JPH0150340B2 - - Google Patents
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- JPH0150340B2 JPH0150340B2 JP58155072A JP15507283A JPH0150340B2 JP H0150340 B2 JPH0150340 B2 JP H0150340B2 JP 58155072 A JP58155072 A JP 58155072A JP 15507283 A JP15507283 A JP 15507283A JP H0150340 B2 JPH0150340 B2 JP H0150340B2
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- parts
- alkyl group
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Description
本発明は、耐熱性および耐候性に優れた性能を
有するポリエーテルエステルアミド樹脂組成物に
関する。
ポリマー主鎖中にポリアミド繰返し単位、ポリ
エーテル繰返し単位およびエステル結合を有する
ポリエーテルエステルアミドは公知であり、ポリ
エーテルエステルあるいはポリエステルアミド同
様、すぐれた耐衝撃性やゴム弾性を有するためエ
ラストマー分野における新しい素材として近年注
目されている。
とりわけ、ポリエーテルエステルアミドは軽量
性、透明性、低温耐衝撃性にすぐれ、また成形時
にバリ、ヒケ等が生じにくいため各種成型用途に
有望である。しかしポリエーテルエステルアミド
はきわめて酸化劣化を受けやすく、重合度の低下
に伴つて機械的性質の低下、表面の亀裂発生、着
色などの好ましくない現象を起こす。特にこの酸
化劣化は熱や光などによつて促進され、屋外曝露
や高温雰囲気下ではその使用は制限を受けてい
る。従つてこれらの劣化現象を防止する目的でポ
リエーテルエステルアミドに種々の安定剤を添加
することが検討されている。しかるにポリエーテ
ルエステルアミドの安定化に関しては知見も少な
く、効果的に満足できるものはなかつた。本発明
者らはこれらの点に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、ポリエーテルエステルアミドに対し安定剤と
して特定の化合物群を添加することによつて、従
来得ることのできなかつた耐熱性および耐候性と
もに極めて優れたポリエーテルエステルアミド樹
脂組成物が得られることを見出し本発明に到達し
た。
すなわち本発明は、ポリエーテルエステルアミ
ド(A)100重量部に対し下記一般式(B)で示されるヒ
ンダードフエノール系ラジカル捕捉剤を0.05〜5
重量部、下記一般式(C),(D)あるいは(E)で示される
ホスフアイト系化合物を0.05〜5重量部、および
下記一般式(F)で示されるヒンダードアミン系光安
定剤を0.05〜5重量部の各割合添加してなるポリ
アミドエラストマ組成物に関するものである。
(ただしR1は炭素数1〜18のアルキル基であ
り、R1′はR1と同様のアルキル基であつてR1と同
一であつてもよい。R2は単結合、炭素数1〜18
の炭化水素基あるいは分子鎖中に−COO−、
CONH−,
The present invention relates to a polyetheresteramide resin composition having excellent heat resistance and weather resistance. Polyether ester amide, which has polyamide repeating units, polyether repeating units, and ester bonds in the polymer main chain, is well known, and like polyether ester or polyester amide, it has excellent impact resistance and rubber elasticity, so it is a new product in the elastomer field. It has been attracting attention as a material in recent years. In particular, polyether ester amide has excellent lightness, transparency, and low-temperature impact resistance, and is less likely to cause burrs, sink marks, etc. during molding, so it is promising for various molding applications. However, polyetheresteramide is extremely susceptible to oxidative deterioration, and as the degree of polymerization decreases, undesirable phenomena such as a decrease in mechanical properties, surface cracking, and coloration occur. In particular, this oxidative deterioration is accelerated by heat, light, etc., and its use is restricted when exposed outdoors or in a high-temperature atmosphere. Therefore, in order to prevent these deterioration phenomena, it has been considered to add various stabilizers to polyetheresteramide. However, there is little knowledge regarding the stabilization of polyether esteramides, and none has been found to be effective and satisfactory. In view of these points, the inventors of the present invention have conducted intensive studies and found that by adding a specific group of compounds as stabilizers to polyether esteramide, heat resistance and weather resistance that could not be obtained conventionally were achieved. The inventors have discovered that a polyether ester amide resin composition having extremely excellent properties can be obtained, and have thus arrived at the present invention. That is, in the present invention, 0.05 to 5 parts of the hindered phenol radical scavenger represented by the following general formula (B) is added to 100 parts by weight of the polyether ester amide (A).
