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JPS637036B2 - - Google Patents
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JPS637036B2 - - Google Patents

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JPS637036B2
JPS637036B2 JP54085050A JP8505079A JPS637036B2 JP S637036 B2 JPS637036 B2 JP S637036B2 JP 54085050 A JP54085050 A JP 54085050A JP 8505079 A JP8505079 A JP 8505079A JP S637036 B2 JPS637036 B2 JP S637036B2
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gas
tube
laser
discharge tube
oscillation device
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JP54085050A
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Kiichiro Shinokura
Michihiro Kaneda
Yasuhiro Suenaga
Seiji Sugyama
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NIPPON SEKIGAISEN KOGYO KK
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NIPPON SEKIGAISEN KOGYO KK
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/041Arrangements for thermal management for gas lasers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガスレーザ発振装置に関し、特にレー
ザ媒質ガスの冷却手段を有するガスレーザ発振装
置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a gas laser oscillation device, and more particularly to a gas laser oscillation device having a means for cooling a laser medium gas.

一般にレーザはレーザ媒質を何らかの方法(例
えば放電、光ポンピング、その他)により活性化
させ、その量子力学的状態間の誘導放出を伴つた
遷移を利用して光を発生増幅する装置であり、ガ
スレーザはレーザ媒質としてガスを使用するもの
である。
In general, a laser is a device that generates and amplifies light by activating a laser medium by some method (e.g., electric discharge, optical pumping, etc.) and utilizing the transition between its quantum mechanical states with stimulated emission. This uses gas as the laser medium.

以下では特にCO2ガスレーザの場合について、
そのレーザ発振機構を簡単に説明する。
In the following, we will discuss the case of CO 2 gas laser in particular.
The laser oscillation mechanism will be briefly explained.

CO2ガスレーザの場合、周知のように、レーザ
発振に関与する量子状態はCO2分子の振動レベル
のうち、基本的には基底状態に対応する000レベ
ルと、これよりも高いエネルギー状態にある010、
100、200、001レベルである。このうち、001レベ
ルは励起状態に対応するものである。CO2レーザ
は10.4μmバンドと9.4μmバンドの発振線を有し
ているが、10.4μmバンドは前記001レベルから
100レベルの遷移によるものであり、9.4μmバン
ドは001レベルから200レベルへの遷移によるもの
である。
In the case of a CO 2 gas laser, as is well known, the quantum states involved in laser oscillation are the 000 level, which basically corresponds to the ground state, and the 010 energy state higher than this, among the vibrational levels of the CO 2 molecule. ,
They are 100, 200, and 001 levels. Among these, the 001 level corresponds to an excited state. CO 2 laser has oscillation lines of 10.4 μm band and 9.4 μm band, but the 10.4 μm band ranges from the above 001 level.
This is due to the 100 level transition, and the 9.4 μm band is due to the transition from the 001 level to the 200 level.

一方、前記遷移によつて100レベル、200レベル
の分子は010レベルへ光の放出を伴わない遷移を
行い、この遷移速度は他のレベル間の遷移速度よ
りも1桁以上は速いとされている。従つて001レ
ベルと100、200レベル間に反転分布が生じるもの
である。
On the other hand, due to the above transition, molecules at the 100 level and 200 level make a transition to the 010 level without emitting light, and this transition speed is said to be more than an order of magnitude faster than the transition speed between other levels. . Therefore, a population inversion occurs between the 001 level and the 100 and 200 levels.

ところが、CO2分子の010レベルから000レベル
への遷移はレーザ出力の高いところでは緩慢であ
るため、前記010レベルの分子数が増加してしま
い、その結果100、020レベルの分子数の増加をも
たらし、最終的には001と100、020レベルの分子
数の差、すなわち反転分布数が減少し、レーザ出
力が減少してしまう。一方、公知のように、010
レーザの分子数は010レベルの分子の冷却によつ
て、エネルギーを取り除くことで減少させること
ができるものである。
However, since the transition of CO2 molecules from the 010 level to the 000 level is slow at high laser output, the number of molecules at the 010 level increases, resulting in an increase in the number of molecules at the 100 and 020 levels. Eventually, the difference between the number of molecules at the 001, 100, and 020 levels, that is, the population inversion number, decreases, and the laser output decreases. On the other hand, as is known, 010
The number of laser molecules can be reduced by removing energy by cooling the molecules to the 010 level.

なお、前述の説明において、9.4μmバンドと
10.4μmバンドのレーザ発振を並列的に取扱つて
きたが、実際上はCO2レーザの場合10.4μmバン
ドの発振が優先し、9.4μmバンド発振は共振器内
に分散素子を挿入することで得られる。
In addition, in the above explanation, the 9.4μm band
We have been dealing with laser oscillations in the 10.4μm band in parallel, but in reality, in the case of CO 2 lasers, oscillation in the 10.4μm band takes priority, and oscillation in the 9.4μm band can be obtained by inserting a dispersion element into the resonator. .

従つて、以下の記述においては10.4μmバンド
発振を生じしめる001と100レベルの遷移過程にし
ぼつて説明するが、本質的には内容に何ら制限を
加えるものではない。
Therefore, in the following description, the transition process between the 001 and 100 levels that causes 10.4 μm band oscillation will be explained, but this is not intended to essentially limit the content in any way.

レーザ発振の出力は、前述のように001と100レ
ベル間のCO2分子数の差が大きいほど大きくなる
ことも周知である。放電等により、001レベルあ
るいはそれ以外の、より高いエネルギーレベルに
多くのCO2分子が基底状態から励起されるが、レ
ーザ媒質ガス温度の上昇に伴ない、100レベルに
もCO2分子の分布数が増えてくる。そこで、レー
ザ媒質ガスを冷却してやると前述のように、010
レベルの分子数が減少し、その結果として100レ
ベルの分子数が減少し、001および100レベル間の
分子の分布数の差が大きくなるので、001レベル
から100レベルへの遷移がさかんになる。すなわ
ちレーザ光出力が増大される。
It is also well known that the output of laser oscillation increases as the difference in the number of CO 2 molecules between the 001 and 100 levels increases, as described above. Many CO 2 molecules are excited from the ground state to the 001 level or other higher energy levels due to electrical discharge, but as the laser medium gas temperature increases, the distribution number of CO 2 molecules also decreases to the 100 level. is increasing. Therefore, if the laser medium gas is cooled, the 010
The number of molecules at the level decreases, and as a result, the number of molecules at the 100 level decreases, and the difference in the distribution number of molecules between the 001 and 100 levels increases, so the transition from the 001 level to the 100 level becomes more frequent. That is, the laser light output is increased.

