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JPH0628287B2 - Linear semiconductor integrated circuit - Google Patents
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JPH0628287B2 - Linear semiconductor integrated circuit - Google Patents

Linear semiconductor integrated circuit

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JPH0628287B2
JPH0628287B2 JP63173006A JP17300688A JPH0628287B2 JP H0628287 B2 JPH0628287 B2 JP H0628287B2 JP 63173006 A JP63173006 A JP 63173006A JP 17300688 A JP17300688 A JP 17300688A JP H0628287 B2 JPH0628287 B2 JP H0628287B2
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circuit
semiconductor
mat
mats
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和男 冨塚
栄 菅山
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Sanyo Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明はFM/AMチューナ等、信号周波数や信号レベ
ルが異る回路ブロックを同一半導体基板上に形成した半
導体集積回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which circuit blocks having different signal frequencies and signal levels such as FM / AM tuners are formed on the same semiconductor substrate.

(ロ)従来の技術 TVチューナ、FA/AMチューナ等の電子機器は、R
F(Redio Frequency)信号からオーディオ信号を取出す
為、機能ごとに分割した各回路ブロックの取扱う信号の
周波数が異る場合が多い。例えば日本国内向けのFMチ
ューナだけでも、RF信号は76〜90MHz、中間周波
数信号は10.7MHz、そして20〜20000Hzのオ
ーディオ信号と、各回路ブロックは20Hz〜90MHzま
でのいずれかの信号を取扱うことになる。
(B) Conventional technology Electronic equipment such as TV tuners and FA / AM tuners are
Since the audio signal is extracted from the F (Redio Frequency) signal, the frequency of the signal handled by each circuit block divided for each function is often different. For example, with an FM tuner only for domestic use in Japan, an RF signal of 76 to 90 MHz, an intermediate frequency signal of 10.7 MHz, and an audio signal of 20 to 20000 Hz, and each circuit block handling any signal of 20 Hz to 90 MHz. become.

上記FM/AMチューナの一例を第5図に示す。同図に
おいて、(1)はFM放送を選局し中間周波数に周波数変
換するFMフロントエンド回路、(2)は中間周波数信号
(IF信号)を検波しオーディオ信号(AF信号)を得
るFM・IF増幅回路、(3)は例えば特公昭62−21
461号に記載されているが如き機能を有するノイズキ
ャンセル回路、(4)はステレオ放送の場合にLチャンネ
ル、Rチャンネル信号に復調するマルチプレクス回路、
(5)はAM放送を選局しオーディオ信号を出力するAM
チューナ回路である。例えばFM放送受信の場合、アン
テナ(6)から入力したRF信号とFMフロントエンド回
路(1)の局部発振回路が出力する発振周波数信号とをF
Mフロントエンド回路(1)の混合器で混合することによ
りFMフロントエンド回路(1)からIF信号を出力し、
該IF信号をFM・IF増幅回路(2)の検波回路で検波
することによりFM・IF増幅回路(2)からコンポジッ
ト信号を出力し、マルチプレクス回路(4)よって出力端
子(7)に夫々Lチャンネル、Rチャンネルのオーディオ
信号を出力する様構成されている。尚、斯る構成のFM
チューナ回路は例えば昭和62年12月10日発
行、「′88三洋半導体データブック ポータブルオー
ディオ用バイポーラ集積回路編」第152頁に記載され
ている。
An example of the FM / AM tuner is shown in FIG. In the figure, (1) is an FM front-end circuit for selecting an FM broadcast and frequency-converting it to an intermediate frequency, and (2) is an FM / IF for detecting an intermediate frequency signal (IF signal) to obtain an audio signal (AF signal). Amplifier circuit, (3) is, for example, Japanese Patent Publication No. 62-21
No. 461, a noise canceling circuit having a function as described above, (4) is a multiplex circuit for demodulating into L channel and R channel signals in the case of stereo broadcasting,
(5) is an AM that selects an AM broadcast and outputs an audio signal
It is a tuner circuit. For example, in the case of FM broadcast reception, the RF signal input from the antenna (6) and the oscillation frequency signal output from the local oscillation circuit of the FM front end circuit (1) are F
The IF signal is output from the FM front end circuit (1) by mixing with the mixer of the M front end circuit (1),
The IF signal is detected by the detection circuit of the FM / IF amplifier circuit (2) to output a composite signal from the FM / IF amplifier circuit (2), and the multiplex circuit (4) outputs L to the output terminal (7) respectively. It is configured to output channel and R channel audio signals. In addition, the FM having such a configuration
The tuner circuit is described, for example, in "'88 Sanyo Semiconductor Data Book Portable Audio Bipolar Integrated Circuit Edition", page 152, issued December 10, 1987.

ところで、近年の電子機器は増々小型化・高性能化が求
められ、それに伴って第5図の回路はできる限り1チッ
プ化する方向に進んでいると同時に、近年の電子機器は
増々多種・多様化してきており、第5図の回路に対して
特定の回路ブロックを削除・置換・追加といった様々な
要求がある。その為、夫々の要求に応えようとすると、
前記特定の回路ブロックが必ずしも同一占有面積内に納
められるとは限らないので、各要求ごとに再度設計し直
さなくてはならず、前記要求に対して即応できない欠点
があった。また、上記FMチューナの例ではFMフロン
トエンド回路(1)が数十MHzの高周波信号を扱う為、グラ
ンド(GND)配線あるいは電源(Vcc)配線を一部共通
にすることによる共通インピーダンスによる信号干渉、
半導体の基板を介しての干渉、寄生トランジスタ効果に
よるリーク電流による干渉が生じ易く、1チップ化が困
難である欠点があった。
By the way, in recent years, electronic devices are required to be smaller and have higher performance, and accordingly, the circuit of FIG. 5 is being integrated into one chip as much as possible. There are various demands for deleting, replacing, and adding specific circuit blocks to the circuit of FIG. Therefore, when trying to meet each request,
Since the specific circuit blocks are not always accommodated in the same occupied area, they have to be redesigned for each requirement, and there is a drawback that the requirement cannot be met immediately. Further, in the above FM tuner example, the FM front end circuit (1) handles a high frequency signal of several tens of MHz, so a signal with a common impedance by partially making the ground (GND) wiring or the power supply (V cc ) wiring common interference,
There is a drawback that interference through a semiconductor substrate and interference due to a leak current due to a parasitic transistor effect are likely to occur and it is difficult to form one chip.