parts by weight, 0.05 to 5 parts by weight of a phosphite compound represented by the following general formula (C), (D) or (E), and 0.05 to 5 parts by weight of a hindered amine light stabilizer represented by the following general formula (F). The present invention relates to a polyamide elastomer composition prepared by adding each part of the polyamide elastomer composition. (However, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 1 ' is the same alkyl group as R 1 and may be the same as R 1. R 2 is a single bond, and 18
-COO-, in the hydrocarbon group or molecular chain of
CONH−,
【式】結合のいずれかを有す
る炭素数1〜18の炭化水素基であり、XはC,
S、炭素数1〜18の炭化水素基あるいは
[Formula] A hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and having any of the bonds, X is C,
S, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or
【式】を示す。lは1〜4の整数であ
る。)
(ただしR3,R3′,R3″は炭素数1〜18の炭化
水素基、あるいは分子鎖中に−COO−,−CONH
−結合を有する炭素数1〜23の炭化水素基を示
し、それぞれ同一であつても異なつていてもよ
い。mは1〜4の整数である。)
(ただしR4は水素原子あるいは炭素数1〜12
のアルキル基、R5は炭素数1〜6の直鎖もしく
は枝分れアルキル基であり、R5′はR5と同様のア
ルキル基であつてそれぞれ同一であつても異なつ
ていてもよい。Yは−O−あるいは[Formula] is shown. l is an integer from 1 to 4. ) (However, R 3 , R 3 ′, R 3 ″ are hydrocarbon groups with 1 to 18 carbon atoms, or -COO-, -CONH in the molecular chain)
- represents a hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms and may be the same or different. m is an integer from 1 to 4. ) (However, R 4 is a hydrogen atom or has 1 to 12 carbon atoms.
an alkyl group, R 5 is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 ' is the same alkyl group as R 5 and may be the same or different. . Y is -O- or
【式】であ
り、R6は水酸基で置換されていてもよい炭素数
1〜23の炭化水素基、あるいは−S−、
[Formula], R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, or -S-,
【式】のいずれかを有する炭素数1〜
18の炭化水素基を示す。nは1〜4の整数であ
る。)
前記ポリエーテルエステルアミド組成物に、さ
らに下記一般式(G)あるいは(H)で示される紫外線吸
収剤を前記同様の割合をもつて添加したものは、
なお一層卓抜した耐熱性と耐候性を有した組成物
となる。
(ただしR7は炭素数1〜18のアルキル基を示
し、R8は水素原子あるいはR7と同様のアルキル
基であり、R7と同一であつてもよい。Zはハロ
ゲン原子であり、pは0あるいは1である。)
以下、具体的に本発明の組成物について述べ
る。
本発明におけるポリエーテルエステルアミド(A)
とは、ポリアミド単位とポリエーテルエステル単
位とから構成され、分子鎖中にアミド結合、エー
テル結合、およびエステル結合を有する重合体で
ある。
ポリアミド単位はアミノカルボン酸、ラクタ
ム、ジカルボン酸とジアミンとの塩、あるいはジ
カルボン酸とジイソシアネートの組合わせなどか
ら誘導される。
ポリエーテルエステル単位は数平均分子量300
〜6000のポリ(アルキレンオキシド)グリコール
および炭素数4〜20のジカルボン酸から導かれ
る。ポリアミド単位とポリエーテルエステル単位
の共重合比率は重量比で大よそ5対90から95対10
である。
ポリエーテルエステルアミド(A)の重合方法は特
に限定されず公知の方法を利用することができ
る。たとえば、アミノカルボン酸、ラクタムまた
はジカルボン酸−ジアミンの塩(a)とジカルボン酸
(c)を約等モル比で反応させて両末端がカルボン酸
基のポリアミドプレポリマーをつくり、これにポ
リ(アルキレンオキシド)グリコール(b)を真空下
に反応させる方法、あるいは上記(a),(b),(c)の化
合物を反応槽に仕込み、水の存在下または非存在
下に高温で加圧反応させることによりカルボン酸
末端のポリアミドプレポリマーを生成させ、その
後、常圧または減圧下で重合を進める方法が知ら
れている。また、上記(a),(b),(c)の化合物を同時
に反応槽に仕込み溶融混合したのち高真空下で一
挙に重合をすすめる方法もあり、むしろこの方法
がポリマーの着色も少なく好ましい。
またポリ(アルキレンオキシド)グリコールに
約2倍モルのジカルボン酸を反応させて両末端が
カルボン酸基のプレポリマーをつくり、これとジ
カルボン酸およびジイソシアネートを不活性溶媒
中で反応させる溶液重合法によつてもよい。
本発明の組成物を構成する他の一成分であるヒ
ンダードフエノール系ラジカル捕捉剤(B)の例とし
ては、2,6−ジ第3ブチル−p−クレゾール、
2,5−ジ第3ブチル−4−エチルフエノール、
2,2′−メチレン−ビス−4−メチル−6−第3
ブチルフエノール、2,2′−メチレン−ビス(4
−エチル−6−第3ブチルフエノール)、4,
4′−メチレン−ビス(2,6−ジ第3ブチルフエ
ノール)、4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチ
ル−6−第3ブチルフエノール)、4,4′−チオ
ビス(6−第3ブチル−3−メチルフエノール)、
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3ブ
チルベンジル)スルフイド、4,4′−チオビス
(6−第3ブチル−o−クレゾール)2,2′−チ
オビス(4−メチル−6−第3ブチルフエノー
ル)、3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホン酸のジエチルエステル、n−オ
クタデシル−3(3′,5′−ジ第3ブチル−4′−ヒド
ロキシフエニル)プロピオネート、ヘキサメチレ
ングリコール−ビス〔β−(3,5−ジ第3ブチ
ル−4−ヒドロキシフエノール)プロピオネー
ト〕、N,N′−ヘキサメチレン−ビス(3,5−
