JPH058715B2 - - Google Patents
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- JPH058715B2 JPH058715B2 JP60044801A JP4480185A JPH058715B2 JP H058715 B2 JPH058715 B2 JP H058715B2 JP 60044801 A JP60044801 A JP 60044801A JP 4480185 A JP4480185 A JP 4480185A JP H058715 B2 JPH058715 B2 JP H058715B2
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、新規ジ（９−アントリル）ジメチル
ゲルマン系化合物のおよびその製造方法に関す
る。
ゲルマン系化合物のおよびその製造方法に関す
る。
フオトクロミツク材料は、光によつて可逆的に
その色調が変化することから、光記録材料として
の応用が期待され、広く研究されている。例え
ば、無機化合物としてはCaF2およびNaFなどの
結晶が、また有機化合物としてはスピロピランお
よびその誘導体がそれぞれ主に研究されている。
有機材料は、無機材料にくらべて安定な薄膜を容
易に作製できる点ですぐれている。
その色調が変化することから、光記録材料として
の応用が期待され、広く研究されている。例え
ば、無機化合物としてはCaF2およびNaFなどの
結晶が、また有機化合物としてはスピロピランお
よびその誘導体がそれぞれ主に研究されている。
有機材料は、無機材料にくらべて安定な薄膜を容
易に作製できる点ですぐれている。
（発明、第82巻、1985年、第１号、頁50〜55）
〔発明の目的〕
本発明の目的は、可逆的に光学特性を変化させ
ることのできる新規なジ（９−アントリル）ジメ
チルゲルマン系化合物のおよびその製造方法を提
供することにある。
ることのできる新規なジ（９−アントリル）ジメ
チルゲルマン系化合物のおよびその製造方法を提
供することにある。
従来、ジ（９−アントリル）メタンは光照射に
よつて、〔４＋４〕付加体を与えることが知られ
ていた。このジ（９−アントリル）メタンのゲル
マニウム類縁体を合成し、その光反応性を調べた
結果、以下に示す、新規なジ（９−アントリル）
ジメチルゲルマン系化合物の光学特性が、可逆的
に変化することを見出した。
よつて、〔４＋４〕付加体を与えることが知られ
ていた。このジ（９−アントリル）メタンのゲル
マニウム類縁体を合成し、その光反応性を調べた
結果、以下に示す、新規なジ（９−アントリル）
ジメチルゲルマン系化合物の光学特性が、可逆的
に変化することを見出した。
本発明の新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲ
ルマン系化合物は、以下の一般式(1)で示される。
ルマン系化合物は、以下の一般式(1)で示される。
ただし、一般式(1)中のＲは、水素またはアルキ
ル基を表す。
ル基を表す。
本発明による、新規ジ（９−アントリル）ジメ
チルゲルマン系化合物は、たとえば次のような反
応により合成できる。
チルゲルマン系化合物は、たとえば次のような反
応により合成できる。
ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン（一般
式(1)において、Ｒ＝水素である化合物）は、９−
ブロモアントラセンをｔ−ブチルリチウムでリチ
オ化したのち、ジクロロジメチルゲルマンと反応
させることにより合成できる。
式(1)において、Ｒ＝水素である化合物）は、９−
ブロモアントラセンをｔ−ブチルリチウムでリチ
オ化したのち、ジクロロジメチルゲルマンと反応
させることにより合成できる。
以下、本発明の合成例および実施例を示す。
合成例
アルゴン雰囲気下、−70℃の９−ブロモアント
ラセン（2.50ｇ）のテトラヒドロフラン溶液
（100ml）にｔ−ブチルリチウムのペンタン溶液
（1.74mol／）を滴下した。−70℃まで冷した溶
液中にジクロロジメチルゲルマン（845mg）の５
mlテトラヒドロフラン溶液を滴下した。
ラセン（2.50ｇ）のテトラヒドロフラン溶液
（100ml）にｔ−ブチルリチウムのペンタン溶液
（1.74mol／）を滴下した。−70℃まで冷した溶
液中にジクロロジメチルゲルマン（845mg）の５
mlテトラヒドロフラン溶液を滴下した。
−70℃で30分間攪拌後、１時間かけて室温にも
どした。溶媒を留去し、得られた残渣をベンゼン
に溶かし、塩をろ別後、シリカゲルカラムに通し
て分解物を除いた。ベンゼンとエタノールの混合
溶媒から再結晶することにより、本発明のジ（９
−アントリル）ジメチルゲルマン（淡黄色）を得
た。同定は水素核磁気共鳴スペクトル（ Ｈ−
NMR）および高分解能質量分析スペクトルによ
つた。
どした。溶媒を留去し、得られた残渣をベンゼン
に溶かし、塩をろ別後、シリカゲルカラムに通し
て分解物を除いた。ベンゼンとエタノールの混合
