JPH032871B2 - - Google Patents
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- JPH032871B2 JPH032871B2 JP56160006A JP16000681A JPH032871B2 JP H032871 B2 JPH032871 B2 JP H032871B2 JP 56160006 A JP56160006 A JP 56160006A JP 16000681 A JP16000681 A JP 16000681A JP H032871 B2 JPH032871 B2 JP H032871B2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は、次の一般式で表わされる新規セフア
ロスポリン誘導体およびその塩に関する。 〔式中、R1は単結合又は直鎖若しくは分岐鎖
の低級アルキレン基を示し、R3は水素原子、低
級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を示し、R4は水素原
子;アセトキシメチル基;低級アルキル基、低級
アルキルアノミ低級アルキル基、カルバモイル低
級アルキル基若しくはカルボキシ低級アルキル基
が置換したテトラゾリルチオメチル基;又は低級
アルキル基若しくはアミノ基が置換したチアジア
ゾリルチオメチル基を示す〕 本発明者らは種々のセフアロスポリン誘導体に
ついて研究した結果、前記式()で表わされる
新規化合物が広くグラム陰性菌、陽性菌に対し高
い抗菌力を示すことを知り本発明を完成した。 本発明の目的物質()は、例えば下記の反応
式で示す方法によつて製造することが出来る。 式中R1,R3,R4およびnはそれぞれ前記に同
じ、R5はトリチル、ホルミル、第3級ブトキシ
カルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル等で代表されるペプチド合成に使用されるア
ミノ基の保護基、R6は水素、低級アルキル、ト
リチル等で保護されたヒドロキシ低級アルキル、
第3級ブチル等で保護されたカルボキシ低級アル
キル、更にはトリチル、ホルミル、第3級ブトキ
シカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカル
ボニル等で代表されるペプチド合成に使用される
アミノ基の保護基、R7はベンズヒドリルや第3
ブチル等のペプチド合成に使用されるカルボン酸
の保護基、又xはハロゲンを示す。 尚、本発明化合物()、原料化合物()、
()および()には分子中に下記部分構造を
有するシン異性体(A)、アンチ異性体(B)お
よびそれらの混合物が存在する。 本発明に於いてシン異性体とアンチ異性体を便
宜的に一つの表現で説明する場合には、部分構造
(C) で表わす。 又、本発明で示されるチアゾール部は2−アミ
ノチアゾール体と2−イミノチアゾリン体の互変
異性体構造をとると考えられるが、本明細書に於
いてはチアゾール型で記載する。 次に、本製造法に関して更に詳しく述べれば本
発明化合物()は化合物()もしくはそのア
ミノ基における反応性誘導体又はそれらの塩類
に、化合物()もしくはそのカルボキシル基に
おける反応性誘導体を作用させた後、保護基を脱
離することにより製造することが出来る。 化合物()のアミノ基における反応性誘導体
としては、化合物()にトリメチルシリルクロ
リドやビス(トリメチルシリル)アセタミド等の
シリル化合物を反応させることによつて得られる
シリル誘導体等が含まれる。又、化合物()の
塩類としては、トリエチルアミン塩等の有機アミ
ン塩等が挙げられる。 化合物()のカルボキシル基における反応性
誘導体としては、活性エステル、酸ハライド、酸
無水物、活性アミド等が含まれ、例えば活性エス
テルとしては、N−ヒドロキシ化合物〔1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール(以下「HOBt」と称
す。)、N−ヒドロキシサクシンイミド、N−ヒド
ロキシフタールイミド等〕とのエステル等が例示
される。 化合物()を遊離酸もしくはその塩類の形で
反応させるときは、N,N′−ジシクロヘキシル
カルボジイミド(以下「DCC」と称す。)等の縮
合剤を用いる。 上記反応は、例えば水、ジメチルホルムアミド
(以下「DMF」と称す。)、テトラヒドロフラン
(以下「THF」と称す。)、その他反応の進行に悪
影響を与えない有機溶媒の存在下に行うことが出
来る。 保護基の脱離反応は、蟻酸、トリフルオロ酢酸
等の有機酸および塩酸等の無機酸にによる加水分
解又はパラジウム炭素等の慣用触媒を用いた慣用
接触還元等によつて行われる。加水分解の場合、
反応に悪影響を与えない溶媒を用いても良いし、
又、アニソール等のスカベンジヤーの存在下行う
ことも出来る。接触還元の場合、THF、アルコ
ール等の反応に悪影響を与えない溶媒中行なう。 又、本発明化合物()は、化合物()又は
それらの塩類に脱酸剤の存在下、酸ハロゲン化物
()を反応させた後、上記の如き条件で脱保護
基することによつても製造することが出来る。脱
酸剤としてはピリジン等の有機化合物、炭酸ナト
リウム等の無機化合物が用いられ、又、溶媒とし
てはジクロロロメタンやDMF等、反応に悪影響
を与えない溶媒が用いられる。 一方、原料化合物の合成法は種々考えられる
が、原料化合物()の合成について例を示せば
下記の反応式の如くである。 (式中、R1,R5,R6およびXは前記に同じ。) 即ち、ピペラジン又はその誘導体()を、
N,N−ジメチルアニリン等の脱酸剤の存在下、
酸クロリド()とアセトン等の溶媒中反応させ
生成体()を得る。更にトリエチルアミン等の
脱酸剤の存在下、N−ヒドロキシフタールイミド
()とアセトニトリル等の溶媒中反応させると
フタールイミド誘導体(XI)が得られる。次いで
化合物(XI)をアルコール等の溶媒中、ヒドラジ
ン水和物と反応させて得たヒドロキシアミン誘導
体(XII)を、チアゾール−4−グリオキシル酸誘
導体(XII)とエタノール等の有機溶媒中攬拌す
ることによつて、原料化合物()を製造するこ
とが出来る。 本発明化合物は、広い抗菌スペクトルと高い抗
菌活性を示すが、特に、従来のセフエム系化合物
に耐性を示す Pr.ブルガリス、Ent.クロアカエ、
Ent.エロゲネス、Ser.マルセツセンス、Ps・エル
ギノーザに対しても強い抗菌活性を示す特長を有
している。 本発明化合物の数例について、公知の代表的セ
フエム化合物であるセフアゾリンと抗菌力を対比
すると次表の通りである。 抗菌スペクトル最小発育阻止濃度(MIC μg/
ml、菌量106/ml
ロスポリン誘導体およびその塩に関する。 〔式中、R1は単結合又は直鎖若しくは分岐鎖
の低級アルキレン基を示し、R3は水素原子、低
級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を示し、R4は水素原
子;アセトキシメチル基;低級アルキル基、低級
アルキルアノミ低級アルキル基、カルバモイル低
級アルキル基若しくはカルボキシ低級アルキル基
が置換したテトラゾリルチオメチル基;又は低級
アルキル基若しくはアミノ基が置換したチアジア
ゾリルチオメチル基を示す〕 本発明者らは種々のセフアロスポリン誘導体に
ついて研究した結果、前記式()で表わされる
新規化合物が広くグラム陰性菌、陽性菌に対し高
い抗菌力を示すことを知り本発明を完成した。 本発明の目的物質()は、例えば下記の反応
式で示す方法によつて製造することが出来る。 式中R1,R3,R4およびnはそれぞれ前記に同
じ、R5はトリチル、ホルミル、第3級ブトキシ
カルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル等で代表されるペプチド合成に使用されるア
ミノ基の保護基、R6は水素、低級アルキル、ト
リチル等で保護されたヒドロキシ低級アルキル、
第3級ブチル等で保護されたカルボキシ低級アル
キル、更にはトリチル、ホルミル、第3級ブトキ
シカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカル
ボニル等で代表されるペプチド合成に使用される
アミノ基の保護基、R7はベンズヒドリルや第3
ブチル等のペプチド合成に使用されるカルボン酸
の保護基、又xはハロゲンを示す。 尚、本発明化合物()、原料化合物()、
()および()には分子中に下記部分構造を
有するシン異性体(A)、アンチ異性体(B)お
よびそれらの混合物が存在する。 本発明に於いてシン異性体とアンチ異性体を便
宜的に一つの表現で説明する場合には、部分構造
(C) で表わす。 又、本発明で示されるチアゾール部は2−アミ
ノチアゾール体と2−イミノチアゾリン体の互変
異性体構造をとると考えられるが、本明細書に於
いてはチアゾール型で記載する。 次に、本製造法に関して更に詳しく述べれば本
発明化合物()は化合物()もしくはそのア
ミノ基における反応性誘導体又はそれらの塩類
に、化合物()もしくはそのカルボキシル基に
おける反応性誘導体を作用させた後、保護基を脱
離することにより製造することが出来る。 化合物()のアミノ基における反応性誘導体
としては、化合物()にトリメチルシリルクロ
リドやビス(トリメチルシリル)アセタミド等の
シリル化合物を反応させることによつて得られる
シリル誘導体等が含まれる。又、化合物()の
塩類としては、トリエチルアミン塩等の有機アミ
ン塩等が挙げられる。 化合物()のカルボキシル基における反応性
誘導体としては、活性エステル、酸ハライド、酸
無水物、活性アミド等が含まれ、例えば活性エス
テルとしては、N−ヒドロキシ化合物〔1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール(以下「HOBt」と称
す。)、N−ヒドロキシサクシンイミド、N−ヒド
ロキシフタールイミド等〕とのエステル等が例示
される。 化合物()を遊離酸もしくはその塩類の形で
反応させるときは、N,N′−ジシクロヘキシル
カルボジイミド(以下「DCC」と称す。)等の縮
合剤を用いる。 上記反応は、例えば水、ジメチルホルムアミド
(以下「DMF」と称す。)、テトラヒドロフラン
(以下「THF」と称す。)、その他反応の進行に悪
影響を与えない有機溶媒の存在下に行うことが出
来る。 保護基の脱離反応は、蟻酸、トリフルオロ酢酸
等の有機酸および塩酸等の無機酸にによる加水分
解又はパラジウム炭素等の慣用触媒を用いた慣用
接触還元等によつて行われる。加水分解の場合、
反応に悪影響を与えない溶媒を用いても良いし、
又、アニソール等のスカベンジヤーの存在下行う
ことも出来る。接触還元の場合、THF、アルコ
ール等の反応に悪影響を与えない溶媒中行なう。 又、本発明化合物()は、化合物()又は
それらの塩類に脱酸剤の存在下、酸ハロゲン化物
()を反応させた後、上記の如き条件で脱保護
基することによつても製造することが出来る。脱