ジ第3ブチル−4−ヒドロキシヒドロ桂皮酸アミ
ド)、2,2′−チオ〔ジエチル−ビス−3(3,5
−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロ
ピオネート〕、3,5−ジ第3ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸のジオクタデシルエス
テル、テトラキス〔メチレン−3(3,5−ジ第
3ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネ
ート〕メタン、1,3,5−トリメチル−2,
4,6−トリス(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、トリス(3,5−
ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフエニル)イソシ
アヌレート、トリス〔β−(3,5−ジ第3ブチ
ル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオニル−オ
キシエチル〕イソシアヌレートなどが挙げられる
が、このうち分子量が500以上のものが高温雰囲
気下で揮散しにくいためより大きな効果が得られ
好ましい。
これらのヒンダードフエノール系ラジカル捕捉
剤の中でも特にN,N′−ヘキサメチレン−ビス
(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
桂皮酸アミド)の使用が好適である。
また、本発明の組成物を構成する他の一成分で
あるホスフアイト系化合物は前記一般式(C),(D)あ
るいは(E)で示される。
一般式(C)で示される化合物の例としてはトリラ
ウリルホスフアイト、トリイソオクチルホスフア
イト、トリオレイルホスフアイト、トリフエニル
ホスフアイト、トリオクタデシルホスフアイト、
トリイソデシルホスフアイト、トリノルマルブチ
ルホスフアイト、トリス−2−エチルヘキシル−
ホスフアイト、トリステアリルホスフアイト、ト
リス−2,4−ジ第3ブチルフエニル−ホスフア
イト、トリストリデシルホスフアイト、トリス−
4−フエニルフエノール−ホスフアイト、トリス
ノニルフエニルホスフアイト、フエニルジイソデ
シルホスフアイト、フエニルジオクチルホスフア
イト、ジフエニルノニルフエニルホスフアイト、
ジフエニルイソデシルホスフアイト、ジフエニル
イソオクチルホスフアイト、ジフエニルデシルホ
スフアイト、ジフエニルトリデシルホスフアイト
などが挙げられるが、なかでも特にトリス−2,
4−ジ第3ブチルフエニル−ホスフアイトの使用
が好適である。
一般式(D)で示される化合物の例としてはテトラ
フエニルジプロピレングリコールジホスフアイ
ト、テトララウリルビスフエノールAジホスフア
イト、テトラトリデシルビスフエノールAジホス
フアイト、テトラフエニルテトラトリデシルペン
タエリスリトールテトラホスフアイトなどが挙げ
られる。中でもテトララウリルビスフエノールA
ジホスフアイトが好ましい。
一般式(E)で示される化合物の例としてはジイン
デシルペンタエリスリトールジホスフアイト、ジ
ラウリルペンタエリスリトールジホスフアイト、
ジステアリルペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、ジノニルフエニルペンタエリスリトールジホ
スフアイトなどが挙げられる。中でもジノニルフ
エニルペンタエリスリトールジホスフアイトが好
ましい。
さらに本発明の組成物を構成する他の一成分で
あるヒンダードアミン系光安定剤は前記一般式(F)
で示される。
一般式(F)で示される化合物の例としては、4−
ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジニル)アジペート、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)スベレート、ビス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジニル)セパケート、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)フタレート、ビス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジニル)イソフタレート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジニル)テレフタレート、ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバ
ケート、N,N′−ビス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジニル)アジパミド、ビス
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペ
リジニル)−n−ブチル(3,5−ジ第3ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペ
リジニルジベンジル)マロネート、ビス(1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニ
ル)ジエチルマロネート、ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジニル)ジベンジル
マロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル)ベンジルエチルマロネー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジニル)−n−ブチル(3,5−ジ第3ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ブ
タンテトラカルボン酸のテトラ(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジニル)エステルな
どが挙げられるがなかでも特にビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバ
ケートおよびブタンテトラカルボン酸のテトラ
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)エステルを好ましい化合物として挙げるこ
とができる。
前記ポリエーテルエステルアミド組成物に、さ
らに前記一般式(G)あるいは(H)で示される紫外線吸
収剤を前記同様の割合をもつて添加したものはな
お一層卓抜した耐熱性および耐候性を有する組成
物となる。
一般式(G)で示される化合物の例としは2(2′−
ヒドロキシ−3′,5′−ジ第3ブチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキシ−3′−第
3ブチル−5′−メチルフエニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキシ−3′,5′−
ジ第3ブチルフエニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、2(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ第3ア
ミルフエニル)ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒ
ドロキシ−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾ
