JPH0557642B2 - - Google Patents
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- JPH0557642B2 JPH0557642B2 JP57095740A JP9574082A JPH0557642B2 JP H0557642 B2 JPH0557642 B2 JP H0557642B2 JP 57095740 A JP57095740 A JP 57095740A JP 9574082 A JP9574082 A JP 9574082A JP H0557642 B2 JPH0557642 B2 JP H0557642B2
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薄膜磁気ヘツドに関するものである。
薄膜磁気ヘツドは通常第1図に示す断面形状を持
つように成形されている。すなわち、基台1に下
部コア2を配設し、さらにその上に第1絶縁体層
3を設け、次いでこの第1絶縁体層3上に、第2
図aに示すような平面形状を有する第1コイル部
分4を配設し、次いでこの第1コイル部分の端部
4aを除き第2絶縁体層5を付設し、その後この
第2絶縁体層5の上に前記端部4aに接続する端
部6aを有する第2コイル部分6を第2図bに示
す如く設け、さらにその上に第3絶縁体層7を配
設し、次いでこの第3絶縁体層の上から上部コア
8を配設して構成するようにしている。ところ
で、この磁気ヘツドは上部コア8の巾P(第2図
c)でトラツク巾を規定し、上下各部コア2,8
の距離Qでギヤツプ長を規定するようにしてい
る。距離Qは第1、第2、第3絶縁体層3,5,
7の各層厚の和であり、各層厚は必要な絶縁を確
保するために小さくするには限度があるからギヤ
ツプ長を小さくするには限度がある。例えば各絶
縁体層3,5,7をSiO2膜で成形する場合、各
膜のピンホールをなくすためには0.5μm以上、ま
た絶縁の完全性およびコイルによる段差(例えば
1μm)のカバーから各膜につき0.7μm、したがつ
てギヤツプ長は2.1μm以上となる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to thin film magnetic heads.
A thin film magnetic head is usually formed to have the cross-sectional shape shown in FIG. That is, the lower core 2 is disposed on the base 1, the first insulator layer 3 is further provided thereon, and then the second insulator layer 3 is provided on the first insulator layer 3.
A first coil portion 4 having a planar shape as shown in FIG. A second coil part 6 having an end 6a connected to the end 4a is provided on top of the second coil part 6 as shown in FIG. The upper core 8 is arranged from above the body layer. Incidentally, the track width of this magnetic head is defined by the width P of the upper core 8 (FIG. 2 c), and the upper and lower cores 2, 8
The gap length is defined by the distance Q. The distance Q is between the first, second and third insulating layers 3, 5,
7, and since there is a limit to how small each layer thickness can be to ensure the necessary insulation, there is a limit to how small the gap length can be. For example, when each insulator layer 3, 5, 7 is formed with a SiO 2 film, in order to eliminate pinholes in each film, the thickness must be 0.5 μm or more, and the integrity of the insulation and the height difference due to the coil (e.g.
0.7 μm for each membrane from the cover of 1 μm), so the gap length is 2.1 μm or more.
薄膜磁気ヘツドにおいては発生磁界の増大、発
熱防止、及び微小電流による駆動を可能にするた
めコイルのターン数を上げる必要があるが、第1
図の磁気ヘツドではコイルの多層化に比例してギ
ヤツプ長は大きくならざるを得ない。このため磁
気ヘツドのフロントギヤツプ部における絶縁体層
の一部を除去あるいは省略して該当部における層
厚を小さくするようにしている。第3図及び第4
図はそのための工夫を施した磁気ヘツドの異なる
例を断面して示すものである。第3図は、コイル
4をマスクとしてコイル下を除く部分の絶縁体層
をすべて除去したものであり、第4図はギヤツプ
部(フロント側及びリヤ側)の絶縁体層のみを写
真蝕刻技術を用いて除去しその後にギヤツプ長を
規定するためのスペーサ9を設けて上部コア8を
形成するようにしたものである。しかしながら、
前者は下部コアとコイル平面間の段差が大きくこ
れらを包み込むように形成するその後の絶縁体層
の成形時に図中R部分が被覆不完全となる可能性
が大きい、また後者は上部コアの、下部コアと絶
縁体層表面間の段差部Sにおいて膜厚低下、磁束
漏れを発生させるおそれがある、などの欠点があ
つた。 In thin-film magnetic heads, it is necessary to increase the number of turns in the coil in order to increase the generated magnetic field, prevent heat generation, and enable driving with minute currents.
