JPH049793B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH049793B2 JPH049793B2 JP59153291A JP15329184A JPH049793B2 JP H049793 B2 JPH049793 B2 JP H049793B2 JP 59153291 A JP59153291 A JP 59153291A JP 15329184 A JP15329184 A JP 15329184A JP H049793 B2 JPH049793 B2 JP H049793B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- styrene
- reaction
- benzothiazole
- carried out
- phenylethyltrichlorosilane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 10
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 9
- WBMYSLWIVYOVHY-UHFFFAOYSA-N chloro(2-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[SiH2]CCC1=CC=CC=C1 WBMYSLWIVYOVHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- LPEPXQRITZMOPR-UHFFFAOYSA-N trichloro(1-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C(C)C1=CC=CC=C1 LPEPXQRITZMOPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 6
- FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=CC=C1 FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- GTLWADFFABIGAE-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethylbenzene Chemical compound CC(Cl)C1=CC=CC=C1 GTLWADFFABIGAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AWOWZCCXJHIZBU-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethylsilane Chemical compound CC([SiH3])C1=CC=CC=C1 AWOWZCCXJHIZBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAGTZEZXHQEPGL-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethylsilane Chemical compound [SiH3]CCC1=CC=CC=C1 HAGTZEZXHQEPGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHELIUBJHYAEDK-OAIUPTLZSA-N Aspoxicillin Chemical compound C1([C@H](C(=O)N[C@@H]2C(N3[C@H](C(C)(C)S[C@@H]32)C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)CC(=O)NC)=CC=C(O)C=C1 BHELIUBJHYAEDK-OAIUPTLZSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- OTAAYCNLOFONCQ-UHFFFAOYSA-N chloro(1-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[SiH2]C(C)C1=CC=CC=C1 OTAAYCNLOFONCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- SSVFCHUBLIJAMI-UHFFFAOYSA-N platinum;hydrochloride Chemical compound Cl.[Pt] SSVFCHUBLIJAMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明の対象は、水素クロルシランを白金触媒
の存在で、スチロールに付加する、２−フエニル