従来のこの種の技術としては、例えば特開昭59−84
542号(H01L 21/76)に記載されている技術があ
る。即ち、干渉の生じ易い各回路ブロック間を半導体基
板と連接する高濃度分離領域で区画し、該分離領域表面
にグランド配線を延在させると共に、このグランド配線
を分離領域にオーミックコンタクトさせて基板のリーク
電流を吸出す所謂吸出し電極の技術である。しかしなが
ら、この例においても前述した回路ブロックの削除・置
換・追加の際には始めから設計し直さなくてはならず、
要求に対して即応できない、機種展開に長い設計時間を
要する欠点がある。また、吸出し電極を設けても、グラ
ンド配線のインピーダンスによって電位差が生じ、各回
路ブロック間の干渉を完全に除去することは不可能であ
った。
A conventional technique of this type is, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 59-84.
There is a technique described in No. 542 (H01L 21/76). That is, the circuit blocks that are likely to cause interference are partitioned by the high-concentration isolation region that is connected to the semiconductor substrate, the ground wiring is extended to the surface of the isolation region, and the ground wiring is ohmic-contacted with the isolation region. This is a so-called suction electrode technology for sucking leak current. However, also in this example, when deleting, replacing, or adding the circuit block described above, it is necessary to redesign from the beginning,
It has the drawback of not being able to respond immediately to demand and requiring a long design time for model deployment. Even if the suction electrode is provided, it is impossible to completely eliminate the interference between the circuit blocks due to the potential difference caused by the impedance of the ground wiring.

(ハ)発明が解決しようとする課題 この様に、従来のバイポーラ型ICは特定回路ブロック
を削除・置換・追加といった際に、パターン設計が即応
できず開発期間が長くなる欠点があった。また、ICの
多機能化を追し進めて高周波回路をも1チップ化した場
合、各回路ブロック間で干渉が生じ易い欠点があった。
(C) Problem to be Solved by the Invention As described above, the conventional bipolar type IC has a drawback that the pattern design cannot be dealt with immediately when the specific circuit block is deleted / replaced / added and the development period becomes long. Further, in the case where the high-frequency circuit is also integrated into one chip in accordance with the multifunctionalization of the IC, there is a drawback that interference easily occurs between the circuit blocks.

(ニ)課題を解決するための手段 本発明は斯上した欠点に鑑み成されたもので、半導体チ
ップ(11)の中央を略一直線で横切る分割領域(12)を設け
て半導体チップ(11)を第1と第2の領域(13)と(14)に分
割し、電源ライン(15)とグランドライン(16)を延在させ
ることで夫々を同一サイズのマット(18)に分離し、前記
分割領域(12)上に電源ライン(15)とグランドライン(16)
を複数本配設すると共に、前記分割領域(12)に分離領域
(24)で囲まれたダミーアイランド(21)を1重又は多重に
形成したことを特徴とする。
(D) Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above drawbacks, and the semiconductor chip (11) is provided with a divided region (12) that crosses the center of the semiconductor chip (11) in a substantially straight line. Is divided into first and second regions ( 13 ) and ( 14 ) and the power line (15) and the ground line (16) are extended to separate each into a mat (18) of the same size. Power line (15) and ground line (16) on the split area (12)
And a plurality of separation areas are provided in the division area (12).
The dummy islands (21) surrounded by (24) are formed in a single layer or multiple layers.

(ホ)作 用 本発明によれば、各回路ブロックを夫々整数個のマット
(18)に納めたので、特定回路ブロックを削除・置換・追
加といった際には各マット(18)を1単位として任意に移
動できる。その為、設計変更は変更したマット(18)に納
めた回路素子間の接続と、各マット(18)間の配線を変え
るだけで済むので、設計期間を短縮できる。また、電源
ライン(15)又はグランドライン(16)を延在させることで
比較的大占有面積を要する分割領域(12)にダミーアイラ
ンド(21)を設けることで、チップサイズを増大させずに
高周波回路を共存した時のリーク電流による干渉を防止
できる。
(E) Operation According to the present invention, each circuit block is provided with an integer number of mats.
Since it is stored in (18), each mat (18) can be arbitrarily moved as a unit when deleting, replacing, or adding a specific circuit block. Therefore, the design change can be shortened because only the connection between the circuit elements housed in the changed mat (18) and the wiring between the mats (18) are changed. Further, by extending the power supply line (15) or the ground line (16), the dummy island (21) is provided in the divided region (12) which requires a relatively large occupied area, so that the high frequency can be achieved without increasing the chip size. It is possible to prevent interference due to leakage current when coexisting with a circuit.

(ヘ)実施例 以下、本発明を図面を参照しながら詳細に説明する。(F) Example Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の半導体集積回路を示す平面図である。
先ず半導体チップ(11)の中央にこれを略一直線で横切る
分割領域(12)を形成し、半導体チップ(11)の素子形成領
域を実質的に上下同一サイズの2つの領域に区画する。
分割領域(12)は後述する配線を延在させる為の領域であ
り、且つ回路素子を形成しない領域であって、分割領域
(12)を形成することにより区画した前記2つの領域を夫
々第1と第2の領域(13)(14)とする。そして、分割領域
(12)の延在方向とは直交する方向に同図において実線で
示す電源Vccライン(15)と同じく一点鎖線で示すグラン
ドライン(16)とをペアで延在させた区画ライン(17)を設
け、該区画ライン(17)を複数本並設することにより第1
と第2の領域(13)(14)を夫々実質的に同一サイズの領域
に分割し、各領域をマット(18)とする。マット(18)の大
きさは、任意の一定素子数の素子をレイアウトできる大
きさに設定されている。
FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit of the present invention.
First, a divided region (12) is formed in the center of the semiconductor chip (11) so as to cross it in a substantially straight line, and the element forming region of the semiconductor chip (11) is divided into two regions of substantially the same size in the vertical direction.
The divided area (12) is an area for extending the wiring to be described later, and is an area in which no circuit element is formed.
The two regions divided by forming (12) are referred to as first and second regions ( 13 ) and ( 14 ), respectively. And the division area
A division line ( 17 ) in which a power supply Vcc line (15) shown by a solid line in the figure and a ground line (16) also shown by a dashed-dotted line are extended in a pair in a direction orthogonal to the extending direction of (12). By arranging a plurality of the dividing lines ( 17 ) in parallel
The second area ( 13 ) and the second area ( 14 ) are divided into areas of substantially the same size, and each area is used as a mat (18). The size of the mat (18) is set so that an arbitrary fixed number of elements can be laid out.