In the magnetic head shown in the figure, the gap length inevitably increases in proportion to the multilayered coils. For this reason, a portion of the insulating layer in the front gap portion of the magnetic head is removed or omitted to reduce the layer thickness in that portion. Figures 3 and 4
The figure shows, in cross section, different examples of magnetic heads that have been devised for this purpose. In Figure 3, all of the insulator layer except for the area under the coil has been removed using the coil 4 as a mask, and in Figure 4, only the insulator layer in the gap area (front and rear sides) has been removed using photo-etching technology. After that, the upper core 8 is formed by providing a spacer 9 for defining the gap length. however,
The former has a large step between the lower core and the coil plane, and there is a high possibility that the R part in the figure will be incompletely covered when the insulating layer is formed to wrap around them. There were drawbacks such as a decrease in film thickness and a risk of magnetic flux leakage occurring at the stepped portion S between the core and the surface of the insulator layer.
本発明はこの欠点を除去し、良好なギヤツプを
有する磁気ヘツドを提供することを目的とするも
のであり、下部コアと、該下部コアの上に形成さ
れる、コイルを含む複数の絶縁体層との間の段差
を減少又は解消するために、上部コアに対向する
下部コア上に第2の下部コアを配備してなる磁気
ヘツドを提供しようとするものである。 The present invention aims to eliminate this drawback and provide a magnetic head with a good gap, which comprises a lower core and a plurality of insulating layers including coils formed on the lower core. In order to reduce or eliminate the step difference between the magnetic head and the magnetic head, the present invention aims to provide a magnetic head in which a second lower core is disposed on a lower core facing the upper core.
次に、本発明を図示実施例に基づき説明する。
第5図は1実施例の平面図、第6図は第5図中の
A−A′断面図、第7図は第5図の矢印B方向か
ら見た正面図である。ただし第5図及び第6図に
おいて上部コアの上方の保護部材を省略してい
る。本実施例は1つの基板上に20個の磁気ヘツド
を備えており、各磁気ヘツドは一定のトラツク巾
T(例えば80μ)を有しかつ一定のトラツクピツ
チU(例えば165μ)で揃列されており、両端の磁
気ヘツドの各側方にギヤツプ深さVを規定するた
めのモニタパターン40を配備し、該モニタパタ
ーンを利用してテープ当接面41を研磨するよう
にしている。また、この研磨により除去される部
分42内に、後述の第2の下部コアを形成するた
めの電極導入部43を備えている。各磁気ヘツド
は何れも対称的に形成されているので、以下1つ
の磁気ヘツドについて代表して詳説する。 Next, the present invention will be explained based on illustrated embodiments.
FIG. 5 is a plan view of one embodiment, FIG. 6 is a sectional view taken along the line A-A' in FIG. 5, and FIG. 7 is a front view seen from the direction of arrow B in FIG. However, the protective member above the upper core is omitted in FIGS. 5 and 6. In this embodiment, 20 magnetic heads are provided on one substrate, and each magnetic head has a constant track width T (for example, 80μ) and is aligned at a constant track pitch U (for example, 165μ). A monitor pattern 40 for defining the gap depth V is provided on each side of the magnetic head at both ends, and the tape contact surface 41 is polished using the monitor pattern. Further, in the portion 42 removed by this polishing, an electrode introducing portion 43 for forming a second lower core to be described later is provided. Since each magnetic head is formed symmetrically, one magnetic head will be described in detail below as a representative.
各図において、10は基台、11はこの基台上
に付設してなる下部コア、12はこの下部コア上
に配設してなる第2の下部コア、13,14,1
5は第1、第2、第3絶縁体層、16,17はそ
れぞれ第1、第2コイル部分、18はフロントギ
ヤツプ部を構成するスペーサ、19は上部コアで
ある。下部コア11及び第2の下部コア12は何
れも導電性の良いパーマロイで形成され、各絶縁
体層13,14,15及び各コイル部分はそれぞ
れシリカ(SiO2)、アルミニウム(Al)で形成さ
れている。 In each figure, 10 is a base, 11 is a lower core attached to this base, 12 is a second lower core arranged on this lower core, 13, 14, 1
Reference numeral 5 indicates first, second, and third insulating layers; reference numerals 16 and 17 indicate first and second coil portions; reference numeral 18 indicates a spacer constituting a front gap portion; and reference numeral 19 indicates an upper core. Both the lower core 11 and the second lower core 12 are made of highly conductive permalloy, and the insulating layers 13, 14, 15 and each coil portion are made of silica (SiO 2 ) and aluminum (Al), respectively. ing.