エチルクロルシランの製法である。この方法は、
１−フエニルエチル化合物の形成を抑圧する。 従来の技術 白金触媒の存在でSi−Ｈ−結合１つまたは２つ
を有するケイ素化合物に対し不飽和有機化合物を
付加するのは一般に公知である〔J.Am.Ch.
Soc.79、（1975年、第974〜979ページ）参照〕。こ
の付加反応とも呼ばれる反応においては、未端位
に多重結合を有する不飽和有機化合物を使用する
際、シリル基は主として未端位の炭素原子に付加
される；しかしながら多かれ少なかれ大きな程度
で、隣接炭素原子に対するシリル基の付加も行な
われ、それにより主に所望の、シリル基を未端位
に有する化合物の収量が減少する。 その上になお、スチロールのSi−Ｈ−化合物と
の反応の際、反応条件下に容易にポリスチロール
へのスチロールの部分重合が生起し、それにより
またしてもフエニルエチルシランの収量が減少す
るという事情が起きる。この重合傾向は、白金化
合物を担体としての活性炭に担持させて使用する
場合に特に大きい。 それゆえ、既にこの欠点を避ける事を試みる、
多くの方法が既に記載されている。しかし、所望
でない１−フエニルエチルシランの形成を抑圧す
る全ての不均一系は、さらにスチロール−重合体
が過大に形成するという欠点を有する。 他面において、スチロール−重合体の形成を抑
圧する方法、たとえば触媒として錯白金化合物ま
たはロジウム化合物を使用するかおよび／または
特定の溶剤を使用するような方法は、これまで前
述の問題の十分な解決をもたらさなかつた。 西ドイル国特許第260217号明細書には、付加反
応において促進剤としてフエノチアジンおよび他
の窒素含有化合物の添加が記載されており；そこ
にはスチロールとトリクロルシランとの反応の際
にこの化合物を使用すれば、もつぱらβ−付加体
（即ち２−フエニルエチルトリクロルシラン）が、
形成するので、そこに記載された方法は上述の問
題の解決をもたらすものと思われる。 しかし、このもつぱら２−フエニルエチルトリ
クロルシランが形成するのはより低い温度および
より低い反応速度を適用する際に生じるにすぎな
い。これに反してこの方法を約50℃より上の温度
で実施する場合、特に単位時間あたりできるかぎ
り大きな収量を得るために、工業的目的に必要で
ある高い配量速度を選択する場合、またしてもか
なりの量を１−フエニルエチルトリクロルシラン
が得られる。 発明が解決しようとする問題点 従つて、スチロールに対する水素クロルシラン
の、白金触媒による付加反応を、反応を100℃ま
での温度、出発物質の大きな通過速度で実施する
場合でも、１−フエニルエチルクロルシランおよ
びスチロールのポリマーの形成が抑圧されるよう
に実施するという課題が生じた。 問題点を解決するための手段 ところで、この課題の解決において、白金触媒
の存在で均一系でスチロールに水素クロルシラン
を付加させる事により２−フエニルエチルクロル
シランを製造するため、反応をベンゾチアゾール
の存在で実施する事を特徴とする、２−フエニル
エチルクロルシランの製法が見出された。 本発明による実施方法を適用する際、実際に所
望の２−フエニルエチルクロルシランのみが得ら
れ、使用されたスチロールの収率は90％より上で
ある。特許請求の範囲第２項から第６項の有利な
実施態様では、使用されたスチロールの収率はそ
れどころか98％より上である。この良好な結果
は、反応を約100℃までの高められた温度で実施
しかつ工業的規模での進行に要求されるような、
高い空時収量を得ようとするときにも得られるの
で、たとえば毎時スチロール10モルより多く（約
1.15）を反応させる事ができる。 使用すべきベンゾチアゾールの量は広い範囲内
で変える事ができる。基準値としては、使用され
た白金触媒の量が使用できる。この場合、ベンゾ
チアゾール量は少なくともモル量で白金触媒に相
当すべきである。白金触媒対ベンゾチアゾールの
有利なモル比は、１：２〜１：50である。より大
量も原則的には可能であるが、別の明らかな利点
をもたらさない。 白金触媒は、自体公知の量で使用される。純粋
出発物質では、触媒は既にスチロール１モルあた
り10-8モルの量で使用する事ができる。しかしこ
れは一般に、スチロール１モルあたり10-7〜10-3
モルの量で使用される。有利な範囲は、スチロー
ル１モルあたり１×10-6〜１×10-5モルである。 有利な白金触媒はH2Ptcl6である。しかしなが
ら、付加反応に公知の全ての他の使用可能な白金
化合物も、これが反応混合物、殊に水素クロルシ
ランに可溶であるかぎり使用する事ができる。触
媒自体は、有利にアセトン中の均一な溶液で添加
される。 本発明による方法は、有利に40〜90℃の温度で
実施される。有利な温度範囲は65〜75℃である。
90℃より上の温度では、ベンゾチアゾールを過少
量使用する際に再び少量の１−フエニルエチルク
ロルシランが形成しうる。 反応の間溶剤の存在を避けるために、より高い