マット(18)の両側は区画ライン(17)を構成するVccライ
ン(15)とグランドライン(16)とがペアで延在するので、
それらを規則的に配列することにより、マット(18)の1
辺にはVccライン(15)が、相対向する他辺にはグランド
ライン(16)が夫々接するように延在させる。そして、マ
ット(18)の1辺と他辺に延在するVccライン(15)とグラ
ンドライン(16)とにより、マット(18)内に納めた回路素
子に動作電源を供給する。
On both sides of the mat (18), the V cc line (15) and the ground line (16) forming the division line ( 17 ) extend in pairs,
By arranging them regularly, one of the mats (18)
The V cc line (15) is extended to the side, and the ground line (16) is extended to the other side facing each other. The Vcc line (15) and the ground line (16) extending to one side and the other side of the mat (18) supply operating power to the circuit elements housed in the mat (18).

区画ライン(17)を延在したVccライン(15)とグランドラ
イン(16)は、目的別や各回路ブロックごとにまとめら
れ、分割領域(12)上を延在すると共に、各々が対応する
cc電極パッド(19)又はグランド電極パッド(20)に個別
に接続される。まとめたVccライン(15)やグランドライ
ン(16)は配線のインピーダンスを低減する為比較的幅広
に形成されるので、これらの配線を複数本並設する分割
領域(12)は比較的大占有面積を必要とする。
The V cc line (15) and the ground line (16) extending the partition line ( 17 ) are grouped according to the purpose or each circuit block, and extend on the divided region (12) and correspond to each other. It is individually connected to the Vcc electrode pad (19) or the ground electrode pad (20). The combined Vcc line (15) and ground line (16) are formed relatively wide in order to reduce the impedance of the wiring, so the divided area (12) in which a plurality of these wirings are arranged in parallel occupy a relatively large amount. Requires area.

区画ライン(17)を延在するVccライン(15)とグランドラ
イン(16)、分割領域(12)上を延在するVccライン(15)と
グランドライン(16)、そして各マット(18)内における各
回路素子間の接続配線は基本的に第1層目配線によって
行なわれている。第2層目配線以降は、区画ライン(17)
や分割領域(12)を横断して各マット(18)間の信号伝達用
配線を形成するのに主として用いる。
V cc line (15) and a ground line extending partition line (17) (16), V cc line (15) and a ground line extending the divided area (12) above (16), and each mat (18 The connection wiring between the circuit elements in the parentheses is basically performed by the first layer wiring. Section lines ( 17 ) after the second layer wiring
It is mainly used to form signal transmission wirings between the mats (18) across the divided areas (12).

尚、分割領域(12)は時として各区画ライン(17)と平行に
も延在させる。これは、パッケージのビン配列への要求
に対するVcc電極パッド(19)とグランド電極パッド(20)
の位置的制約や、隣接したマット(18)又は回路機能ブロ
ックにおいて特に離間したい関係がある場合に各マット
(18)の間に設ける。第1図においては、マットDとEの
間が前者の理由、マットMとNの間が後者の理由であ
る。そして、前記平行に延在させた分割領域(12a)の終
端付近に設けたVcc電極パッド(19)とグランドパッド(2
0)から夫々Vccライン(15)とグランドライン(16)を引き
廻し、続いて前記半導体チップ(11)の中央を横切る分割
領域(12)の上を引き廻して各マット(18)内の回路素子に
接続される。
Incidentally, the divided area (12) sometimes extends in parallel with each division line ( 17 ). This is the Vcc electrode pad (19) and the ground electrode pad (20) for the requirements of the package bin array.
If there is a positional restriction on the mats, or if there is a particular relationship between adjacent mats (18) or circuit function blocks, there is a need to separate each mat.
Provide between (18). In FIG. 1, between the mats D and E is the former reason, and between the mats M and N is the latter reason. The V cc electrode pad (19) and the ground pad (2) provided near the ends of the divided regions (12a) extending in parallel are provided.
The Vcc line (15) and the ground line (16) are routed from (0) respectively, and then the Vcc line (15) and the ground line (16) are routed over the divided region (12) crossing the center of the semiconductor chip (11). Connected to the circuit element.

この様に素子形成領域を多数個のマット(18)に分割した
半導体チップ(11)に機能別回路ブロックを納める場合、
各回路ブロックは以下の通りに収納する。
When the function-specific circuit block is stored in the semiconductor chip (11) in which the element formation region is divided into a number of mats (18) in this way,
Each circuit block is stored as follows.

先ずマット(18)が任意の一定の素子数を収納できるサイ
ズに設計されているので、前記回路ブロックを前記一定
の素子数に区分する。例えばマット(18)の大きさが10
0素子収納用で、前記回路ブロックが270素子程度な
らば、3個のマット(18)を用意して各々100素子を目
安に区分する。むろん、占有面積の大きなコンデンサ等
は考慮に入れる。そして、上記区分に従って各マット(1
8)毎に回路素子を収納し、マット(18)に収納したNPN
・PNPトラジスタ、ダイオード、抵抗、コンデンサ等
の回路素子間の接続配線及素子とVcc及びグランドライ
ン(15)(16)との接続配線を第1層目配線層で終了してお
く。これを繰り返して全てのマット(18)のパターン設計
を終えた後、前記3個のマット(18)を隣接して配置し、
第2層目以降の配線によって各マット(18)間の電気的接
続を行なうことにより、機能別回路ブロックを構成す
る。そして全ての回路ブロックをマット(18)に収納した
後、全てのマット(18)を組み合せ、第2層目以降の配線
層により各回路ブロック間の電気的接続を行なうことに
より全体のICを設計する。
First, since the mat 18 is designed to have a size capable of accommodating an arbitrary fixed number of elements, the circuit block is divided into the fixed number of elements. For example, the size of the mat (18) is 10
If 0 elements are to be stored and the circuit block has about 270 elements, three mats (18) are prepared and 100 elements each are divided. Of course, take into consideration capacitors that occupy a large area. Then, according to the above classification, each mat (1
8) Each circuit element is stored, and the NPN stored in the mat (18)
The connection wiring between circuit elements such as PNP transistor, diode, resistor, capacitor and the connection wiring between the element and Vcc and the ground lines (15) and (16) are completed in the first wiring layer. After repeating the pattern design of all mats (18) by repeating this, the three mats (18) are arranged adjacent to each other,
By electrically connecting the mats (18) with the wirings of the second and subsequent layers, functional circuit blocks are constructed. Then, after storing all the circuit blocks in the mat (18), all the mats (18) are combined and the whole IC is designed by electrically connecting the circuit blocks by the second and subsequent wiring layers. To do.