溶媒から再結晶することにより、本発明のジ（９
−アントリル）ジメチルゲルマン（淡黄色）を得
た。同定は水素核磁気共鳴スペクトル（ Ｈ−
NMR）および高分解能質量分析スペクトルによ
つた。
その結果を次に示す。
収率＝68％
融点＝166〜167℃
水素核磁気共鳴 （δppm／CCl4）
1.39 （6H、シングレツト）
7.0〜7.5 （8H、マルチプレツト）
7.8〜8.0 （4H、マルチプレツト）
8.2〜8.4 （6H、マルチプレツト）
高分解能質量分析
C30H24 74Geの計算値＝458.1090
実測値＝458.1123
実施例
上記の合成例で合成した本発明新規化合物ジ
（９−アントリル）ジメチルゲルマン（淡黄色）
（0.11mmol）のベンゼン溶液（７ml）を内径８mm
のパイレツクス管に入れ、脱気した後、高圧水銀
灯（459W）を用いて１時間光照射した。反応物
を薄層クロマトグラフ（シリカゲル）で精製し、
13，13−ジメチル−5a，13b−ジヒドロ−５，
13a−オルト−ベンゼノ−13H−13−ゲルマシク
ロペンタ〔rst〕ペンタフエン（無色）を得た。
同定は水素核磁気共鳴および高分解能質量分析に
よつた。その結果を以下に示す。
（９−アントリル）ジメチルゲルマン（淡黄色）
（0.11mmol）のベンゼン溶液（７ml）を内径８mm
のパイレツクス管に入れ、脱気した後、高圧水銀
灯（459W）を用いて１時間光照射した。反応物
を薄層クロマトグラフ（シリカゲル）で精製し、
13，13−ジメチル−5a，13b−ジヒドロ−５，
13a−オルト−ベンゼノ−13H−13−ゲルマシク
ロペンタ〔rst〕ペンタフエン（無色）を得た。
同定は水素核磁気共鳴および高分解能質量分析に
よつた。その結果を以下に示す。
収率＝71％
融点＝194℃（分解）
水素核磁気共鳴 （δppm／CCl4）
0.95 （3H、シングレツト）
1.43 （3H、シングレツト）
3.26（1H、ダブレツト、スピン−スピン分裂＝
12.0，3.2，2.4，1.8Hz） 3.90（1H、ダブレツト、スピン−スピン分裂＝
12.0） 4.25（1H、ダブレツト、スピン−スピン分裂＝
2.4Hz） 5.75（1H、２つのダブレツト、スピン−スピン
分裂＝9.6，3.2Hz） 6.14（1H、２つのダブレツト、スピン−スピン
分裂＝9.6，1.8Hz） 6.6〜7.8（13H、マルチプレツト） 高分解能質量分析 C30H24 74Geの計算値＝458.1090 実測値＝458.1103 実施例 ２ 実施例１で合成した13，13−ジメチル−5a，
13b−ジヒドロ−５，13a− ｏ −ベンゼノ−
13H−13−ゲルマシクロペンタ〔rst〕ペンタフ
エン（無色）80mgのベンゼン溶液（１ml）を封管
中200℃で１時間加熱したところ定量的にジ（９
−アントリル）ジメチルゲルマン（淡黄色）を再
生した。
12.0，3.2，2.4，1.8Hz） 3.90（1H、ダブレツト、スピン−スピン分裂＝
12.0） 4.25（1H、ダブレツト、スピン−スピン分裂＝
2.4Hz） 5.75（1H、２つのダブレツト、スピン−スピン
分裂＝9.6，3.2Hz） 6.14（1H、２つのダブレツト、スピン−スピン
分裂＝9.6，1.8Hz） 6.6〜7.8（13H、マルチプレツト） 高分解能質量分析 C30H24 74Geの計算値＝458.1090 実測値＝458.1103 実施例 ２ 実施例１で合成した13，13−ジメチル−5a，
13b−ジヒドロ−５，13a− ｏ −ベンゼノ−
13H−13−ゲルマシクロペンタ〔rst〕ペンタフ
エン（無色）80mgのベンゼン溶液（１ml）を封管
中200℃で１時間加熱したところ定量的にジ（９
−アントリル）ジメチルゲルマン（淡黄色）を再
生した。
［発明の効果］
以上述べたように、本発明の新規ジ（９−アン
トリル）ジメチルゲルマン系化合物は、光照射に
より色調および構造の異なる〔４＋２〕付加体を
高収率で生成し、その〔４＋２〕付加体は加熱に
より定量的に原料を再生する。したがつてこの色
調の可逆的変化を利用して、本新規化合物を書き
換え可能型光デイスクの記録媒体に適用できる。
たとえば上記合成例の方法で合成した化合物を、
ベンゼンに溶解して得たベンゼン溶液（５〜10重
量％）を基板上に塗布し、乾燥成膜する。これに
レーザー光等を照射すると局部的な色調が変化
し、照射部分と他の部分との光線の反射率の差が
生じる。この反射率の差の生成と検出により、情
報の記録と再生が可能である。次に、色調の変化
した部分をレーザー光等で加熱すれば色調はもと
に戻り、記録した情報の消去ができる。
トリル）ジメチルゲルマン系化合物は、光照射に
より色調および構造の異なる〔４＋２〕付加体を
高収率で生成し、その〔４＋２〕付加体は加熱に
より定量的に原料を再生する。したがつてこの色
調の可逆的変化を利用して、本新規化合物を書き
換え可能型光デイスクの記録媒体に適用できる。
たとえば上記合成例の方法で合成した化合物を、
ベンゼンに溶解して得たベンゼン溶液（５〜10重
量％）を基板上に塗布し、乾燥成膜する。これに