温度範囲内で、有利に生成する過圧で作業し、こ
れは２〜６バールであつてよい。しかし、常圧で
付加反応を進行させる事も原則的には可能であ
る。しかしこの場合には、水素クロルシランの沸
点よりも上の温度で、適当な沸点を有する不活性
溶剤の存在で作業する事が必要であり；それによ
り系の沸点範囲は高くなり、反応進行は有利な温
度範囲で進行しうる。 有利な水素クロルシラン成分はトリクロルシラ
ンである。しかし、水素クロルシランとしてたと
えば水素メチルジクロルシラン、アルキル基に２
〜８のｃ−原子を有する水素アルキルジクロルシ
ランまたはジ水素ジクロルシランも使用できる。 発明の効果 本方法は、連続的かまたは不連続的に実施する
事ができる。不連続的作業方法では、有利に水素
クロルシランを装入し、スチロールを所望の空時
収量に必要な配量速度で導入する。この場合、触
媒およびベンゾチアゾールは有利に装入された水
素クロルシラン中に含有されている。 連続的作業方法では、たとえば反応成分を、反
応物が所望の反応温度に加熱される管状反応器に
ゲート弁を経て通過させる。この場合、反応器中
での反応物の滞留時間は、不連続的実施方法に相
当する空時収量が得られるように選択する事がで
きる。 連続的作業方法でも、不連続的作業方法でも反
応生成物の後処理は自体公知の方法で、有利に２
−フエニルエチルクロルシランの分留により行な
われる。 ２−フエニルエチルクロルシラン、殊に２−フ
エニルエチルトリクロルシランは防蝕剤の製造の
際、工業的に重要な中間生成物である。これはさ
らにシリコーンの変性のために使用される。 実施例 次例１〜４は全て次の構造の装置中で実施す
る：挿入加熱器により水で所望の温度に加熱可能
な内容約30の鋼蒸留器は、鋼導管を介して、蒸
留缶上方に存在する管状冷却器（表面約１m2）と
接続されている。冷却器の下部から導管が下方
へ、蒸留缶蓋中へ開口する、サイホンの曲管（φ
＝20mm）に通じている。蒸溜缶自体は圧力計およ
び温度計を備えており、出発物質を圧力ポンプに
より案内する導管を有する。冷却器は、冷却媒体
としての水で作業する。 次例１〜４では、蒸留缶中へそれぞれ、アセト
ン19ml中のH2Ptcl6×6H2olgの溶液５ml（＝94.5
mg＝4.8×10-4モル）が添加されているトリクロ
ルシラン13500ｇ（100モル）を装入する。触媒量
は、反応物の総計に対して白金約4.3ppmに相当
する。挿入加熱器の蛇官に熱湯を供給する事によ
り系は約70℃に加熱され、その場合3.2バールの
内圧が生成する。蒸留器の上部の管状冷却器で、
トリクロルシラン蒸気の凝縮が起きる。生じる凝
縮物をサイホンを経て蒸溜缶中へ戻す。凝縮の開
始後、スチロールそれぞれ8320ｇ（80モル＝9.2
）を圧力ポンプにより、そのつど異なる配量速
度で蒸留缶中へ導入する。供給の終了後なお短時
間後反応させ、次いで系を冷却し、得られた反応
生成物を蒸留する。これを、ガスクロマトグラフ
イーで１−フエニルエチルトリクロルシランの含
量（面積パーセント）を調べる。引続き双方の異
性体を留出させ、使用されたスチロールに対する
収率を測定する。 例 １ 上述の一般的作業方法を、促進剤の添加なしに
スチロール２／ｈの配量速度で実施する。結果
は表１から明らかである。 例 ２ 例１の一般的作業方法を、種々の量のフエノチ
アジンの添加で実施する。フエノチアジン370ml
ないしは1000mgないしは10000mgを使用した。上
述の配量速度で、既に双方の異性体の得られた混
合物中の１−フエニルエチルトリクロルシランの
2.5〜11％の分量が得られる。詳細な結果は表１
から明らかであり、この中で種々の量のフエノチ
アジンを用いる実験は2a〜2cで挙げられている。 例 ３ 例２の作業方法を、フエノチアジンの代わり
に、表１から認められる種々の量のベンゾチアゾ
ールを使用して繰り返す。ベンゾチアゾール22×
10-5モル（＝1.4ppm、反応成分に対して）を使
用する際既に、反応生成物中にほんのわずかな量
の１−異性体が存在するにすぎない。使用された
スチロールに対する収量は既にこのわずかな量
で、フエノチアジンを用い、これを約２×10乗よ
り多い量で使用する場合に達成される値よりも上
である。個々の結果は表１から明らかである。 表では比較のためベンゾチアゾールを促進剤と
記載する；ppm数値は双方の反応成分の総計に関
するものである。１−異性体の分量は、得られた
１−フエニルエチルトリクロルシランおよび２−
フエニルエチルトリクロルシランから成る混合物
中の１−フエニルエチルトリクロルシランの分量
である。収率は双方の異性体を包含する。
の存在で、スチロールに付加する、２−フエニル
エチルクロルシランの製法である。この方法は、
１−フエニルエチル化合物の形成を抑圧する。 従来の技術 白金触媒の存在でSi−Ｈ−結合１つまたは２つ
を有するケイ素化合物に対し不飽和有機化合物を
付加するのは一般に公知である〔J.Am.Ch.