一方、CO2レーザの場合には、CO2ガスにN2
スやHeガスを添加することが一般的である。こ
のうち、N2ガスの第1振動レベルがCO2の前記
001レベルとエネルギー値がよく一致しており、
このため両者のエネルギーレベルが一種の共鳴状
態を作ることによつて、001レベルにあるCO2
子の数を増加させる役割をする。又、He分子は
後述のようにガスの冷却に寄与する。
On the other hand, in the case of a CO 2 laser, it is common to add N 2 gas or He gas to CO 2 gas. Among these, the first vibration level of N2 gas is the same as that of CO2 .
The 001 level and energy value match well,
For this reason, both energy levels create a kind of resonance, which serves to increase the number of CO 2 molecules at the 001 level. In addition, He molecules contribute to cooling the gas as described later.

共振器内部に放電等の手段により大きなエネル
ギーを注入し大出力を得ようとする場合には、
100レベルに分布するCO2分子を速やかに000レベ
ルに遷移させてやることが重要となる。このため
の方法として、レーザ媒質ガスの冷却効果を高め
るための手法が、従来より種々提案されている。
以下ではそのいくつかの方法について簡単に説明
する。
When trying to obtain a large output by injecting large amounts of energy into the resonator by means such as discharging,
It is important to quickly transition the CO 2 molecules distributed at the 100 level to the 000 level. To this end, various methods have been proposed to enhance the cooling effect of the laser medium gas.
Some of these methods will be briefly explained below.

従来よりの冷却方法では、(1)放電管の管壁を外
部から冷却し、放電管内壁への媒質ガスの衝突に
より媒質ガスの熱交換を行なう間接拡散冷却法
と、(2)媒質ガスを放電管内で高速で流して冷却す
る高速対流冷却法との2つが主であつた。
Conventional cooling methods include (1) an indirect diffusion cooling method in which the tube wall of the discharge tube is cooled from the outside and heat exchange is performed by the medium gas colliding with the inner wall of the discharge tube, and (2) a cooling method in which the medium gas is cooled from the outside. The two main methods were the high-speed convection cooling method, which cools the discharge tube by flowing it at high speed.

公知のように半径rの円筒状放電管内において
放電によつて生じる熱エネルギーQは軸方向をx
とすれば次の式にしたがつて、半径方向に拡散さ
れるとともに管内ガスの軸方向移動によつて管外
に排出される(High Energy Lasers and Their
Applications(第247頁)Edited by Stephen
Jacobs.Murray Sargant Marlon O.
Scully)。
As is well known, the thermal energy Q generated by discharge in a cylindrical discharge tube with radius r is axially
Then, according to the following equation, the gas is diffused in the radial direction and is discharged outside the tube by the axial movement of the gas inside the tube (High Energy Lasers and Their
Applications (page 247)Edited by Stephen
Jacobs.Murray Sargant Marlon O.
Scully).

ρVxCp∂T/∂x+1/r(∂/∂rrK∂T/∂r)=Q
………(1) 但し、ρ:ガス密度、T:温度、Cp:比熱、
K:熱伝導係数、Vx:ガス流速度、r:円筒形
放電管の半径 明らかなように、(1)式中の第1項はガス流方向
にそう温度の上昇に対応するものである。ところ
で、(1)式の第2項に対応する熱の伝搬は通常2〜
20ms程度(Introduction To Gas Lasers:
Population Inversion Mechanisms(第271〜272
頁):By Colins Willett、B.Sc.ph.D.、Inst.P.)
であつて、ガス速度Vxが小さい場合には第2項
による熱伝搬が支配的になる。このような状態に
よる冷却が前記の間接拡散冷却法に対応し、前記
(1)式中の第1項が大きい場合が高速対流冷却法に
対応する。通常、第1項が支配的になる場合には
前記Vxが音速又は亜音速以上になることが必要
である。
ρV x C p ∂T/∂ x +1/r(∂/∂rrK∂T/∂r)=Q
………(1) However, ρ: gas density, T: temperature, C p : specific heat,
K: thermal conductivity coefficient, V x : gas flow velocity, r: radius of cylindrical discharge tube As is clear, the first term in equation (1) corresponds to the increase in temperature in the gas flow direction. . By the way, the heat propagation corresponding to the second term in equation (1) is usually 2~
About 20ms (Introduction To Gas Lasers:
Population Inversion Mechanisms (No. 271-272)
Page): By Colins Willett, B.Sc.ph.D., Inst.P.)
When the gas velocity V x is small, heat propagation due to the second term becomes dominant. Cooling under such conditions corresponds to the indirect diffusion cooling method described above, and
The case where the first term in equation (1) is large corresponds to the fast convection cooling method. Usually, when the first term is dominant, the V x needs to be at or above the sonic speed or subsonic speed.

間接拡散冷却の場合には半径方向に温度勾配
(∂T/∂r)を持ち、熱エネルギーQが大きいほ
ど、その温度勾配∂T/∂rは大きくなり、放電管
の中心部温度が上昇することは明白である。この
ように、前記の間接拡散冷却法では、レーザ媒質
ガスの熱伝導率が低いために放電管の中心軸付近
に存在するレーザ媒質ガスが充分に冷却されない
という問題があつた。
In the case of indirect diffusion cooling, there is a temperature gradient (∂T/∂r) in the radial direction, and the larger the thermal energy Q, the larger the temperature gradient ∂T/∂r, which increases the temperature at the center of the discharge tube. That is clear. As described above, the indirect diffusion cooling method described above has a problem in that the laser medium gas present near the central axis of the discharge tube is not sufficiently cooled due to the low thermal conductivity of the laser medium gas.