酸剤としてはピリジン等の有機化合物、炭酸ナト
リウム等の無機化合物が用いられ、又、溶媒とし
てはジクロロロメタンやDMF等、反応に悪影響
を与えない溶媒が用いられる。 一方、原料化合物の合成法は種々考えられる
が、原料化合物()の合成について例を示せば
下記の反応式の如くである。 (式中、R1,R5,R6およびXは前記に同じ。) 即ち、ピペラジン又はその誘導体()を、
N,N−ジメチルアニリン等の脱酸剤の存在下、
酸クロリド()とアセトン等の溶媒中反応させ
生成体()を得る。更にトリエチルアミン等の
脱酸剤の存在下、N−ヒドロキシフタールイミド
()とアセトニトリル等の溶媒中反応させると
フタールイミド誘導体(XI)が得られる。次いで
化合物(XI)をアルコール等の溶媒中、ヒドラジ
ン水和物と反応させて得たヒドロキシアミン誘導
体(XII)を、チアゾール−4−グリオキシル酸誘
導体(XII)とエタノール等の有機溶媒中攬拌す
ることによつて、原料化合物()を製造するこ
とが出来る。 本発明化合物は、広い抗菌スペクトルと高い抗
菌活性を示すが、特に、従来のセフエム系化合物
に耐性を示す Pr.ブルガリス、Ent.クロアカエ、
Ent.エロゲネス、Ser.マルセツセンス、Ps・エル
ギノーザに対しても強い抗菌活性を示す特長を有
している。 本発明化合物の数例について、公知の代表的セ
フエム化合物であるセフアゾリンと抗菌力を対比
すると次表の通りである。 抗菌スペクトル最小発育阻止濃度(MIC μg/
ml、菌量106/ml
【表】
【表】
化合物A:7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)
カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセタミド〕−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩酸塩(シ
ン異性体)。 化合物B:7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)
カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセタミド〕−3−アセト
キシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸のナ
トリウム塩(シン異性体)。 化合物C:7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)
カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセタミド〕−3−(5−ア
ミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体)。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸の塩酸塩(シ
ン異性体): 1−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)
ピペラジン31.1gとN,N−ジメチルアニリン
20.0gのアセトン溶液に氷冷攬拌下、ブロム酢酸
ブロミド29.5gを滴下する。同温度で1時間攬拌
後、溶媒留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層を10%クエン酸、5%重
ソウ水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すれば褐色オ
イルの残渣44.4gを得る。 上記残渣のアセトニトリル溶液をN−ヒドロキ
シフタールイミド19.1gとトリエチルアミン16.3
mlのアセトニトリル溶液に氷冷攬拌下加える。同
温度で30分、次いで約50℃で3.5時間攬拌後、溶
媒を留去し、残渣に水を加え酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を5%重ソウ水、次いで飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢
酸エチルを留去し、残渣をエーテルで洗浄すると
融点154〜156℃のフタールイミド体36.6gを得
る。 得られた上記生成物34.3gとヒドラジン水和物
3.8gのエタノール溶液を2時間還流する。冷後、
不溶物を濾去し、濾液を乾固し、残渣に酢酸エチ
ルを加え、水、5%重ソウ水、次いで飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固す
る。残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフイー(溶媒:クロロホルムとメタノールの混
液)で精製後、エーテル−石油エーテルから再結
晶すると融点59〜60℃のカルボニルメトキシアミ
ン体20.2gを得る。 得られた上記生成物4.0gと2−〔2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)グリオキシル酸
5.12gをエタノール中、室温にて45時間攬拌後、
溶媒留去する。残渣に酢酸エチルを加え、10%ク
エン酸、次いで飽和食塩水で洗つた後、溶媒留去
する。残渣をエーテルで洗うと融点100〜125℃
(分解)の2−〔{4−(4−メトキシベンジルオキ
シカルボニル)ピペラジン−1−イル}カルボニ
ルメトキシイミノ〕−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)酢酸のシン異性体(以下
「化合物Y」と称す。)7.9gを得る。 得られた化合物Y0.9gとHOBt169mgのDMF溶
液に冷却下、DCC258mgを加え、室温にて2時間
攬拌する。不溶物を濾去し、濾液に氷冷下、7−
アミノ−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(以下「化合物Z」と称す。)452mgとトリ
エチルアミン417mgのDMF溶液を加え、室温にて
3時間攬拌する。溶媒留去後、残渣に酢酸エチル
を加え、10〜%クエン酸、次いで水で洗浄し、酢
酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固
する。残渣にエーテルを加え、濾取して得た粉末
(815mg)にアニソール1.3ml、次いで氷冷下、ト
リフロロ酢酸50mlを加え、室温にて2時間攬拌
後、乾固する。残渣をエーテルで洗つて得られた
粗体に10%塩酸を加え、不溶物を濾去後乾固し、
残渣を高速液体クロマトグラフイー(担体:マイ
クロボンダバツクC18、溶媒:塩酸を加えてPH3
に調整した15%メタノール)で精製すると標記目
的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1780,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.25〜3.50,3.80〜4.00(合計8H,
カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセタミド〕−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩酸塩(シ
ン異性体)。 化合物B:7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)
カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセタミド〕−3−アセト
キシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸のナ
トリウム塩(シン異性体)。 化合物C:7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)
カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセタミド〕−3−(5−ア
ミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体)。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸の塩酸塩(シ
ン異性体): 1−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)
ピペラジン31.1gとN,N−ジメチルアニリン
20.0gのアセトン溶液に氷冷攬拌下、ブロム酢酸
ブロミド29.5gを滴下する。同温度で1時間攬拌
後、溶媒留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層を10%クエン酸、5%重
ソウ水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すれば褐色オ
イルの残渣44.4gを得る。 上記残渣のアセトニトリル溶液をN−ヒドロキ
シフタールイミド19.1gとトリエチルアミン16.3
mlのアセトニトリル溶液に氷冷攬拌下加える。同
温度で30分、次いで約50℃で3.5時間攬拌後、溶
媒を留去し、残渣に水を加え酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を5%重ソウ水、次いで飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢
酸エチルを留去し、残渣をエーテルで洗浄すると
融点154〜156℃のフタールイミド体36.6gを得
る。 得られた上記生成物34.3gとヒドラジン水和物
3.8gのエタノール溶液を2時間還流する。冷後、
不溶物を濾去し、濾液を乾固し、残渣に酢酸エチ
ルを加え、水、5%重ソウ水、次いで飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固す
る。残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフイー(溶媒:クロロホルムとメタノールの混
液)で精製後、エーテル−石油エーテルから再結
晶すると融点59〜60℃のカルボニルメトキシアミ
ン体20.2gを得る。 得られた上記生成物4.0gと2−〔2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)グリオキシル酸
5.12gをエタノール中、室温にて45時間攬拌後、
溶媒留去する。残渣に酢酸エチルを加え、10%ク
エン酸、次いで飽和食塩水で洗つた後、溶媒留去
する。残渣をエーテルで洗うと融点100〜125℃
(分解)の2−〔{4−(4−メトキシベンジルオキ
シカルボニル)ピペラジン−1−イル}カルボニ
ルメトキシイミノ〕−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)酢酸のシン異性体(以下