斯る構成によれば、各回路ブロックを整数個のマットに
収納することにより、各回路ブロック毎の設計を行なえ
且つ回路ブロックを一定の素子数に分割してマット(18)
毎の設計が行なえるようになる。従って回路ブロック毎
に並行設計が可能であり、設計期間の大幅な短縮が図れ
る。また回路変更も回路ブロック毎に且つマット毎に行
なえるので、IC全体の設計変更は不要である。
According to such a configuration, by storing each circuit block in an integer number of mats, it is possible to design for each circuit block and divide the circuit block into a certain number of elements to create a mat (18).
Each design can be done. Therefore, parallel design is possible for each circuit block, and the design period can be greatly shortened. Further, the circuit can be changed for each circuit block and for each mat, so that it is not necessary to change the design of the entire IC.

そして第2図に示す如く、半導体チップ(11)をマットA
〜Jから成る第1の領域(13)とマットK〜Tから成る第
2の領域(14)に区分する分割領域(12)の占有面積を利用
し、分割領域(12)に沿って半導体チップ(11)周縁部まで
延在するダミーアイランド(21)を設ける。このダミーア
イランド(21)はグランド電位が与えられる半導体の基板
と接続した高濃度分離領域で完全に囲まれたエピタキシ
ャル領域により形成するので、各々のダミーアイランド
(21)は電気的に他とは独立する。尚、第1図の様に第1
の領域(13)をマットA〜DとマットE〜Jのグループに
区分する分割領域(12a)や第2の領域(14)をマットK〜
MとマットN〜Tのグループに区分する分割領域(12a)
を形成したものは、夫々の分割領域(12a)にもダミーア
イランド(21)を延在させる。
Then, as shown in FIG. 2, the semiconductor chip (11) is attached to the mat A.
Utilizing the area occupied by the split regions (12) for partitioning the first region consisting ~J (13) in a second region consisting of the mat K~T (14), the semiconductor chip along the dividing region (12) (11) A dummy island (21) extending to the peripheral portion is provided. Since this dummy island (21) is formed by the epitaxial region completely surrounded by the high concentration isolation region connected to the semiconductor substrate to which the ground potential is applied, each dummy island (21) is formed.
(21) is electrically independent of the others. In addition, as shown in FIG.
Area ( 13 ) is divided into a group of mats A to D and mats E to J (12a) and a second area ( 14 ) is divided into mats K to
Divided area (12a) divided into M and matte N to T groups
The dummy islands (21) also extend to the respective divided regions (12a).

分割領域(12)に形成したダミーアイランド(21)の断面構
造は第3図の如くになる。(22)はP型半導体基板、(23)
はN型エピタキシャル層であり、前述した通りダミーア
イランド(21)はP+型分離領域(24)により囲まれたN型エ
ピタキシャル層(23)によって形成される。ダミーアイラ
ンド(21)の表面は酸化膜(25)で覆れ、その上の第1層目
配線層には分割領域(12)を延在するVcc又はグランドラ
イン(15)(16)が複数本並行に延在し、さらにその上の第
2層目配線層には層間絶縁膜(26)を介して各マット(18)
間を接続する信号伝達用配線(27)か又は前記Vcc又はグ
ランド配線(15)(16)の一部が延在する。
The sectional structure of the dummy island (21) formed in the divided region (12) is as shown in FIG. (22) is a P-type semiconductor substrate, (23)
Is an N type epitaxial layer, and the dummy island (21) is formed by the N type epitaxial layer (23) surrounded by the P + type isolation region (24) as described above. The surface of the dummy island (21) is covered with an oxide film (25), and a plurality of V cc or ground lines (15) and (16) extending the divided region (12) are provided in the first wiring layer on the surface. The mats (18) extend in parallel with each other, and further on the second wiring layer thereabove via the interlayer insulating film (26).
The signal transmission wiring (27) for connecting the two or a portion of the Vcc or ground wiring (15, 16) extends.

斯る構成によれば、分割領域(12)が区分する第1と第2
の領域(13)(14)は互いに分割領域(12)の占有面積の分だ
け距離が離れるので、基板(22)の層抵抗(28)とエピタキ
シャル層(23)の層抵抗(29)による抵抗成分が増大するこ
とにより、第1の領域(13)と第2の領域(14)との結合を
粗にできる。また、分割領域(12)の占有面積を利用して
ダミーアイランド(21)を多重構造にすれば、エピタキシ
ャル層(23)の層抵抗が形成する抵抗成分(29)の他に分離
領域(24)のP型領域とダミーアイランド(21)のN型領域
が形成するPN接合による電位障壁が複数個形成される
ので、前記抵抗成分を増大でき、第1と第2の領域(13)
(14)の結合を更に粗にできる。さらに前記電位障壁はP
N接合による接合容量(30)とも考えられるので、分割領
域(12)上を延在するVccライン(15)を利用し、N+型コン
タクト領域(31)を介してダミーアイランド(21)に電源電
位Vccを印加することにより、ダミーアイランド(21)を
交流的に接地できると共に前記接合容量(30)を増大せし
め、前記抵抗成分を増大させることができる。第3図の
例ではダミーアイランド(21)が3重構造を有し、中央の
ダミーアイランド(21)にVccを、両側のダミーアイラン
ド(21)は何の電位も印加しないフローティングとしてあ
る。一般にダミーアイランド(21)は多重構造である方が
第1と第2の領域(13)(14)の結合を粗にできるので、分
離領域(24)の占有面積をプロセスの最小線幅として分割
領域(12)の占有面積内にできる限り多重に形成する。
According to such a configuration, the first area and the second area divided by the divided area (12) are divided.
Since the regions ( 13 ) and ( 14 ) are separated from each other by the area occupied by the divided region (12), the resistance due to the layer resistance (28) of the substrate (22) and the layer resistance (29) of the epitaxial layer (23). By increasing the component, the coupling between the first region ( 13 ) and the second region ( 14 ) can be roughened. In addition, if the dummy island (21) is made into a multiple structure by utilizing the occupied area of the divided region (12), in addition to the resistance component (29) formed by the layer resistance of the epitaxial layer (23), the isolation region (24) is formed. Since a plurality of potential barriers are formed by the PN junction formed by the P-type region and the N-type region of the dummy island (21), the resistance component can be increased, and the first and second regions ( 13 )
The bond of ( 14 ) can be made coarser. Further, the potential barrier is P
It can be considered as a junction capacitance (30) due to an N junction, so the Vcc line (15) extending above the division region (12) is used to form a dummy island (21) via the N + type contact region (31). By applying the power supply potential Vcc , the dummy island (21) can be grounded in an alternating current manner, the junction capacitance (30) can be increased, and the resistance component can be increased. In the example of FIG. 3, the dummy island (21) has a triple structure, Vcc is applied to the central dummy island (21), and the dummy islands (21) on both sides are in a floating state in which no potential is applied. Generally, when the dummy island (21) has a multiple structure, the coupling between the first and second regions ( 13 ) and ( 14 ) can be roughened, so that the occupation area of the isolation region (24) is divided as the minimum line width of the process. Form as many layers as possible within the area occupied by the region (12).