その対策として、一般にはHeガスを前記CO2
ガス、N2ガスに加えることによつて、レーザ媒
質ガスの冷却効果を高める方法が採用されてい
る。すなわち前記のCO2、N2、Heガスの熱伝導
係数は300Kにおいて、各々(1.66;2.61;15.1)
×10-4W/cm・degである。しかしながら、冷却
に関与する放電管の内壁および外壁の表面積は一
定であるのでその冷却作用には限度があり、媒質
温度がさらに高くなつた場合には有効な冷却をな
し得ないものとなつてしまう。このように、前記
間接拡散冷却方式では高い冷却効率が得られず、
高出力レーザには不適当である。
As a countermeasure, He gas is generally used to replace the CO 2
A method has been adopted in which the cooling effect of the laser medium gas is increased by adding it to gas or N 2 gas. That is, the thermal conductivity coefficients of CO 2 , N 2 , and He gas mentioned above are respectively (1.66; 2.61; 15.1) at 300K.
×10 -4 W/cm・deg. However, since the surface areas of the inner and outer walls of the discharge tube that are involved in cooling are constant, there is a limit to the cooling effect, and if the medium temperature becomes even higher, effective cooling will no longer be possible. . In this way, high cooling efficiency cannot be obtained with the indirect diffusion cooling method,
Not suitable for high power lasers.

一方、高速対流冷却法は、前述のように放電管
内に高速でレーザ媒質ガスを流すものであり、ガ
スが放電等により所定の限度以上にあたためられ
る前に管外に放出し、レーザ媒質ガスの温度上昇
を抑制するものである。この高速対流冷却法では
レーザ媒質ガスを充分に冷却でき、比較的容易に
高出力を得ることが可能であるが、ガスを高速で
流すためのシステムが大型化し、かつガス使用量
も膨大なものとなつてしまう欠点がある。
On the other hand, in the high-speed convection cooling method, as mentioned above, the laser medium gas is passed through the discharge tube at high speed, and the gas is discharged outside the tube before it is heated beyond a predetermined limit due to discharge, etc., and the laser medium gas is This suppresses temperature rise. With this high-speed convection cooling method, the laser medium gas can be sufficiently cooled and high output can be obtained relatively easily, but the system to flow the gas at high speed becomes large and the amount of gas used is enormous. There is a drawback that it becomes.

今日、レーザ発振装置において、高出力なレー
ザ発振出力をより小型のシステムで実現すること
は、使用場所の装置床面積および占有空間を低減
させる意味においても非常に有益なことである
が、従来の方式によつて小型化・高出力化を同時
に図るには自ずと限界があつた。
Today, in laser oscillation equipment, it is extremely beneficial to realize high-power laser oscillation output with a smaller system, which also reduces the equipment floor space and occupied space at the place of use. There was naturally a limit to the ability to simultaneously achieve smaller size and higher output depending on the method.

そこで、本発明の目的は、レーザシステム、特
にその冷却システムに関して基本原理にたちかえ
り、新しい発想を現実化することによつて高出力
化・小型化されたガスレーザ発振装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to return to the basic principles of a laser system, particularly its cooling system, and to realize a new idea, thereby providing a gas laser oscillation device with higher output and smaller size.

本発明は、レーザ媒質ガスの冷却に従来にない
手法を採用し、それに伴なつて、レーザ媒質ガス
供給システムに新たな改良を加えたものである。
すなわち、本発明においては、レーザ媒質ガス供
給システム内に従来用いられなかつた高圧発生
部、すなわちガス圧縮手段を設け、前記高圧発生
部から送られる高圧ガスがレーザ放電管内へ導入
される時に生ずる、気体膨張に伴う熱力学的冷却
効果を利用して媒質ガスを直接冷却するようにし
ている。
The present invention employs an unprecedented method for cooling the laser medium gas, and accordingly adds new improvements to the laser medium gas supply system.
That is, in the present invention, a high pressure generating section, that is, a gas compression means that has not been used conventionally, is provided in the laser medium gas supply system, and the high pressure gas that is sent from the high pressure generating section is introduced into the laser discharge tube. The thermodynamic cooling effect accompanying gas expansion is used to directly cool the medium gas.

本発明の他の目的は、前記レーザ媒質ガスのレ
ーザ放電管内への導入手段を工夫することによつ
て簡便で効率のよいレーザ発振装置を提供するこ
とにある。
Another object of the present invention is to provide a simple and efficient laser oscillation device by devising a means for introducing the laser medium gas into the laser discharge tube.

以下では添付図面にもとずき、CO2レーザ発振
装置を例として本発明を詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail using a CO 2 laser oscillation device as an example, based on the accompanying drawings.

第1図は本発明によるレーザ媒質ガス供給シス
テムを備えたガスレーザ発振装置の概略系統図で
ある。本発明はその基本構成としてガス高圧部
A、共振器部B、低圧部C、中圧部Dから成り立
つており、ここでは第1図に示すようにシステム
全体が1つの循環系を構成している場合を例にと
つて説明する。
FIG. 1 is a schematic diagram of a gas laser oscillation device equipped with a laser medium gas supply system according to the present invention. The basic structure of the present invention is a gas high pressure section A, a resonator section B, a low pressure section C, and an intermediate pressure section D. Here, as shown in Fig. 1, the entire system constitutes one circulation system. The following is an example of a case in which there is one.

前記高圧部Aには、システム内のガスを高圧に
加圧するための加圧器(または圧縮器)6、レー
ザ過程で生成され、レーザ発振出力を低下させる
反応生成物を除去するための触媒7、高圧部容量
調整用リザーバ8、および媒質ガス11を冷却す
るための熱交換器9等が設けられる。
The high pressure section A includes a pressurizer (or compressor) 6 for pressurizing the gas in the system to a high pressure, a catalyst 7 for removing reaction products generated during the laser process and reducing the laser oscillation output, A reservoir 8 for adjusting the capacity of the high-pressure section, a heat exchanger 9 for cooling the medium gas 11, and the like are provided.