Soc.79、（1975年、第974〜979ページ）参照〕。こ
の付加反応とも呼ばれる反応においては、未端位
に多重結合を有する不飽和有機化合物を使用する
際、シリル基は主として未端位の炭素原子に付加
される；しかしながら多かれ少なかれ大きな程度
で、隣接炭素原子に対するシリル基の付加も行な
われ、それにより主に所望の、シリル基を未端位
に有する化合物の収量が減少する。 その上になお、スチロールのSi−Ｈ−化合物と
の反応の際、反応条件下に容易にポリスチロール
へのスチロールの部分重合が生起し、それにより
またしてもフエニルエチルシランの収量が減少す
るという事情が起きる。この重合傾向は、白金化
合物を担体としての活性炭に担持させて使用する
場合に特に大きい。 それゆえ、既にこの欠点を避ける事を試みる、
多くの方法が既に記載されている。しかし、所望
でない１−フエニルエチルシランの形成を抑圧す
る全ての不均一系は、さらにスチロール−重合体
が過大に形成するという欠点を有する。 他面において、スチロール−重合体の形成を抑
圧する方法、たとえば触媒として錯白金化合物ま
たはロジウム化合物を使用するかおよび／または
特定の溶剤を使用するような方法は、これまで前
述の問題の十分な解決をもたらさなかつた。 西ドイル国特許第260217号明細書には、付加反
応において促進剤としてフエノチアジンおよび他
の窒素含有化合物の添加が記載されており；そこ
にはスチロールとトリクロルシランとの反応の際
にこの化合物を使用すれば、もつぱらβ−付加体
（即ち２−フエニルエチルトリクロルシラン）が、
形成するので、そこに記載された方法は上述の問
題の解決をもたらすものと思われる。 しかし、このもつぱら２−フエニルエチルトリ
クロルシランが形成するのはより低い温度および
より低い反応速度を適用する際に生じるにすぎな
い。これに反してこの方法を約50℃より上の温度
で実施する場合、特に単位時間あたりできるかぎ
り大きな収量を得るために、工業的目的に必要で
ある高い配量速度を選択する場合、またしてもか
なりの量を１−フエニルエチルトリクロルシラン
が得られる。 発明が解決しようとする問題点 従つて、スチロールに対する水素クロルシラン
の、白金触媒による付加反応を、反応を100℃ま
での温度、出発物質の大きな通過速度で実施する
場合でも、１−フエニルエチルクロルシランおよ
びスチロールのポリマーの形成が抑圧されるよう
に実施するという課題が生じた。 問題点を解決するための手段 ところで、この課題の解決において、白金触媒
の存在で均一系でスチロールに水素クロルシラン
を付加させる事により２−フエニルエチルクロル
シランを製造するため、反応をベンゾチアゾール
の存在で実施する事を特徴とする、２−フエニル
エチルクロルシランの製法が見出された。 本発明による実施方法を適用する際、実際に所
望の２−フエニルエチルクロルシランのみが得ら
れ、使用されたスチロールの収率は90％より上で
ある。特許請求の範囲第２項から第６項の有利な
実施態様では、使用されたスチロールの収率はそ
れどころか98％より上である。この良好な結果
は、反応を約100℃までの高められた温度で実施
しかつ工業的規模での進行に要求されるような、
高い空時収量を得ようとするときにも得られるの
で、たとえば毎時スチロール10モルより多く（約
1.15）を反応させる事ができる。 使用すべきベンゾチアゾールの量は広い範囲内
で変える事ができる。基準値としては、使用され
た白金触媒の量が使用できる。この場合、ベンゾ
チアゾール量は少なくともモル量で白金触媒に相
当すべきである。白金触媒対ベンゾチアゾールの
有利なモル比は、１：２〜１：50である。より大
量も原則的には可能であるが、別の明らかな利点
をもたらさない。 白金触媒は、自体公知の量で使用される。純粋
出発物質では、触媒は既にスチロール１モルあた
り10-8モルの量で使用する事ができる。しかしこ
れは一般に、スチロール１モルあたり10-7〜10-3
モルの量で使用される。有利な範囲は、スチロー
ル１モルあたり１×10-6〜１×10-5モルである。 有利な白金触媒はH2Ptcl6である。しかしなが
ら、付加反応に公知の全ての他の使用可能な白金
化合物も、これが反応混合物、殊に水素クロルシ
ランに可溶であるかぎり使用する事ができる。触
媒自体は、有利にアセトン中の均一な溶液で添加
される。 本発明による方法は、有利に40〜90℃の温度で
実施される。有利な温度範囲は65〜75℃である。
90℃より上の温度では、ベンゾチアゾールを過少
