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JPH0691226B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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JPH0691226B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH0691226B2
JPH0691226B2 JP63173012A JP17301288A JPH0691226B2 JP H0691226 B2 JPH0691226 B2 JP H0691226B2 JP 63173012 A JP63173012 A JP 63173012A JP 17301288 A JP17301288 A JP 17301288A JP H0691226 B2 JPH0691226 B2 JP H0691226B2
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和男 冨塚
栄 菅山
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/931Shapes of bond pads
    • H10W72/932Plan-view shape, i.e. in top view

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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Structure Of Receivers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、半導体集積回路に関し、特にカスタムICの要
求に答えられる様に、機種展開の容易なパターン・レイ
アウトを有する半導体集積回路に関し、更に絶縁破壊を
防止するサージ保護装置を有する半導体集積回路に関す
るものである。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit having a pattern layout that allows easy model deployment so as to meet the demands of custom ICs. The present invention also relates to a semiconductor integrated circuit having a surge protection device that prevents dielectric breakdown.

(ロ)従来の技術 一般に、特開昭59−84542号公報(H01L21/76)の如く、
複数個の回路ブロックを同一の半導体基板上に形成する
半導体集積回路技術は、第8図の構成となっている。
(B) Conventional technology Generally, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 59-84542 (H01L21 / 76),
A semiconductor integrated circuit technology for forming a plurality of circuit blocks on the same semiconductor substrate has a configuration shown in FIG.

第8図は、半導体チップ(201)の概略平面図であり、
a乃至fは回路ブロックを示す。これらの回路ブロック
は、夫々取り扱う周波数および信号レベルが異なり、機
能も夫々異なる。
FIG. 8 is a schematic plan view of the semiconductor chip (201),
a to f indicate circuit blocks. These circuit blocks have different frequencies and signal levels to be handled, and also have different functions.

この回路ブロックは、第9図の如くP-型の半導体基板
(202)上のN型の領域(203)に形成され、各回路ブロ
ックは、その周辺に隣接する高濃度のP+型の領域(20
4)によって区画されている。ここではブロックbとブ
ロックcで示してある。
This circuit block is formed in an N type region (203) on a P type semiconductor substrate (202) as shown in FIG. 9, and each circuit block is adjacent to the periphery of a high concentration P + type region. (20
It is divided by 4). Here, it is shown by block b and block c.

この区画用のP+型の領域(204)は、その一端をP-型の
半導体基板(202)に接するとともに、他端は半導体表
面の酸化膜(205)を通してグランドライン(206)にオ
ーミック接続される。
The P + type region (204) for this partition has one end in contact with the P type semiconductor substrate (202) and the other end ohmic-connected to the ground line (206) through the oxide film (205) on the semiconductor surface. To be done.

グランドライン(206)は、各ブロックから集積回路の
中央部にまとめ、左端にあるグランドボンディングパッ
ドGNDに延在されている。
The ground line (206) is gathered from each block in the center of the integrated circuit and extends to the ground bonding pad GND at the left end.

次に各ブロック回路の電源ライン(VCC)は、第8図に
示すように、集積回路の外周部にまとめ、夫々個別に電
源ボンディングパッドに接続される。
Next, the power supply line (V CC ) of each block circuit is gathered on the outer peripheral portion of the integrated circuit and individually connected to the power supply bonding pad, as shown in FIG.

一方、回路ブロックa乃至fは、機能が異なるため、ブ
ロック内に存在する素子数が異なり、ブロック・サイズ
が夫々異なってしまう構成となっている。
On the other hand, since the circuit blocks a to f have different functions, the number of elements existing in the block is different and the block sizes are different.

(ハ)発明が解決しようとする課題 前述の如く、回路ブロックa乃至fのサイズが異なるの
で、この回路ブロック全てを効率良く、半導体チップ
(201)内に収めるためには、各回路ブロックの大きさ
が相互的に働いてしまい、同一チップ内への集積を難し
くしている問題があった。
(C) Problems to be Solved by the Invention As described above, since the circuit blocks a to f have different sizes, in order to efficiently accommodate all of these circuit blocks in the semiconductor chip (201), the size of each circuit block is large. However, there is a problem in that they interact with each other, making integration on the same chip difficult.

また回路ブロックaを削除し、例えば特性を改良した別
の回路ブロックa'を入れたり、第8図の回路ブロック構
成に、更に別の機能を有する回路ブロックgを追加しよ
うとした場合、各ブロックの大きさが異なるので全ての
パターンで作り直す必要があった。
Further, when the circuit block a is deleted and another circuit block a'having improved characteristics is inserted, or a circuit block g having another function is added to the circuit block configuration of FIG. Since the size of is different, it was necessary to recreate it with all the patterns.

従って近年、製品の寿命が非常に短かくなって来ている
中で、ユーザの希望する独自回路を、あるチップ内に組
み込もうとすると、ユーザは短納期を希望するにもかか
わらず、回路パターンを作り直すために非常に長い納期
を必要としなければならない問題を有していた。
Therefore, in recent years, when the life of the product has become extremely short, if the user wants to incorporate a unique circuit desired by a user into a certain chip, the user desires a short delivery time, but the circuit is short. It had a problem that it needed a very long delivery time to recreate the pattern.

一方、半導体チップの小型化に伴い、静電気による破壊
が重要な課題となっている。この破壊の仕方はPN接合に
逆方向に静電サージが印加されると、この接合部で荷電
キャリアが加速され、なだれ崩壊を起す。この崩壊が接
合の極所に集中するため結晶格子が破壊に至ると考えら
れる。
On the other hand, with the miniaturization of semiconductor chips, destruction due to static electricity has become an important issue. This breakdown method is that when an electrostatic surge is applied to the PN junction in the opposite direction, charge carriers are accelerated at this junction, causing avalanche collapse. It is considered that the crystal lattice is destroyed because the collapse concentrates on the poles of the junction.

