JPS6311771B2 - - Google Patents
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- JPS6311771B2 JPS6311771B2 JP54065960A JP6596079A JPS6311771B2 JP S6311771 B2 JPS6311771 B2 JP S6311771B2 JP 54065960 A JP54065960 A JP 54065960A JP 6596079 A JP6596079 A JP 6596079A JP S6311771 B2 JPS6311771 B2 JP S6311771B2
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- Japan
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- pattern
- image signal
- image signals
- inspected
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- Prior art date
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- Expired
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気テープ等の記録手段に納められた
情報に基づいて描画したフオトマスクパターンを
自動検査する方法に関するものであり、特に、描
かれたパターンを電気信号に変換し、該信号を、
元の情報を電気的に変換して得た基準信号と比較
する検査方法に於て、該二個の画像信号間に存在
する時間のずれ量に関する情報をフイードバツク
しながら両者を比較する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for automatically inspecting a photomask pattern drawn based on information stored in a recording means such as a magnetic tape, and in particular to a method for automatically inspecting a drawn pattern into an electrical signal. and the signal is
The present invention relates to an inspection method in which original information is compared with a reference signal obtained by electrically converting the original information, and in which the two image signals are compared while feeding back information regarding the amount of time difference existing between the two image signals.
磁気テープに納められた情報に基づいてフオト
マスク等のパターンが作成される手順を述べると
パターンを描くべきフオトマスク用の写真乾板を
X―Y方向に可動なステージにセツトし、X方向
及びY方向に移動させながら光束による走査をお
こなう。 The procedure for creating a pattern for a photomask, etc. based on information stored on magnetic tape is as follows: A photographic plate for a photomask on which a pattern is to be drawn is set on a stage movable in the X-Y directions, and then it is moved in the X and Y directions. Scanning is performed with the light beam while moving.
この際、光束は磁気テープ情報に基づいて開閉
されるアパーチヤーとよばれるスリツトを通り、
フオトマスク上に目的とするパターンを描く。 At this time, the light flux passes through a slit called an aperture that opens and closes based on the information on the magnetic tape.
Draw the desired pattern on the photomask.
このようにして作成されたパターンが正しく描
かれているか否かを検査する方法として従来おこ
なわれていたのは次のようなものである。 The following method has conventionally been used to check whether the pattern created in this way is correctly drawn.
即ち、まず得られたパターンをビデオカメラで
撮像し、第1図に示されるように、パターンを電
気的な画像信号1′に変換する。 That is, first, the obtained pattern is imaged with a video camera, and as shown in FIG. 1, the pattern is converted into an electrical image signal 1'.
一方磁気テープに納められた情報を変換して基
準とすべき画像信号1を得、此等二つの画像信号
を比較し、その差が許容範囲内のものを合格とす
るのである。 On the other hand, the information stored on the magnetic tape is converted to obtain image signal 1 as a reference, these two image signals are compared, and those whose difference is within an allowable range are accepted.
以上のパターン描画から検査までの工程を簡略
に示したものが第1図である。 FIG. 1 schematically shows the process from pattern drawing to inspection.
この場合、検査装置へのフオトマスクのセツテ
イングの精度に起因するスタート時刻のずれ△t
が生ずるという難点があり、何らかの手段によつ
てこれを解消し得た場合でも、描画工程に於て機
械的手段によるステージの移動やオープニングの
開閉がおこなわれることから画像信号の途中に生
ずる時間ずれには対処できないという問題がのこ
る。 In this case, the start time difference Δt due to the accuracy of setting the photomask on the inspection equipment
Even if this problem could be solved by some means, there would be a time lag that would occur in the middle of the image signal because the stage is moved and the opening is opened and closed by mechanical means during the drawing process. The problem remains that it cannot be addressed.
此等の時間ずれは、実際には正しく描画されて
いる場合や、許容範囲内のわずかな位置ずれがあ
る場合に、誤りとしてカウントされる量を多くし
てしまう。 These time lags increase the number of errors that are counted when the drawing is actually correct or there is a slight positional shift within the allowable range.
従つて、スタート位置のずれも含めて許容量を
定めることが必要であり、2〜3mm以内の精度で
パターンを検査することはきわめて困難なことで
あつた。 Therefore, it is necessary to determine the tolerance including the deviation of the starting position, and it is extremely difficult to inspect the pattern with an accuracy within 2 to 3 mm.
この問題の一つの解決方法として、画素の区画
に合せてステージをパルスモーターで駆動する方
法が提案されているが、装置が大がかりで高価な
ものになることは避け難い。 As one solution to this problem, a method has been proposed in which the stage is driven by a pulse motor in accordance with the pixel divisions, but it is unavoidable that the device becomes large and expensive.