ール、2(2′−ヒドロキシ−5′−テトラメチルブ
チル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。こ
れらの中でも2(2′−ヒドロキシ−3′−第3ブチ
ル−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾールが
好ましい。
一般式(H)で示される化合物の例としては2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフエノン、2−ヒ
ドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフエノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4′−クロロベン
ゾフエノン、2−ヒドロキシ−4−ドテシルオキ
シ−ベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4−n−
オクトキシベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4
−ステアリルオキシ−ベンゾフエノンなどが挙げ
られる。これらの中でも2−ヒドロキシ−4−n
−オクトキシベンゾフエノンが好ましい。これら
の紫外線吸収剤の中でも特に2(2′−ヒドロキシ
−3′−第3ブチル−5′−メチルフエニルベンゾト
リアゾールの使用が好適である。
これら各安定剤は、ポリエーテルエステルアミ
ド(A)100重量部に対して、それぞれ0.05〜5重量
部、好ましくは0.1〜2重量部の割合で使用され
る。各安定剤の添加量がこれより少ない場合には
効果が十分発現されず、添加量がこれより多い場
合には組成物の物性に悪い影響を与え、またブル
ーミングなどの好ましくない現象も呈するように
なる。
なお、本発明のポリエーテルエステルアミド(A)
を熱酸化劣化および光酸化劣化の両方において安
定な組成物とするためには、ポリエーテルエステ
ルアミド(A)に対し前記一般式(B)で示されるヒンダ
ードフエノール系ラジカル捕捉剤および前記一般
式(C),(D)あるいは(E)で示されるホスフアイト系化
合物および前記一般式(F)で示されるヒンダードア
ミン系安定剤の三者を添加する必要があり、これ
らの中のどれか一つでも欠けた場合には、本発明
の組成物と比較して耐熱性または耐候性があるい
はそのどちらもが大きく劣つた組成物しか得るこ
とができない。
またこれらの各安定剤をポリエーテルエステル
アミドに添加する方法は特に制限がなく、ポリエ
ーテルエステルアミドの重合中または重合後の任
意の時期に加えることができるが、特に好ましい
態様は重合後(成形前)に溶融混合する方法であ
る。
なお本発明の組成物の調整に際しては目的とす
る耐熱および耐候安定性を阻害しない限りにおい
て、他の一般的な添加剤、たとえば耐加水分解改
良剤、着色剤(顔料、染料)、帯電防止剤、導電
剤、結晶核剤、滑剤、充填剤、補強材、接着助
剤、可塑剤、離型剤、難燃剤などの添加剤を任意
に配合することができる。
以下実施例によつて本発明を説明する。
なお実施例中「部」または「%」で表示したも
のは、すべて重量比率で表わしたものである。ま
た本文中および例中に示す相対粘度はオルトクロ
ロフエノール中25℃、0.5濃度の条件で測定した
値であり、融点も特に断わらない限りDSC
(perkin Elmer DSC−1B)で測定される融解ピ
ーク温度である。
参考例
ポリマー(A−1)の重合
アミノドデカン酸65.5部、数平均分子量が680
のポリテトラメチレンオキシドグリコール33.6部
およびテレフタル酸8.2部を“イルガノツクス”
1098(酸化防止剤)0.20部およびテトラブチルチ
タネート触媒0.05部と共にヘリカルリボン撹拌翼
を備えた反応容器に仕込み、N2パージして240℃
で40分間加熱撹拌してほぼ透明な均質溶液とした
後、昇温および減圧プログラムに従つて270℃、
0.5mmHg以下の重合条件にもたらした。この条
件にて3時間50分間重合反応せしめた。
得られたポリエーテルエステルアミド(A−
1)の融点は166℃、相対粘度は1.65であつた。
ポリマー(A−2)の重合
アミノドデカン酸43.6部、数平均分子量が1000
のポリテトラメチレンオキシドグリコール53.1部
およびテレフタル酸8.8部を出発原料として実施
例1と同様の方法によつて4時間30分間重合反応
せしめてポリマー(A−2)を得た。得られたポ
リエーテルエステルアミド(A−2)の融点は
142℃、相対粘度1.79であつた。
安定剤
実施例において使用した安定剤の構造とその略
号は次のとおりである。Indicates a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and having any of the following formulas. n is an integer from 1 to 4. ) A UV absorber represented by the following general formula (G) or (H) is further added to the polyether ester amide composition in the same proportion as above,
Furthermore, the composition has even more outstanding heat resistance and weather resistance. (However, R 7 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, R 8 is a hydrogen atom or an alkyl group similar to R 7 , and may be the same as R 7. Z is a halogen atom, and p is 0 or 1.) The composition of the present invention will be specifically described below. Polyether ester amide (A) in the present invention
is a polymer composed of polyamide units and polyether ester units and having amide bonds, ether bonds, and ester bonds in the molecular chain. The polyamide units are derived from aminocarboxylic acids, lactams, salts of dicarboxylic acids and diamines, or combinations of dicarboxylic acids and diisocyanates. Polyether ester units have a number average molecular weight of 300
~6000 poly(alkylene oxide) glycol and a dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms. The copolymerization ratio of polyamide units and polyether ester units is approximately 5:90 to 95:10 by weight.