この破壊を防止する策として第10図の如き策が考えられ
ている。しかしこの回路を実現しようとすると、基板上
での配置や接続が複雑となり、設計的に煩雑となる問題
を有していた。
As a measure to prevent this destruction, a measure as shown in Fig. 10 is considered. However, when trying to realize this circuit, there is a problem that the arrangement and connection on the substrate becomes complicated and the design becomes complicated.

(ニ)課題を解決するための手段 本発明は、斯る課題に鑑みてなされ、夫々電子回路ブロ
ックを全て形成したブロック領域毎に、この電子回路ブ
ロックより導出した複数のパッド(90)を、チップ周辺
に対応するブロック領域(91)の側辺に設け、前記複数
のパッド(90)および複数のパッドとブロック領域(9
1)との間に、保護ダイオードを設けることで解決し、
また区画ライン()で、半導体チップ(1)上面を実
質的に同一のサイズの多数のマットに分割し、複数の機
能の異なる電子回路ブロックを1つ以上の整数個のマッ
ト内に収容することにより、解決するものである。
(D) Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above problems, and for each block region in which all electronic circuit blocks are formed, a plurality of pads (90) derived from the electronic circuit blocks are provided. It is provided on the side of the block area (91) corresponding to the periphery of the chip, and the plurality of pads (90) and the plurality of pads and the block area (9
It was solved by installing a protection diode between 1) and
Further, the partition line ( 5 ) divides the upper surface of the semiconductor chip (1) into a large number of mats having substantially the same size, and accommodates a plurality of electronic circuit blocks having different functions in one or more integer number of mats. It is something that can be solved.

(ホ)作 用 本発明に依れば、ブロック領域毎にこの電子回路ブロッ
クの複数のパッドを設け、このブロック領域と複数のパ
ッドとの間およびパッドの下層領域を使って保護ダイオ
ードを形成する。そのためブロック領域のパターン配置
には殆んど影響を与えず整然とレイアウトできる。一
方、区画ライン()で半導体チップ(1)上面を実質
的に同一サイズの多数のマットに分割し、複数の機能の
異なる電子回路ブロックを整数個のマット内に収容する
ことにより、電子回路ブロック毎の設計を行え且つ電子
回路ブロックを一定の素子数で分割しマット毎の設計が
行える様になる。従って電子回路ブロック毎に分割して
並行設計が可能であり、設計期間の大幅短縮を図れる。
また回路変更も電子回路ブロック毎に且つマット毎に行
えるので、IC全体の設計変更は不要となる。
(E) Operation According to the present invention, a plurality of pads of this electronic circuit block are provided for each block area, and a protection diode is formed between the block area and the plurality of pads and a lower layer area of the pad. . Therefore, the pattern layout in the block area is hardly affected, and the layout can be arranged in an orderly manner. On the other hand, by dividing the upper surface of the semiconductor chip (1) into a large number of mats having substantially the same size by the division line ( 5 ) and accommodating a plurality of electronic circuit blocks having different functions in an integral number of mats, an electronic circuit It becomes possible to design for each block, and to divide the electronic circuit block by a fixed number of elements to design for each mat. Therefore, it is possible to divide each electronic circuit block for parallel design, and it is possible to significantly reduce the design period.
Further, the circuit can be changed for each electronic circuit block and for each mat, so that it is not necessary to change the design of the entire IC.

(ヘ)実施例 以下に本発明の実施例を説明する。本願は第8図の如き
半導体集積回路でも、マット分割を用いた第3図の如き
半導体集積回路でも同様な効果を有する。そのためここ
で説明する半導体集積回路はマット分割を用いたものと
する。
(F) Examples Examples of the present invention will be described below. The present application has the same effect in the semiconductor integrated circuit as shown in FIG. 8 and the semiconductor integrated circuit as shown in FIG. 3 using the mat division. Therefore, the semiconductor integrated circuit described here uses mat division.

そこで先ずマット分割の説明をするために第3図を参照
しながら以下に述べてゆく。
Therefore, first, the mat division will be described below with reference to FIG.

半導体チップ(1)上面を二点鎖線で示す分割領域
(2)を用いて、実質的に同一形状で、第1および第2
の領域(3),(4)に2等分し、夫々の領域(3),
(4)は、A〜J,K〜Tのマットに分割されている。A
〜J,K〜Tの各マット間には実線で示す電源ラインと一
点破線で示すグランドラインを隣接して並列に延在させ
た区画ライン()で区分されている。
The first and second semiconductor chips (1) have substantially the same shape by using the divided regions (2) indicated by the chain double-dashed lines.
Area (3), (4), and each area (3),
(4) is divided into mats A to J and K to T. A
The mats J to K and K to T are divided by a partition line ( 5 ) in which a power line indicated by a solid line and a ground line indicated by a dashed line are adjacently extended in parallel.

区画ライン()を形成する電源ラインおよびグランド
ラインの配列は各マットA〜J,K〜Tの左側に実線で示
す電源ラインを設け、右側に一点鎖線で示すグランドラ
インが設けられる。従って両端の区画ライン()のみ
が電源ラインまたはグランドラインの一方で形成され、
中間の区画ラインは両方で構成されている。各マットA
〜J,K〜Tに隣接する電源ラインおよびグランドライン
は、夫々のマットに集積され、回路ブロックへの電源供
給を行っている。
Regarding the arrangement of the power supply line and the ground line forming the division line ( 5 ), the power supply line indicated by a solid line is provided on the left side of each of the mats A to J and K to T, and the ground line indicated by a dashed line is provided on the right side. Therefore, only the partition line ( 5 ) at both ends is formed on one of the power line and the ground line,
The middle section line is made up of both. Each mat A
Power lines and ground lines adjacent to J, K, and T are integrated in each mat to supply power to the circuit blocks.