共振器部Bには放電管1、放電管1内へガスを
導入するためのガス導入口14およびガス排気口
12が設けられる。
The resonator section B is provided with a discharge tube 1, a gas introduction port 14 for introducing gas into the discharge tube 1, and a gas exhaust port 12.

低圧部Cには真空ポンプ2が設けられる。また
中圧部Dにはレーザ媒質ガスボンベ3、オイルト
ラツプ用フイルタ4および中圧部容量調整用リザ
ーバ5が設けられる。
A vacuum pump 2 is provided in the low pressure section C. Further, the intermediate pressure section D is provided with a laser medium gas cylinder 3, an oil trap filter 4, and an intermediate pressure section capacity adjustment reservoir 5.

ガスレーザ発振装置の稼動にあたつて、ガスボ
ンベ3から本冷却システムに所定量のガスが供給
され、バルブ3aが閉められた後ガスは加圧器6
によつて高圧に加圧され、触媒7によつて前述の
ようにリフレツシユされた後、熱交換器9により
一旦冷却される。この場合、熱交換器に水冷を採
用するか空冷を採用するかはレーザ出力とシステ
ムのスケールにより適宜選択するものとする。ま
た、前記熱交換器9、容量調整用リザーバ8、触
媒7等の配置順序はそれぞれの仕様により異なる
場合もありうることは当然である。
When operating the gas laser oscillator, a predetermined amount of gas is supplied from the gas cylinder 3 to the main cooling system, and after the valve 3a is closed, the gas is supplied to the pressurizer 6.
After being pressurized to a high pressure by the catalyst 7 and refreshed as described above by the catalyst 7, it is once cooled by the heat exchanger 9. In this case, whether to employ water cooling or air cooling for the heat exchanger shall be appropriately selected depending on the laser output and the scale of the system. Furthermore, it goes without saying that the arrangement order of the heat exchanger 9, the capacity adjustment reservoir 8, the catalyst 7, etc. may differ depending on the specifications of each.

前記熱交換器9により冷却されたガスは放電管
1に設けられたガス導入口14、つづいて後述す
るガス噴出口10を通り放電管1内に放出され
る。このとき、レーザ媒質ガスは、後述するよう
に気体膨張に伴う冷却効果によつて、さらにマイ
ナス数十度まで冷却された後、管1内に拡散す
る。電気励起によるレーザ過程であたためられた
レーザ媒質ガス11は、真空ポンプ2により放電
管1から排気口12を通して引き出された後、中
圧部Dへと送られる。中圧部Dには、前述したよ
うに、真空ポンプ2から排出されたオイルをレー
ザ媒質ガス11から除去するために、オイルトラ
ツプ用フイルタ4が設けられる。前記フイルタ4
を通過したレーザ媒質ガス11は、加圧器6を通
して再び高圧部Aへと送られ、前述の過程をくり
返して循環する。
The gas cooled by the heat exchanger 9 is discharged into the discharge tube 1 through a gas inlet 14 provided in the discharge tube 1, and then through a gas outlet 10, which will be described later. At this time, the laser medium gas is further cooled to minus several tens of degrees by the cooling effect accompanying gas expansion, as will be described later, and then diffused into the tube 1. The laser medium gas 11 heated in the laser process by electrical excitation is drawn out from the discharge tube 1 through the exhaust port 12 by the vacuum pump 2, and then sent to the intermediate pressure section D. As described above, the intermediate pressure section D is provided with the oil trap filter 4 in order to remove the oil discharged from the vacuum pump 2 from the laser medium gas 11. The filter 4
The laser medium gas 11 that has passed through is sent to the high pressure section A again through the pressurizer 6, and is circulated by repeating the above-mentioned process.

第2図は本発明の他の実施例の系統図で、放電
管1に供給したレーザ媒質ガス11を再利用しな
い場合のガス供給システムを示すものである。第
1図と同一の符号は同一部分をあらわす。その構
成および動作については、第1図に関する説明か
ら極めて容易に理解されるであろう。
FIG. 2 is a system diagram of another embodiment of the present invention, showing a gas supply system in which the laser medium gas 11 supplied to the discharge tube 1 is not reused. The same symbols as in FIG. 1 represent the same parts. Its structure and operation will be most easily understood from the description with respect to FIG.

本発明によるガスレーザ装置は、前述したよう
に、ガス供給システムの高圧部Aから送られるガ
ス11がガス導入口を通して放電管1内に導入さ
れるときに生ずる気体膨張に伴う冷却効果を利用
し、レーザ媒質ガス11を直接冷却することを特
徴としている。
As described above, the gas laser device according to the present invention utilizes the cooling effect accompanying the gas expansion that occurs when the gas 11 sent from the high-pressure part A of the gas supply system is introduced into the discharge tube 1 through the gas inlet, It is characterized in that the laser medium gas 11 is directly cooled.

第3図には、本発明による冷却方式を採用した
ガスレーザ共振器の1具体例についてその断面概
略図を示す。
FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of one specific example of a gas laser resonator employing the cooling method according to the present invention.

同図において、共振器を構成する放電管1はガ
ラス等の高絶縁性材料で形成され、外管1aおよ
び内管1bよりなる二重管で構成される。前記外
管1aはガラス管(例えば石英製)であり、内管
1bの管壁には、微小穴であるガス噴出口10が
多数個設けられる。
In the figure, a discharge tube 1 constituting a resonator is made of a highly insulating material such as glass, and is composed of a double tube consisting of an outer tube 1a and an inner tube 1b. The outer tube 1a is a glass tube (for example, made of quartz), and the inner tube 1b is provided with a large number of gas ejection ports 10, which are micro holes, in its tube wall.

このように、内管1bに設けられるガス噴出口
10の配置には以下に述べるような態様がある。
As described above, the arrangement of the gas jet ports 10 provided in the inner tube 1b has the following aspects.

