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JPS6330067B2 - - Google Patents
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JPS6330067B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6330067B2
JPS6330067B2 JP58084429A JP8442983A JPS6330067B2 JP S6330067 B2 JPS6330067 B2 JP S6330067B2 JP 58084429 A JP58084429 A JP 58084429A JP 8442983 A JP8442983 A JP 8442983A JP S6330067 B2 JPS6330067 B2 JP S6330067B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coated
station
coating
rotating
coating liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP58084429A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59209677A (en
Inventor
Takeshi Shiraishi
Katsuyuki Yamamoto
Takao Inoe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP58084429A priority Critical patent/JPS59209677A/en
Publication of JPS59209677A publication Critical patent/JPS59209677A/en
Publication of JPS6330067B2 publication Critical patent/JPS6330067B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、文書フアイル、静止画、ビデオの録
画再生に使用されるデイスクの表面に保護膜を形
成する、コーテイング装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a coating device for forming a protective film on the surface of a disk used for recording and playing back document files, still images, and videos.

従来例の構成とその問題点 従来は、コーテイング液の塗布、塗膜厚の調
整、乾燥の行程を塗布装置と乾燥装置の2つの装
置を使用して行つていたが、この方法では塗布
後、乾燥装置に被コーテイング材を装着する際に
塗膜面に傷が発生したり、ゴミが付着するといつ
た問題があつた。
Conventional configuration and problems Conventionally, the processes of applying the coating liquid, adjusting the coating film thickness, and drying were performed using two devices: a coating device and a drying device. There were problems such as scratches on the coated film surface and the adhesion of dust when the material to be coated was installed in the drying device.

発明の目的 本発明は上記従来の欠点を解消するものであ
り、塗布から乾燥までの全行程を被コーテイング
材の着脱を行なうことなく完了して高品質を維持
することを計つたものである。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned conventional drawbacks, and aims to maintain high quality by completing the entire process from coating to drying without attaching or detaching the coated material.

発明の構成 本発明は本体ルーム内の略中央部に位置し、被
コーテイング材を保持回転させる回転軸と、前記
本体ルームに備えられた扉より前記被コーテイン
グ材を供給し、前記回転軸に保持せしめる第1の
ステーシヨンと、ろ過装置を備えた貯液タンクを
前記被コーテイング材の位置まで移動可能とする
ことにより、前記被コーテイング材にコーテイン
グ液を塗布する第2のステーシヨンと、前記被コ
ーテイング材を前記回転軸のまわりに回転させて
余分のコーテイング液を被散させる際、前記被コ
ーテイング材を覆うように移動可能に構成された
防散カバーを備えた第3のステーシヨンと、前記
本体ルーム内の空間から隔離された空間を形成す
るよう開閉可能に設けられたシヤツターならびに
乾燥装置を備えた乾燥室内に前記被コーテイング
材を収容し、コーテイング液を乾燥硬化させる第
4のステーシヨンとからなり、前記被コーテイン
グ材および回転軸を一体として保持する旋回アー
ムが旋回することにより、前記被コーテイング材
が前記第1から第4までのステーシヨンを順次移
動するようにしたことを特徴とするコーテイング
装置で被コーテイング材を回転軸に固定した後、
コーテイング液の塗布、遠心力利用による塗膜厚
の調整、塗膜の乾燥硬化を連続的に行なうことが
でき、高品質の塗膜層を形成することを可能にし
ている。
Structure of the Invention The present invention includes a rotating shaft located approximately in the center of a main body room, which holds and rotates a material to be coated, and a door provided in the main body room to supply the material to be coated, and the material to be coated is supplied to the rotating shaft and held on the rotating shaft. a first station that applies a coating liquid to the material to be coated, a second station that applies a coating liquid to the material to be coated by movable a liquid storage tank equipped with a filtration device to a position of the material to be coated; a third station provided with a scattering cover configured to be movable so as to cover the material to be coated when rotating the coating material around the rotation axis to scatter excess coating liquid; a fourth station for accommodating the material to be coated in a drying chamber equipped with a shutter and a drying device and drying and curing the coating liquid; The coating device is characterized in that the material to be coated moves sequentially through the first to fourth stations by rotating a pivoting arm that integrally holds the material to be coated and the rotating shaft. After fixing the material to the rotating shaft,
It is possible to continuously apply the coating liquid, adjust the coating thickness using centrifugal force, and dry and harden the coating, making it possible to form a high-quality coating layer.