また各区画ライン()の電源ラインとグランドライン
は、三点鎖線で示す第3の電源ライン(6)と第2の電
源ライン(7)、第3のグランドライン(8)と第2の
グランドライン(9)に夫々対向して櫛歯状に接続さ
れ、この第3および第2の電源ライン(6),(7)お
よび第3および第2のグランドライン(8),(9)
は、ペレットの周辺に設けられたパッドの中の電源パッ
ドVCC1,VCC2およびグランドパッドGND1,GND2に導かれて
いる。
The power supply line and the ground line of each partition line ( 5 ) are the third power supply line (6) and the second power supply line (7), the third ground line (8) and the second power supply line (7), which are indicated by the three-dot chain line. The third and second power supply lines (6) and (7) and the third and second ground lines (8) and (9) are connected in a comb shape so as to face the ground lines (9), respectively.
Are led to the power supply pads V CC1 and V CC2 and the ground pads GND1 and GND2 among the pads provided around the pellet.

後で明らかとなるが、回路の都合上、マットK〜Mは、
これらのパッドとは別の、VCC3,VCC4,GND3,GND4を使用
し、また各電源ライン、グランドライン、および第2お
よび第3の電源ライン(7),(6)、第2および第3
のグランドライン(9),(8)は、原則的には2層配
線の内の1層配線で実現されている。
As will become apparent later, the mats K to M have
Separate from the pads, V CC3, V CC4, GND3, using GND4, and each power supply line, ground line, and the second and third power supply line (7), (6), second and Three
The ground lines (9) and (8) of (1) are, in principle, realized by one-layer wiring of the two-layer wiring.

上述した区画ライン()で区分される各マットA〜J,
K〜Tは、実質的に同一の大きさの形状に形成され、具
体的には幅をNPNトランジスタ6個が並べられるように
設定され、長さは、設計上容易な一定の素子数、例えば
約100素子がレイアウトできるように設定されている。
このマットの大きさについては、IC化する電子回路ブロ
ックにより、設計し易い素子数に応じて任意に選択でき
る。
Each of the mats A to J divided by the division line ( 5 ) described above
K to T are formed in a shape having substantially the same size, and specifically, the width is set so that six NPN transistors are arranged, and the length is a fixed number of elements which is easy to design, for example, It is set so that about 100 elements can be laid out.
The size of this mat can be arbitrarily selected according to the number of elements that can be easily designed by an electronic circuit block to be integrated into an IC.

マット内に集積される回路素子は、トランジスタ、ダイ
オード、抵抗およびコンデンサにより構成され、通常の
PN分離によって分離され、各素子の結線は、2層配線の
1層目の電極層によって接続され、例外的に2層目の電
極でクロスオーバーされている。
The circuit elements integrated in the mat consist of transistors, diodes, resistors and capacitors,
Separated by PN separation, the connection of each element is connected by the first electrode layer of the two-layer wiring, and is exceptionally crossed over by the second electrode layer.

次に第4図Aおよび第4図Bを参照して、マット内に集
積される回路素子と区画ライン()について具体的に
説明する。
Next, with reference to FIGS. 4A and 4B, the circuit elements integrated in the mat and the partition line ( 5 ) will be specifically described.

第4図AはマットB付近の拡大上面図である。左の一点
鎖線で示した区画ライン()は、マットAとマットB
の間に設けられる区画ライン()であり、右の一点鎖
線で示した区画ライン()は、マットBとマットCの
間に設けられる区画ライン()である。そしてこの区
画ライン(),()の間には、点線で示したトラン
ジスタ(8)、ダイオード(9)、抵抗(10)およびコ
ンデンサ(11)が集積されている。図面ではこれらの素
子が粗になっているが、実際は高密度に集積されてい
る。またマット内の素子間の配線は、一点鎖線で示す第
1層目の電極層(12)で実質的に形成され、マットAと
マットBおよびマットBとマットCのマット間の配線、
例えば信号ラインやフィードバックラインが実線で示す
第2層目の電極層(13)で形成されている。そしてこれ
らの第1層目および第2層目の電極層(12),(13)は
×印で示したコンタクト領域で接続されている。
FIG. 4A is an enlarged top view of the vicinity of the mat B. The division line ( 6 ) indicated by the alternate long and short dash line on the left is mat A and mat B.
The partition line ( 5 ) provided between the mats B and C, and the partition line ( 7 ) indicated by the alternate long and short dash line on the right is the partition line ( 5 ) provided between the mat B and the mat C. The transistor (8), the diode (9), the resistor (10) and the capacitor (11) shown by the dotted line are integrated between the division lines ( 6 ) and ( 7 ). Although these elements are rough in the drawing, they are actually densely integrated. The wiring between the elements in the mat is substantially formed by the first electrode layer (12) indicated by the alternate long and short dash line, and the wiring between the mats A and B and between the mats B and C,
For example, signal lines and feedback lines are formed by the second electrode layer (13) shown by solid lines. The first and second electrode layers (12) and (13) are connected to each other by the contact regions shown by "x".