本発明は従来のこの様な欠点を解決し通常の装
置によつて描画したパターンの検査法であつて、
検査装置の機械的精度に起因するずれには無関係
に検査し得る方法を提供するものである。 The present invention solves these conventional drawbacks and is a method for inspecting patterns drawn by ordinary equipment,
The purpose of the present invention is to provide a method that can perform inspection regardless of deviations caused by mechanical precision of the inspection device.
以下、本発明の説明をおこなう。 The present invention will be explained below.
第2図は本発明の一実施例を図示したものであ
る。 FIG. 2 illustrates an embodiment of the present invention.
磁気テープから作成した基準画像信号1と、フ
オトマスクから得た画像信号1′とを比較すると
いう点では従来技術と同様であるが、本発明に於
ては両者に差異を認めた場合、直ちにそれを不良
点とみなすのではなく、若干の時間範囲にわたつ
て両信号を比較し、時間のずれとして検知する。 It is similar to the conventional technology in that the reference image signal 1 created from the magnetic tape and the image signal 1' obtained from the photomask are compared, but in the present invention, if a difference is found between the two, it is immediately detected. Rather than treating this as a defective point, the two signals are compared over a certain time range and detected as a time lag.
即ち、第1図における△tに相当する量を知得
するのである。 That is, the amount corresponding to Δt in FIG. 1 is obtained.
第2図に示されているように、二つの画像信号
は遅延回路2,2′を経て比較検知部3に入つて
おり、検知した時間ずれに基いて遅延時間を制御
する信号をフイードバツクし、必要な時間だけ一
方の信号を遅延させることによつて対等な位置の
信号同士を容易に比較しうるようにするのであ
る。 As shown in FIG. 2, the two image signals pass through delay circuits 2 and 2' and enter the comparison detection section 3, which feeds back a signal for controlling the delay time based on the detected time difference. By delaying one signal by the necessary time, signals at equal positions can be easily compared.
本発明の方法は、画像信号を演算処理してから
フイードバツクするので、間欠的に制御すること
になるが、現実にはそれで十分であつて、機械的
精度の不足に起因するずれがパターンの途中に生
じた場合にも対処することができる。 In the method of the present invention, since the image signal is processed and then fed back, the control is performed intermittently, but in reality, this is sufficient, and deviations due to lack of mechanical precision occur in the middle of the pattern. It can also be dealt with when it occurs.
第2図では遅延回路2への制御信号の経路を破
線で表わしてあるが、これは遅延回路2に於ける
遅延量は一定にしておき、もう一つの遅延回路
2′に於ける遅延量だけで二つの信号の時間ずれ
を無くす方法と、2,2′の夫々に制御信号を送
つて時間ずれを無くす方法とが、任意に選択でき
ることを表わしている。 In Figure 2, the route of the control signal to delay circuit 2 is shown by a broken line, but this means that the delay amount in delay circuit 2 is kept constant, and only the delay amount in the other delay circuit 2' is This indicates that it is possible to arbitrarily select a method of eliminating the time difference between the two signals, or a method of eliminating the time difference by sending a control signal to each of 2 and 2'.
本発明の方法を実施するのに必要な条件の一つ
として、パターン上のスタート位置を同じにする
ことがあげられる。 One of the conditions necessary for carrying out the method of the present invention is that the starting positions on the patterns be the same.
すなわち、全く異る位置の画像信号同士を比較
した場合、ずれ時間の算出は不可能であり、遅延
回路を通すことによる修正が出来なくなる。 That is, when comparing image signals at completely different positions, it is impossible to calculate the time difference, and correction by passing the signal through a delay circuit becomes impossible.
位置をそろえるのに最も好都合なのは、描画の
スタート位置であることはあきらかであるから、
描かれたパターンから画像信号を得ようとする場
合、走査開始位置は描画開始位置と同じか、或は
きわめて近い位置でなければならない。 It is obvious that the most convenient place to align the positions is the starting position of drawing, so
When trying to obtain an image signal from a drawn pattern, the scanning start position must be the same as the drawing start position, or must be very close to the drawing start position.
これを実現する為の方法としては、目視とステ
ージの手動による位置合せも可能であるが、自動
的に行う場合には、描画の場合と同一方向に走査
を進めてゆき、最初に信号のレベルが変位した位
置をスタート位置とする方法が適切である。 To achieve this, it is possible to align the stage visually and manually, but if you want to do it automatically, scan in the same direction as when drawing, and first check the signal level. An appropriate method is to set the position where is displaced as the start position.
このような位置合せの他、フオトマスクを検査
装置にセツトする際のZ軸廻りの回転ずれの修正
も必要であるが、これは、例えば、特定の縦の線
の信号が現われる周期が水平走査の周期より長く
(或は短かく)なることによつて判定できるので、
それに基いて修正することができる。 In addition to such alignment, it is also necessary to correct rotational deviations around the Z-axis when setting the photomask in the inspection equipment. It can be determined by whether it is longer (or shorter) than the period, so
Modifications can be made based on that.