実施例の説明 以下本発明の一実施例について第1〜6図にも
とずいて説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 6.

図において、1は旋回アーム、2はろ過装置、
3は貯液タンク、4は防散カバー、5はシヤツタ
ー、6は乾燥装置、7は本体ルーム、8は乾燥
室、9,10は排気孔、11は本体ルーム扉、1
2は被コーテイング材、101は回転軸である。
In the figure, 1 is a rotating arm, 2 is a filtration device,
3 is a liquid storage tank, 4 is a scattering cover, 5 is a shutter, 6 is a drying device, 7 is a main body room, 8 is a drying room, 9 and 10 are exhaust holes, 11 is a main body room door, 1
2 is a material to be coated, and 101 is a rotating shaft.

上記構成の装置において、第2図に示すように
本体ルーム扉11を開けて被コーテイング材12
を旋回アーム1に保持された回転軸101にセツ
トすると、第3図に示すように貯液タンク3が上
昇し、次に被コーテイング材12を低速回転させ
ながら旋回アーム1が旋回下降し、貯液タンク3
中のコーテイング液を被コーテイング材12の表
面に塗布する。
In the apparatus having the above configuration, as shown in FIG. 2, the main room door 11 is opened and the material to be coated is
When the liquid storage tank 3 is set on the rotating shaft 101 held by the rotating arm 1, the liquid storage tank 3 rises as shown in FIG. Liquid tank 3
The coating liquid inside is applied to the surface of the material to be coated 12.

次に、貯液タンク3は下降後退し、続いて旋回
アーム1が旋回下降し、第4図に示すように防散
カバー4が上昇する。
Next, the liquid storage tank 3 descends and retreats, then the swing arm 1 swings down and the scattering cover 4 rises as shown in FIG.

この状態で被コーテイング材12を高速回転さ
せて塗膜厚の調整を行なう。
In this state, the coated material 12 is rotated at high speed to adjust the coating film thickness.

次に第5図に示すように防散カバー4が下降
し、続いてシヤツター5が開いた後旋回アーム1
が旋回し、第6図に示したように旋回アーム1は
乾燥室8の所定の位置に停止し、シヤツター5が
閉じる。
Next, as shown in FIG.
6, the rotating arm 1 stops at a predetermined position in the drying chamber 8, and the shutter 5 closes.

この状態において、乾燥装置6により被コーテ
イング材12の表面に塗布されたコーテイング液
を乾燥硬化させ、乾燥硬化が完了するとシヤツタ
ー5が開き、旋回アーム1が反時計方向に回転し
て第2図に示した位置に復帰して停止し、続いて
シヤツター5が閉じて本装置によるコーテイング
サイクルが完了する。
In this state, the coating liquid applied to the surface of the material to be coated 12 is dried and hardened by the drying device 6, and when the drying and hardening is completed, the shutter 5 is opened and the swing arm 1 is rotated counterclockwise, as shown in FIG. It returns to the indicated position and stops, and then the shutter 5 closes to complete the coating cycle by this apparatus.