第4図Bは第4図AにおけるA−A'線の断面図である。
P型の半導体基板(14)上にN型のエピタキシャル層
(15)が積層されており、このエピタキシャル層(15)
表面より前記半導体基板(14)に到達するP+型の分離領
域(16)が形成され、多数のアイランド領域が形成され
ている。このアイランド領域(17)内にはNPNトランジ
スタ(8)、ダイオード(9)、抵抗(10)およびコン
デンサ(11)等が作られており、NPNトランジスタ
(8)のコレクタ領域(18)と前記半導体基板(14)と
の間にはN+型の埋込み領域(19)が形成されている。前
記エピタキシャル層(15)の表面には例えばCVD法によ
りシリコン酸化膜(20)が形成され、このシリコン酸化
膜(20)上には、第1層目の電極層(12)が形成されて
いる。またこの第1層目の電極層(12)を覆うように、
例えばPIX等の絶縁膜(21)が形成され、この絶縁膜(2
1)上に第2層目の電極層(13)が形成されている。ま
た電源ライン(22)およびグランドライン(23)は、前
記分離領域(16)上に設けられ、グランドライン(23)
はこの分離領域(16)とオーミックコンタクトしてお
り、基板電位の安定化をはかっている。
4B is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 4A.
An N type epitaxial layer (15) is laminated on a P type semiconductor substrate (14), and this epitaxial layer (15)
A P + type isolation region (16) reaching the semiconductor substrate (14) from the surface is formed, and a large number of island regions are formed. NPN transistors (8), diodes (9), resistors (10), capacitors (11), etc. are formed in the island region (17), and the collector region (18) of the NPN transistor (8) and the semiconductor are formed. An N + type buried region (19) is formed between the substrate (14) and the substrate. A silicon oxide film (20) is formed on the surface of the epitaxial layer (15) by, for example, a CVD method, and a first electrode layer (12) is formed on the silicon oxide film (20). . Also, to cover the first electrode layer (12),
For example, an insulating film (21) such as PIX is formed, and this insulating film (2
A second electrode layer (13) is formed on the first layer. The power supply line (22) and the ground line (23) are provided on the separation region (16), and the ground line (23)
Is in ohmic contact with the isolation region (16) to stabilize the substrate potential.

更に具体的には、第1の領域(3)にはA〜Jの10個の
マットを形成し、第2の領域(4)にはK〜Tの10個の
マットを形成し、マットを約100素子集積できる実質的
に同一スペースにし、各マット間は区画ライン()で
区分している。
More specifically, 10 mats A to J are formed in the first area (3), and 10 mats K to T are formed in the second area (4). Substantially the same space where approximately 100 elements can be integrated is set, and each mat is divided by a division line ( 5 ).

斯上した20個のマット内には第6図に示すAM/FMステレ
オチューナー用1チップICが形成される。第6図はこの
電子ブロック回路を説明するブロック図であり、FMフロ
ントエンドブロック(24)、FM−IFブロック(25)、ノ
イズキャンセラーブロック(26)、マルチプレックスデ
コーダーブロック(27)、AMチューナーブロック(28)
の計5つの電子回路ブロックから構成されている。各回
路ブロックは周知のものであるが、その機能を簡単に説
明する。
In the above 20 mats, a one-chip IC for AM / FM stereo tuner shown in FIG. 6 is formed. FIG. 6 is a block diagram for explaining this electronic block circuit. The FM front end block (24), FM-IF block (25), noise canceller block (26), multiplex decoder block (27), AM tuner block. (28)
It is composed of a total of five electronic circuit blocks. Although each circuit block is well known, its function will be briefly described.

先ずFMフロントエンドブロック(24)はFM放送の選局部
分であり、数十MHz〜数百MHzのFM放送信号を受信し、1
0.7MHzの中間周波信号に周波数変換するものであり、素
子数としては約250個を有するのでK〜Mのマットに集
積されている。次にFM−IFブロック(25)は、この中間
周波信号を増幅し、その後検波しオーディオ信号を得る
ものであり、素子数としては約430個を有するのでE〜
Iのマットに集積されている。続いてノイズキャンセラ
ーブロック(26)は、イグニッションノイズ等のパルス
ノイズを除去するもので、約270個の素子を有するので
N〜Pのマットに集積されている。更にマルチプレック
スデコーダーブロック(27)は、ステレオ信号をステレ
オ復調するブロックであり、約390個の素子を有するた
めQ〜Tのマットに集積されている。最後に、AMチュー
ナーブロック(28)は、AM放送の選局部分であり、アン
テナ受信したAM放送信号を中間周波数(450KHz)に変換
し、検波してオーディオ出力を得るものであり、約350
個の素子を有するのでA〜Dのマットで集積される。
First, the FM front-end block (24) is the part for selecting the FM broadcast and receives the FM broadcast signal of several tens of MHz to several hundreds of MHz.
It is used for frequency conversion to an intermediate frequency signal of 0.7 MHz, and has about 250 elements, so it is integrated in a mat of K to M. Next, the FM-IF block (25) amplifies this intermediate frequency signal and then detects it to obtain an audio signal. Since it has about 430 elements,
It is integrated in the I mat. The noise canceller block (26) is for removing pulse noise such as ignition noise. Since it has about 270 elements, it is integrated in the N to P mats. Further, the multiplex decoder block (27) is a block for stereo demodulating a stereo signal, and has about 390 elements, so that it is integrated in a mat of Q to T. Lastly, the AM tuner block (28) is the channel selection part of AM broadcasting, which converts the AM broadcasting signal received by the antenna to an intermediate frequency (450KHz) and detects it to obtain an audio output.
Since it has individual elements, they are integrated in the mats A to D.

更には第7図A、第7図Bおよび第7図Cに、夫々AMチ
ューナーブロック(28)、フロントエンドブロック(2
4)とFM−IFブロック(25)およびマルチプレックスデ
コーダーブロック(27)を更にブロック化した図を示
す。
Further, in FIGS. 7A, 7B and 7C, an AM tuner block (28) and a front end block (2
4) shows a further block diagram of the FM-IF block (25) and the multiplex decoder block (27).