量使用する際に再び少量の１−フエニルエチルク
ロルシランが形成しうる。 反応の間溶剤の存在を避けるために、より高い
温度範囲内で、有利に生成する過圧で作業し、こ
れは２〜６バールであつてよい。しかし、常圧で
付加反応を進行させる事も原則的には可能であ
る。しかしこの場合には、水素クロルシランの沸
点よりも上の温度で、適当な沸点を有する不活性
溶剤の存在で作業する事が必要であり；それによ
り系の沸点範囲は高くなり、反応進行は有利な温
度範囲で進行しうる。 有利な水素クロルシラン成分はトリクロルシラ
ンである。しかし、水素クロルシランとしてたと
えば水素メチルジクロルシラン、アルキル基に２
〜８のｃ−原子を有する水素アルキルジクロルシ
ランまたはジ水素ジクロルシランも使用できる。 発明の効果 本方法は、連続的かまたは不連続的に実施する
事ができる。不連続的作業方法では、有利に水素
クロルシランを装入し、スチロールを所望の空時
収量に必要な配量速度で導入する。この場合、触
媒およびベンゾチアゾールは有利に装入された水
素クロルシラン中に含有されている。 連続的作業方法では、たとえば反応成分を、反
応物が所望の反応温度に加熱される管状反応器に
ゲート弁を経て通過させる。この場合、反応器中
での反応物の滞留時間は、不連続的実施方法に相
当する空時収量が得られるように選択する事がで
きる。 連続的作業方法でも、不連続的作業方法でも反
応生成物の後処理は自体公知の方法で、有利に２
−フエニルエチルクロルシランの分留により行な
われる。 ２−フエニルエチルクロルシラン、殊に２−フ
エニルエチルトリクロルシランは防蝕剤の製造の
際、工業的に重要な中間生成物である。これはさ
らにシリコーンの変性のために使用される。 実施例 次例１〜４は全て次の構造の装置中で実施す
る：挿入加熱器により水で所望の温度に加熱可能
な内容約30の鋼蒸留器は、鋼導管を介して、蒸
留缶上方に存在する管状冷却器（表面約１m2）と
接続されている。冷却器の下部から導管が下方
へ、蒸留缶蓋中へ開口する、サイホンの曲管（φ
＝20mm）に通じている。蒸溜缶自体は圧力計およ
び温度計を備えており、出発物質を圧力ポンプに
より案内する導管を有する。冷却器は、冷却媒体
としての水で作業する。 次例１〜４では、蒸留缶中へそれぞれ、アセト
ン19ml中のH2Ptcl6×6H2olgの溶液５ml（＝94.5
mg＝4.8×10-4モル）が添加されているトリクロ
ルシラン13500ｇ（100モル）を装入する。触媒量
は、反応物の総計に対して白金約4.3ppmに相当
する。挿入加熱器の蛇官に熱湯を供給する事によ
り系は約70℃に加熱され、その場合3.2バールの
内圧が生成する。蒸留器の上部の管状冷却器で、
トリクロルシラン蒸気の凝縮が起きる。生じる凝
縮物をサイホンを経て蒸溜缶中へ戻す。凝縮の開
始後、スチロールそれぞれ8320ｇ（80モル＝9.2
）を圧力ポンプにより、そのつど異なる配量速
度で蒸留缶中へ導入する。供給の終了後なお短時
間後反応させ、次いで系を冷却し、得られた反応
生成物を蒸留する。これを、ガスクロマトグラフ
イーで１−フエニルエチルトリクロルシランの含
量（面積パーセント）を調べる。引続き双方の異
性体を留出させ、使用されたスチロールに対する
収率を測定する。 例 １ 上述の一般的作業方法を、促進剤の添加なしに
スチロール２／ｈの配量速度で実施する。結果
は表１から明らかである。 例 ２ 例１の一般的作業方法を、種々の量のフエノチ
アジンの添加で実施する。フエノチアジン370ml
ないしは1000mgないしは10000mgを使用した。上
述の配量速度で、既に双方の異性体の得られた混
合物中の１−フエニルエチルトリクロルシランの
2.5〜11％の分量が得られる。詳細な結果は表１
から明らかであり、この中で種々の量のフエノチ
アジンを用いる実験は2a〜2cで挙げられている。 例 ３ 例２の作業方法を、フエノチアジンの代わり
に、表１から認められる種々の量のベンゾチアゾ
ールを使用して繰り返す。ベンゾチアゾール22×
10-5モル（＝1.4ppm、反応成分に対して）を使
用する際既に、反応生成物中にほんのわずかな量
の１−異性体が存在するにすぎない。使用された
スチロールに対する収量は既にこのわずかな量
で、フエノチアジンを用い、これを約２×10乗よ
り多い量で使用する場合に達成される値よりも上
である。個々の結果は表１から明らかである。 表では比較のためベンゾチアゾールを促進剤と
記載する；ppm数値は双方の反応成分の総計に関