発明の効果 このように本発明はコーテイング液の塗布から
乾燥硬化までの全行程を旋回アームの旋回により
被コーテイング材が順次移動可能となり、工程間
においては被コーテイング材の着脱を行なうこと
なく完了することができる為、傷、ゴミ付着の無
い高品質の塗膜層を形成することができるという
効果を有する。
Effects of the Invention As described above, the present invention enables the material to be coated to move sequentially through the entire process from application of the coating liquid to drying and curing by the rotation of the rotating arm, and the process is completed without attaching or detaching the material to be coated between processes. This has the effect of forming a high-quality coating layer that is free from scratches and dust adhesion.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例におけるコーテイン
グ装置の外観斜視図、第2〜6図は第1図に示し
た実施例の断面図である。 1…旋回アーム、2…ろ過装置、3…貯液タン
ク、4…防散カバー、5…シヤツター、6…乾燥
装置、7…本体ルーム。
FIG. 1 is an external perspective view of a coating device according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 to 6 are sectional views of the embodiment shown in FIG. 1...Swivel arm, 2...Filtering device, 3...Liquid storage tank, 4...Scatter prevention cover, 5...Shutter, 6...Drying device, 7...Main body room.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 本体ルーム7内の略中央部に位置し、被コー
テイング材12を保持回転させる回転軸101
と、前記本体ルーム7に備えられた扉11より前
記被コーテイング材12を供給し、前記回転軸1
01に保持せしめる第1のステーシヨンと、ろ過
装置2を備えた貯液タンク3を前記被コーテイン
グ材12の位置まで移動可能とすることにより、
前記被コーテイング材12にコーテイング液を塗
布する第2のステーシヨンと、前記被コーテイン
グ材12を前記回転軸101のまわりに回転させ
て余分のコーテイング液を被散させる際、前記被
コーテイング材12を覆うように移動可能に構成
された防散カバー4を備えた第3のステーシヨン
と、前記本体ルーム7内の空間から隔離された空
間を形成するよう開閉可能に設けられたシヤツタ
ー5ならびに乾燥装置6を備えた乾燥室8内に前
記被コーテイング材12を収容し、コーテイング
液を乾燥硬化させる第4のステーシヨンとからな
り、前記被コーテイング材12および回転軸10
1を一体として保持する旋回アーム1が旋回する
ことにより、前記被コーテイング材12が前記第
1から第4までのステーシヨンを順次移動するよ
うにしたことを特徴とするコーテイング装置。
1 A rotating shaft 101 located approximately in the center of the main body room 7 and holding and rotating the material to be coated 12
Then, the material to be coated 12 is supplied through the door 11 provided in the main body room 7, and the material to be coated 12 is supplied to the rotating shaft 1.
01 and the liquid storage tank 3 equipped with the filtration device 2 are movable to the position of the material to be coated 12.
a second station for applying a coating liquid to the material to be coated 12; and a second station for covering the material to be coated 12 when rotating the material to be coated 12 around the rotation shaft 101 to scatter excess coating liquid; A third station equipped with a scattering cover 4 configured to be movable as shown in FIG. A fourth station accommodates the material to be coated 12 in a drying chamber 8 equipped with the material and a fourth station for drying and curing the coating liquid.
1. A coating apparatus characterized in that the material to be coated 12 is sequentially moved through the first to fourth stations by the rotation of a rotating arm 1 holding the first to fourth stations.
JP58084429A 1983-05-13 1983-05-13 Applicator Granted JPS59209677A (en)

Priority Applications (1)

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JP58084429A JPS59209677A (en) 1983-05-13 1983-05-13 Applicator

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JP58084429A JPS59209677A (en) 1983-05-13 1983-05-13 Applicator

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Publication Number Publication Date
JPS59209677A JPS59209677A (en) 1984-11-28
JPS6330067B2 true JPS6330067B2 (en) 1988-06-16

Family

ID=13830335

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JP58084429A Granted JPS59209677A (en) 1983-05-13 1983-05-13 Applicator

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JP (1) JPS59209677A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05103150A (en) * 1991-10-04 1993-04-23 Bussan Komutoran:Kk Facsimile device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05103150A (en) * 1991-10-04 1993-04-23 Bussan Komutoran:Kk Facsimile device

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JPS59209677A (en) 1984-11-28

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