先ず第7図AのAMチューナーブロック(28)内の局部発
振回路(OSC)(29)がマットAに、混合回路(MIX)
(30)がマットBに、自動利得制御回路(AGC)(3
1)、高周波増幅回路(RF)(32)および中間周波増幅
回路(IF)(33)がマットCに、検波回路(DET)(3
4)がマットDに実質的に集積され、第3図の如く電源
パッドVCC1よりたこ足状に4本延在された三点鎖線で示
す第3の電源ライン(35),(36),(37),(38)を
介し、A〜Dのマットの第1の電源ライン(39)にVCC
を供給している。またグランドパッドGND1はマットMと
マットNの間に設けられたたこ足状の3本の電極(40)
を介して一端分割領域(2)上の三点鎖線で示す第2の
グランドライン(41),(42),(43)に接続され、夫
々の第2のグランドライン(41),(42),(43)はA
〜Dのマットの第1のグランドライン(44)に接続され
ている。
First, the local oscillation circuit (OSC) (29) in the AM tuner block (28) of FIG. 7A is on the mat A, and the mixing circuit (MIX).
(30) on mat B, automatic gain control circuit (AGC) (3
1), the high frequency amplifier circuit (RF) (32) and the intermediate frequency amplifier circuit (IF) (33) are on the mat C, and the detection circuit (DET) (3
4) is substantially integrated into the mat D, the third power supply line indicated by the third three-point power supply pad V CC1 was Zaisa 4 extends in the octopus leg-shaped than as Figure dashed line (35), (36), V CC to the first power supply line (39) of the mats A to D via (37) and (38)
Is being supplied. Further, the ground pad GND1 has three octopus-shaped electrodes (40) provided between the mat M and the mat N.
Is connected to second ground lines (41), (42), (43) indicated by the three-dot chain line on the one-end divided region (2) via the respective second ground lines (41), (42). , (43) is A
To D mats are connected to the first ground line (44).

次に第7図Bの高周波増幅回路(45)、混合回路(46)
および局部発振回路(47)で構成されるフロントエンド
ブロック(24)は、数μVと極めて小さいレベルの信号
を扱うため、他の回路ブロック特にFM−IFブロック(2
5)からの干渉を嫌い、またこのブロック内にある局部
発振回路(47)がそれ自身発振し、不要輻射を発生させ
る。そのため特にFM−IFブロック(25)と離間させ、OS
Cブロックが一番干渉を嫌うため別の電源VCC3,VCC4,GND
3,GND4を用いている。
Next, the high frequency amplifier circuit (45) and the mixing circuit (46) of FIG. 7B.
The front end block (24) composed of the local oscillation circuit (47) and the local oscillation circuit (47) handles a signal of an extremely small level of several μV, and therefore other circuit blocks, particularly the FM-IF block (2
Dislike the interference from 5), and the local oscillator circuit (47) in this block oscillates itself, generating unnecessary radiation. Therefore, it is necessary to separate it from the FM-IF block (25),
Another power supply V CC3 for C block dislike the most interference, V CC4, GND
3, GND4 is used.

すなわちFN−IFブロック(25)と対角線状にあるK〜M
のマットに集積され、一番コーナとなるマットKに局部
発振回路(47)を集積し、その両側には別のパッドVCC4
およびGND4を通して第1の電源ライン(48)およびグラ
ンドライン(49)が設けてある。また他のL,Mのマット
は、VCC3およびGND3を通して、夫々の第1の電源ライン
およびグランドライン(50),(51)が設けてある。
That is, KM which is diagonal to the FN-IF block (25)
The local oscillation circuit (47) is integrated on the mat K, which is the most corner, and the other pad V CC4 is arranged on both sides of the local oscillation circuit (47).
A first power supply line (48) and a ground line (49) are provided through and GND4. The other L and M mats are provided with respective first power supply lines and ground lines (50) and (51) through V CC3 and GND 3 .

一方、中間周波増幅回路(52)、検波回路(53)および
Sメータ(54)等で構成されるFM−IFブロック(25)
は、E〜Iのマットに集積され、検波回路(53)がマッ
トIに、Sメータ(54)等がマットGに、更には中間周
波増幅回路(52)中のリミッタ回路およびミュート回路
等が、E,FとGのマットに実質的に集積されている。
On the other hand, an FM-IF block (25) including an intermediate frequency amplification circuit (52), a detection circuit (53), an S meter (54), etc.
Are integrated in the mats E to I, and the detection circuit (53) is in the mat I, the S meter (54) is in the mat G, and the limiter circuit and the mute circuit in the intermediate frequency amplifier circuit (52) are , E, F and G mats are virtually integrated.

ここでは利得が80〜100dBと極めて高いリミッタ回路と
信号レベルの大きい検波回路(53)、前記リミッタ回路
と信号レベルの大きいSメータ(54)は帰還による発振
を生じ、検波回路(53)とSメータ(54)は相互干渉に
よる特性悪化が生じるため、マットE,F,Gの第1の電源
ライン(55)は、1本の三点鎖線で示す第3の電源ライ
ン(37)に、マットH,Iの第1の電源ライン(56)は、
1本の第3の電源ライン(36)に接続されている。また
マットJはユーザからのオプション回路を集積されるも
のであり、この第1の電源ライン(57)も一本の第3の
電源ライン(35)に接続されている。
Here, a limiter circuit having a very high gain of 80 to 100 dB and a detection circuit (53) having a large signal level, and the limiter circuit and an S meter (54) having a large signal level generate oscillation due to feedback, and the detection circuit (53) and S Since the characteristics of the meter (54) are deteriorated due to mutual interference, the first power supply line (55) of the mats E, F, G is connected to the third power supply line (37) indicated by the one-dot chain line. The first power line (56) for H and I is
It is connected to one third power supply line (36). The mat J has an optional circuit from the user integrated therein, and the first power supply line (57) is also connected to one third power supply line (35).