第2のコア部分12は第1〜第3絶縁体層1
3,14,15をマスクとして下部コア11上に
これら絶縁体層の全厚分に相当する厚さだけ電着
によつて形成されるものであり、この第2の下部
コア12表面と第3絶縁体層15の、下部にコイ
ル部分を含まない部分の表面との間には実質的な
段差を形成しないようにしている。そのため、こ
の第2の下部コア12と第3絶縁体層15上にス
ペーサ18を介して共通的に形成される上部コア
19はコイル部分16,17に対しては絶縁体層
14,15によつて十分に絶縁され、また第4図
に示す従来例のように段差部分Sを備えていない
ので該上部コア自体の肉厚が極端に薄くなるよう
なことがなく磁束漏れを防止することができる。 The second core portion 12 includes the first to third insulator layers 1
It is formed by electrodeposition on the lower core 11 to a thickness corresponding to the total thickness of these insulator layers using 3, 14, and 15 as masks, and the surface of the second lower core 12 and the third No substantial step is formed between the surface of the portion of the insulating layer 15 that does not include the coil portion below. Therefore, the upper core 19 that is commonly formed on the second lower core 12 and the third insulating layer 15 with the spacer 18 in between is connected to the coil portions 16 and 17 by the insulating layers 14 and 15. The upper core itself is sufficiently insulated, and unlike the conventional example shown in FIG. 4, which does not have a stepped portion S, the thickness of the upper core itself does not become extremely thin, and magnetic flux leakage can be prevented. .
モニタパタン40上には、上記第2の下部コア
の成形時に同時に該第2の下部コア材が付着さ
れ、磁気ヘツドのデプス(ギヤツプのテープ当接
面からギヤツプエンドまでの距離)Vを決めるた
め複数の深さの異なるくし歯が形成されている。
第7図の正面図を見てわかるように、モニタパタ
ーンのくし歯数によつてデプスVを推定すること
ができる。かかる方式に代え、第5図中に仮想線
で示したように、コイル部分の成形時に同時に図
示の如きモニタパターン44を成形しかつ該パタ
ーン上の一部45をデプスを決める位置に切欠縁
をもつように切欠いて、テープ当接面をパターン
44a,44b間の抵抗値の変化で検出するよう
にしても良い。尚、第7図中、50は保護層、5
1は装着材層、52はシールド及び保護材であ
り、これらの保護部材については他の図面では図
示省略している。 The second lower core material is attached onto the monitor pattern 40 at the same time as the second lower core is molded, and a plurality of second lower core materials are attached to the monitor pattern 40 to determine the depth V of the magnetic head (the distance from the tape contact surface of the gap to the end of the gap). Comb teeth with different depths are formed.
As can be seen from the front view of FIG. 7, the depth V can be estimated based on the number of comb teeth in the monitor pattern. Instead of this method, as shown by the imaginary lines in FIG. 5, a monitor pattern 44 as shown in the figure is molded at the same time as the coil portion is molded, and a notch edge is formed on a portion 45 of the pattern at a position that determines the depth. Alternatively, the tape contact surface may be detected by a change in resistance value between the patterns 44a and 44b. In addition, in FIG. 7, 50 is a protective layer;
1 is a mounting material layer, 52 is a shield and a protective material, and these protective members are omitted from illustration in other drawings.
次に、かかる磁気ヘツドを製造する手順につい
て第8図の工程図に従い説明する。厚さ1mm程度
のホトセラム製基台80の表面に、3〜5μ程度
の厚さで下部コアとなる導電性の良い軟磁性体
(パーマロイ)よりなる薄膜81を付設する。(第
8図a)次いでこの薄膜81の上に絶縁体たとえ
ばSiO2よりなる第1絶縁体膜となる薄膜82図
(膜厚は1.5μ程度)を付設し(第8図b)、その後
この薄膜の上に第1コイル部分となるアルミニウ
ムよりなるパターン83を付設し(第8図c)、
次いで第2絶縁体膜となる薄膜84、第2コイル
部分となるパターン85、さらに第3絶縁体膜と
なる薄膜86を順次同様に付設する(第8図d)。
なお薄膜84の付設後、パターン83a上の薄膜
を除去し、パターン85の成形時、薄膜82上の
パターン83aに短絡するようにしている。 Next, the procedure for manufacturing such a magnetic head will be explained according to the process diagram of FIG. 8. On the surface of a photoceram base 80 with a thickness of about 1 mm, a thin film 81 made of a soft magnetic material (permalloy) with good conductivity is attached to a thickness of about 3 to 5 μm to serve as a lower core. (FIG. 8a) Next, on this thin film 81, a thin film 82 (film thickness of about 1.5 μm) made of an insulator, such as SiO 2 , is attached (film thickness is about 1.5 μm), and then this A pattern 83 made of aluminum that will become the first coil portion is attached on the thin film (FIG. 8c),
Next, a thin film 84 serving as a second insulating film, a pattern 85 serving as a second coil portion, and a thin film 86 serving as a third insulating film are sequentially applied in the same manner (FIG. 8d).