(1) 微小穴よりなるガス噴出口10が内管1bの
管壁上全面に均等に設けられる場合 (2) 前記ガス噴出口10が内管1bの管壁上に、
ある規則性をもつて(例えば管壁上にスパイラ
ルに)設けられる場合 (3) 前記ガス噴出口10が管壁上に不規則に設け
られる場合 (4) 前記(1)ないし(3)において、ガス噴出口10が
管内壁上の法線に対してある角度をもつて設け
られる場合 また、放電管1の内管1bとして、ガラスのか
わりに多孔質の高絶縁性、高熱伝導性の材料を用
いることも効果的であり、本発明の範囲に含まれ
る。このように、2重管で構成された放電管1の
両端には、電極をも兼ねたフランジ13が0リン
グあるいは接着剤等により固定される。フランジ
13にはガス供給システムの高圧部Aより送られ
るレーザ媒質ガス11を放電管1内へ導入するた
めのガス導入口14、および放電管1内へ拡散し
たガス11を管外へ放出するためのガス排気口1
2、および光学ミラー15,18ならびに電極端
子16が設けられる。
(1) When the gas outlets 10 made of micro holes are provided evenly over the entire surface of the wall of the inner tube 1b; (2) When the gas outlets 10 are provided evenly on the wall of the inner tube 1b;
(3) When the gas jet ports 10 are provided irregularly on the pipe wall (4) In (1) to (3) above, In the case where the gas outlet 10 is provided at a certain angle with respect to the normal line on the inner wall of the tube, the inner tube 1b of the discharge tube 1 may be made of a porous highly insulating and highly thermally conductive material instead of glass. It is also effective and within the scope of the present invention. In this way, the flanges 13, which also serve as electrodes, are fixed to both ends of the discharge tube 1 constructed of a double tube with an O-ring or an adhesive. The flange 13 has a gas inlet 14 for introducing the laser medium gas 11 sent from the high-pressure part A of the gas supply system into the discharge tube 1, and a gas inlet 14 for discharging the gas 11 diffused into the discharge tube 1 to the outside of the tube. gas exhaust port 1
2, optical mirrors 15 and 18, and an electrode terminal 16 are provided.

またこの場合、前記の2重管より構成される放
電管1の外側に、さらに外套管(図示せず)を設
け、外管1aと外套管の間に水を流してやること
により放電管の水冷を併用することも可能であ
る。
In this case, an outer tube (not shown) is further provided outside the discharge tube 1 composed of the double tube, and water is allowed to cool the discharge tube by flowing water between the outer tube 1a and the outer tube. It is also possible to use them together.

ガス供給システム内の加圧器6で高圧に加圧圧
縮されたレーザ媒質ガス11は熱交換器9により
一旦冷却された後、フランジ13に設けられたガ
ス導入口14を通り、放電管1内へ導入される。
すなわち、放電管1内へ導入されるレーザ媒質ガ
ス11は、放電管1の両端部に設けられたガス導
入口14から外管1aと内管1bとの間隙部に流
れ込み、前記間隙部で高圧を保つ。この際重要な
ことは、2重管間隙部内の圧力が十分に高く(普
通は7Kg/cm2前後が望ましい)に保たれることで
あり、またガス噴出口10の断面積は、これによ
つて圧力が減少しない程度の寸法に選ばれている
ことである。そうでないと、気体膨張によるガス
冷却効果が小さくなり、実用上十分な冷却が達成
されなくなる。
The laser medium gas 11 compressed to a high pressure by the pressurizer 6 in the gas supply system is once cooled by the heat exchanger 9, and then passes through the gas inlet 14 provided in the flange 13 and enters the discharge tube 1. be introduced.
That is, the laser medium gas 11 introduced into the discharge tube 1 flows into the gap between the outer tube 1a and the inner tube 1b from the gas introduction ports 14 provided at both ends of the discharge tube 1, and is brought to a high pressure in the gap. keep it. What is important at this time is that the pressure within the double pipe gap is kept sufficiently high (normally around 7 kg/ cm2 is desirable), and the cross-sectional area of the gas outlet 10 is determined accordingly. The dimensions must be selected so that the pressure will not decrease. Otherwise, the gas cooling effect due to gas expansion will be reduced, and practically sufficient cooling will not be achieved.

内管1bの管壁上には前述したガス噴出口10
が設けられているので、レーザ媒質ガス11は前
記ガス噴出口10より内管1b内へ流入する。一
方、内管1bはガス排気口12を通してガス供給
システム内の真空ポンプ2で吸引されているの
で、その内部圧力は十分低く、内管1b内へ流入
したレーザ媒質ガス11は管内へ瞬時に拡散す
る。管内へ噴出されたCO2ガス11は、前述した
ように気体膨張に伴う冷却効果によりマイナス数
十度まで温度が低下する。
The above-mentioned gas outlet 10 is provided on the wall of the inner tube 1b.
is provided, so that the laser medium gas 11 flows into the inner tube 1b from the gas outlet 10. On the other hand, since the inner tube 1b is suctioned by the vacuum pump 2 in the gas supply system through the gas exhaust port 12, its internal pressure is sufficiently low, and the laser medium gas 11 flowing into the inner tube 1b instantly diffuses into the tube. do. As described above, the temperature of the CO 2 gas 11 ejected into the pipe decreases to several tens of degrees below zero due to the cooling effect accompanying gas expansion.

放電管1内へのガス導入に際して、内管1bの
壁面に前記(1)〜(4)の態様で設けられた多数のガス
噴出口10からは放電管1の中心軸と直交または
斜交する方向に媒質ガス11が噴出させられると
共に冷却される。このように、各ガス噴出口周辺
において気体膨張によつて、低温化されたガスが
放電管1の中心部に向かつて流れたり、乱流を生
じたりする。
When introducing gas into the discharge tube 1, a large number of gas jet ports 10 provided on the wall surface of the inner tube 1b in the manners (1) to (4) above emit gas at right angles or obliquely to the central axis of the discharge tube 1. The medium gas 11 is ejected in the direction and is cooled. In this manner, due to the gas expansion around each gas outlet, the cooled gas flows toward the center of the discharge tube 1 and creates turbulent flow.