またE〜Jのマットにある一点鎖線で示す第1のグラン
ドライン(58)は、グランドパッドGND1からたこ足状に
延在されて一端接続された第2のグランドライン(4
1),(42),(43)と、前述と同様に接続されてい
る。
The first ground line (58) indicated by the alternate long and short dash line on the mats E to J extends from the ground pad GND1 in a octopus-like shape and is connected at one end to the second ground line (4).
1), (42) and (43) are connected in the same manner as described above.

続いて、第7図Cのマルチプレックスデコーダーブロッ
ク(27)の直流増幅回路(59)、デコーダ回路(60)、
ランプドライバー回路(61)がマットQとマットRに、
また位相比較回路(62)、ローパスフィルタ回路(6
3)、電圧制御発振器(64)および分周回路(65)等が
マットSとマットTに実質的に集積されている。また電
源パッドVCC2よりたこ足状に3本延在された電極(6
6),(67),(68)は、AMチューナーブロック(28)
とFM−IFブロック(25)との間を通り、分割領域(2)
上の第2の電源ライン(69),(70),(71)へ一端接
続される。そして1本がマットQとRへ、1本がマット
SとTへ、更に1本がノイズキャンセラーブロック(2
6)となるN〜Pのマットへ伸びている。
Then, the DC amplifier circuit (59), the decoder circuit (60) of the multiplex decoder block (27) of FIG. 7C,
The lamp driver circuit (61) is on the mat Q and mat R,
In addition, the phase comparison circuit (62), low-pass filter circuit (6
3), the voltage controlled oscillator (64), the frequency dividing circuit (65), etc. are substantially integrated on the mat S and the mat T. The electrode was Zaisa three extending from the power supply pad V CC2 in octopus form (6
6), (67), (68) are AM tuner blocks (28)
And the FM-IF block (25), and the divided area (2)
One end is connected to the second power supply lines (69), (70), (71) above. And one is for mats Q and R, one is for mats S and T, and one is for noise canceller block (2
6) It extends to the mat of N to P which becomes.

一方、グランドパッドGND2はたこ足状に3本の第3のグ
ランドライン(72),(73),(74)に接続され、前述
と同様に、N〜Pのマット、Q,Rのマット、S,Tのマット
へ伸びている。
On the other hand, the ground pad GND2 is connected to the three third ground lines (72), (73) and (74) in an octopus-like shape, and the mats of N to P, the mats of Q and R, Extends to S and T mats.

更にブロック間の相互干渉の防止を目的としてパッドV
CC1,VCC2、パッドGND1,GND2を夫々分けて使用し、パッ
ドVCC1,VCC2はリード(75)に接続され、パッドGND1,GN
D2はリード(76)に接続されている。これはパッドVCC1
の変動を直接パッドVCC2に伝えることを防止し、しかも
金属細線を2本用いることで、この金属細線のインピー
ダンスを低下させている。そのためリードに入ったパル
スノイズ等を、前記インピーダンスを介して増幅せず、
電圧変動を防止できる。
In addition, pad V is used to prevent mutual interference between blocks.
CC1 and V CC2 and pads GND1 and GND2 are used separately, and pads V CC1 and V CC2 are connected to the lead (75).
D2 is connected to the lead (76). This is the pad V CC1
Is prevented from being directly transmitted to the pad V CC2 , and the impedance of the thin metal wire is lowered by using two thin metal wires. Therefore, pulse noise etc. that entered the lead is not amplified through the impedance,
Voltage fluctuations can be prevented.

以上説明した如く、第1の電源ラインと第1のグランド
ラインで構成される区画ライン()によってA〜J、
K〜Tのマットが区分されている。またこの第1の電源
ラインと第1のグランドラインが実質的に櫛歯状に形成
されているため、マット間のスペースや周辺のスペース
を有効に活用でき、チップ(1)周辺のパッドVCC1,GND
1,GND2を最短距離でつなぐことができる。
As described above, the partition line ( 5 ) composed of the first power supply line and the first ground line A to J,
The mats K to T are divided. Further, since the first power supply line and the first ground line are formed substantially in a comb shape, the space between the mats and the peripheral space can be effectively utilized, and the pad V CC1 around the chip (1) can be effectively used. , GND
1 and GND2 can be connected at the shortest distance.

次にFMフロントエンド(24)とFM−IFブロック(25)の
干渉対策について述べる。従来では個別ICを夫々使って
いたためセット基板上の問題であったが、今回は1チッ
プ化のために更にこの干渉が問題となったが次の対策に
より解決している。
Next, countermeasures against interference between the FM front end (24) and the FM-IF block (25) will be described. In the past, it was a problem on the set board because each individual IC was used, but this time this interference became a problem because it was one chip, but it is solved by the following measures.

先ず前述した如く、FMフロントエンドブロック(24)
は、数μVと極めて小さいレベルの信号を扱うため、他
の回路ブロック特にFM−IFブロック(25)からの干渉を
嫌い、またこのブロック内に構成される局部発振回路
(47)がそれ自身発振し、不要輻射を発生させるため、
他のブロックと離間したり別の電源を設けたりする必要
がある。
First, as mentioned above, the FM front end block (24)
Since it handles signals of a very small level of several μV, it dislikes interference from other circuit blocks, especially the FM-IF block (25), and the local oscillator circuit (47) built in this block itself oscillates. However, in order to generate unnecessary radiation,
It is necessary to separate from other blocks or provide another power source.