「化合物Y」と称す。)7.9gを得る。 得られた化合物Y0.9gとHOBt169mgのDMF溶
液に冷却下、DCC258mgを加え、室温にて2時間
攬拌する。不溶物を濾去し、濾液に氷冷下、7−
アミノ−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(以下「化合物Z」と称す。)452mgとトリ
エチルアミン417mgのDMF溶液を加え、室温にて
3時間攬拌する。溶媒留去後、残渣に酢酸エチル
を加え、10〜%クエン酸、次いで水で洗浄し、酢
酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固
する。残渣にエーテルを加え、濾取して得た粉末
(815mg)にアニソール1.3ml、次いで氷冷下、ト
リフロロ酢酸50mlを加え、室温にて2時間攬拌
後、乾固する。残渣をエーテルで洗つて得られた
粗体に10%塩酸を加え、不溶物を濾去後乾固し、
残渣を高速液体クロマトグラフイー(担体:マイ
クロボンダバツクC18、溶媒:塩酸を加えてPH3
に調整した15%メタノール)で精製すると標記目
的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1780,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.25〜3.50,3.80〜4.00(合計8H,
【式】のH)
3.80〔2H,dd,セフエム核2位のメチレン(C2
−H)〕 4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3) 4.25(2H,dd,−CH2−S−) 5.51(2H,s,−OCH2CO−) 5.28(1H,d,C6−H) 5・84(1H,d,C7−H) 7.29(1H,s,チアゾール−5−H) 元素分析(%) C21H25N11O6S3・2HCl・2H2O
に対して 計数値 C34.44, H4.26, N21.03 実測値 C34.55, H4.09, N20.79 実施例 2 7β−〔2−{(4−メチルピペラジン−1−イ
ル)カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕−3
−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の塩酸塩(シン異性体): N−(カルボキシメトキシ)フタールイミド6.0
gとN−ヒドロキシサクシンイミド3.1gのTHF
溶液に、氷冷下、DCC6.2gを加え、2時間攬拌
する。濾取した析出物をDMFに懸濁し、N−メ
チルピペラジン3.0gを加え、16時間攬拌する。
不溶物を濾去し、濾液を乾固し残渣に希重ソウ水
を加え、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。溶媒を留去した後、残渣をイソ
プロピルエーテルで洗浄すると融点105〜107℃の
フタールイミド体3.2gを得る。 得られた上記生成物2.5gのジクロロメタン溶
液にヒドラジン水和物0.5gのメタノール溶液を
加え、3時間攬拌する。不溶物を濾去後乾固し、
残渣に飽和食塩水を加え、クロロホルムで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、クロロホルム
を留去する。残渣(黄色油.850mg)を2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)グリオキ
シル酸1.02gのエタノール懸濁液に加え、50時間
攬拌し、エタノールを留去する。残渣をエーテル
で洗浄し、得られた白色紛末をメタノールに懸濁
し、塩酸酸性メタノールを加えPHを約5となし、
攬拌後、濾取すると融点192〜194℃の2−{(4−
メチルピペラジン−1−イル)カルボニルメトキ
シイミノ}−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)酢酸のシン異性体1.0gを得る。 得られた上記生成物684mgとHOBt162mgの
DMF溶液にDCC250mgを加え、5時間攬拌する。
不溶物を濾去し、濾液を化合物Z328mgとトリエ
チルアミン300mgのDMF溶液に加え、20時間攬拌
する。乾固後、残渣に飽和食塩水を加え、5%塩
酸でPH約3となし、THFで抽出する。無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣にエー
テルを加える。濾取した紛末(約950mg)にアニ
ソール1ml、次いで氷冷下トリフロロ酢酸20mlを
加え、室温にて2時間攬拌する。トリフロロ酢酸
を留去後、残渣にエーテルを加えて濾過し、濾取
した褐色粉末を15%メタノールに懸濁し、攬拌
後、濾過し、濾液を乾固すると淡黄色紛末(500
mg)を得る。塩酸でPH約2に調整した15%メタノ
ールに溶解し、不溶物を濾去後乾固する。残渣を
高速液体クロマトグラフイー(担体:マイクロボ
ンダパツクC18,溶媒:塩酸でPH約2.5に調整した
15%メタノール)で精製すると標記目的化合物を
得る。 IRνKBr naxcm-1:1775,1625 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.96(3H,s,
−H)〕 4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3) 4.25(2H,dd,−CH2−S−) 5.51(2H,s,−OCH2CO−) 5.28(1H,d,C6−H) 5・84(1H,d,C7−H) 7.29(1H,s,チアゾール−5−H) 元素分析(%) C21H25N11O6S3・2HCl・2H2O
に対して 計数値 C34.44, H4.26, N21.03 実測値 C34.55, H4.09, N20.79 実施例 2 7β−〔2−{(4−メチルピペラジン−1−イ
ル)カルボニルメトキシイミノ}−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕−3
−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の塩酸塩(シン異性体): N−(カルボキシメトキシ)フタールイミド6.0
gとN−ヒドロキシサクシンイミド3.1gのTHF
溶液に、氷冷下、DCC6.2gを加え、2時間攬拌
する。濾取した析出物をDMFに懸濁し、N−メ
チルピペラジン3.0gを加え、16時間攬拌する。
不溶物を濾去し、濾液を乾固し残渣に希重ソウ水
を加え、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。溶媒を留去した後、残渣をイソ
プロピルエーテルで洗浄すると融点105〜107℃の
フタールイミド体3.2gを得る。 得られた上記生成物2.5gのジクロロメタン溶
液にヒドラジン水和物0.5gのメタノール溶液を
加え、3時間攬拌する。不溶物を濾去後乾固し、
残渣に飽和食塩水を加え、クロロホルムで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、クロロホルム
を留去する。残渣(黄色油.850mg)を2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)グリオキ
シル酸1.02gのエタノール懸濁液に加え、50時間
攬拌し、エタノールを留去する。残渣をエーテル
で洗浄し、得られた白色紛末をメタノールに懸濁
し、塩酸酸性メタノールを加えPHを約5となし、
攬拌後、濾取すると融点192〜194℃の2−{(4−
メチルピペラジン−1−イル)カルボニルメトキ
シイミノ}−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)酢酸のシン異性体1.0gを得る。 得られた上記生成物684mgとHOBt162mgの
DMF溶液にDCC250mgを加え、5時間攬拌する。
不溶物を濾去し、濾液を化合物Z328mgとトリエ
チルアミン300mgのDMF溶液に加え、20時間攬拌
する。乾固後、残渣に飽和食塩水を加え、5%塩
酸でPH約3となし、THFで抽出する。無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣にエー
テルを加える。濾取した紛末(約950mg)にアニ
ソール1ml、次いで氷冷下トリフロロ酢酸20mlを
加え、室温にて2時間攬拌する。トリフロロ酢酸
を留去後、残渣にエーテルを加えて濾過し、濾取
した褐色粉末を15%メタノールに懸濁し、攬拌
後、濾過し、濾液を乾固すると淡黄色紛末(500
mg)を得る。塩酸でPH約2に調整した15%メタノ
ールに溶解し、不溶物を濾去後乾固する。残渣を
高速液体クロマトグラフイー(担体:マイクロボ
ンダパツクC18,溶媒:塩酸でPH約2.5に調整した
15%メタノール)で精製すると標記目的化合物を
得る。 IRνKBr naxcm-1:1775,1625 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.96(3H,s,
【式】)
3.20,3.63(合計8H,各々m,
【式】のH)
4.08(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
5.26(1H,d,C6−H)
5.83(1H,d,C7−H)
7.28(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H27N11O6S3・2HCL・H2O
に対して 計算値 C36.26, H4.29, N21.15 実測値 C36.09, H4.37, N20.85 実施例 3 7β−〔2−〔{4−(2−ヒドロキシエチル)ピ
ペラジン−1−イル}カルボニルメトキシイミ
ノ〕−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセタミド〕−3−(1−メチル−1H−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 1−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン9.1g
とトリエチルアミン11.7mlのジクロロメタン溶液
に氷冷下、ベンジルオキシカルボニルクロリド
11.0mlを滴下する。室温にて2時間攬拌後、水を
加えて分配し、有機層を10%クエン酸、次いで飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、乾固する。残渣(黄色油、18.6g)をジクロ
ロメタンに溶解し、トリエチルアミン11.7ml、次
いでトリチルクロリド17.6gを加え、室温にて4
時間攬拌し、水を加え分配する。有機層を水洗、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固し、残渣をエ