以上説明した如く分割領域(12)にダミーアイランド(21)
を形成することで第1と第2の領域(13)(14)の結合を粗
にできるので、斯る利点を利用し半導体チップ(11)に第
5図の如きFM/AMチューナを形成した一実施例を以
下に説明する。
As described above, the dummy island (21) is formed in the divided area (12).
Since the coupling between the first and second regions ( 13 ) and ( 14 ) can be roughened by forming the, the FM / AM tuner as shown in FIG. 5 is formed on the semiconductor chip (11) by utilizing such an advantage. An example will be described below.

第1図又は第2図において、マットA〜Dの4個のマッ
ト(18)にAMチューナ回路(5)ブロックが、マットE〜
Iの5個のマット(18)にFM・IF増幅回路(2)ブロッ
クが、マットJの1個のマット(18)にその他(オプショ
ン)の回路ブロックが、マットK〜Mの3個のマット(1
8)にFMフロントエンド回路(1)ブロックが、マットN
〜Pの3個のマット(18)にノイズキャンセル回路(2)ブ
ロックが、マットQ〜Tの4個のマット(18)にマルチプ
レクス回路(4)ブロックが夫々回路ブロック毎に納めら
ている。
In FIG. 1 or 2, the AM tuner circuit (5) block is attached to the four mats (18) of mats A to D and mats E to
FM / IF amplifier circuit (2) block on 5 mats (18) of I, other (optional) circuit block on 1 mat (18) of mat J, and 3 mats of mats K to M (1
8) FM front end circuit (1) block is mat N
The noise canceling circuit (2) block is housed in each of the three mats (18) to P, and the multiplex circuit (4) block is housed in each of the four mats (18) of mats Q to T. .

マットK〜Mに納めたFMフロントエンド回路(1)は、
アンテナ(6)と図示せぬ同調回路により同調したRF信
号が入力され、該RF信号と局部発振回路が発生する局
部発振周波数信号とを混合回路で混合することにより1
0.7MHzの中間周波数信号に周波数変換して出力する
機能を有する。この回路は数マイクロボルト(μV)と極
めて小さいレベルの信号から数ボルト(V)までの信号を
取扱う為、他回路ブロックからの干渉信号を極端に嫌う
回路である。また、前記局部発振回路はそれ自身が発振
して不要輻射を放出する為、他回路ブロックとはできる
だけ離間したい回路である。
The FM front end circuit (1) stored in the mats K to M is
An RF signal tuned by an antenna (6) and a tuning circuit (not shown) is input, and the RF signal and the local oscillation frequency signal generated by the local oscillation circuit are mixed by a mixing circuit to
It has a function of frequency-converting into an intermediate frequency signal of 0.7 MHz and outputting. Since this circuit handles a signal of a very small level of several microvolts (μV) to a signal of several volts (V), it is an extremely disliked circuit for interference signals from other circuit blocks. Since the local oscillator circuit oscillates itself and emits unnecessary radiation, it is a circuit that should be separated from other circuit blocks as much as possible.

一方、マットE〜Iに納めたFM・IF増幅回路(2)
は、前記中間周波数信号をリミッター増幅回路で増幅及
び振幅制限をし、検波回路で検波することによりコンポ
ジット信号に復調するまでの機能を有する。斯る回路は
10.7MHzとFMフロントエンド回路(1)が扱う周波数
と比較的近似した周波数信号を扱い、しかも増幅して大
振幅レベルの信号を扱うので、FM・IF増幅回路(2)
からのリーク電流がFMフロントエンド回路(1)まで達
すると相互の信号干渉によってRF信号がかき消され、
特に入力レベルが極めて小さい場合、回路が不安定とな
り、著しい場合は発振してしまう。その為、上記FMフ
ロントエンド回路(1)とFM・IF増幅回路(2)、特に局
部発振回路とリミッター増幅回路の組み合せは相互の分
離を強固にしなければならない組み合せである。
On the other hand, FM / IF amplifier circuit (2) stored in mats E to I
Has a function of amplifying and limiting the amplitude of the intermediate frequency signal by a limiter amplifier circuit, and detecting it by a detection circuit to demodulate it into a composite signal. Since such a circuit handles a frequency signal of 10.7 MHz, which is relatively close to the frequency handled by the FM front-end circuit (1), and further handles a signal of a large amplitude level by amplifying it, the FM / IF amplifier circuit (2)
When the leakage current from the RF front end circuit (1) reaches, the RF signal is erased by mutual signal interference,
In particular, when the input level is extremely low, the circuit becomes unstable, and when it is significant, oscillation occurs. Therefore, the combination of the FM front end circuit (1) and the FM / IF amplifier circuit (2), especially the local oscillator circuit and the limiter amplifier circuit, is a combination in which mutual separation must be made strong.

他方、マットQ〜Tに納めたマルチプレクス回路(4)
は、前記コンポジット信号中の和信号(L+R)と差信号
(L−R)を、同じくコンポジット信号中に含まれる19
KHzステレオパイロット信号に応答して作られる38KHz
スイッチング信号を用いて左右ステレオ信号(L及び
R)に分離するステレオ復調機能を有する。この回路
は、前記38KHzスイッチング信号を発生させるのにト
ランジスタのスイッチング動作を利用する為、その動作
に伴ってスイッチングノイズを発生し易い。例えば前記
スイッチング信号を発生させる回路として位相比較器、
ローパスフィルタ、電圧制御発振器及び複数の分周器か
ら成るPLL(フェーズ・ロックド・ループ)回路を用
いた場合等が相当する。その為、できることならばFM
フロントエンド回路(1)やFM・IF増幅回路(2)とは離
しておきたい回路である。
On the other hand, the multiplex circuit stored in the mats Q to T (4)
Is the sum signal (L + R) and the difference signal in the composite signal
(LR) is also included in the composite signal.
38KHz produced in response to a KHz stereo pilot signal
It has a stereo demodulation function of separating left and right stereo signals (L and R) using a switching signal. Since this circuit utilizes the switching operation of the transistor to generate the 38 KHz switching signal, it is easy to generate switching noise in accordance with the operation. For example, a phase comparator as a circuit for generating the switching signal,
The case where a PLL (phase locked loop) circuit including a low-pass filter, a voltage-controlled oscillator, and a plurality of frequency dividers is used is equivalent. Therefore, if possible, FM
It is a circuit that should be kept away from the front end circuit (1) and the FM / IF amplifier circuit (2).