Note that after the thin film 84 is attached, the thin film on the pattern 83a is removed, and when the pattern 85 is formed, a short circuit is made to the pattern 83a on the thin film 82.
このようにしてコイル部分を基台80上に成形
した後、このコイル部分を挟むフロント及びバツ
クギヤツプとなる部分及びモニタパターンを形成
する部分の薄膜82,84,86を写真蝕刻技術
によつて打抜き作成し、同時に電極導入穴43を
形成する(第8図e)。尚、87は打抜孔である。
本実施例のように絶縁層としてシリカ(SiO2)
を用いている場合には、HF・NH4F混合溶液を
用いることによつて不要部を除去することができ
る(なお、CCl4+O2ガスのリアクテイブイオン
エツチングを用いれば更に精度良く打抜くことが
できる)。次いでこの打抜部分に、次の浴槽を用
いて、下部コアとなる薄膜81上に第2の下部コ
アとなるパーマロイよりなる厚さ4.5μ程度の薄膜
88を電着で付設する(第8図f)。溶液は、
NiSO4・6H2O、NiCl4・6H2O、FeSO4・7H2O、
H2BO3、サツカリン・ナトリウム、ラウリル酸
ソーダがそれぞれ、300、25、5〜20、15、0.5、
0.2〔g/〕であり、陽極は78%Ni/Feである。 After the coil portion is formed on the base 80 in this manner, thin films 82, 84, and 86 are punched out using photolithography to form the front and back gaps that sandwich the coil portion, and the portions that will form the monitor pattern. At the same time, an electrode introducing hole 43 is formed (FIG. 8e). Note that 87 is a punched hole.
Silica (SiO 2 ) is used as the insulating layer as in this example.
When using a mixed solution of HF and NH 4 F, unnecessary parts can be removed by using a mixed solution of HF and NH 4 F. be able to). Next, a thin film 88 made of permalloy and having a thickness of about 4.5 μm, which will become the second lower core, is attached by electrodeposition onto the thin film 81, which will become the lower core, on this punched part using the next bath (Fig. 8). f). The solution is
NiSO4・6H2O , NiCl4・6H2O , FeSO4・7H2O ,
H 2 BO 3 , saccharin sodium, and sodium laurate are 300, 25, 5-20, 15, 0.5, respectively.
0.2 [g/], and the anode is 78% Ni/Fe.
その後、スペーサとなる薄膜(材料は例えばシ
リカ)をスパツタリング、蒸着等により厚さ例え
ば0.7μ程度付設する。この際、バツクギヤツプに
相当する部分にマスクを設けその部分に薄膜が付
着しないようにしても良いが、本実施例では作業
を単純化するためこの薄膜を全面に付設するよう
にしている。次いで、軟磁性材料(例えばパーマ
ロイ)の薄膜をスパツタリング、蒸着等によつて
厚さ3〜5μ程度付設し、これを写真蝕刻技術を
用いてパターン化を行ない上部コアを作成する。
尚、ギヤツプデプスをモニタするために利用する
切欠45を成形するには、アルミニウムよりなる
パターン44を選択的に除去するエツチヤントを
使用すれば良く、本実施例ではCF4+O2ガスのプ
ラズマエツチングにより選択的に切欠45に表出
するパターンを除去するようにしている。 Thereafter, a thin film (made of silica, for example) to serve as a spacer is attached by sputtering, vapor deposition, etc. to a thickness of about 0.7 μm, for example. At this time, a mask may be provided on the part corresponding to the back gap to prevent the thin film from adhering to that part, but in this embodiment, in order to simplify the work, this thin film is applied over the entire surface. Next, a thin film of a soft magnetic material (for example, permalloy) is applied by sputtering, vapor deposition, etc. to a thickness of about 3 to 5 μm, and this is patterned using photolithography to form an upper core.
In order to form the notch 45 used for monitoring the gear depth, it is sufficient to use an etchant that selectively removes the pattern 44 made of aluminum . The pattern appearing in the notch 45 is removed in a specific manner.