するものである。１−異性体の分量は、得られた
１−フエニルエチルトリクロルシランおよび２−
フエニルエチルトリクロルシランから成る混合物
中の１−フエニルエチルトリクロルシランの分量
である。収率は双方の異性体を包含する。
【表】
例 ４
例３の作業方法を、スチロールの通過速度を４
／ｈに高めた点を除いて繰り返した。さらに、
ベンゾチアゾールの使用量も変つている。結果は
表２から明らかである。
／ｈに高めた点を除いて繰り返した。さらに、
ベンゾチアゾールの使用量も変つている。結果は
表２から明らかである。
【表】
比較のために、同じ方法条件下に、反応をベン
ゾチアゾールの代わりにフエノチアジン1000mg
（＝45.8ppm、反応成分に対して）の存在で実施
した。得られた粗生成物は、１−フエニルエチル
トリクロルシランの7.9面積パーセントの分量を
有していた；使用されたスチロールに対する双方
の異性体の収率は87.1％にすぎなかつた。 例 ５ 前述の例で使用されたと同様の構造であるが、
相当に大きな寸法にされた（反応釜の容量約3500
ml）装置の蒸留缶中へ、トリクロルシラン1755Kg
をアセトン720ml中に溶解された白金塩化水素酸
38ｇおよびベンゾチアゾール40ｇと一緒に装入す
る。装置中に存在する量の液体を約72℃に加熱
し、それにより約3.5バールの内圧が生成する。
６時間内に、スチロール1200を圧力ポンプで配
量し、その場合温度はわずかに上昇する。後反応
時間の経過後、反応混合物から試料を取り出し、
これをガスクロマトグラフイー分析する。１−フ
エニルエチルトリクロルシランの含量は、２−フ
エニルエチルトリクロルシランとともに確認でき
ない。反応混合物を引続き蒸留により後処理す
る。スチロール使用量に対する２−フエニルエチ
ルトリクロルシランの収率は96.7％である。
ゾチアゾールの代わりにフエノチアジン1000mg
（＝45.8ppm、反応成分に対して）の存在で実施
した。得られた粗生成物は、１−フエニルエチル
トリクロルシランの7.9面積パーセントの分量を
有していた；使用されたスチロールに対する双方
の異性体の収率は87.1％にすぎなかつた。 例 ５ 前述の例で使用されたと同様の構造であるが、
相当に大きな寸法にされた（反応釜の容量約3500
ml）装置の蒸留缶中へ、トリクロルシラン1755Kg
をアセトン720ml中に溶解された白金塩化水素酸
38ｇおよびベンゾチアゾール40ｇと一緒に装入す
る。装置中に存在する量の液体を約72℃に加熱
し、それにより約3.5バールの内圧が生成する。
６時間内に、スチロール1200を圧力ポンプで配
量し、その場合温度はわずかに上昇する。後反応
時間の経過後、反応混合物から試料を取り出し、
これをガスクロマトグラフイー分析する。１−フ
エニルエチルトリクロルシランの含量は、２−フ
エニルエチルトリクロルシランとともに確認でき
ない。反応混合物を引続き蒸留により後処理す
る。スチロール使用量に対する２−フエニルエチ
ルトリクロルシランの収率は96.7％である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 白金触媒の存在で均一系でスチロールに水素
クロルシランを付加させる事によつて２−フエニ
ルエチルクロルシランを製造する方法において、
反応をベンゾチアゾールの存在で実施する事を特
徴とする、２−フエニルエチルクロルシランの製
法。 ２ ベンゾチアゾールを、白金触媒対ベンゾチア
ゾールのモル比が１：２〜１：50であるような量
で使用する、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 反応を40〜90℃の温度で実施する、特許請求
の範囲第１項または第２項記載の方法。 ４ 反応を２〜６バールの過圧で実施する、特許
請求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項
記載の方法。 ５ スチロールを装入された水素クロルシラン中
に導入する、特許請求の範囲第１項から第４項ま
でのいずれか１項記載の方法。 ６ 装入されたトリクロルシラン100モルあたり
スチロール毎時少なくとも10モルを導入する、特
許請求の範囲第５項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3331682A DE3331682C2 (de) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | Verfahren zur Herstellung von 2-Phenylethylchlorsilanen |