タノールから再結晶すると融点97〜98℃の1−
(2−トリチルオキシエチル)−4−(ベンジルオ
キシカルボニル)ピペラジン24.2gを得る。 得られた上記生成物18.4gを酢酸エチルとエタ
ノールの混合溶媒に溶解し、10%パラジウム炭素
を加え、常温常圧で接触還元し、触媒を濾去し、
濾液を乾固すると黄色オイルの1−(2−トリチ
ルオキシエチル)ピペラジン15.2gを得る。 上記ピペラジン体を実施例1の1−(4−メト
キシベンジルオキシカルボニル)ピペラジンに代
えて使用し、順次、実施例1の方法と同様に反応
を行なうことにより、融点162〜164℃の2−〔{4
−(2−トリチルオキシエチル)ピペラジン−1
−イル}カルボニルメトキシイミノ〕−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)酢酸(シ
ン異性体)を得る。 次いで、得られた上記生成物842mgとHOBt175
mgのDMF溶液にDCC246mgを加え室温にて一夜
攬拌する。不溶物を濾去後、濾液に化合物Z328
mgとトリエチルアミン0.42mlのDMF溶液を加え、
一夜攬拌する。乾固後残渣を水、エタノール、エ
ーテルで順次洗浄し、得られた紛末(1.09g)を
蟻酸11mlに溶解し、1.5時間攬拌する。不溶物を
濾去後、濾液を乾固する。残渣をエーテルにて洗
浄して得られた紛末を水100mlに懸濁し、4規定
塩酸1mlを加えた後、不溶物を濾去し、濾液を乾
固する。残渣をエーテルにて洗いとり(576mg)、
ダイヤイオンHP−20のカラムクロマトグラフイ
ー(溶媒:5〜10%THF)、次いで高速液体クロ
マトグラフイー(担体:マイクロボンダパツク
C18、溶媒:塩酸にてPH約2に調整した15%メタ
ノール)で精製すると標記目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MH2)δppm: 3.10〜3.48,3.90〜4.02(合計8H,各々m,
に対して 計算値 C36.26, H4.29, N21.15 実測値 C36.09, H4.37, N20.85 実施例 3 7β−〔2−〔{4−(2−ヒドロキシエチル)ピ
ペラジン−1−イル}カルボニルメトキシイミ
ノ〕−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセタミド〕−3−(1−メチル−1H−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 1−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン9.1g
とトリエチルアミン11.7mlのジクロロメタン溶液
に氷冷下、ベンジルオキシカルボニルクロリド
11.0mlを滴下する。室温にて2時間攬拌後、水を
加えて分配し、有機層を10%クエン酸、次いで飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、乾固する。残渣(黄色油、18.6g)をジクロ
ロメタンに溶解し、トリエチルアミン11.7ml、次
いでトリチルクロリド17.6gを加え、室温にて4
時間攬拌し、水を加え分配する。有機層を水洗、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固し、残渣をエ
タノールから再結晶すると融点97〜98℃の1−
(2−トリチルオキシエチル)−4−(ベンジルオ
キシカルボニル)ピペラジン24.2gを得る。 得られた上記生成物18.4gを酢酸エチルとエタ
ノールの混合溶媒に溶解し、10%パラジウム炭素
を加え、常温常圧で接触還元し、触媒を濾去し、
濾液を乾固すると黄色オイルの1−(2−トリチ
ルオキシエチル)ピペラジン15.2gを得る。 上記ピペラジン体を実施例1の1−(4−メト
キシベンジルオキシカルボニル)ピペラジンに代
えて使用し、順次、実施例1の方法と同様に反応
を行なうことにより、融点162〜164℃の2−〔{4
−(2−トリチルオキシエチル)ピペラジン−1
−イル}カルボニルメトキシイミノ〕−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)酢酸(シ
ン異性体)を得る。 次いで、得られた上記生成物842mgとHOBt175
mgのDMF溶液にDCC246mgを加え室温にて一夜
攬拌する。不溶物を濾去後、濾液に化合物Z328
mgとトリエチルアミン0.42mlのDMF溶液を加え、
一夜攬拌する。乾固後残渣を水、エタノール、エ
ーテルで順次洗浄し、得られた紛末(1.09g)を
蟻酸11mlに溶解し、1.5時間攬拌する。不溶物を
濾去後、濾液を乾固する。残渣をエーテルにて洗
浄して得られた紛末を水100mlに懸濁し、4規定
塩酸1mlを加えた後、不溶物を濾去し、濾液を乾
固する。残渣をエーテルにて洗いとり(576mg)、
ダイヤイオンHP−20のカラムクロマトグラフイ
ー(溶媒:5〜10%THF)、次いで高速液体クロ
マトグラフイー(担体:マイクロボンダパツク
C18、溶媒:塩酸にてPH約2に調整した15%メタ
ノール)で精製すると標記目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MH2)δppm: 3.10〜3.48,3.90〜4.02(合計8H,各々m,
【式】のH)
3.74(2H,t,−CH2CH2OH)
4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
5.14(2H,s,=N−OCH2CO−)
5.27(1H,d,C6−H)
5.82(1H,d,C7−H)
7.28(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C23H29N11O7S3・2HCL・
2H2Oに対して 計算値 C35.59, H4.54, N19.85 実測値 C35.29, H4.58, N19.86 実施例 4 7β−〔2−〔{4−(2−カルボキシメチル)ピ
ペラジン−1−イル}カルボニルメトキシイミ
ノ〕−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセタミド〕−3−(1−メチル−1H−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸のナトリウム塩(シン異性
体): 実施例1の1−(4−メトキシベンジルオキシ
カルボニル)ピペラジンの代わりに1−(第3級
ブトキシカルボニルメチル)ビベラジンを使用
し、順次、実施例1の方法と同様に反応を行なう
ことにより、融点125〜133℃(分解)の2−〔{4
−(第3級ブトキシカルボニルメチル)ピペラジ
ン−1−イル}カルボニルメトキシイミノ〕−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
酢酸のシン異性体を得る。 次いで、得られた上記生成物と化合物Zを用い
て実施例1の方法と同様の反応を行なつて得た粗
体を希重ソウ水に溶解し、高速液体クロマトグラ
フイー(担体:マイクロボンダバツクC18,溶
媒:5%メタノール)で精製すると標記目的化合
物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1760 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.6〜2.8,3.5〜3.7(合計SH,
2H2Oに対して 計算値 C35.59, H4.54, N19.85 実測値 C35.29, H4.58, N19.86 実施例 4 7β−〔2−〔{4−(2−カルボキシメチル)ピ
ペラジン−1−イル}カルボニルメトキシイミ
ノ〕−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセタミド〕−3−(1−メチル−1H−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸のナトリウム塩(シン異性
体): 実施例1の1−(4−メトキシベンジルオキシ
カルボニル)ピペラジンの代わりに1−(第3級
ブトキシカルボニルメチル)ビベラジンを使用
し、順次、実施例1の方法と同様に反応を行なう
ことにより、融点125〜133℃(分解)の2−〔{4
−(第3級ブトキシカルボニルメチル)ピペラジ
ン−1−イル}カルボニルメトキシイミノ〕−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
酢酸のシン異性体を得る。 次いで、得られた上記生成物と化合物Zを用い
て実施例1の方法と同様の反応を行なつて得た粗
体を希重ソウ水に溶解し、高速液体クロマトグラ
フイー(担体:マイクロボンダバツクC18,溶
媒:5%メタノール)で精製すると標記目的化合
物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1760 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.6〜2.8,3.5〜3.7(合計SH,
【式】
のH)
3.14(2H,s,>N−CH2CO−)
4.05(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
5.00(2H,s,−OCH2CO−)
5.11(1H,d,C6−H)
5.82(1H,d,C7−H)
7・10(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C23H26N11O3S3Na2・3H2Oに
対して 計算値 C35.43, H4.00, N19.76 実測値 C35.52, H4.23, N19.82 実施例 5 7β−〔2−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カ
ルボニル}プロプ−2−オキシイミノ〕−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセタミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 1−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)
ピペラジン9.21gと2−ブロモ−2−メチルプロ
ピオニルブロマイド94.7gを用いて実施例1の方
法と同様に反応させて得られた油状物4.39gのジ
メチルスルホキシド溶液を、2−(ヒドロキシイ
ミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)酢酸エチルのシン異性体4.11gのジメチ
ルスルホキシド溶液に窒素気流下炭酸カリウム
1.93gを加えた後、激しく攬拌下加え、一夜攬拌
する。反応液を水中に注目し、析出物を濾取し、