従つて、放電によりレーザ媒質ガス11が温め
られて拡散してきた低レベルのCO2分子は、低温
(基底レベル)の中性CO2分子との衝突によつて
熱交換を行なう。これによつて、前記拡散冷却法
の欠点である放電管1の中心部のガス温の冷却不
備が改善され、一層の冷却効果を生じるものであ
る。したがつて、真空ポンプの排気速度を上げな
くても、すなわち、より小さい真空ポンプで、従
来の高速対流冷却に近い冷却効果を得ることが容
易である。
Therefore, the low-level CO 2 molecules that have been diffused as the laser medium gas 11 is warmed by the discharge exchange heat by colliding with low-temperature (ground level) neutral CO 2 molecules. As a result, the deficiency in cooling the gas temperature at the center of the discharge tube 1, which is a drawback of the diffusion cooling method, is improved, and a further cooling effect is produced. Therefore, it is easy to obtain a cooling effect close to that of conventional high-speed convection cooling without increasing the pumping speed of the vacuum pump, that is, with a smaller vacuum pump.

冷却されたレーザ媒質ガス11は管内をガス排
気口12に向つて流れている間に電気励起による
レーザ過程であたためられるが、「100」レベルに
分布する分子数が十分増大しないうちにガス排気
口12から管外へ排出される。
The cooled laser medium gas 11 is heated by a laser process due to electrical excitation while flowing through the tube toward the gas exhaust port 12, but the gas exhaust port is heated before the number of molecules distributed at the "100" level increases sufficiently. 12 to the outside of the tube.

本発明による冷却方式を採用した共振器は前述
したように放電管内へ高圧の媒質ガスを噴出し、
気体膨張に伴う冷却効果を利用して媒質ガスの冷
却を有効に行うものである。前述の実施例におい
て、放電管の壁面に設ける微小穴についていくつ
かの態様を示したが、そのいずれの方式において
も従来の間接拡散冷却法に比べ、放電管の単位長
あたり数倍の出力増加が得られる。
As mentioned above, the resonator employing the cooling method according to the present invention ejects high-pressure medium gas into the discharge tube,
The cooling effect associated with gas expansion is used to effectively cool the medium gas. In the above-mentioned embodiments, several modes of microholes formed in the wall of the discharge tube were shown, but in all of them, the output per unit length of the discharge tube was increased several times compared to the conventional indirect diffusion cooling method. is obtained.

すなわち、前記内管1b内に流入する過程で、
噴出ガスは対向する内管壁において反射し、相互
に乱流を発生せしめ、かつ、ガスが冷却されて放
出されるために、前述した低レベルのCO2分子数
の増加を抑えてレーザ発振出力の増加をもたらす
ものである。
That is, in the process of flowing into the inner tube 1b,
The ejected gas is reflected on the opposing inner tube walls, causing mutual turbulence, and the gas is cooled and released, suppressing the increase in the number of low-level CO 2 molecules mentioned above and increasing the laser oscillation output. This results in an increase in

第4図は、本発明に適したガスレーザ共振器の
他の具体例の断面概略図であり、放電管1内へ導
入される高圧の媒質ガス11が局所的に設けられ
たガス噴出口10から管内へ導入される場合につ
いて示したものである。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of another specific example of a gas laser resonator suitable for the present invention, in which a high-pressure medium gas 11 is introduced into the discharge tube 1 from a locally provided gas jet port 10. This figure shows the case where it is introduced into a pipe.

この具体例においては、放電管1は高熱伝導
性・高絶縁性(例えばBeO(ベリリヤ)等)の管
体で構成され、その両端にはフランジ13が固定
される。前記フランジ13は、第3図の場合と同
様に電極をも兼ねており、電極端子16、光学ミ
ラー15,18、ガス導入口14あるいはガス排
気口12等が設けられる。
In this specific example, the discharge tube 1 is composed of a tube body having high thermal conductivity and high insulation properties (for example, BeO (beryria), etc.), and flanges 13 are fixed to both ends of the tube body. The flange 13 also serves as an electrode as in the case of FIG. 3, and is provided with an electrode terminal 16, optical mirrors 15, 18, a gas inlet 14, a gas exhaust port 12, etc.

この場合、第5図に示すフランジ13の断面図
からも明らかなように、ガス導入口14から放電
管1内へ噴出される媒質ガス11が、管内壁の法
線に対してある角度をもつように、前記導入口1
4が位置決め、穿設されるのが望ましい。このよ
うな構成にすれば、噴出ガス相互間の干渉も加わ
つて、より著しいガスの乱流を生じさせることが
でき、熱交換特性の改善、放電の均一化、出力の
増大の面でより一層の効果がある。
In this case, as is clear from the cross-sectional view of the flange 13 shown in FIG. As such, the inlet 1
4 is preferably positioned and drilled. With this configuration, interference between the ejected gases is also added, making it possible to generate more significant gas turbulence, which is even more effective in terms of improving heat exchange characteristics, making the discharge more uniform, and increasing the output. There is an effect.

なお、第4,5図の共振器の変形例として、 (1) 放電管1の中央部に複数個のガス噴出口を、
前述と同様にして穿設し、管内へ噴出されたガ
スを拡散させながら、放電管の両端に設けたガ
ス排気口から排出する。
As a modification of the resonator shown in FIGS. 4 and 5, (1) a plurality of gas jet ports are provided in the center of the discharge tube 1;
The tube is drilled in the same manner as described above, and the gas ejected into the tube is diffused and discharged from the gas exhaust ports provided at both ends of the discharge tube.

(2) これとは逆に、放電管の両端部に複数個のガ
ス噴出口を設け、管中央部に排気口を設ける。
(2) On the contrary, multiple gas outlets are provided at both ends of the discharge tube, and an exhaust port is provided in the center of the tube.

(3) ガスの噴出口と排気口を放電管の軸方向管壁
にそつて適宜に分散させる。
(3) Distribute the gas jet ports and exhaust ports appropriately along the axial tube wall of the discharge tube.

このような変形例では、噴出されたガスが排気
されるまでに管内を拡散し、移動する距離が短か
く、その時間も短かいので、媒質ガスの温度上昇
が少なくて済むという利点がある。
Such a modification has the advantage that the ejected gas diffuses within the pipe and travels a short distance and time before being exhausted, so that the temperature rise of the medium gas is small.