| DE3331682.1 | 1983-09-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6061585A JPS6061585A (ja) | 1985-04-09 |
| JPH049793B2 true JPH049793B2 (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=6208075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59153291A Granted JPS6061585A (ja) | 1983-09-02 | 1984-07-25 | ２−フエニルエチルクロルシランの製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4537983A (ja) |
| EP (1) | EP0136429B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6061585A (ja) |
| CA (1) | CA1251459A (ja) |
| DE (2) | DE3331682C2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3518878A1 (de) * | 1985-05-25 | 1986-11-27 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Phenylengruppen-haltige organosilane, verfahren zu ihrer herstellung |
| US4618665A (en) * | 1986-01-13 | 1986-10-21 | Dow Corning Corporation | Process to prepare 2-phenylpropyl containing polydiorganosiloxanes |
| JPH0633288B2 (ja) * | 1986-10-06 | 1994-05-02 | 東レ・ダウコ−ニング・シリコ−ン株式会社 | 付加反応方法 |
| DE4031001A1 (de) * | 1990-10-01 | 1992-04-02 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von 4-ethoxyphenyl-3-arylpropyl-(dimethyl)silanen |
| JP4392870B2 (ja) * | 1998-06-29 | 2010-01-06 | ダウ コ−ニング コ−ポレ−ション | ヒドロシリル化反応による芳香族クロロシラン化合物の製造方法 |
| KR100817933B1 (ko) * | 2006-09-28 | 2008-04-15 | 광주과학기술원 | 플루오로알킬렌옥시기가 치환된 페닐에틸실란 화합물 및 이를 중합한 고분자 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3925434A (en) * | 1975-01-22 | 1975-12-09 | Union Carbide Corp | The reaction of chlorosilanes with unsaturated organic compounds |
| US4469881A (en) * | 1982-09-27 | 1984-09-04 | Petrarch Systems Inc. | [2-(p-t-Butylphenyl)ethyl]silanes and method of making the same |
-
1983
- 1983-09-02 DE DE3331682A patent/DE3331682C2/de not_active Expired
-
1984
- 1984-07-17 DE DE8484108405T patent/DE3476395D1/de not_active Expired
- 1984-07-17 EP EP84108405A patent/EP0136429B1/de not_active Expired