レーザー光等を照射すると局部的な色調が変化
し、照射部分と他の部分との光線の反射率の差が
生じる。この反射率の差の生成と検出により、情
報の記録と再生が可能である。次に、色調の変化
した部分をレーザー光等で加熱すれば色調はもと
に戻り、記録した情報の消去ができる。
また、本新規化合物は光照射による色調変化と
同時に構造も変化するので、溶媒への溶解度が光
照射前後で変化する。これを利用して本新規化合
物を光レジストに用いることができる。たとえば
上記と同様の方法により作成した本新規化合物薄
膜上にマスクをのせ光照射すると、マスクされた
部分とされていない部分とで溶媒への溶解度の差
が生じる。この薄膜を溶媒で処理することにより
レジストパターンを形成できる。
同時に構造も変化するので、溶媒への溶解度が光
照射前後で変化する。これを利用して本新規化合
物を光レジストに用いることができる。たとえば
上記と同様の方法により作成した本新規化合物薄
膜上にマスクをのせ光照射すると、マスクされた
部分とされていない部分とで溶媒への溶解度の差
が生じる。この薄膜を溶媒で処理することにより
レジストパターンを形成できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式(1) （ただし一般式(1)中のＲはアルキル基または水
素を示す。）で表される化合物よりなることを特
徴とする新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲル
マン系化合物。 ２ ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマンであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン系化
合物。 ３ 一般式(2)で表される化合物と、ジクロロゲル
マン(3)とを反応させて、一般式(1)で示される化合
物を得ることを特徴とする新規ジ（９−アントリ
ル）ジメチルゲルマン系化合物の製造方法。 ただし一般式(1)と(2)の中のＲはたとえば水素な
どの置換基である。 ４ 一般式(2)で表される化合物が、 であり、一般式(1)で示される化合物が であることを特徴とする特許請求の範囲第３項記
載の新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン
系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60044801A JPS61205290A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン系化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60044801A JPS61205290A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン系化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61205290A JPS61205290A (ja) | 1986-09-11 |
| JPH058715B2 true JPH058715B2 (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=12701526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60044801A Granted JPS61205290A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン系化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61205290A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4708727B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2011-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 有機電界発光素子 |
| DE112020005305T5 (de) | 2019-12-17 | 2022-09-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elektronische schaltung |
-
1985
- 1985-03-08 JP JP60044801A patent/JPS61205290A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61205290A (ja) | 1986-09-11 |
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