第9図は他の実施例の第6図に相当する断面図
を示すもので、図中同一機能要素には同一図番を
付している。これは第1〜第3絶縁体層13′,
14′,15′を水ガラスを固化して成形したもの
である。これにより、第1第2コイル部の接続を
行なうスルーホールを除き全ての段差を解消する
ことができ、段差部における断線、絶縁破壊、磁
束漏れなどをほゞ完全になくすことができる。ま
た、常に平面上で膜作成およびパターン化を実行
でき、膜の特性、工程を安定化させることができ
る。 FIG. 9 shows a sectional view corresponding to FIG. 6 of another embodiment, and the same functional elements in the figure are given the same number. These are the first to third insulator layers 13',
14' and 15' are molded by solidifying water glass. This makes it possible to eliminate all the steps except for the through holes for connecting the first and second coil sections, and it is possible to almost completely eliminate disconnections, dielectric breakdown, magnetic flux leakage, etc. at the step sections. Furthermore, film formation and patterning can always be performed on a flat surface, and film characteristics and processes can be stabilized.
第10図及び第11図は更に他の実施例の、第
6図及び第7図に相当する図で各図中、同一図番
は同一機能要素を示している。これは、第2の下
部コア12を付設するためのスルーホール20の
トラツク巾方向の巾Wをトラツク巾に一致させ、
かつ、このスルーホール内への第2の下部コアの
付設量(薄膜)Xを第1〜第3絶縁体層の全厚Y
に比べて小さくするように構成し、もつて、トラ
ツク巾を絶縁体層のスルーホールで規制するよう
にしたものである。これにより、正確なトラツク
巾制御が可能となりまた上部コアの微細なパター
ン化が不要となる。 FIGS. 10 and 11 are views corresponding to FIGS. 6 and 7 of still another embodiment, and in each figure, the same figure number indicates the same functional element. This makes the width W in the track width direction of the through hole 20 for attaching the second lower core 12 match the track width,
And the amount (thin film) of the second lower core installed in this through hole is determined by the total thickness Y of the first to third insulator layers.
The track width is regulated by a through hole in the insulating layer. This allows accurate track width control and eliminates the need for fine patterning of the upper core.
第1図は従来の薄膜磁気ヘツドの部分縦断面図
である。第2図a,b,cはコイル部分及び上部
コアの成形手順を示す部分平面図である。第3図
及び第4図はそれぞれ従来例の部分縦断面図であ
る。第5図、第6図、第7図は本発明の磁気ヘツ
ドの中央断面図、部分平面図、正面図である。第
8図a〜fは磁気ヘツドの製造手順図を示し、
a,b,d,e,fは断面図、cは部分平面図で
ある。第9図は他の実施例の断面図、第10図及
び第11図は更に他の実施例の断面図及び正面図
である。
主な図番の説明、11……下部コア、13,1
4,15……第1、第2、第3絶縁体層(絶縁体
層)、12……第2の下部コア、19……上部コ
ア。
FIG. 1 is a partial longitudinal sectional view of a conventional thin film magnetic head. Figures 2a, b, and c are partial plan views showing the procedure for forming the coil portion and the upper core. 3 and 4 are partial longitudinal sectional views of conventional examples, respectively. 5, 6, and 7 are a central sectional view, a partial plan view, and a front view of the magnetic head of the present invention. FIGS. 8a to 8f show manufacturing procedure diagrams of the magnetic head,
a, b, d, e, f are cross-sectional views, and c is a partial plan view. FIG. 9 is a sectional view of another embodiment, and FIGS. 10 and 11 are sectional views and front views of still other embodiments. Explanation of main drawing numbers, 11... lower core, 13, 1
4, 15...first, second, third insulator layers (insulator layers), 12...second lower core, 19...upper core.
Claims (1)
上にコイルと、該コイルを内包しフロント及びバ
ツクギヤツプ構成部分を除いて形成される絶縁体
層と、該絶縁体層が形成されていない前記フロン
ト及びバツクギヤツプ構成部分に付設される第2
の下部コアとを備え、前記絶縁体層及び第2の下
部コア上にギヤツプを構成するスペーサを備え、
該スペーサ上に上部コアを配備したことを特徴と
する磁気ヘツド。1. A flat lower core is provided on a base, and a coil is formed on the lower core, an insulator layer that encloses the coil and is formed except for the front and back gap components, and the insulator layer is not formed. a second section attached to the front and back gap components;
a lower core, and a spacer forming a gap on the insulator layer and the second lower core,
A magnetic head characterized in that an upper core is disposed on the spacer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9574082A JPS58212616A (en) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9574082A JPS58212616A (en) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | Magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58212616A JPS58212616A (en) | 1983-12-10 |
| JPH0557642B2 true JPH0557642B2 (en) | 1993-08-24 |
Family
ID=14145881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9574082A Granted JPS58212616A (en) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | Magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58212616A (en) |
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-
1982
- 1982-06-03 JP JP9574082A patent/JPS58212616A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58212616A (en) | 1983-12-10 |
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