It is. The method for polymerizing polyether ester amide (A) is not particularly limited, and any known method can be used. For example, aminocarboxylic acids, lactams or dicarboxylic acid-diamine salts (a) and dicarboxylic acids
(c) is reacted in an approximately equimolar ratio to produce a polyamide prepolymer having carboxylic acid groups at both ends, and this is reacted with poly(alkylene oxide) glycol (b) under vacuum, or (a) above. The compounds (b) and (c) are charged into a reaction tank and reacted under pressure at high temperature in the presence or absence of water to produce a carboxylic acid-terminated polyamide prepolymer, and then under normal pressure or reduced pressure. A method of proceeding with polymerization is known. Alternatively, there is a method in which the compounds (a), (b), and (c) are simultaneously charged into a reaction tank, melt-mixed, and then polymerized all at once under high vacuum; this method is preferable since it causes less coloring of the polymer. In addition, a solution polymerization method is used in which poly(alkylene oxide) glycol is reacted with about twice the mole of dicarboxylic acid to create a prepolymer with carboxylic acid groups at both ends, and this is reacted with dicarboxylic acid and diisocyanate in an inert solvent. It's good to wear. Examples of the hindered phenol radical scavenger (B) which is another component constituting the composition of the present invention include 2,6-di-tert-butyl-p-cresol,
2,5-di-tert-butyl-4-ethylphenol,
2,2'-methylene-bis-4-methyl-6-tertiary
Butylphenol, 2,2'-methylene-bis(4
-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,
4'-methylene-bis(2,6-di-tert-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-thiobis(6-tert-butylphenol) butyl-3-methylphenol),
Bis(3-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylbenzyl) sulfide, 4,4'-thiobis(6-tert-butyl-o-cresol)2,2'-thiobis(4-methyl-6-tert-butylbenzyl) 3-butylphenol), diethyl ester of 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonic acid, n-octadecyl-3(3',5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate , hexamethylene glycol-bis[β-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenol)propionate], N,N'-hexamethylene-bis(3,5-
di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamic acid amide), 2,2'-thio[diethyl-bis-3(3,5
-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], dioctadecyl ester of 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonic acid, tetrakis[methylene-3(3,5-di-tert-butyl- 4-Hydroxyphenyl)propionate]methane, 1,3,5-trimethyl-2,
4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, tris(3,5-
Examples include di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) isocyanurate, tris[β-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl-oxyethyl] isocyanurate, among which the molecular weight is Those with a molecular weight of 500 or higher are preferred because they are less likely to volatilize in a high-temperature atmosphere and therefore provide greater effects. Among these hindered phenol radical scavengers, N,N'-hexamethylene-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamide) is particularly suitable for use. Further, the phosphite compound, which is another component constituting the composition of the present invention, is represented by the general formula (C), (D) or (E). Examples of the compound represented by the general formula (C) are trilauryl phosphite, triisooctyl phosphite, trioleylphosphite, triphenyl phosphite, triotadecyl phosphite,
Triisodecyl phosphite, tri-n-butyl phosphite, tris-2-ethylhexyl-
Phosphite, tristearyl phosphite, tris-2,4-di-tert-butylphenyl-phosphite, tris-tridecyl phosphite, tris-
4-phenylphenol phosphite, trisnonylphenyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, phenyldioctyl phosphite, diphenylnonylphenyl phosphite,
Examples include diphenylisodecylphosphite, diphenylisooctylphosphite, diphenyldecylphosphite, diphenyltridecylphosphite, among others, tris-2,
Preference is given to using 4-di-tert-butylphenyl phosphite. Examples of compounds represented by general formula (D) include tetraphenyldipropylene glycol diphosphite, tetralauryl bisphenol A diphosphite, tetratridecyl bisphenol A diphosphite, tetraphenyltetratridecyl pentaerythritol tetraphosphite, etc. can be mentioned. Among them, tetralauryl bisphenol A
Diphosphites are preferred. Examples of compounds represented by general formula (E) include diindecylpentaerythritol diphosphite, dilaurylpentaerythritol diphosphite,
Examples include distearyl pentaerythritol diphosphite and dinonyl phenyl pentaerythritol diphosphite. Among them, dinonylphenyl pentaerythritol diphosphite is preferred. Furthermore, the hindered amine light stabilizer which is another component constituting the composition of the present invention has the general formula (F).