濾取物を酢酸エチルに溶解し、10%クエン酸、水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、
乾固する。残渣を石油エーテルで洗つて得た紛末
6.9gをメタノール60mlに溶解後、2N−NaOH9
mlを加え還流する。メタノールを留去後、水を加
え、20%クエン酸を注加して液を酸性とした後、
酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去する。残
渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフイー(溶
媒:クロロホルムとメタノールの混合溶媒)で精
製すると、融点152〜155℃(分解)の2−〔2−
〔{4−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)
ピペラジン−1−イル}カルボニル〕−プロブ−
2−オキシイミノ〕−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)酢酸のシン異性体960mgを
得る。 次いで、得られた上記生成物と化合物Zを用い
て、実施例1の方法と同様に反応及び精製すると
標記目的化合物を得る。 IRrKBr naxcm-1:1770,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 1.62(3H,s,C−CH3) 1.65(3H,s,C−CH3) 3.2〜3.4,3.6〜4.5(合計8H,各々m,
対して 計算値 C35.43, H4.00, N19.76 実測値 C35.52, H4.23, N19.82 実施例 5 7β−〔2−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カ
ルボニル}プロプ−2−オキシイミノ〕−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセタミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 1−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)
ピペラジン9.21gと2−ブロモ−2−メチルプロ
ピオニルブロマイド94.7gを用いて実施例1の方
法と同様に反応させて得られた油状物4.39gのジ
メチルスルホキシド溶液を、2−(ヒドロキシイ
ミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)酢酸エチルのシン異性体4.11gのジメチ
ルスルホキシド溶液に窒素気流下炭酸カリウム
1.93gを加えた後、激しく攬拌下加え、一夜攬拌
する。反応液を水中に注目し、析出物を濾取し、
濾取物を酢酸エチルに溶解し、10%クエン酸、水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、
乾固する。残渣を石油エーテルで洗つて得た紛末
6.9gをメタノール60mlに溶解後、2N−NaOH9
mlを加え還流する。メタノールを留去後、水を加
え、20%クエン酸を注加して液を酸性とした後、
酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去する。残
渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフイー(溶
媒:クロロホルムとメタノールの混合溶媒)で精
製すると、融点152〜155℃(分解)の2−〔2−
〔{4−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)
ピペラジン−1−イル}カルボニル〕−プロブ−
2−オキシイミノ〕−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)酢酸のシン異性体960mgを
得る。 次いで、得られた上記生成物と化合物Zを用い
て、実施例1の方法と同様に反応及び精製すると
標記目的化合物を得る。 IRrKBr naxcm-1:1770,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 1.62(3H,s,C−CH3) 1.65(3H,s,C−CH3) 3.2〜3.4,3.6〜4.5(合計8H,各々m,
【式】のH)
4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
5.29(1H,d,C6−H)
5.83(1H,d,C7−H)
7.30(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C23H29N11O6S3・2HCL・
2H2Oに対して 計算値 C36.32, H4.64, N20.26 実測値 C36.16, H4.39, N19.98 実施例 6 7β−〔2−〔1−{(ピペラジン−1−イル)カ
ルボニル}エト−1−オキシイミノ〕−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸の塩酸塩(シン異性体): 実施例1のブロム酢酸ブロミドの代わりに2−
プロモプロピオニルブロマイドを用いて順次実施
例1の方法と同様に反応及び精製すると、融点
100〜103℃(分解)の2−〔1−〔{4−(4−メト
キシベンジルオキシカルボニル)ピペラジン−1
−イル}カルボニル〕エト−1−オキシイミノ〕
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)酢酸のシン異性体を得る。 次いで、得られた上記生成物と化合物Zを用い
て、実施例1の方法と同様に反応を行ない、最後
に高速液体クロマトグラフイー(担体:マイクロ
ボンダパツクC18、溶媒:塩酸を加えてPH2.5に調
整した15%メタノール)で精製すると、標記目的
化合物の活性体A及び活性体Bを得る。 活性体Aのデータ 融点145〜155℃(分解) IRνKBr naxcm-1:1770,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 1.55(3H,d,>CH−CH3) 3.2〜3.5,3.5〜4.1(合計8H,
2H2Oに対して 計算値 C36.32, H4.64, N20.26 実測値 C36.16, H4.39, N19.98 実施例 6 7β−〔2−〔1−{(ピペラジン−1−イル)カ
ルボニル}エト−1−オキシイミノ〕−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸の塩酸塩(シン異性体): 実施例1のブロム酢酸ブロミドの代わりに2−
プロモプロピオニルブロマイドを用いて順次実施
例1の方法と同様に反応及び精製すると、融点
100〜103℃(分解)の2−〔1−〔{4−(4−メト
キシベンジルオキシカルボニル)ピペラジン−1
−イル}カルボニル〕エト−1−オキシイミノ〕
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)酢酸のシン異性体を得る。 次いで、得られた上記生成物と化合物Zを用い
て、実施例1の方法と同様に反応を行ない、最後
に高速液体クロマトグラフイー(担体:マイクロ
ボンダパツクC18、溶媒:塩酸を加えてPH2.5に調
整した15%メタノール)で精製すると、標記目的
化合物の活性体A及び活性体Bを得る。 活性体Aのデータ 融点145〜155℃(分解) IRνKBr naxcm-1:1770,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 1.55(3H,d,>CH−CH3) 3.2〜3.5,3.5〜4.1(合計8H,
【式】のH)
4・09(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
5.28(1H,d,C6−H)
5.38(1H,d,C7−H)
7.26(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H27N11O6S3・2HCL・
3H2Oに対して 計算値 C34.55, H4.61, N20.15 実測値 C34.41, H4.48, N20.09 活性体Bのデータ 融点145〜155℃(分解) IRνKBr naxcm-1:1780,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 1.56(3H,d,>CH−CH3) 3.2〜3.5,3.6〜4.1(合計8H,
3H2Oに対して 計算値 C34.55, H4.61, N20.15 実測値 C34.41, H4.48, N20.09 活性体Bのデータ 融点145〜155℃(分解) IRνKBr naxcm-1:1780,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 1.56(3H,d,>CH−CH3) 3.2〜3.5,3.6〜4.1(合計8H,
【式】
のH)
4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
5.30(1H,d,C6−H)
5.94(1H,d,C7−H)
7.28(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H27N11O6S3・2HCL・
2H2Oに対して 計算値 C35.39, H4.45, N20.64 実測値 C35.21, H4.68, N20.33 実施例 7 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルオキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)アセタミド〕−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸の塩酸塩(シン
異性体): 2−(ヒドロキシイミノ)−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)酢酸のシン異性体
4.3gをジクロロメタンに懸濁し、イソプロペニ
ルメチルエーテル4mlを加えて1時間攬拌後、乾
固する。残渣をTHFに溶解し、HOBt1.4g、次
いでDCC2.1gを加え、5時間攬拌し、不溶物を
濾去する。濾液を化合物Z3gとトリエチルアミ
ン4mlのDMF溶液に加え、16時間攬拌後、減圧
乾固する。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固する。残
渣にイソプロピルエーテルを加えて粉末となし、
濾取すると縮合体3.5gを得る。 得られた上記生成物3.5gをアセトン25mlに溶
解し、2規定塩酸10mlを加え、1時間攬拌後、乾
固する。残渣に酢酸エチルとTHFの混液を加え、