以上、詳細に述べてきたように本発明はレーザ
媒質ガスの冷却方式として、ガス噴出口を通して
管内へ流入するガスの気体膨張に伴う冷却効果を
巧みに利用したものであり、前記冷却方式を実用
化する手段として、低圧部、中圧部、高圧部より
成るガス供給システムを具備していることを特徴
としている。既述したようにガス供給システムに
触媒、オイルトラツプ用フイルタを配備し、媒質
用CO2ガスをシステム内で循環させるリサイクル
システムを採用した場合には、装置の稼動にあた
つて運転コストの軽減に寄与することができる。
また、前記システム内のレーザ媒質ガスの循環に
は、高圧発生用の加圧器と真空発生用のポンプと
を個別に設けているので、各々に小型の装置を用
いたとしても高い循環効率が得られ、装置全体と
しての小型化が達成されるものである。
As described above in detail, the present invention skillfully utilizes the cooling effect associated with the gas expansion of the gas flowing into the tube through the gas jet port as a cooling method for the laser medium gas, and the above cooling method is put to practical use. The system is characterized in that it is equipped with a gas supply system consisting of a low pressure section, an intermediate pressure section, and a high pressure section. As mentioned above, if a recycling system is adopted in which the gas supply system is equipped with a catalyst and an oil trap filter, and the medium CO 2 gas is circulated within the system, operating costs can be reduced when operating the equipment. can contribute.
Furthermore, for the circulation of the laser medium gas within the system, a pressurizer for generating high pressure and a pump for generating vacuum are separately provided, so even if small devices are used for each, high circulation efficiency can be achieved. This makes it possible to achieve miniaturization of the entire device.

また、本発明のガス供給システムにおいて、シ
ステム内を流れる媒質用ガスは、その循環過程に
おいて熱交換器、リザーバー、触媒等を通過する
ことにより加圧器から発生する圧力の脈動が緩和
され、放電管内へのガス導入の前の段階でのガス
圧を一定にさせられる。このことによりガス噴出
口より管内に噴射されるCO2ガスは常に安定した
状態が保たれる。
In addition, in the gas supply system of the present invention, the medium gas flowing in the system passes through a heat exchanger, a reservoir, a catalyst, etc. during the circulation process, so that the pressure pulsations generated from the pressurizer are alleviated, and the medium gas flows inside the discharge tube. The gas pressure can be kept constant before the gas is introduced into the tank. As a result, the CO 2 gas injected into the pipe from the gas outlet is always kept in a stable state.

本発明の特徴を列記すれば、次のように要約さ
れる。
The features of the present invention can be summarized as follows.

(1) レーザ発振用電源は従来の拡散冷却法と同等
の仕様のものが使用できる。
(1) A laser oscillation power supply with specifications equivalent to those of the conventional diffusion cooling method can be used.

(2) 放電管内におけるレーザガス媒質の流速は全
体としてみれば真空ポンプの排気速度、および
排気系のコンダクタンスで決められるが、放電
管の断面半径方向でみれば、気体膨張に伴うガ
ス冷却効果と同時に高速のガス流出速度を有す
るため、対流冷却法に類似した効果を有する。
(2) The flow velocity of the laser gas medium in the discharge tube is determined by the pumping speed of the vacuum pump and the conductance of the pumping system as a whole, but when viewed in the radial direction of the discharge tube's cross section, it is determined by the gas cooling effect due to gas expansion. Since it has a high gas outflow rate, it has an effect similar to convection cooling method.

(3) レーザ媒質ガス圧力を一たん高圧力に高める
ことによつて、レーザ放電管内へのガス噴出口
における気体膨張による冷却という物理的手法
によるガス冷却法を採用したので、 (4) ガス噴出口の形状を工夫することによつて、
圧力差を大きくし、ガス流出速度を一層増加さ
せることができる。
(3) By increasing the laser medium gas pressure to a high pressure, we adopted a physical gas cooling method in which the gas is expanded at the gas injection port into the laser discharge tube. (4) The gas injection By devising the shape of the exit,
The pressure difference can be increased and the gas outflow rate can be further increased.