また、マットN〜Pに納めたノイズキャンセル回路(3)
は前記コンポジット信号にパルス雑音が重畳した際これ
を除去する機能を有する。この回路は特に高周波信号を
扱うものでもスイッチングノイズを発生させるものでも
無い。
Also, the noise canceling circuit (3) stored in the mats N to P
Has a function of removing pulse noise when it is superimposed on the composite signal. This circuit neither handles high frequency signals nor generates switching noise.

さらに、マットA〜Dに納めたAMチューナ回路(5)
は、AM放送を選局しオーディオ(AF)信号を出力する機
能を有する。一般にFM放送受信時とAM受信時とは外
部制御信号によって完全に切換るものであり且つ周波数
が数百KHz前後であるので、AMチューナ回路(5)とFM
フロントエンド回路(1)やFM・IF増幅回路(2)との信
号干渉は無いと考えて良い。
Furthermore, AM tuner circuit (5) stored in mats A to D
Has a function of selecting an AM broadcast and outputting an audio (AF) signal. Generally, the time of FM broadcast reception and the time of AM reception are completely switched by an external control signal, and the frequency is around several hundred KHz, so the AM tuner circuit (5) and FM
It can be considered that there is no signal interference with the front end circuit (1) or the FM / IF amplifier circuit (2).

斯る構成によれば、FMフロントエンド回路(1)とFM
・IF増幅回路(2)を夫々第1と第2の領域(13)(14)の
マット(18)に形成したので、両者を分割領域(12)の分だ
け距離的に離せると共に、ダミーアイランド(21)による
インピーダンス増大によって両者のエピタキシャル層(2
3)を介しての結合をより一層粗にできる。その為、FM
フロントエンド回路(1)とFM・IF増幅回路(2)とを互
いの信号干渉を防止して1チップ化することが可能とな
る。また、スイッチングノイズを発生し易いマルチプレ
クス回路(4)は、FM・IF増幅回路(2)に対しては分割
領域(12)及びダミーアイランド(21)を挾むので、FMフ
ロントエンド回路(1)に対してはノイズキャンセル回路
(3)ブロックとダミーアイランド(21)を間に挾むので、
夫々の回路との結合を粗にして信号干渉を防止できる。
According to such a configuration, the FM front end circuit (1) and the FM
Since the IF amplifier circuit (2) is formed in the mat (18) of the first and second areas ( 13 ) and ( 14 ) respectively, both can be separated by the distance of the divided area (12) and the dummy Due to the impedance increase due to the island (21), both epitaxial layers (2
The coupling via 3) can be made even coarser. Therefore, FM
The front end circuit (1) and the FM / IF amplifier circuit (2) can be integrated into one chip by preventing signal interference with each other. Further, since the multiplex circuit (4) which easily generates switching noise sandwiches the division area (12) and the dummy island (21) with respect to the FM / IF amplifier circuit (2), the FM front end circuit (1 ) For the noise cancellation circuit
(3) Since the block and the dummy island (21) are sandwiched between them,
Coupling with the respective circuits can be roughened to prevent signal interference.

ところで、前記FMフロントエンド回路(1)とFM・I
F増幅回路(2)との関係の他にも、隣接するマット(18)
間において、マット(18)内に形成した各回路素子間にお
いて等、基板(22)を介しての干渉は生じる。この干渉は
主に基板(22)へのリーク電流によって生じ、リーク電流
を流出し易い回路素子としては、コンデンサ、飽和動作
を伴うNPN・PNPトランジスタ、N型エピタキシャ
ル層(23)をベースとするラテラルPNPトランジスタ及
びラテラルPNPトランジスタをインジェクタとするI
IL等があげられ、隣接する回路素子ばかりで無く遠方
の回路素子へも基板(22)の電位を上昇させて回路動作を
不安定にする。
By the way, the FM front end circuit (1) and the FM I
In addition to the relationship with the F amplifier circuit (2), the adjacent mat (18)
In the meantime, interference occurs between the circuit elements formed in the mat (18) and the like through the substrate (22). This interference is mainly caused by the leak current to the substrate (22), and the circuit elements that easily leak the leak current are capacitors, NPN / PNP transistors with saturation operation, and laterals based on the N-type epitaxial layer (23). I using PNP transistor and lateral PNP transistor as injector
IL and the like are given, and the potential of the substrate (22) is raised not only to the adjacent circuit elements but also to the distant circuit elements to make the circuit operation unstable.

斯様なリーク電流に対しては、第3図の如く分離領域(2
4)表面にオーミックコンタクトする吸出し電極(32)によ
って対処する。即ち第4図に示す如く、前記リーク電流
を流出し易い回路素子の即近で干渉を生じることが予測
される回路素子間又は回路素子群間にコンタクトホール
(33)を介してオーミックコンタクトさせ、区画ライン(1
7)を形成するグランドライン(16)に接続して接地するの
である。また、区画ライン(17)を形成するグランドライ
ン(16)自体をも吸出し電極(32)として流用することによ
り、各マット(18)間の干渉を防止すると共にチップサイ
ズの増大を防ぐ。
As shown in FIG. 3, the isolation region (2
4) It is dealt with by the suction electrode (32) which makes ohmic contact with the surface. That is, as shown in FIG. 4, contact holes are formed between the circuit elements or between the circuit element groups in which it is predicted that interference will occur in the immediate vicinity of the circuit elements that easily leak the leak current.
(33) is an ohmic contact via a partition line (1
It is connected to the ground line (16) forming 7 ) and grounded. Further, the ground line (16) forming the partition line ( 17 ) itself is also used as the suction electrode (32) to prevent interference between the mats (18) and prevent an increase in chip size.

