited one after another in the same manner as described above.
ヘリカルコイル状ヒータ10は断線するまで繰
返し使用される。従来のヘリカルコイル状ヒータ
10は概略第2図に示すような構造をしており、
その耐用回数はアルミニウム棒11のチヤージ量
などの使用条件によつても異るが、平均10〜20回
の蒸着回数であつた。この耐用回数を向上させる
ことはメタルバツク工程の作業性の改善および経
済性の向上の点で重要である。そこで、ヒータの
耐用回数を改善するために、種々の検討を行つた
結果、第3図に示すようなコニカルバスケツト状
ヒータ13を使用すれば、従来と同量のアルミニ
ウム棒11のチヤージ量でも、平均30〜40回の蒸
着回数に耐えることが判明した。これは、第3図
に示すようなコニカルバスケツト状ヒータ13で
はタングステンW線の曲げ加工の曲率が比較的大
きく、機械的にむりが少ないことと、従来のヘリ
カルコイル状ヒータ10では熱変化が少しひどく
なるとアルミニウム棒11のチヤージが困難にな
り使用不可能となつていたが、コニカルバスケツ
ト状ヒータ13では開口部が大きいために、少々
熱変形してもアルミニウム棒11のチヤージがで
きなくなるという問題が生じないことなどによ
る。 The helical coil heater 10 is used repeatedly until it breaks. The conventional helical coil heater 10 has a structure as schematically shown in FIG.
The number of lifetimes varied depending on usage conditions such as the amount of charge of the aluminum rod 11, but on average it was 10 to 20 times of vapor deposition. Increasing this service life is important in terms of improving the workability and economic efficiency of the metal bag process. Therefore, in order to improve the service life of the heater, we conducted various studies and found that if a conical basket-shaped heater 13 as shown in FIG. It was found that it could withstand an average of 30 to 40 deposition cycles. This is because in the conical basket-shaped heater 13 shown in Fig. 3, the curvature of the tungsten W wire is relatively large and there is little mechanical distortion, and in the conventional helical coil-shaped heater 10, the thermal change is small. When the situation worsens, it becomes difficult to charge the aluminum rod 11, making it unusable.However, since the conical basket-shaped heater 13 has a large opening, the problem is that even if it is slightly deformed by heat, the aluminum rod 11 cannot be charged. It depends on things that don't happen.
このように、第3図に示すようなコニカルバス
ケツト状ヒータ13を第1図で示したような従来
のヘリカルコイル状ヒータ10に代えて使用し
て、従来と同様にカラーブラウン管のメタルバツ
ク工程を行うと、ヒータの耐用回数が前述したよ
うに大幅に向上され、メタルバツク工程の作業性
および経済性が大きく改善されるが、メタルバツ
ク膜4の特性上に、次のような大きな問題を生ず
る。第4図は従来のヘリカルコイル状ヒータ10
と前述した耐用回数の向上を目的としたコニカル
バスケツト状ヒータ13とに同量のアルミニウム
棒11をチヤージしてメタルバツク工程を行つた
場合に形成されたメタルバツク膜4のガラスパネ
ル1の中央から周辺に向けての膜厚分布を比較し
て示すものである。第4図中線aは従来のヘリカ
ルコイル状ヒータ10によつて形成されたメタル
バツク膜4の膜厚分布を示し、線bは前述のコニ
カルバスケツト状ヒータ13による膜厚分布を示
す。コニカルバスケツト状ヒータ13を用いた場
合には、ガラスパネル1の中央部と周辺部と膜厚
差が大きいが、これはヒータの形状によるもので
ある。すなわち、アルミニウムの蒸着の際にはア
ルミニウム棒11が一たん溶融してタングステン
W線からなるヒータの表面全体を濡らした後に蒸
発が始まるので、ヒータの形状によつて膜厚分布
が左右され易いのである。 In this way, the conical basket-shaped heater 13 as shown in FIG. 3 is used in place of the conventional helical coil-shaped heater 10 as shown in FIG. Although this greatly improves the service life of the heater as described above and greatly improves the workability and economic efficiency of the metal backing process, the following major problems arise in terms of the characteristics of the metal backing film 4. Figure 4 shows a conventional helical coil heater 10.
