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JPH0338344B2 - - Google Patents
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JPH0338344B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0338344B2
JPH0338344B2 JP4141487A JP4141487A JPH0338344B2 JP H0338344 B2 JPH0338344 B2 JP H0338344B2 JP 4141487 A JP4141487 A JP 4141487A JP 4141487 A JP4141487 A JP 4141487A JP H0338344 B2 JPH0338344 B2 JP H0338344B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
design
lines
dots
punching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4141487A
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English (en)
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JPS63210284A (ja
Inventor
Mitsuru Saito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Filcon Co Ltd
Original Assignee
Nippon Filcon Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Filcon Co Ltd filed Critical Nippon Filcon Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属のエツチング、特にハーフエツチ
ングによる図案形成と打抜きを同時に行うエツチ
ング方法に関する。
従来のエツチングにおいては、金属板表面上に
打抜き部だけでなく図案も実線で描くため、ハー
フエツチングによる図案形成と打抜きとを同時に
行う場合、片面エツチングでは第1図のようにハ
ーフエツチングとはならず、すべて打抜きとなつ
てしまう。また金属板表裏両面から打抜き部を形
成する両面エツチングでは、第2図に示したよう
に打抜きと表裏何れか一方へのハーフエツチング
による図案形成の場合、第3図に示したように打
抜きのみによる打抜き部と図案形成の場合、第4
図に示したように打抜きと表裏で図案が重ならな
いようにした両面ハーフエツチングによる場合の
三通りが考えられる。ところが、両面エツチング
で打抜きと図案形成を同時に行うと、表裏で図案
の重なつた部分が貫通してしまい、何れか一方か
ら見た図案のみが良好に認識されるだけで、他方
の面の図案は非常に粗悪なものとなつてしまう。
これを避けるためには表裏の図案が重ならないよ
うにしなければならず、製作可能な図案が極端に
制限されてしまうのである。
本発明は、これら従来技術の欠点に鑑み、片面
エツチングではハーフエツチングによる金属板表
面への図案の形成と打抜き、また両面エツチング
では金属板両面への良好な図案形成と打抜きを同
時に行う技術を提供することを目的とするもので
ある。
即ち、本発明はフオトマスク作成時において、
ハーフエツチングにより図案を形成しようする図
案部分に感光フイルムとレンズの間もしくはレン
ズと原図の間に細かいメツシユを介し、細かいメ
ツシユを掛けることにより、ハーフエツチングに
より図案を形成する図案部分が打ち抜き部より小
さい多数の点または線で形成されたフオトマスク
を作成し、該フオトマスクを、予めフオトレジス
トを塗布してある金属板に合わせ、露光し、現像
することにより、金属板上に多数の点または線で
図案を描き、上記方法により打ち抜き部とハーフ
エツチング部の該点または線に大小をつけてエツ
チングを行い、エツチング面積に依るエツチング
速度の差を利用してハーフエツチングによる良好
な図案形成と打抜きを同時に行うものである。
以下図面に基づいて本発明の実施例を説明す
る。
第5図はハーフエツチングによる図案形成部を
打ち抜き部以上の大きさの点または打ち抜き部以
上の太さの線により描くことによる従来の方法に
て両面エツチングにより打抜き部Cと同時に金属
板表裏両面に図案A及びBを形成した時の断面図
である。従来の方法では図案の微細な部分を除い
て表裏で図案の重なつた部分ではハーフエツチン
グ部と打抜き部のエツチング速度がほぼ等しいた
めに貫通してしまい、表裏共にハーフエツチング
時とは視覚的に異なつた図案となつてしまう。そ
こで本発明では、金属板表裏両面全体に図案形成
を行う場合であつても、その図案の位置が表裏で
重なり、更にその部分が打抜きを目的としない部
位であるとき、その重なる部分の表裏両方もしく
は一方の図案を点又は線で描くことにより、エツ
チング後も表裏独立した良好な図案形成を可能と
するものである。
第6図、第7図及び第8図は、ハーフエツチン
グにより図案を形成する部分を打ち抜き部より小
さい多数の点または線で作成する本発明の実施例
を示すエツチングされた金属板の断面図である。
本発明では、打抜き部以外の図案を点または線で
描くため、第6図に示したように片面エツチング
ではその点または線の大小に依存するエツチング
速度の差によつて、ハーフエツチングによる金属
板表面への図案形成と打抜き部Cの形成とを同時
に行うことができる。エツチング初期では図案等
を形成する線又は点の大きさによるエツチング速
度の差はあまり無いが、エツチングが進行するに
つれ、線又は点の大きさが小さいほどエツチング
されていく溝内でのエツチング液の交換率が低下
し、線又は点の大きさが大きいものと比較してエ
ツチング速度が遅くなるからである。また、両面
エツチングの場合でも同様に図案を打抜き部より
小さい点または線で描くことにより、第7図に示
したように金属板の表裏で図案が重なる部分があ
つても貫通することはなく、図案AとBは各々の
面で独立して形成されるため、視覚的にも良好で
あり、さらに両面の図案の選定にほとんど制限を
与えないのである。第8図は第7図と同様両面エ
ツチングの実施例であるが、表裏で図案が重なる
部分で、表裏各々の図案を構成する各々の点また
は線が表裏の位置において重ならないようにした
ものである。この方法は、特に板厚の薄い場合に
オーバーエツチング等による貫通の危険性を低下
させることができる。
図案を構成する点や径や線の幅は、板厚の2分
の1以下が適当であるが、細かい程認識される図
案の形状は良好である。また、本発明のエツチン
グ方法は、エツチングできるものならば、金属に
限らずガラス、プラスチツク等の非金属にも適応
できる。
以上詳述した如く、本発明のエツチング方法は
図案形成と打抜きを同時に行うことを可能にした
ものであり通常のエツチング工程による処理のみ
で従来のエツチング方法に比べ、片面両面を問わ
ず自在な図案の形成を達成することができるもの
である。
【図面の簡単な説明】
第1〜5図は従来のエツチング方法による金属
板の断面図。第6〜8図は本発明のエツチング方
法による金属板の断面図。 1……金属板、2……フオトレジスト、3……
図案を構成する点または線、A……図案A、B…
…図案B、C……打抜き部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 フオトマスク作成時において、ハーフエツチ
    ングにより図案を形成する部分を打ち抜き部より
    小さい多数の点または線で作成し、該フオトマス
    クを、予めフオトレジストを塗布してある金属板
    に合わせ、露光し、現像することにより、金属板
    上に多数の点または線で図案を描き、上記方法に
    より打ち抜き部とハーフエツチング部の該点また
    は線に大小をつけてエツチングを行い、ハーフエ
    ツチングによる図案形成と打抜きを同時に行うこ
    とを特徴とするエツチング方法。 2 前記エツチングが片面エツチングであること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のエツ
    チング方法。 3 前記エツチングが両面エツチングであること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のエツ
    チング方法。
JP4141487A 1987-02-26 1987-02-26 エツチング方法 Granted JPS63210284A (ja)

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JP4141487A JPS63210284A (ja) 1987-02-26 1987-02-26 エツチング方法

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JPS63210284A JPS63210284A (ja) 1988-08-31
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6413437B1 (en) * 1998-06-08 2002-07-02 Texas Instruments Incorporated Fine featured photo-resist artwork design for chemical milling
JP4574868B2 (ja) * 2001-01-12 2010-11-04 ローム株式会社 半導体装置

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