It is indicated by. Examples of compounds represented by general formula (F) include 4-
Benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)adipate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) ) suberate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)sepacate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)phthalate, bis(2,2,6,6 -tetramethyl-4-piperidinyl) isophthalate,
Bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)terephthalate, bis(1,2,2,
6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)adipamide, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl- 4-piperidinyl)-n-butyl(3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyldibenzyl)malonate, bis( 1,
2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl)diethylmalonate, bis(2,2,6,6
-tetramethyl-4-piperidinyl)dibenzylmalonate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)benzylethylmalonate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-
piperidinyl)-n-butyl (3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate, butanetetracarboxylic acid tetra(2,2,6,6
-tetramethyl-4-piperidinyl) ester, among others, bis(2,2,
6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate and tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) ester of butanetetracarboxylic acid may be mentioned as preferred compounds. A composition in which an ultraviolet absorber represented by the general formula (G) or (H) is further added in the same ratio as above to the polyether ester amide composition has even more outstanding heat resistance and weather resistance. Become a thing. An example of a compound represented by the general formula (G) is 2(2'-
Hydroxy-3',5'-di-tert-butylphenyl)benzotriazole, 2(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2(2'-hydroxy-3 ′,5′−
ditertiary-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2(2'-hydroxy-3',5'-ditertiary-amylphenyl)benzotriazole, 2(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2( Examples include 2'-hydroxy-5'-tetramethylbutyl)benzotriazole. Among these, 2(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)benzotriazole is preferred. Examples of compounds represented by general formula (H) include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone,
2-Hydroxy-4-methoxy-4'-chlorobenzophenone, 2-hydroxy-4-dotesyloxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-
Octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4
-stearyloxy-benzophenone and the like. Among these, 2-hydroxy-4-n
-Octoxybenzophenone is preferred. Among these UV absorbers, it is particularly preferable to use 2(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenylbenzotriazole). Each stabilizer is used at a ratio of 0.05 to 5 parts by weight, preferably 0.1 to 2 parts by weight, per 100 parts by weight.If the amount of each stabilizer added is less than this, the effect will not be sufficiently expressed, and the amount added If the amount is more than this, the physical properties of the composition will be adversely affected, and undesirable phenomena such as blooming will also occur.
In order to make the composition stable against both thermal oxidative deterioration and photooxidative deterioration, it is necessary to use a hindered phenol radical scavenger represented by the above general formula (B) and a hindered phenol radical scavenger represented by the above general formula (B) for the polyether ester amide (A). It is necessary to add a phosphite compound represented by (C), (D) or (E) and a hindered amine stabilizer represented by the above general formula (F), and even if any one of these is If this is lacking, only a composition can be obtained which has significantly inferior heat resistance and/or weather resistance compared to the composition of the present invention. There is no particular restriction on the method of adding each of these stabilizers to the polyether ester amide, and they can be added at any time during or after the polymerization of the polyether ester amide, but a particularly preferred embodiment is after the polymerization (molding). This is a method of melting and mixing. When preparing the composition of the present invention, other common additives such as hydrolysis resistance improvers, colorants (pigments, dyes), and antistatic agents may be used as long as they do not impede the desired heat resistance and weather stability. , a conductive agent, a crystal nucleating agent, a lubricant, a filler, a reinforcing material, an adhesion aid, a plasticizer, a mold release agent, a flame retardant, and other additives may be optionally blended. The present invention will be explained below with reference to Examples. In the examples, all "parts" or "%" are expressed as weight ratios. In addition, the relative viscosities shown in the text and examples are values measured in orthochlorophenol at 25°C and a concentration of 0.5, and the melting points are also measured by DSC unless otherwise specified.
(perkin Elmer DSC-1B). Reference example Polymerization of polymer (A-1) 65.5 parts of aminododecanoic acid, number average molecular weight 680
33.6 parts of polytetramethylene oxide glycol and 8.2 parts of terephthalic acid are added to "Irganox".
1098 (antioxidant) 0.20 parts and tetrabutyl titanate catalyst 0.05 parts were charged into a reaction vessel equipped with a helical ribbon stirring blade, purged with N2 , and heated to 240°C.
After heating and stirring for 40 minutes to obtain a nearly transparent homogeneous solution, it was heated to 270℃ according to the temperature increase and pressure reduction program.
The polymerization conditions were brought to below 0.5 mmHg. The polymerization reaction was carried out under these conditions for 3 hours and 50 minutes. The obtained polyether ester amide (A-
The melting point of 1) was 166°C and the relative viscosity was 1.65. Polymerization of polymer (A-2) Aminododecanoic acid 43.6 parts, number average molecular weight 1000
Using 53.1 parts of polytetramethylene oxide glycol and 8.8 parts of terephthalic acid as starting materials, a polymerization reaction was carried out for 4 hours and 30 minutes in the same manner as in Example 1 to obtain a polymer (A-2). The melting point of the obtained polyether ester amide (A-2) is
The temperature was 142°C and the relative viscosity was 1.79. Stabilizer The structure and abbreviation of the stabilizer used in the examples are as follows.