When the metal backing process is performed by charging the same amount of aluminum rods 11 to the conical basket-shaped heater 13 for the purpose of increasing the number of service life mentioned above, the metal backing film 4 is formed from the center to the periphery of the glass panel 1. This figure shows a comparison of the film thickness distribution for both directions. Line a in FIG. 4 shows the film thickness distribution of the metal back film 4 formed by the conventional helical coil heater 10, and line b shows the film thickness distribution by the conical basket heater 13 described above. When the conical basket-shaped heater 13 is used, there is a large difference in film thickness between the central part and the peripheral part of the glass panel 1, but this is due to the shape of the heater. That is, when depositing aluminum, evaporation begins after the aluminum rod 11 melts once and wets the entire surface of the heater made of tungsten W wire, so the film thickness distribution is likely to be influenced by the shape of the heater. be.
一方、メタルバツク膜の性能は、この膜の光反
射効率と完成カラーブラウン管動作時の電子ビー
ムの透過性によつて決定され、最適膜厚値が存在
する。従つて、第4図の線bのようにガラスパネ
ル1上の各位置でメタルバツク膜の膜厚が極端に
異ることは好ましくなく、線bのような場合に、
ガラスパネル1の中央部を最適膜厚値に合せる
と、周辺部では最適膜厚値よりも極端に膜厚が薄
くなり、光反射効率が悪くなつて完成カラーブラ
ウン管動作時の周辺部の輝度が下がつてしまい好
ましくない。また逆にガラスパネル1の周辺部で
最適膜厚値に合せると、中央部では最適膜厚値よ
り極端に膜厚が厚くなり、完成カラーブラウン管
動作時の電子ビームの透過性が悪くなつて中央部
の輝度が下がつてしまい好ましくない。また、膜
厚が極端に厚くなると、メタルバツク膜4形成後
の有機質中間膜3の熱分解工程で、メタルバツク
膜4が浮上がつたり、剥離してしまつたりすると
いう問題も生じ易く、はなはだ好ましくない。こ
れらのために、理想的には第4図の線cのように
ガラスパネル1の中央から周辺まで一定の膜厚す
なわち最適膜厚値でメタルバツク膜を形成するこ
とが好ましい。 On the other hand, the performance of the metal back film is determined by the light reflection efficiency of the film and the electron beam transmittance during operation of the completed color cathode ray tube, and there is an optimum film thickness value. Therefore, it is not preferable that the thickness of the metal back film differs drastically at each position on the glass panel 1, as shown by line b in FIG.
When the center part of the glass panel 1 is adjusted to the optimum film thickness value, the film thickness at the periphery becomes extremely thinner than the optimum film thickness value, resulting in poor light reflection efficiency and lower brightness at the periphery when the completed color cathode ray tube is in operation. I don't like it because it gets droopy. On the other hand, if the optimum film thickness is set at the periphery of the glass panel 1, the film thickness at the center becomes extremely thicker than the optimum film thickness, resulting in poor electron beam penetration during operation of the completed color cathode ray tube. This is not desirable because the brightness of the area decreases. Furthermore, if the film thickness becomes extremely thick, problems such as the metal back film 4 becoming loose or peeling off during the thermal decomposition process of the organic interlayer film 3 after forming the metal back film 4 tend to occur, which is extremely undesirable. do not have. For these reasons, it is ideal to form a metal back film with a constant film thickness from the center to the periphery of the glass panel 1, that is, with an optimum film thickness value, as shown by line c in FIG. 4.
この発明は、前述したようにカラーブラウン管
のメタルバツク工程に用いるヒータの耐用回数を
向上させるために、従来のヘリカルコイル状ヒー
タに代えてコニカルバスケツト状ヒータを使用す
る上で必然的に生じて来る場合などのメタルバツ
ク膜の膜厚分布の問題を改善するためになされた
ものであり、耐用回数上有利なコニカルバスケツ
ト状ヒータを使用しても均一な蒸着膜厚分布を有
するメタルバツク膜を得ることが可能なカラーブ
ラウン管のメタルバツク膜の形成方法を提供する
ことを目的とするものである。 As mentioned above, this invention arises inevitably when a conical basket-shaped heater is used in place of a conventional helical coil-shaped heater in order to improve the service life of the heater used in the metal bag process of color cathode ray tubes. This method was developed to improve the problem of film thickness distribution of metal back films such as the above, and it is possible to obtain a metal back film with a uniform deposition film thickness distribution even when using a conical basket-shaped heater, which is advantageous in terms of durability. The object of the present invention is to provide a method for forming a metal back film for a color cathode ray tube.