吸出し電極(32)が接続されるグランドライン(16)は、吸
出したリーク電流の大きさや、グランドライン(16)が共
通インピーダンスを有することを許容するか否かによっ
て分割又は共用される。その為、分割領域(12)上にグラ
ンドライン(16)が複数本延在することになる。例えば第
4図においては、マットEにMF・IF増幅回路(2)を
構成するコンデンサ素子が集中的に配置され、基板(22)
へのリークが極めて大であることが予測されるので、区
画ライン(17)を形成するグランドライン(16)自身を吸出
し電極(32)にすると共に、マットE全体を吸出し電極(3
2)が囲む様にグランドライン(16)を延在させ、さらにチ
ップ(11)の外周部を延在させてグランド電極パッド(20)
に接続する。マットEの領域内にある吸出し電極(32)は
上記コンデンサ素子を互いに干渉から防ぐ為である。マ
ットGの領域内にある吸出し電極(32)は前記リーク電流
を流出し易い回路素子の即近に設けたものであり、この
吸出し電極(32)はリーク電流の絶対値が小さいのでマッ
トGに回路動作用接地電位を与えるグランドライン(16)
と共通にしている。そして、マットFとマットGに夫々
形成した回路素子が機能的にみて共通インピーダンスを
許容するのと、前記リーク電流の絶対値がさほど大きく
ないので、これらのグランドライン(16)は分割領域(12)
上で1本にまとめグランド電極パッド(20)に接続する。
The ground line (16) to which the drain electrode (32) is connected is divided or shared depending on the magnitude of the leak current leaked and whether or not the ground line (16) has a common impedance. Therefore, a plurality of ground lines (16) extend on the divided area (12). For example, in FIG. 4, the matte E has the capacitor elements constituting the MF / IF amplifier circuit (2) arranged centrally, and the substrate (22)
Since it is predicted that the leakage to the ground will be extremely large, the ground line (16) forming the partition line ( 17 ) itself is used as the suction electrode (32) and the entire mat E is sucked out (3).
Extend the ground line (16) so that it is surrounded by 2), and further extend the outer periphery of the chip (11) so that the ground electrode pad (20)
Connect to. The suction electrode (32) in the area of the mat E is for preventing the above capacitor elements from interfering with each other. The suction electrode (32) in the area of the mat G is provided in the immediate vicinity of the circuit element which easily leaks the leak current. Since the suction electrode (32) has a small absolute value of the leak current, Ground line (16) that provides the ground potential for circuit operation
Have in common with. The circuit elements formed on the mat F and the mat G allow the common impedance in terms of function, and the absolute value of the leak current is not so large, so that these ground lines (16) are divided into the divided regions (12). )
Put them all together and connect to the ground electrode pad (20).

(ト)発明の効果 以上説明した如く、本発明はマット(18)を基本とし該マ
ット(18)整数個の領域に各回路ブロックを収納するの
で、各マット(18)毎にパターン設計が行なえ、設計の終
了したマット(18)を組み合せることでIC全体のレイア
ウトが任意に実現できる利点を有する。また、マット(1
8)毎の並行設計ができる利点もある。その為、IC全体
の設計期間を短縮できると共に、回路機能の異る機種を
設計する際は変更部分のマット(18)だけを設計すれば良
く、残りのマット(18)は前機種の信頼性を保ったまま流
用できるので、機種展開に要する設計期間も大幅に短縮
できる利点を有する。
(G) Effect of the Invention As described above, the present invention is based on the mat (18), and each circuit block is housed in an integer number of areas of the mat (18). Therefore, pattern design can be performed for each mat (18). By combining the mats (18) whose design has been completed, there is an advantage that the layout of the entire IC can be arbitrarily realized. Also, the mat (1
8) There is also an advantage that parallel design can be performed for each. Therefore, the design period of the entire IC can be shortened, and when designing models with different circuit functions, only the changed mat (18) needs to be designed, and the remaining mat (18) has the reliability of the previous model. Since it can be reused while maintaining the above, there is an advantage that the design period required for model development can be greatly shortened.

そして、上記マット(18)を形成する為及びマット(18)に
収納する回路素子に動作電源を与える為のVccライン(1
5)及びグランドライン(16)を延在させる分割領域(12)の
占有面積を利用し、この部分にダミーアイランド(21)を
設けたので、占有面積の有効利用が図れると共に、分割
領域(12)の分だけ離間した以上に第1と第2の領域(13)
(14)の基板(22)を介しての結合を粗にできる。その為、
周波数と信号レベルが互いに異り信号干渉を生じ易い回
路ブロックを同一チップ(11)上に形成する際、これらの
回路ブロックを第1と第2の領域(13)(14)に分離するよ
うに各マット(18)を組み合せれば、互いの信号干渉を防
止した高性能のICを実現できる利点を有する。また、
上記利点を利用してFMフロントエンド回路(1)とFM
・IF増幅回路(2)とを1チップ化することにより、よ
り安価で高性能のFMチューナを提供できる利点をも有
する。
Then, the V cc line (1) for forming the mat (18) and for supplying operating power to the circuit elements housed in the mat (18)
5) and the area occupied by the divided region (12) extending the ground line (16) is used, and the dummy island (21) is provided in this portion, so that the occupied area can be effectively used and the divided region (12 ) The first and second areas ( 13 )
Coupling of ( 14 ) through the substrate (22) can be rough. For that reason,
When forming circuit blocks on the same chip (11) whose frequency and signal level are different from each other and are likely to cause signal interference, separate these circuit blocks into first and second regions ( 13 ) ( 14 ). The combination of the mats (18) has an advantage that a high-performance IC in which mutual signal interference is prevented can be realized. Also,
FM front end circuit (1) and FM
-By integrating the IF amplifier circuit (2) into a single chip, there is also an advantage that a cheaper and higher-performance FM tuner can be provided.

そして更に、マット(18)内のリーク電流を生じ易い回路
素子の近傍に吸出し電極(32)を設けたので、基板(22)へ
のリーク電流を直ちに吸出すことができ隣接する回路素
子間の干渉を防止できる。
Further, since the drain electrode (32) is provided near the circuit element in the mat (18) where leak current is likely to occur, the leak current to the substrate (22) can be immediately drained and the adjacent circuit element Interference can be prevented.