【表】【table】
【表】【table】
【表】
実施例
ポリエーテルエステルアミド(A−1)および
(A−2)に表1に示す各安定剤を配合したのち、
A−1の場合は200℃、A−2の場合は180℃に加
熱された30mmφの押出機で溶融混練した後ペレツ
ト化した。このペレツトを真空乾燥した後、ポリ
エーテルエステルアミドが(A−1)の場合は
200℃、ポリエーテルエステルアミドが(A−2)
の場合は180℃で加圧して厚さ0.9〜1.1mmのプレ
スシートとし、JIS K−6301の3号ダンベル形試
験片に打抜いた。耐熱性は130℃の熱風オーブン
中で試験片をエージングして調べ、破断伸度保持
率が50%となる時間を耐熱寿命とした。耐候性は
試験片をサンシヤインウエザオーメーター中で光
照射して調べた。サンシヤインウエザオーメータ
ー中のブラツクパネル温度は63℃で2時間につい
て18分間、水をスプレーした。伸度保持率が50%
となる時間と、照射表面の亀裂発生時間の測定に
より耐候性を評価した。なお破断伸びの測定は
JIS K−6301に準じて行なつた。これらの結果を
表1に示す。[Table] Example After blending each stabilizer shown in Table 1 with polyether ester amide (A-1) and (A-2),
A-1 was melted and kneaded in a 30 mmφ extruder heated to 200°C and A-2 to 180°C, and then pelletized. After vacuum drying this pellet, if the polyether ester amide is (A-1),
200℃, polyether ester amide (A-2)
In the case of , the sheet was pressurized at 180°C to form a press sheet with a thickness of 0.9 to 1.1 mm, and punched into a No. 3 dumbbell-shaped test piece according to JIS K-6301. Heat resistance was investigated by aging the test piece in a hot air oven at 130°C, and the time when the elongation at break retention rate was 50% was defined as the heat resistance life. Weather resistance was examined by irradiating the test piece with light in a sunshine weather meter. The black panel temperature in the Sunshine Weather-O-meter was 63°C and water was sprayed for 18 minutes for 2 hours. Elongation retention rate is 50%
The weather resistance was evaluated by measuring the time required for this to occur and the time for cracks to occur on the irradiated surface. The measurement of elongation at break is
This was done in accordance with JIS K-6301. These results are shown in Table 1.
【表】
比較例
ポリエーテルエステルアミド(A−1)あるい
は(A−2)に、表2に示す安定剤を各0.4部配
合したのち前記実施例と同様にペレタイズして、
本発明の組成物とは異なる組成物とした。
これらの組成物、ポリマー(A−1)およびポ
リマー(A−2)を前記実施例と同様にして打抜
き試験片とした。
各試験片について耐熱性と耐候性を評価した結
果を表2に示す。[Table] Comparative Example 0.4 parts of each of the stabilizers shown in Table 2 were added to polyether ester amide (A-1) or (A-2), and then pelletized in the same manner as in the previous example.
The composition was different from the composition of the present invention. These compositions, polymer (A-1) and polymer (A-2) were punched into test pieces in the same manner as in the above example. Table 2 shows the results of evaluating the heat resistance and weather resistance of each test piece.
【表】【table】
Claims (1)
対し、下記一般式(B)で示されるヒンダードフエノ
ール系化合物を0.05〜5重量部、下記一般式(C),
(D)あるいは(E)で示されるホスフアイト系化合物を
0.05〜5重量部、および下記一般式(F)で示される
ヒンダードアミン系光安定剤を0.05〜5重量部の
各割合、添加してなるポリアミドエラストマ組成
物。 (ただしR1は炭素数1〜18のアルキル基であ
り、R1′はR1と同様のアルキル基であつてR1と同
一であつてもよい。R2は単結合、炭素数1〜18
の炭化水素基あるいは分子鎖中に−COO−,−
CONH−、【式】結合のいずれかを有す る炭素数1〜18の炭化水素基であり、XはC、
S、炭素数1〜18の炭化水素基あるいは
【式】を示す。lは1〜4の整数であ る。) (ただしR3,R3′,R3″は炭素数1〜18の炭化
水素基、あるいは分子鎖中に−COO−,−CONH
−結合を有する炭素数1〜23の炭化水素基を示
し、それぞれ同一であつても異なつていてもよ
い。mは1〜4の整数である。) (ただしR4は水素原子あるいは炭素数1〜12
のアルキル基、R5は炭素数1〜6の直鎖もしく
は枝分れアルキル基であり、R5′はR5と同様のア
ルキル基であつてそれぞれ同一であつても異なつ
ていてもよい。 Yは−O−あるいは、【式】であり、R6は 水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜23の炭
化水素基、あるいは−S−,【式】の いずれかを有する炭素数1〜18の炭化水素基を示
す。nは1〜4の整数である。) 2 ポリエーテルエステルアミド(A)100重量部に
対し、下記一般式(B)で示されるヒンダードフエノ
ール系ラジカル捕捉剤を0.05〜5重量部、下記一
般式(C),(D)あるいは(E)で示されるホスフアイト系
化合物を0.05〜5重量部、下記一般式(F)で示され
るヒンダードアミン系光安定剤を0.05〜5重量
部、および下記一般式(G)あるいは(H)で示される紫
外線吸収剤を0.05〜5重量部の各割合、添加して
なるポリアミドエラストマ組成物。 (ただしR1は炭素数1〜18のアルキル基であ
り、R1′はR1と同様のアルキル基であつてR1と同
一であつてもよい。R2は単結合、炭素数1〜18
の炭化水素基あるいは分子鎖中に−COO−,−
CONH−,【式】結合のいずれかを有す る炭素数1〜18の炭化水素基であり、XはC,
S、炭素数1〜18の炭化水素基あるいは
【式】を示す。lは1〜4の整数であ る。) (ただしR3,R3′,R3″は炭素数1〜18の炭化
水素基、あるいは分子鎖中に−COO−,−CONH
−結合を有する炭素数1〜23の炭化水素基を示
し、それぞれ同一であつても異なつていてもよ
い。mは1〜4の整数である。) (ただしR4は水素原子あるいは炭素数1〜12
のアルキル基、R5は炭素数1〜6の直鎖もしく
は枝分れアルキル基であり、R5′はR5と同様のア
ルキル基であつてそれぞれ同一であつても異なつ
ていてもよい。Yは−O−あるいは【式】であ り、R6は水酸基で置換されていてもよい炭素数
1〜23の炭化水素基、あるいは−S−、
【式】のいずれかを有する炭素数1〜 18の炭化水素基を示す。nは1〜4の整数であ
る。) (ただしR7は炭素数1〜18のアルキル基を示
し、R8は水素原子あるいはR7と同様のアルキル
基であり、R7と同一であつてもよい。Zはハロ
ゲン原子であり、pは0あるいは1である。)[Claims] 1. 100 parts by weight of polyether ester amide (A), 0.05 to 5 parts by weight of a hindered phenol compound represented by the following general formula (B), the following general formula (C),
A phosphite compound represented by (D) or (E)
A polyamide elastomer composition containing 0.05 to 5 parts by weight of a hindered amine light stabilizer represented by the following general formula (F) in respective proportions of 0.05 to 5 parts by weight. (However, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 1 ' is the same alkyl group as R 1 and may be the same as R 1. R 2 is a single bond, and 18