以下、この発明の一実施例を図面に基いて説明
する。第5図はこの発明によるメタルバツク膜の
形成方法を説明するための図である。耐用回数の
向上を目的とした蒸発源としてコニカルバスケツ
ト状ヒータ13がガラスパネル1のほぼ中心線Cl
上に配置してあり、このコニカルバスケツト状ヒ
ータ13とガラスパネル1との間にメツシユ構造
板14が配設してある。このメツシユ構造板14
は、第6図に中央部Aおよび周辺部Bを拡大して
示すように、金属板に開口15を一定の配列ピツ
チPで配列したものであり、前記開口15の大き
さはメツシユ構造板14の中央から周辺に向つて
漸次増加するように設けられており、このため、
第7図に線lで示すように、メツシユ構造板14
の開口率は中央部開口率TCから周辺部開口率TE
まで漸次増加するようになつている。前記メツシ
ユ構造板14はこれの中央点をガラスパネル1の
中心線Clがほぼ通るように配置されている。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 5 is a diagram for explaining the method of forming a metal back film according to the present invention. A conical basket-shaped heater 13 is installed as an evaporation source for the purpose of increasing the number of service life.
A mesh structure plate 14 is disposed between the conical basket-shaped heater 13 and the glass panel 1. This mesh structure plate 14
As shown in FIG. 6 with the central part A and the peripheral part B enlarged, openings 15 are arranged in a metal plate at a constant pitch P, and the size of the openings 15 is determined by the size of the mesh structure plate 14. It is provided so that it gradually increases from the center to the periphery, and therefore,
As shown by line l in FIG.
The aperture ratio is from the central aperture ratio T C to the peripheral aperture ratio T E
It is gradually increasing up to. The mesh structure plate 14 is arranged so that the center line Cl of the glass panel 1 substantially passes through its center point.
前述したような構成にした以外は第1図に示し
前述した従来法と同様にし、耐用回数を向上させ
るための蒸発源としてのコニカルバスケツト状ヒ
ータ13を用いて、真空蒸着によりメタルバツク
膜4を形成すると、メツシユ構造板14の開口率
分布の線lを適切に選定することにより、メタル
バツク膜4の膜厚分布が補正され、第4図に線c
で示すようにガラスパネル1の中央から周辺まで
均一な膜厚分布を有するメタルバツク膜4を得る
ことができる。 The metal back film 4 is formed by vacuum evaporation using the conical basket-shaped heater 13 as an evaporation source to improve the number of lifetimes, using the same method as the conventional method shown in FIG. 1 and described above except for the above-mentioned configuration. Then, by appropriately selecting the line l of the aperture ratio distribution of the mesh structure plate 14, the film thickness distribution of the metal back film 4 is corrected, and the line c is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, a metal back film 4 having a uniform thickness distribution from the center to the periphery of the glass panel 1 can be obtained.
前述のようなメタルバツク膜の形成方法を実用
化する段階で2つの技術的な問題が生じた。その
1つは蒸着回数が重なると共に、メツシユ構造板
14の表面にアルミニウムの蒸着膜が堆積してそ
の開口率分布が徐々に変化して来ることである。
また、他の1つはメタルバツク膜4にメツシユ構
造板14のシヤドウがパターンとして形成されて
しまうことである。これらの問題を解決するため
に、メツシユ構造板14の構造および配置位置、
蒸発源の大きさなどについて種々の実験を行つた
結果、蒸発源のガラスパネル1に面している側の
最小径をdmm、メツシユ構造板14の開口の配列
ピツチをPmm、蒸発源とガラスパネル1の内面と
の間の距離Lと、蒸発源とメツシユ構造板14と
の間の距離lの比率をl/L、ガラスパネル1の
中央および周辺に対応するメツシユ構造板14の
開口率をそれぞれTC%およびTE%とすると、こ
れらのそれぞれの値を下記の範囲に選べば、アル
ミニウムのチヤージ量すなわちガラスパネル1の
サイズなどによつて若干異るが、1枚のメツシユ
構造板14を連続使用して30〜100回の蒸着を行
つても、このメツシユ構造板14の表面へのアル
ミニウム蒸着膜の堆積による開口率分布の変化、
すなわちメタルバツク膜4の膜厚分布の変化を許
容限度内に抑えることができ、またメタルバツク
膜4にメツシユ構造板14のシヤドウがパターン
として形成される問題も回避することができた。 Two technical problems arose during the practical application of the method for forming a metal back film as described above. One of them is that as the number of times of vapor deposition increases, an aluminum vapor deposition film is deposited on the surface of the mesh structure plate 14, and the aperture ratio distribution thereof gradually changes.