また、隣接するマット(18)の間に吸出し電極(32)を延在
させることにより、前記マット(18)内の吸出し電極(32)
で除去しきれなかったリーク電流やその他の回路素子か
らのリーク電流を吸出し、隣接するマット(18)間におけ
る干渉を防止できる。さらに、区画ライン(17)を形成す
る為のグランドライン(16)を吸出し電極(32)として利用
することにより、占有面積の効率利用ができる利点をも
有する。
Further, by extending the suction electrode (32) between the adjacent mats (18), the suction electrode (32) in the mat (18)
It is possible to absorb the leak current that cannot be completely removed by the method and the leak current from other circuit elements, and prevent the interference between the adjacent mats (18). Further, by using the ground line (16) for forming the partition line ( 17 ) as the suction electrode (32), there is an advantage that the occupied area can be efficiently used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図と第2図は本発明を説明する為の平面図、第3図
及び第4図は夫々本発明を説明する為の要部断面図及び
要部平面図、第5図はFM/AMチューナ回路を説明す
る為の回路図である。 (12)は分割領域、(13)(14)は第1と第2の領域、(15)(1
6)はVcc及びグランドライン、(18)はマット、(21)はダ
ミーアイランド、(24)はP+型分離領域、(32)は吸出し
電極である。
1 and 2 are plan views for explaining the present invention, FIGS. 3 and 4 are cross-sectional views and a plan view of main parts for respectively explaining the present invention, and FIG. 5 is FM / It is a circuit diagram for explaining an AM tuner circuit. (12) is a divided area, ( 13 ) ( 14 ) is the first and second areas, and (15) (1
6) is Vcc and ground line, (18) is mat, (21) is dummy island, (24) is P + type isolation region, and (32) is suction electrode.

フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 1/08 E 7240−5K Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H04B 1/08 E 7240-5K

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップの半導体層中央に、この半導
体チップを第1の領域および第2の領域に実質的に分割
する分割領域と、 この第1の領域および第2の領域に位置付けられ、実質
的に同じサイズの形状が複数個で成る前記半導体層内に
形成される半導体素子の配置領域(マット)と、 前記配置領域の一方の側辺および他方の側辺に設けられ
た電源ラインおよびグランドラインと、 回路の大きさが実質的に異なる機能別に分けられた複数
の電子回路ブロックより成るリニア電子回路の半導体素
子が前記配置領域(マット)内に形成されるリニア型の
半導体集積回路であって、 前記機能別に分けられた電子回路ブロックの全ての半導
体素子は、前記配置領域(マット)を単位としてこの電
子回路ブロックの総半導体素子数を分割して得られる複
数個の配置領域(マット)に、実質的に形成され、 前記分割領域には、前記半導体チップの周辺に設けられ
た電源パッドおよびグランドパッドへ延在される前記電
源ラインおよび前記グランドラインが設けられ、且つ 前記半導体層に形成されたこの半導体層と逆導電型の分
離領域により囲まれた前記半導体層より成るダミーアイ
ランドがこの分割領域に沿って前記半導体チップ周辺部
まで設けられることを特徴としたリニア半導体集積回
路。
1. A division region that substantially divides the semiconductor chip into a first region and a second region in the center of the semiconductor layer of the semiconductor chip, and is positioned in the first region and the second region, Arrangement regions (mats) of semiconductor elements formed in the semiconductor layer, which are formed of a plurality of shapes having substantially the same size, and power supply lines provided on one side and the other side of the arrangement region, A linear type semiconductor integrated circuit in which a semiconductor element of a linear electronic circuit including a ground line and a plurality of electronic circuit blocks whose functions are substantially different in circuit size is formed in the arrangement area (mat). Therefore, all the semiconductor elements of the electronic circuit block divided by the function are obtained by dividing the total number of semiconductor elements of the electronic circuit block in units of the arrangement area (mat). Are substantially formed in a plurality of arrangement areas (mats), and the power supply line and the ground line extending to the power supply pad and the ground pad provided around the semiconductor chip are formed in the divided area. A dummy island made of the semiconductor layer, which is provided and is surrounded by an isolation region of a conductivity type opposite to that of the semiconductor layer formed in the semiconductor layer, is provided along the divided region up to the peripheral portion of the semiconductor chip. And the linear semiconductor integrated circuit.
【請求項2】半導体チップの半導体層中央に、この半導
体チップを第1の領域および第2の領域に実質的に分割
する分割領域と、 この第1の領域および第2の領域に位置付けられ、実質
的に同じサイズの形状が複数個で成る前記半導体層内に
形成される半導体素子の配置領域(マット)と、 前記配置領域の一方の側辺および他方の側辺に設けられ
た電源ラインおよびグランドラインと、 回路の大きさが実質的に異なる機能別に分けられた複数
の電子回路ブロックより成るリニア電子回路の半導体素
子が前記配置領域(マット)内に形成されるリニア型の
半導体集積回路であって、 前記機能別に分けられた電子回路ブロックの全ての半導
体素子は、前記配置領域(マット)を単位としてこの電
子回路ブロックの総半導体素子数を分割して得られる複
数個の配置領域(マット)に、実質的に形成され、 前記複数の電子回路ブロックは、高周波の第1の回路ブ
ロックとこれに対して機能および周波数の異なる第2の
回路ブロックを少なくとも備え、 前記第1の回路ブロックが前記第1または第2の領域の
一方に形成され、前記第2の回路ブロックが前記第1ま
たは第2の領域の他方に形成され、 前記分割領域には、前記半導体チップの周辺に設けられ
た電源パッドおよびグランドパッドへ延在される前記電
源ラインおよび前記グランドラインが設けられ、且つ 前記半導体層に形成されたこの半導体層と逆導電型の分
離領域により囲まれた前記半導体層より成るダミーアイ
ランドがこの分割領域に沿って前記半導体チップ周辺部
まで設けられることを特徴としたリニア半導体集積回
路。
2. A dividing region for substantially dividing the semiconductor chip into a first region and a second region, and a dividing region positioned in the center of the semiconductor layer of the semiconductor chip, and the first region and the second region. Arrangement regions (mats) of semiconductor elements formed in the semiconductor layer, which are formed of a plurality of shapes having substantially the same size, and power supply lines provided on one side and the other side of the arrangement region, A linear type semiconductor integrated circuit in which a semiconductor element of a linear electronic circuit including a ground line and a plurality of electronic circuit blocks whose functions are substantially different in circuit size is formed in the arrangement area (mat). Therefore, all the semiconductor elements of the electronic circuit block divided by the function are obtained by dividing the total number of semiconductor elements of the electronic circuit block in units of the arrangement area (mat). Are substantially formed in a plurality of arrangement areas (mats), and the plurality of electronic circuit blocks include at least a first circuit block having a high frequency and a second circuit block having a different function and frequency. The first circuit block is formed in one of the first or second regions, the second circuit block is formed in the other of the first or second regions, The power supply line and the ground line extending to the power supply pad and the ground pad provided around the semiconductor chip are provided, and the power supply line and the ground line are surrounded by a separation region of the opposite conductivity type to the semiconductor layer formed in the semiconductor layer. A linear semiconductor integrated circuit, wherein a dummy island made of the semiconductor layer is provided along the divided region up to the peripheral portion of the semiconductor chip.
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