- 1984-07-25 JP JP59153291A patent/JPS6061585A/ja active Granted
- 1984-08-27 US US06/644,808 patent/US4537983A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-08-31 CA CA000462300A patent/CA1251459A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3331682C2 (de) | 1985-08-22 |
| US4537983A (en) | 1985-08-27 |
| CA1251459A (en) | 1989-03-21 |
| JPS6061585A (ja) | 1985-04-09 |
| EP0136429A2 (de) | 1985-04-10 |
| EP0136429B1 (de) | 1989-01-25 |
| DE3476395D1 (en) | 1989-03-02 |
| EP0136429A3 (en) | 1985-08-14 |
| DE3331682A1 (de) | 1985-03-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1109038C (zh) | 高效硅氢化作用的方法 | |
| JP2954987B2 (ja) | アルケニルシラン調製方法 | |
| JPS6052760B2 (ja) | ＳｉＯＣ基を有するシラン又はＳｉＯＣ基を有するポリシロキサンの連続的製造方法 | |
| JPH08208663A (ja) | 水素化アルコキシシランの製造法 | |
| BRPI0721191A2 (pt) | Processo para preparação de glicidiloxialquiltrialcoxissilanos | |
| JPH08231563A (ja) | ヒドロシリル化方法 | |
| JP3947772B2 (ja) | 逆添加による高純度の有機官能性アルキルジアルコキシシラン | |
| US10399997B2 (en) | Process for preparation of 3-methacryloxypropyldimethylchlorosilane in continuous flow reactor | |
| JPH11315083A (ja) | ３―グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシランの製法 | |
| JP2825787B2 (ja) | ジ−及びトリアルキルシランの製法 | |
| EP0423948A2 (en) | Removal of hydrogen-containing silanes from organosilane mixtures | |
| JPH049793B2 (ja) | ||
| JP2773509B2 (ja) | トリアルコキシシランの製造方法 | |
| JPH11322943A (ja) | 官能基を有するポリマ―と反応性化合物とのポリマ―類似反応のための連続的方法 | |
| CN101970447B (zh) | 卤代烷基烷氧基硅烷和卤代烷基卤硅烷的制备方法 | |
| JP3291083B2 (ja) | オメガ−アルケニルクロロシランの製造方法 | |
| US8278472B2 (en) | Method of preparing allylchlorosilane derivative | |
| JP2002302495A (ja) | ３−位で官能化されたプロピルシランの製法 | |
| JP2002105087A (ja) | ビニルシランの製造方法 | |
| US4642363A (en) | Method of preparing trialkyl organo-oxysilanes | |
| JPH0314835B2 (ja) | ||
| JPS6256156B2 (ja) | ||
| JPH02235857A (ja) | ビス―（４―ヒドロキシフエニル）―スルフオンの製造方法 | |
| JPH06279457A (ja) | β−シアノアルキルシラン製造用ホスフィノ脂肪族シラン触媒 | |
| US5210256A (en) | 2-methyl-3-chloropropyl-cyclohexyldichlorosilane |