これ等の理由により、先ずFMフロントエンドブロックと
FM−IFブロックを対角線上に設け、またこのブロックの
中の局部発振回路をマットKに集積させ離間させた。次
にAMチューナーブロック(28)とFM−IFブロック(2
5)、FMフロントエンドブロック(24)とノイズキャン
セラーブロック(26)との間、すなわちマットDとマッ
トE、マットMとマットNの区画ライン幅を広く取るこ
とでFMフロントエンドブロック(24)を他のブロック特
にFM−IFブロック(25)から遠ざけている。またマット
DとマットEおよびマットMとマットNとの間に、電源
パッドVCC2より第2の領域(4)へ延在される電極(6
6),(67),(68)とグランドパッドGND1より第1の
領域(3)へ延在される電極(40)とを設け、更に分割
領域(2)上に第2の電源ライン(69),(70),(7
1)と第2のグランドライン(41),(42),(43)を
設けている。従ってFMフロントエンドブロック(24)
は、隣接するFM−IFブロック(25)、AMチューナーブロ
ック(28)およびノイズキャンセラーブロック(26)と
分離され、特に電源ライン(66),(67),(68)は不
要輻射を防止し、グランドライン(40)の少なくとも1
本は、分離領域(16)とコンタクトしているので基板電
流を吸い出すことができ干渉を防止している。
For these reasons, first of all, with the FM front end block
The FM-IF block was provided diagonally, and the local oscillator circuits in this block were integrated on the mat K and separated. Next, AM tuner block (28) and FM-IF block (2
5) The FM front end block (24) can be set by widening the partition line width between the FM front end block (24) and the noise canceller block (26), that is, the mat D and the mat E, and the mat M and the mat N. Keep away from other blocks, especially the FM-IF block (25). Further, between the mat D and the mat E and between the mat M and the mat N, an electrode (6 which extends from the power supply pad V CC2 to the second region (4) is provided.
6), (67), (68) and an electrode (40) extending from the ground pad GND1 to the first region (3) are provided, and a second power supply line (69) is further provided on the divided region (2). ), (70), (7
1) and second ground lines (41), (42), (43) are provided. Therefore FM front end block (24)
Is separated from the adjacent FM-IF block (25), AM tuner block (28) and noise canceller block (26), and the power supply lines (66), (67), (68) prevent unnecessary radiation, At least one of the ground lines (40)
Since the book is in contact with the isolation region (16), it can absorb the substrate current and prevent interference.

またこのFMフロントエンドブロック(24)の中の局部発
振回路(47)は、干渉を嫌うので、電源パッドVCC4とグ
ランドパッドGND4を別に設け、外の回路は電源パッドV
CC3とグランドパッドGND3で供給されている。
The local oscillator circuit (47) in the FM front end block (24), since hate interference, provided separately the power pads V CC4 and ground pad GND4, circuit outside the power supply pad V
Supplied on CC3 and ground pad GND3.

更にはFM−IFブロック(25)は、FM信号のAM部を除去す
るためのリミッタ回路を有し、この回路はマットEとマ
ットFで集積されている。このリミッタ回路に有るコン
デンサは基板ヘリークを生じ、このリーク電流がFMフロ
ントエンドへ流れ誤動作を起こす。そのためコンデンサ
をマットEに一括し、このマットEの左側辺の区画ライ
ン()の第1のグランドライン(77)で集中的に吸い
出している。更にはこの第1のグランドライン(77)
は、FM−IFブロック(25)、マルチプレックスデコーダ
ーブロック(27)およびノイズキャンセラーブロック
(26)が形成される領域の外周辺に延在されて、これら
から生じるリーク電流も吸い出している。同様にチップ
(1)の左半分の周辺にもグランドライン(78)を設け
ている。また配線の都合上第3の電源ランイン(35),
(36),(37),(38)、分割領域(2)上の第2の電
源ライン(69),(70),(71)および第2のグランド
ライン(41),(42),(43)等は、黒丸で示したスル
ーホールを介して、点線で示す2層目の電極層(79)を
介してクロスオーバーしている。特にAMチューナーブロ
ック(28)は外のブロック回路と同時に動作しないの
で、AMチューナーブロック(28)とFM−IFブロック(2
5)を1つのパッドVCC1を共用しており、このためクロ
スオーバーしている。またグランドパッドGND1も同様で
ある。
Further, the FM-IF block (25) has a limiter circuit for removing the AM part of the FM signal, and this circuit is integrated with the mat E and the mat F. The capacitor in this limiter circuit leaks to the substrate, and this leak current flows to the FM front end, causing malfunction. Therefore, the capacitors are collectively put on the mat E, and are concentratedly sucked out by the first ground line (77) of the partition line ( 5 ) on the left side of the mat E. Furthermore, this first ground line (77)
Extends to the outer periphery of the area where the FM-IF block (25), the multiplex decoder block (27) and the noise canceller block (26) are formed, and also leaks the leak current generated from these. Similarly, a ground line (78) is provided around the left half of the chip (1). Also, due to wiring, the third power supply run-in (35),
(36), (37), (38), second power supply lines (69), (70), (71) and second ground lines (41), (42), () on the divided area (2). 43) and the like cross over through the through hole indicated by the black circle and the second electrode layer (79) indicated by the dotted line. In particular, the AM tuner block (28) does not work at the same time as the external block circuit, so the AM tuner block (28) and FM-IF block (2
5) share one pad V CC1 and therefore cross over. The same applies to the ground pad GND1.