不溶物を濾去し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、乾固する。残渣にエーテル
を加えた後、濾取して得た粉末(2.3g)をTHF
に溶解し、ジエチルアミン9mlを加えた後、イソ
プロピルエーテルを加える。沈澱物を濾取し、
THF−イソプロピルエーテルで再沈澱後、エー
テルで洗浄すると、融点140〜145℃(分解)の
7β−〔2−(ヒドロキシイミノ)−2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
のジエチルアミン塩のシン異性体1・8gを得
る。 得えられた上記生成物1.2gとピリジン0.4mlの
ジクロロメタン溶液に4−(4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル)ピペラジン−1−カルボニ
ルクロリド630mg{1−(4−メトキシベンジルオ
キシカルボニル)ピペラジルとホスゲンから調
製}を加え、5時間攬拌後、乾固する。残渣を酢
酸エチルに溶解し、水、次いで1%塩酸で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固する。残
渣にイソプロピルエーテルを加えた後濾取し、得
られた粉末(1.2g)に氷冷下アニソール1ml、
次いでトリフロロ酢酸20mlを加え1時間攬拌す
る。トリフロロ酢酸を留去し、残渣にエーテルを
加え、析出物を濾取し、水30mlに溶解し、アンバ
ーライト−45を加えてPH3とし、樹脂を濾去後、
5%塩酸でPH1とする。乾固後、残渣を高速液体
クロマトグラフイー(担体:マイクロボンダパツ
クC18,溶媒:塩酸でPH2に調整した15%メタノ
ール)で精製すると標記目的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1775,1730 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.40,3.86(合計8H,各々broad,
2H2Oに対して 計算値 C35.39, H4.45, N20.64 実測値 C35.21, H4.68, N20.33 実施例 7 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルオキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)アセタミド〕−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸の塩酸塩(シン
異性体): 2−(ヒドロキシイミノ)−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)酢酸のシン異性体
4.3gをジクロロメタンに懸濁し、イソプロペニ
ルメチルエーテル4mlを加えて1時間攬拌後、乾
固する。残渣をTHFに溶解し、HOBt1.4g、次
いでDCC2.1gを加え、5時間攬拌し、不溶物を
濾去する。濾液を化合物Z3gとトリエチルアミ
ン4mlのDMF溶液に加え、16時間攬拌後、減圧
乾固する。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固する。残
渣にイソプロピルエーテルを加えて粉末となし、
濾取すると縮合体3.5gを得る。 得られた上記生成物3.5gをアセトン25mlに溶
解し、2規定塩酸10mlを加え、1時間攬拌後、乾
固する。残渣に酢酸エチルとTHFの混液を加え、
不溶物を濾去し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、乾固する。残渣にエーテル
を加えた後、濾取して得た粉末(2.3g)をTHF
に溶解し、ジエチルアミン9mlを加えた後、イソ
プロピルエーテルを加える。沈澱物を濾取し、
THF−イソプロピルエーテルで再沈澱後、エー
テルで洗浄すると、融点140〜145℃(分解)の
7β−〔2−(ヒドロキシイミノ)−2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
のジエチルアミン塩のシン異性体1・8gを得
る。 得えられた上記生成物1.2gとピリジン0.4mlの
ジクロロメタン溶液に4−(4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル)ピペラジン−1−カルボニ
ルクロリド630mg{1−(4−メトキシベンジルオ
キシカルボニル)ピペラジルとホスゲンから調
製}を加え、5時間攬拌後、乾固する。残渣を酢
酸エチルに溶解し、水、次いで1%塩酸で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾固する。残
渣にイソプロピルエーテルを加えた後濾取し、得
られた粉末(1.2g)に氷冷下アニソール1ml、
次いでトリフロロ酢酸20mlを加え1時間攬拌す
る。トリフロロ酢酸を留去し、残渣にエーテルを
加え、析出物を濾取し、水30mlに溶解し、アンバ
ーライト−45を加えてPH3とし、樹脂を濾去後、
5%塩酸でPH1とする。乾固後、残渣を高速液体
クロマトグラフイー(担体:マイクロボンダパツ
クC18,溶媒:塩酸でPH2に調整した15%メタノ
ール)で精製すると標記目的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1775,1730 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.40,3.86(合計8H,各々broad,
【式】のH)
4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
4.24(2H,s,C3−CH2−S−)
5.30(1H,d,C6−H)
5.90(1H,d,C7−H)
7.50(1H,s,テトラゾール−5−H)
元素分析(%) C20H23N11O6C3・2HCL・
1.5H2Oに対して 計算値 C38.85, H3.98, N21.71 実測値 C33.80, H3.74, N21.31 実施例 8 7β−〔2−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カ
ルボニル}エト−1−オキシイミノ〕−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸の塩酸塩(シン異性体): 1−{3(ベンジルオキシカルボニルアミノオキ
シ)プロビオニル}−4−(第3級ブトキシカルボ
ニル)ピペラジン11.1gに氷冷した25%臭化水素
酢酸溶液78mlを加え、氷冷下20分、室温にて40分
攬拌後、氷冷攬拌下エーテル100mlを加え、上澄
をデカントする。残渣にエーテルを加えてデカン
トする操作を繰り返した後、五酸化燐上で減圧乾
燥して得た白色粉末9.1gを氷水32mlに溶解する。
氷冷攬拌下、2N−水酸化ナトリウム34ml、次い
でジオキサン182mlを加える。室温に戻した後2
−(第3級ブトキシカルボニルオキシイミノ)−2
−フエニルアセトニトリル3.4gを加え、2時間
攬拌し、更に同アセトニトリル化合物2.0gを加
えて2時間攬拌する。ジオキサンを留去し、残渣
に水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性とした
後、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、乾固する。残渣をシリカゲルのクロマ
トグラフイー(溶媒:クロロホルムとメタノール
の混液)で精製すると、無色油状のエトキシアミ
ン体5.3gを得る。 得られた上記生成物と2−(トリチルアミノ)
チアゾール−4−グリオキシル酸を用いて実施例
1の方法と同様に反応を行えば、融点125〜135℃
(分解)の2−〔{4−(第3級ブトキシカルボニ
ル)ピペラジン−1−イル}カルボニルメトキシ
イミノ〕−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)酢酸のシン異性体を得、次いで、得ら
れた生成物と化合物Zを用いて実施例1の方法と
同様に反応及び精製すると、標記目的化合物を得
る。 IRνKBr naxcm-1:1775,1625 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.97(2H,broad,−CH2CO−) 3.33,3.88(合計8H,各々broad,
1.5H2Oに対して 計算値 C38.85, H3.98, N21.71 実測値 C33.80, H3.74, N21.31 実施例 8 7β−〔2−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カ
ルボニル}エト−1−オキシイミノ〕−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸の塩酸塩(シン異性体): 1−{3(ベンジルオキシカルボニルアミノオキ
シ)プロビオニル}−4−(第3級ブトキシカルボ
ニル)ピペラジン11.1gに氷冷した25%臭化水素
酢酸溶液78mlを加え、氷冷下20分、室温にて40分
攬拌後、氷冷攬拌下エーテル100mlを加え、上澄
をデカントする。残渣にエーテルを加えてデカン
トする操作を繰り返した後、五酸化燐上で減圧乾
燥して得た白色粉末9.1gを氷水32mlに溶解する。
氷冷攬拌下、2N−水酸化ナトリウム34ml、次い
でジオキサン182mlを加える。室温に戻した後2
−(第3級ブトキシカルボニルオキシイミノ)−2
−フエニルアセトニトリル3.4gを加え、2時間
攬拌し、更に同アセトニトリル化合物2.0gを加
えて2時間攬拌する。ジオキサンを留去し、残渣
に水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性とした
後、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、乾固する。残渣をシリカゲルのクロマ
トグラフイー(溶媒:クロロホルムとメタノール
の混液)で精製すると、無色油状のエトキシアミ
ン体5.3gを得る。 得られた上記生成物と2−(トリチルアミノ)
チアゾール−4−グリオキシル酸を用いて実施例
1の方法と同様に反応を行えば、融点125〜135℃
(分解)の2−〔{4−(第3級ブトキシカルボニ
ル)ピペラジン−1−イル}カルボニルメトキシ
イミノ〕−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)酢酸のシン異性体を得、次いで、得ら
れた生成物と化合物Zを用いて実施例1の方法と
同様に反応及び精製すると、標記目的化合物を得
る。 IRνKBr naxcm-1:1775,1625 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.97(2H,broad,−CH2CO−) 3.33,3.88(合計8H,各々broad,