Another problem is that the shadow of the mesh structure plate 14 is formed as a pattern on the metal back film 4. In order to solve these problems, the structure and position of the mesh structure plate 14,
As a result of various experiments regarding the size of the evaporation source, we found that the minimum diameter of the side of the evaporation source facing the glass panel 1 was dmm, the arrangement pitch of the openings of the mesh structure plate 14 was Pmm, and the evaporation source and the glass panel were The ratio of the distance L between the inner surface of the glass panel 1 and the distance l between the evaporation source and the mesh structure plate 14 is l/L, and the aperture ratio of the mesh structure plate 14 corresponding to the center and periphery of the glass panel 1 is respectively Assuming T C % and T E %, if these values are selected within the following ranges, one mesh structure plate 14 will be Even if evaporation is performed 30 to 100 times during continuous use, the aperture ratio distribution will change due to the deposition of the aluminum evaporation film on the surface of the mesh structure plate 14.
That is, the change in the film thickness distribution of the metal back film 4 can be suppressed within the permissible limit, and the problem of the shadow of the mesh structure plate 14 being formed as a pattern on the metal back film 4 can also be avoided.
0.7≦P≦4.0、20≦TC≦60、TE≧75、
d≧5、0.2≦l/L≦0.7
なお、以上の説明は、蒸発源としてコニカルバ
スケツト状ヒータ13を使用した場合における蒸
着されたメタルバツク膜4の膜厚分布の補正につ
いて述べたが、この発明は蒸発源としてコニカル
バスケツト状ヒータを用いるものに限られること
なく、種々の形状の蒸発源のものにも広く適用で
きる。 0.7≦P≦4.0, 20≦T C ≦60, T E ≧75, d≧5, 0.2≦l/L≦0.7 The above explanation is for vapor deposition when the conical basket heater 13 is used as the evaporation source. Although the correction of the film thickness distribution of the metal bag film 4 has been described above, the present invention is not limited to those using a conical basket heater as an evaporation source, but can be widely applied to evaporation sources of various shapes.
以上説明したように、この発明のメタルバツク
膜の形成方法によれば、コニカルバスケツト状ヒ
ータなどのように蒸着膜厚分布のよくない蒸発源
を使用しても均一な蒸着膜厚分布を有するメタル
バツク膜を形成することができ、蒸発源の耐用回
数向上などの大きな利点を生かすことができ、カ
ラーブラウン管のメタルバツク工程の作業性およ
び経済性の改善に大きく貢献することができると
いう効果が得られる。 As explained above, according to the method for forming a metal back film of the present invention, even if an evaporation source with poor deposition film thickness distribution, such as a conical basket heater, is used, a metal back film having a uniform deposition film thickness distribution can be formed. This has the effect of making it possible to take advantage of significant advantages such as increasing the service life of the evaporation source, and greatly contributing to improving the workability and economic efficiency of the metal backing process for color cathode ray tubes.
第1図は従来のメタルバツク工程の一例を説明
するための断面図、第2図はヘリカルコイル状ヒ
ータを示す正面図、第3図はコニカルバスケツト
状ヒータを示す正面図、第4図はメタルバツク膜
の膜厚分布を示す図、第5図はこの発明の一実施
例によるメタルバツク工程を説明するための断面
図、第6図はメツシユ構造板の構造を示す概略平
面図、第7図はメツシユ構造板の開口の開口率分
布を示す図である。
1……ガラスパネル、2……蛍光体層、3……
有機質中間膜、4……メタルバツク膜、5……メ
タルバツク機、6……パネル支持台、7……蒸着
槽、8……真空ポンプ、9……ヒータ支持電極、
10……ヘリカルコイル状ヒータ、11……アル
ミニウム棒、12……電源装置、13……コニカ
ルバスケツト状ヒータ、14……メツシユ構造
板、15……開口。なお、図中同一符号は同一ま
たは相当部分を示す。
Figure 1 is a cross-sectional view for explaining an example of a conventional metal bag process, Figure 2 is a front view of a helical coil heater, Figure 3 is a front view of a conical basket heater, and Figure 4 is a metal bag film. 5 is a sectional view for explaining the metal backing process according to an embodiment of the present invention, FIG. 6 is a schematic plan view showing the structure of a mesh structure plate, and FIG. 7 is a diagram showing the mesh structure. It is a figure showing the aperture ratio distribution of the aperture of a board. 1... Glass panel, 2... Phosphor layer, 3...
Organic interlayer film, 4... Metal back film, 5... Metal back machine, 6... Panel support stand, 7... Vapor deposition tank, 8... Vacuum pump, 9... Heater support electrode,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Helical coil heater, 11... Aluminum rod, 12... Power supply device, 13... Conical basket shaped heater, 14... Mesh structure plate, 15... Opening. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.