以上、詳細に述べてきたように、本発明によれ
ばレーザシステムを小型に保ち、かつレーザ発振
出力を数倍(5倍程度)に増加させることができ
る。このことは多方面にわたるレーザの応用に寄
与し産業の発展に貢献するものである。
As described above in detail, according to the present invention, the laser system can be kept small and the laser oscillation output can be increased several times (about five times). This will contribute to the application of lasers in many fields and to the development of industry.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図はそれぞれ本発明の実施例
の概略系統図、第3図および第4図はそれぞれ本
発明に好適なガスレーザ共振器の縦断面図、第5
図は第4図の−線断面図である。 1……放電管、2……真空ポンプ、3……媒質
ガスボンベ、6……加圧器、9……熱交換器、1
1……媒質ガス、12……ガス排気口、13……
フランジ、14……ガス導入口。
1 and 2 are schematic system diagrams of embodiments of the present invention, FIGS. 3 and 4 are longitudinal sectional views of gas laser resonators suitable for the present invention, and FIG.
The figure is a sectional view taken along the - line in FIG. 4. 1... Discharge tube, 2... Vacuum pump, 3... Medium gas cylinder, 6... Pressurizer, 9... Heat exchanger, 1
1...Medium gas, 12...Gas exhaust port, 13...
Flange, 14...Gas inlet.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 レーザ放電管と、その両端に配設された光学
ミラーと、前記放電管内へレーザ媒質ガスを導入
し、かつ排出するガス供給システムとを具備し、 前記ガス供給システムが、レーザ媒質ガス加圧
器、レーザ媒質ガス冷却のための熱交換器、レー
ザ放電管へのレーザ媒質ガスの導入部、レーザ放
電管からのレーザ媒質ガスの排気部および排気ポ
ンプを具備し、 前記レーザ放電管は2重管であつて、内管には
複数の小穴より成るガス導入部が形成され、内管
および外管の間の空間には、高圧力に高められた
レーザ媒質ガスが供給されると共に、 前記レーザ媒質ガスが放電管内へ導入される際
に、気体膨張に伴うレーザ媒質ガスの冷却を生じ
させるように構成されたことを特徴とするレーザ
発振装置。 2 さらに、外管を覆う外套管を具備し、外管と
外套管との間の空間に冷媒が供給されることを特
徴とする前記特許請求の範囲第1項記載のレーザ
発振装置。 3 内管に形成された小穴が管壁全面に設けられ
たことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載のレーザ発振装置。 4 内管に形成された小穴が規則性を有するよう
に配置されたことを特徴とする前記特許請求の範
囲第1項または第2項記載のレーザ発振装置。 5 内管に形成された小穴が不規則に配置された
ことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項また
は第2項記載のレーザ発振装置。 6 内管に形成された小穴の少なくとも1部が、
内管の管壁内面の法線と一致しない向きに開口し
ていることを特徴とする前記特許請求の範囲第1
項ないし第5項のいずれかに記載のレーザ発振装
置。 7 前記内管が多孔質、高絶縁性、高熱伝導性の
材料で構成されたことを特徴とする前記特許請求
の範囲第1項または第2項に記載のレーザ発振装
置。 8 前記放電管内へのレーザ媒質ガスの導入部が
複数のガス噴出口であることを特徴とする前記特
許請求の範囲第1項記載のレーザ発振装置。 9 前記複数のガス噴出口が放電管の一端に配設
され、排出口がその反対端に設けられたことを特
徴とする前記特許請求の範囲第8項記載のレーザ
発振装置。 10 前記放電管内へのレーザ媒質ガスの導入部
が、前記放電管の両端部に配設された複数のガス
噴出口であり、排出口が放電管の中央部に設けら
れたことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項
記載のレーザ発振装置。 11 前記放電管内へのレーザ媒質ガスの導入部
が管中央部に設けられた複数のガス噴出口であ
り、排出口が放電管の両端部に設けられたことを
特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載のレー
ザ発振装置。 12 前記ガス噴出口と排出口とが前記放電管の
軸方向にそつて分散配設されたことを特徴とする
前記特許請求の範囲第8項記載のレーザ発振装
置。
[Claims] 1. A laser discharge tube, optical mirrors disposed at both ends thereof, and a gas supply system for introducing and discharging a laser medium gas into the discharge tube, the gas supply system comprising: , a laser medium gas pressurizer, a heat exchanger for cooling the laser medium gas, an introduction section for introducing the laser medium gas into the laser discharge tube, an exhaust section for the laser medium gas from the laser discharge tube, and an exhaust pump, The discharge tube is a double tube, and the inner tube is formed with a gas introduction part consisting of a plurality of small holes, and the space between the inner tube and the outer tube is supplied with laser medium gas at a high pressure. A laser oscillation device characterized in that the laser medium gas is configured to cool the laser medium gas as the gas expands when the laser medium gas is introduced into the discharge tube. 2. The laser oscillation device according to claim 1, further comprising an outer tube that covers the outer tube, and a coolant is supplied to a space between the outer tube and the outer tube. 3. The laser oscillation device according to claim 1 or 2, wherein the small hole formed in the inner tube is provided on the entire surface of the tube wall. 4. The laser oscillation device according to claim 1 or 2, wherein the small holes formed in the inner tube are arranged with regularity. 5. The laser oscillation device according to claim 1 or 2, wherein the small holes formed in the inner tube are arranged irregularly. 6 At least a portion of the small hole formed in the inner tube,
Claim 1, characterized in that the inner tube is opened in a direction that does not coincide with the normal to the inner surface of the tube wall.
6. The laser oscillation device according to any one of Items 5 to 5. 7. The laser oscillation device according to claim 1 or 2, wherein the inner tube is made of a porous, highly insulating, and highly thermally conductive material. 8. The laser oscillation device according to claim 1, wherein the introduction portion of the laser medium gas into the discharge tube is a plurality of gas jet ports. 9. The laser oscillation device according to claim 8, wherein the plurality of gas jet ports are provided at one end of the discharge tube, and the discharge port is provided at the opposite end. 10. The introduction part of the laser medium gas into the discharge tube is a plurality of gas jet ports arranged at both ends of the discharge tube, and the discharge port is provided at the center of the discharge tube. A laser oscillation device according to claim 1. 11. The scope of the above claims, characterized in that the introduction part of the laser medium gas into the discharge tube is a plurality of gas jet ports provided at the center of the tube, and the discharge ports are provided at both ends of the discharge tube. The laser oscillation device according to item 1. 12. The laser oscillation device according to claim 8, wherein the gas ejection port and the discharge port are distributed in an axial direction of the discharge tube.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57188892A (en) * 1981-05-18 1982-11-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Coaxial carbon dioxide laser oscillator
JPS5896788A (en) * 1981-12-03 1983-06-08 Toshiba Corp Lateral flow type gas laser device
JPS58182888A (en) * 1982-04-20 1983-10-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd laser oscillator
JPS5956782A (en) * 1982-09-25 1984-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd gas laser equipment
US4622675A (en) * 1983-07-29 1986-11-11 P.R.C., Ltd. Forced transport molecular gas laser and method
JPS60147181A (en) * 1984-01-10 1985-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laser oscillator
FR2573931B1 (en) * 1984-11-29 1987-01-02 Comp Generale Electricite GAS FLOW LASER GENERATOR AND METHOD FOR OPERATING THE SAME
AU592859B2 (en) * 1986-02-18 1990-01-25 Metalaser Pty. Ltd. Cold electrode metal vapour laser
JPS62295473A (en) * 1986-06-16 1987-12-22 Tanaka Seisakusho:Kk Gas flow type laser oscillator
DE19927788C2 (en) * 1999-06-18 2003-03-06 Forschungszentrum Juelich Gmbh Polarizer for the polarization of an inert gas

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5546071B2 (en) * 1972-05-18 1980-11-21
JPS5286289A (en) * 1976-01-12 1977-07-18 Mochida Pharm Co Ltd Forced oil cooled laser device

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