【式】のH)
4.10(3H,s,テトラゾール−1−CH3)
4.63(2H,broad,−OCH2−)
5.26(1H,d,C6−H)
5.82(1H,d,C7−H)
7.21(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H27N11O6S3・2HCl・2H2O
に対して 計算値 C35.39, H4.45, N20.64 実測値 C35.78, H4.40, N20.74 実施例 9 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{1−(2−
ジメチルアミノエチル)−1H−テトラゾール−
5−イル}チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−{1−(2−ジメ
チルアミノエチル)−1H−テトラゾ−ル−5−イ
ル}チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
を用いて実施例1の方法と同様に反応及び精製す
ると標記目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.05(6H,s,
に対して 計算値 C35.39, H4.45, N20.64 実測値 C35.78, H4.40, N20.74 実施例 9 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{1−(2−
ジメチルアミノエチル)−1H−テトラゾール−
5−イル}チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−{1−(2−ジメ
チルアミノエチル)−1H−テトラゾ−ル−5−イ
ル}チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
を用いて実施例1の方法と同様に反応及び精製す
ると標記目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.05(6H,s,
【式】)
3.38,3.86(合計8H,各々broad,
【式】のH)
4.24(2H,s,−C3−CH2S−)
4.94(2H,t,−CH2N(CH3)2)
5.15(2H,s,−OCH2CO−)
5.30(1H,d,C6−H)
5.85(1H,d,C7−H)
7.28(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C24H32N12O6S3・3HCl・2H2O
に対して 計算値 C35.67, H4.61, N20.14 実測値 C35.88, H4.90, N19.75 実施例 10 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{1−(カル
バモイルメチル)−1H−テトラゾール−5−イ
ル}チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−{1−(カルバモ
イルメチル)−1H−テトラゾール−5−イル}チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用い
て実施例1の方法と同様に反応及び精製すると標
記目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.36,3.86(合計8H,各々broad,
に対して 計算値 C35.67, H4.61, N20.14 実測値 C35.88, H4.90, N19.75 実施例 10 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{1−(カル
バモイルメチル)−1H−テトラゾール−5−イ
ル}チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−{1−(カルバモ
イルメチル)−1H−テトラゾール−5−イル}チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用い
て実施例1の方法と同様に反応及び精製すると標
記目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.36,3.86(合計8H,各々broad,
【式】のH)
5.12(2H,s,=N−O−CH2−)
5.26(1H,d,C6−H)
5.36(2H,s,−CH2CONH2)
5.82(1H,d,C7−H)
7.26(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H26N12O7S3・2HCl・2H2O
に対して 計算値 C34.07, H3.90, N21.67 実測値 C33.96, H4.20, N21.34 実施例 11 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{1−(カル
ボキシメチル)−1H−テトラゾール−5−イ
ル}チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−{1−(カルボキ
シメチル)−1H−テトラゾール−5−イル}チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて
実施例1の方法と同様に反応及び精製すると標記
目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.36,3.86(合計8H,各々broad,
に対して 計算値 C34.07, H3.90, N21.67 実測値 C33.96, H4.20, N21.34 実施例 11 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{1−(カル
ボキシメチル)−1H−テトラゾール−5−イ
ル}チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−{1−(カルボキ
シメチル)−1H−テトラゾール−5−イル}チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて
実施例1の方法と同様に反応及び精製すると標記
目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.36,3.86(合計8H,各々broad,
【式】のH)
5.14(2H,s,−OCH2CO−)
5.24(2H,s,>N−CH2COOH)
5.28(1H,d,C6−H)
5.85(1H,d,C7−H)
7.28(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H25N11O8S3・2HCl・2H2O
に対して 計算値 C34.02, H4.04, N19.84 実測値 C34.22, H3・98, N19.45 実施例 12 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸のナト
リウム塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−アセトキシメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて実施
例1の方法と同様に反応を行ない、得られた粗体
をダイヤイオンHP−20を担体とするカラムクロ
マトグラフイー(溶媒:5〜20%エタノール)、
次いで高速液体クロマトグラフイー(担体:マイ
クロボンダパツクC18,溶媒:20%メタノール)
で精製すると標記目的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1770,1730,1635 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 20.1(3H,S,−OCOCH3) 3.74〜3.84,3.16〜3.30(合計8H,
に対して 計算値 C34.02, H4.04, N19.84 実測値 C34.22, H3・98, N19.45 実施例 12 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸のナト
リウム塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−アセトキシメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて実施
例1の方法と同様に反応を行ない、得られた粗体
をダイヤイオンHP−20を担体とするカラムクロ
マトグラフイー(溶媒:5〜20%エタノール)、
次いで高速液体クロマトグラフイー(担体:マイ
クロボンダパツクC18,溶媒:20%メタノール)
で精製すると標記目的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1770,1730,1635 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 20.1(3H,S,−OCOCH3) 3.74〜3.84,3.16〜3.30(合計8H,
【式】のH)
5.01(2H,s,−OCH2CO−)
5.25(1H,d,C6−H)
5.85(1H,d,C7−H)
7.10(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C21H24O8N7S2Na・3H2Oに対
して 計算値 C39.19, H4.70, N15.23 実測値 C38.81, H4.40, N15.18 実施例 13 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{セフエム−
4−カルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Y720mgと7−アミノ−3−セフエム−
4−カルボン酸のp−ニトロベンジルエステル
335mgをTHF20mlに溶解し、氷冷攬拌下
HOBt135mg及びDCC208mgを加えた後、同温度で
1時間、次いで室温にて一夜攬拌する。不溶物を
濾去後、乾固し、残渣をシリカゲルのカラムクロ
マグラフイー(溶媒:クロロホルムとメタノール
の混液)で精製すると融点130〜138℃の7β−〔2
−〔{4−(4−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル)ピペラジン−1−イル}カルボニルメトキシ
イミノ〕−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセタミド〕−3−セフエム−4−カルボン