前記画像信号の比較はコンピユータによつてお
こなわれるのが通常であるから、その場合には位
置合せや回転の修正などの機能はソフトウエアに
よつて装置に内蔵させることができる。 Since the comparison of the image signals is usually performed by a computer, in that case, functions such as position alignment and rotation correction can be built into the apparatus using software.
本発明は、描かれたパターンから得る画像信号
がそのままデイジタル信号として処理し得ること
を利用しており、画像信号の遅延もコンピユータ
内部でおこなえるので、必要なハードウエアとし
ては通常の検査装置の他には、磁気テープから得
た画像信号と描かれたパターンから得た画像信号
の時間軸を一致させるための装置だけであつて、
他はすべてソフトウエアによつて処理できるとい
う特徴を有している。 The present invention takes advantage of the fact that the image signal obtained from the drawn pattern can be processed as a digital signal as it is, and the delay of the image signal can also be done inside the computer, so the required hardware is other than ordinary inspection equipment. It is only a device for matching the time axes of an image signal obtained from a magnetic tape and an image signal obtained from a drawn pattern,
All other features can be processed by software.
以上磁気テープに蓄積された情報に基いて描画
する場合について説明したが、磁気テープ以外の
磁気記録装置或は光学的記録装置に蓄えられた情
報に基いて処理する場合にも、本発明は全く同様
に実施することが出来る。 Although the case where drawing is performed based on information stored on a magnetic tape has been described above, the present invention also applies when processing is performed based on information stored on a magnetic recording device other than a magnetic tape or an optical recording device. It can be implemented similarly.
第1図は従来のパターンの検査方法を説明する
ための図、第2図は本発明によるパターン検査法
の一実施例を説明するための図である。
図において1は磁気テープから得た画像信号、
1′は描画装置によつて描かれたパターンから得
た画像信号、2,2′は遅延回路、3は2種の画
像信号を比較し、パターン不良点を検知する装置
である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a conventional pattern inspection method, and FIG. 2 is a diagram for explaining an embodiment of the pattern inspection method according to the present invention. In the figure, 1 is an image signal obtained from a magnetic tape.
1' is an image signal obtained from a pattern drawn by a drawing device, 2 and 2' are delay circuits, and 3 is a device for comparing the two types of image signals and detecting defective points in the pattern.
Claims (1)
て描画された被検査体のパターンを、光電変換装
置を介して走査することによつて得た画像信号
と、前記情報蓄積装置に蓄えられた情報を変換し
て得た基準画像信号とを比較することによつて被
検査体のパターンの良否を判定するパターン検査
方法に於て、前記走査は被検査体の描画の場合と
同一方向に行い、最初に信号レベルが変化した位
置をスタート位置として前記二つの画像信号相互
間の時間軸のずれ量を検出し、該二つの画像信号
の一方又は双方を、前記時間のずれ量に応じて遅
延させて両画像信号の時間軸を一致させた後、比
較することによつてパターンの良否を判定するこ
とを特徴とするパターン検査方法。1 An image signal obtained by scanning a pattern of the object to be inspected drawn based on drawing information stored in an information storage device via a photoelectric conversion device and information stored in the information storage device In a pattern inspection method for determining the quality of a pattern of an object to be inspected by comparing it with a reference image signal obtained by converting the image signal, the scanning is performed in the same direction as when drawing the object to be inspected; The amount of time axis deviation between the two image signals is detected using the position where the signal level first changes as a starting position, and one or both of the two image signals is delayed according to the amount of time deviation. A pattern inspection method characterized in that the time axes of both image signals are made to coincide with each other, and then the quality of the pattern is determined by comparing the two image signals.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6596079A JPS55157232A (en) | 1979-05-28 | 1979-05-28 | Method of inspecting pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6596079A JPS55157232A (en) | 1979-05-28 | 1979-05-28 | Method of inspecting pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55157232A JPS55157232A (en) | 1980-12-06 |
| JPS6311771B2 true JPS6311771B2 (en) | 1988-03-16 |
Family
ID=13302055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6596079A Granted JPS55157232A (en) | 1979-05-28 | 1979-05-28 | Method of inspecting pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55157232A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57100728A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Inspecting device for photomask |
| JPS57138135A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-26 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for inspecting pattern |
| JPS57159023A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-01 | Hitachi Ltd | Inspecting device of pattern |
| JPH0675038B2 (en) * | 1983-03-11 | 1994-09-21 | ケイエルエイ・インストラメンツ・コ−ポレ−シヨン | Optical inspection device |
| JPS59201427A (en) * | 1983-04-28 | 1984-11-15 | Toshiba Corp | Ic frame housing magazine |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53117978A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-14 | Hitachi Ltd | Automatic mask appearance inspection apparatus |
-
1979
- 1979-05-28 JP JP6596079A patent/JPS55157232A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55157232A (en) | 1980-12-06 |
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