−COO−, − in the hydrocarbon group or molecular chain of
CONH-, [Formula] is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and X is C,
S represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or [Formula]. l is an integer from 1 to 4. ) (However, R 3 , R 3 ′, R 3 ″ are hydrocarbon groups with 1 to 18 carbon atoms, or -COO-, -CONH in the molecular chain)
- represents a hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms and may be the same or different. m is an integer from 1 to 4. ) (However, R 4 is a hydrogen atom or has 1 to 12 carbon atoms.
an alkyl group, R 5 is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 ' is the same alkyl group as R 5 and may be the same or different. . Y is -O- or [Formula], and R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, or -S- or [Formula] having 1 carbon number ~18 hydrocarbon groups are shown. n is an integer from 1 to 4. ) 2 For 100 parts by weight of polyether ester amide (A), add 0.05 to 5 parts by weight of a hindered phenol radical scavenger represented by the following general formula (B), and add the following general formula (C), (D) or ( 0.05 to 5 parts by weight of a phosphite compound represented by E), 0.05 to 5 parts by weight of a hindered amine light stabilizer represented by the following general formula (F), and 0.05 to 5 parts by weight of a phosphite compound represented by the following general formula (G) or (H). A polyamide elastomer composition containing an ultraviolet absorber in a proportion of 0.05 to 5 parts by weight. (However, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 1 ' is the same alkyl group as R 1 and may be the same as R 1. R 2 is a single bond, and 18
−COO−, − in the hydrocarbon group or molecular chain of
CONH-, [Formula] is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and X is C,
S represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or [Formula]. l is an integer from 1 to 4. ) (However, R 3 , R 3 ′, R 3 ″ are hydrocarbon groups with 1 to 18 carbon atoms, or -COO-, -CONH in the molecular chain)
- represents a hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms and may be the same or different. m is an integer from 1 to 4. ) (However, R 4 is a hydrogen atom or has 1 to 12 carbon atoms.
an alkyl group, R 5 is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 ' is the same alkyl group as R 5 and may be the same or different. . Y is -O- or [Formula], R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, or -S-,
Indicates a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and having any of the following formulas. n is an integer from 1 to 4. ) (However, R 7 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, R 8 is a hydrogen atom or an alkyl group similar to R 7 , and may be the same as R 7. Z is a halogen atom, and p is 0 or 1.)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15507283A JPS6049060A (en) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | Polyamide elastomer composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15507283A JPS6049060A (en) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | Polyamide elastomer composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6049060A JPS6049060A (en) | 1985-03-18 |
| JPH0150340B2 true JPH0150340B2 (en) | 1989-10-30 |
Family
ID=15598037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15507283A Granted JPS6049060A (en) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | Polyamide elastomer composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049060A (en) |
Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (2)
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|---|---|---|---|---|
| US3595936A (en) * | 1969-04-29 | 1971-07-27 | Allied Chem | Filament comprising a polymer blend of polyester and polyamide containing an organic phosphorus compound and a sterically hindered phenolic compound |
| US4185003A (en) * | 1978-02-16 | 1980-01-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized copolyetheresters |
-
1983
- 1983-08-26 JP JP15507283A patent/JPS6049060A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6049060A (en) | 1985-03-18 |
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