酸のp−ニトロベンジルエステルのシン異性体
800mgを得る。 得られた上記生成物800mgをTHFに溶解し、10
%パラジウム炭素500mgを加え、常圧下接触還元
する。触媒を濾去後、濾液を乾固し、残渣にエー
テルを加えて濾取した黄色粉末にアニソール1ml
と氷冷したトリフロロ酢酸30mlを加え、2.5時間
攬拌する。トリフロロ酢酸を留去し、残渣にエー
テルを加えた後、濾取して得られた粗体に10%塩
酸を加え、不溶物を濾去後、乾固する。残渣を高
速液体クロマトグラフイー(担体:マイクロボン
ダパクC18,溶媒:塩酸を加えてPH2.5に調整した
15%メタノール)で精製すると標記目的化合物を
得る。 IRνKBr naxcm-1:1770,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.34,3.85(合計8H,各々m,
して 計算値 C39.19, H4.70, N15.23 実測値 C38.81, H4.40, N15.18 実施例 13 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−{セフエム−
4−カルボン酸の塩酸塩(シン異性体): 化合物Y720mgと7−アミノ−3−セフエム−
4−カルボン酸のp−ニトロベンジルエステル
335mgをTHF20mlに溶解し、氷冷攬拌下
HOBt135mg及びDCC208mgを加えた後、同温度で
1時間、次いで室温にて一夜攬拌する。不溶物を
濾去後、乾固し、残渣をシリカゲルのカラムクロ
マグラフイー(溶媒:クロロホルムとメタノール
の混液)で精製すると融点130〜138℃の7β−〔2
−〔{4−(4−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル)ピペラジン−1−イル}カルボニルメトキシ
イミノ〕−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセタミド〕−3−セフエム−4−カルボン
酸のp−ニトロベンジルエステルのシン異性体
800mgを得る。 得られた上記生成物800mgをTHFに溶解し、10
%パラジウム炭素500mgを加え、常圧下接触還元
する。触媒を濾去後、濾液を乾固し、残渣にエー
テルを加えて濾取した黄色粉末にアニソール1ml
と氷冷したトリフロロ酢酸30mlを加え、2.5時間
攬拌する。トリフロロ酢酸を留去し、残渣にエー
テルを加えた後、濾取して得られた粗体に10%塩
酸を加え、不溶物を濾去後、乾固する。残渣を高
速液体クロマトグラフイー(担体:マイクロボン
ダパクC18,溶媒:塩酸を加えてPH2.5に調整した
15%メタノール)で精製すると標記目的化合物を
得る。 IRνKBr naxcm-1:1770,1630 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.34,3.85(合計8H,各々m,
【式】のH)
3.70(2H,m,C2−H)
5.10(2H,s,−OCH2CO−)
5.28(1H,d,C6−H)
5.92(1H,d,C7−H)
6.70(1H,m,C3−H)
7.25(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C18H21N7S2O6・2HCl・3H2O
に対して 計算値 C34.73, H4.37, N15.75 実測値 C35.10, H4.18, N15.35 実施例 14 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−(5−アミノ
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−(5−アミノ−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて実
施例1の方法と同様に反応及び精製すると標記目
的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1765,1660,1620 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.36(4H,d,
に対して 計算値 C34.73, H4.37, N15.75 実測値 C35.10, H4.18, N15.35 実施例 14 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−(5−アミノ
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−(5−アミノ−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて実
施例1の方法と同様に反応及び精製すると標記目
的化合物を得る。 IRνKBr naxcm-1:1765,1660,1620 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 3.36(4H,d,
【式】のH)
5.12(2H,s,−OCH2CO−)
5.28(1H,d,C6−H)
5.83(1H,d,C7−H)
7.28(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C21H24N10O6S4・2HCl・
2.5H2Oに対して 計算値 C33.24, H4.12, N18.46 実測値 C33.53, H4.02, N18.11 実施例 15 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−(5−メチル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−(5−メチル−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメ
テチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて
実施例1の方法と同様に反応及び精製すると標記
目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.74(3H,s,チアジアゾール−5−CH3) 3.36,3.85(合計8H、各々broad,
2.5H2Oに対して 計算値 C33.24, H4.12, N18.46 実測値 C33.53, H4.02, N18.11 実施例 15 7β−〔2−{(ピペラジン−1−イル)カルボニ
ルメトキシイミノ}−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセタミド〕−3−(5−メチル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸の塩
酸塩(シン異性体): 化合物Yと7β−アミノ−3−(5−メチル−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメ
テチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用いて
実施例1の方法と同様に反応及び精製すると標記
目的化合物を得る。 FT−NMR(D2O,200MHZ)δppm: 2.74(3H,s,チアジアゾール−5−CH3) 3.36,3.85(合計8H、各々broad,
【式】のH)
5.14(2H,s,−OCH2CO−)
5.28(1H,d,C6−H)
5・80(1H,d,C7−H)
7.30(1H,s,チアゾール−5−H)
元素分析(%) C22H25N9O6S4・2HCl・2H2O
に対して 計算値 C35.29, H3.90, N16.84 実測値 C34.95, H4・09, N16.47
に対して 計算値 C35.29, H3.90, N16.84 実測値 C34.95, H4・09, N16.47
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、R1は単結合又は直鎖若しくは分岐鎖
の低級アルキレン基を示し、R3は水素原子、低
級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を示し、R4は水素原
子;アセトキシメチル基;低級アルキル基、低級
アルキルアミノ低級アルキル基、カルバモイル低
級アルキル基若しくはカルボキシ低級アルキル基
が置換したテトラゾリルチオメチル基;又は低級
アルキル基若しくはアミノ基が置換したチアジア
ゾリルチオメチル基を示す〕 で表わされるセフアロスポリン誘導体又はその
塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56160006A JPS5862181A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | セフアロスポリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56160006A JPS5862181A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | セフアロスポリン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5862181A JPS5862181A (ja) | 1983-04-13 |
| JPH032871B2 true JPH032871B2 (ja) | 1991-01-17 |
Family
ID=15705933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56160006A Granted JPS5862181A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | セフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5862181A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2716677C2 (de) * | 1977-04-15 | 1985-10-10 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Cephemderivate und Verfahren zu ihrer Herstellung |
-
1981
- 1981-10-07 JP JP56160006A patent/JPS5862181A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5862181A (ja) | 1983-04-13 |
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