Claims (1)
スパネルの中心線上に蒸発源を配置すると共に、
この蒸発源とガラスパネルとの間に、開口率が中
央より周辺に向けて漸次増加するメツシユ構造板
を配置し、このメツシユ構造板の開口配列ピツチ
をPmm、ガラスパネル中央および周辺に対応する
メツシユ構造板の開口率をそれぞれTC%および
TE%、蒸発源のガラスパネルに面している側の
最小径をdmm、蒸発源とガラスパネル内面との間
の距離Lと、蒸発源とメツシユ構造板との間の距
離lの比率をl/Lとした時に、P、TC、TE、
d、l/Lのそれぞれの値を、0.7≦P<4.0、20
≦TC≦60、TE≧75、d≧5、0.2≦l/L≦0.7の
範囲にして、真空蒸着を行うことを特徴とするカ
ラーブラウン管のメタルバツク膜形成方法。 2 蒸発源としてコニカルバスケツト状ヒータを
用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のカラーブラウン管のメタルバツク膜形成方
法。[Claims] 1. An evaporation source is placed on the center line of a glass panel on which a phosphor layer and an organic interlayer film are formed,
A mesh structure plate in which the aperture ratio gradually increases from the center toward the periphery is arranged between this evaporation source and the glass panel, and the aperture arrangement pitch of this mesh structure plate is set to Pmm, and the mesh structure corresponding to the center and periphery of the glass panel is The aperture ratio of the structural plate is T C % and
T E %, the minimum diameter of the side of the evaporation source facing the glass panel is dmm, and the ratio of the distance L between the evaporation source and the inner surface of the glass panel to the distance l between the evaporation source and the mesh structure plate is When l/L, P, T C , T E ,
The respective values of d and l/L are 0.7≦P<4.0, 20
A method for forming a metal back film for a color cathode ray tube, characterized in that vacuum deposition is performed in the following ranges: ≦T C ≦60, T E ≧75, d≧5, 0.2≦l/L≦0.7. 2. A method for forming a metal back film for a color cathode ray tube according to claim 1, characterized in that a conical basket-shaped heater is used as an evaporation source.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15937879A JPS5679832A (en) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | Method for forming metalback film of color cathode-ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15937879A JPS5679832A (en) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | Method for forming metalback film of color cathode-ray tube |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5679832A JPS5679832A (en) | 1981-06-30 |
| JPS6310858B2 true JPS6310858B2 (en) | 1988-03-09 |
Family
ID=15692499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15937879A Granted JPS5679832A (en) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | Method for forming metalback film of color cathode-ray tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5679832A (en) |
-
1979
- 1979-12-03 JP JP15937879A patent/JPS5679832A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5679832A (en) | 1981-06-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100369066B1 (en) | cathode structure using feroelectric emitter, and electron gun and cathode ray tube adopting the structure | |
| US3569768A (en) | Cathode sleeve effecting maximum heat transfer to top of cathode cap and minimum to cap wall | |
| US3911165A (en) | Method of fabricating secondary electron emission preventive film and colour picture tube having same | |
| JPS6310858B2 (en) | ||
| DE19721432A1 (en) | Method of manufacture and cold cathode electrode for discharge lamp | |
| JPS6311738B2 (en) | ||
| US3764367A (en) | Television picture tube having an electron scattering prevention film | |
| US2940873A (en) | Method of increasing the thickness of fine mesh metal screens | |
| US2456649A (en) | Cathode | |
| US3914638A (en) | Cathode structure for cathode ray tube | |
| JP2002025441A (en) | Cathode ray tube and manufacturing method thereof | |
| US3048502A (en) | Method of making a photoconductive target | |
| KR920008510Y1 (en) | Heater | |
| JPH0126037Y2 (en) | ||
| JPS62256339A (en) | Method for suppressing doming effect of color display tube and color display tube formed by the method | |
| JPH03177563A (en) | Crucible for evaporation source | |
| US2241215A (en) | Luminescent screen | |
| US3819408A (en) | Method for manufacturing vapor deposited electrode | |
| US3300669A (en) | X-ray vidicon having a target and window assembly with improved thermal conductivity | |
| JP4171564B2 (en) | Photoelectric surface forming evaporation source and X-ray image tube manufacturing method | |
| KR0142854B1 (en) | Storage Cathode Structure | |
| JP3001968B2 (en) | Photocathode evaporation source and X-ray image tube | |
| JPS6139698B2 (en) | ||
| US3366816A (en) | Target structure for image orthicon tube having a magnesium oxide film adjacent to a chromium coated collector screen | |
| US2040530A (en) | Electron discharge device |