前述の構成を第5図に示した。一点鎖線で示すものが1
層目に形成される電極で、実線で示すものが2層目の電
極である。そして×印で示した領域がスルーホールであ
る。また2つのブロックが同時に働かないため電源ライ
ンとグランドラインを共用し、パターン的にはパッドV
CC1およびGND1からスルーホールまでの電極を共用して
いるため、電極の占有面積を減らすことができる。
The above configuration is shown in FIG. The one indicated by the chain line is 1
The electrode formed in the second layer, which is shown by the solid line, is the second layer electrode. The area indicated by X is a through hole. Also, since the two blocks do not work at the same time, the power supply line and the ground line are shared, and the pattern is pad V
Since the electrodes from CC1 and GND1 to the through hole are shared, the area occupied by the electrodes can be reduced.

本発明の特徴点を一例してみる。例えばAMチューナーブ
ロック(28)が不要であれば、A〜Dのマットに、マル
チプレックスデコーダーブロック(27)となる4つのマ
ットをそのまま集積化し、余ったマットQとマットRに
例えばマットIとJを集積化する。従ってI,J,S,Tのマ
ットが余分となるので、このマットを削除すればマット
の配置が四角形のチップ内に整然と収納することができ
る。ここではマット内の1層目の配線はそのまま使い、
マット間の配線およびブロック間の配線のみを考えれば
良い。
An example of the characteristic point of the present invention will be described. For example, if the AM tuner block (28) is unnecessary, four mats that will be the multiplex decoder block (27) are integrated as they are in the mats A to D, and the mats I and J, for example, are mated in the remaining mats Q and R. To be integrated. Therefore, since the I, J, S, and T mats are redundant, if this mat is deleted, the mats can be neatly housed in a rectangular chip. Here, the first layer wiring in the mat is used as it is,
Only wiring between mats and wiring between blocks need be considered.

またFM−IFブロック(25)の一部改良の際は、例えば改
良部となるマットFのみを取り出して改良すれば良く、
他のマットE,G,Hはそのまま使うことができる。またユ
ーザのオプションとなる別のブロックを追加する時は、
全部のマットはそのまま使い、このブロックの必要な数
だけマットを追加すれば良いし、またここではマットJ
をこのオプション用マットとしている。
In addition, when partly improving the FM-IF block (25), for example, it is sufficient to take out only the mat F, which is the improvement part, and improve it.
Other mats E, G, H can be used as they are. Also, when adding another block that is an option for the user,
You can use all the mats as they are and add as many mats as you need for this block.
Is the mat for this option.

つまり同一寸法のマットをマトリックス状に形成してあ
るため、入替え、追加、および削除が非常に容易とな
る。
That is, since mats having the same size are formed in a matrix, replacement, addition, and deletion are very easy.

以上がマット分割の構成である。次に本願のサージに対
する保護の構成について述べてゆく。
The above is the configuration of mat division. Next, the structure for protection against surges of the present application will be described.

基本的には第10図に示した回路図の構成となる。第1図
はこの回路をどの様に構成するかについて示したもので
ある。
Basically, it has the configuration of the circuit diagram shown in FIG. FIG. 1 shows how this circuit is constructed.

半導体チップ(1)の周囲に設けられ、入出力信号に使
うパッド(90)…(90)は、電子回路ブロック毎に、半
導体チップ(1)の周辺に設けられている。例えばAMチ
ューナーブロック(28)となるマットA〜マットDのブ
ロック領域(91)には、このブロック領域(91)の左側
辺および上側辺に合計11個のパッド(90)…(90)が設
けられている。これより説明の都合上、電子回路ブロッ
クが形成された全体の領域をブロック領域と名付ける。
Pads (90) ... (90) provided around the semiconductor chip (1) and used for input / output signals are provided around the semiconductor chip (1) for each electronic circuit block. For example, in the block area (91) of the mat A to mat D which is the AM tuner block (28), a total of 11 pads (90) ... (90) are provided on the left side and the upper side of the block area (91). Has been. Therefore, for convenience of description, the entire area in which the electronic circuit block is formed is named a block area.

第3図や第5図を見ても判る通り、パッド(90)…(9
0)と第3の電源ライン(35),(36),(37),(3
8)の下層基板内は、何も形成されておらず実質的に無
駄の多い領域である。そこで本願では、この一連のパッ
ド(90)…(90)とブロック領域(91)との間にN型の
第1の拡散領域(92)を設け、前記パッド(90)…(9
0)の下層にN型の第2の拡散領域(93)を設け、更に
は前記N型の第1の拡散領域(92)の中に、各パッドと
対応して11個のP型の第3の拡散領域(94)を設けた。
As you can see from Figure 3 and Figure 5, the pad (90)… (9
0) and the third power line (35), (36), (37), (3
8) The inside of the lower layer substrate is a region where nothing is formed and there is practically much waste. Therefore, in the present application, the N-type first diffusion region (92) is provided between the series of pads (90) ... (90) and the block region (91), and the pads (90).
The second diffusion region (93) of N-type is provided in the lower layer of 0), and 11 P-type second diffusion regions (93) are provided in the first diffusion region (92) of N-type corresponding to each pad. Three diffusion regions (94) were provided.

前記第1乃至第3の拡散領域(92),(93),(94)
は、夫々第10図のダイオードD1のカソード、ダイオード
D2のカソードおよびダイオードD1のアノードとなる。こ
こでダイオードD2のアノードは、P型の半導体基板とな
る。
The first to third diffusion regions (92), (93), (94)
Are the cathode and diode of diode D 1 in Fig. 10, respectively.
It becomes the cathode of D 2 and the anode of diode D 1 . Here, the anode of the diode D 2 serves as a P-type semiconductor substrate.

第2図Aは、第1図のAMチューナーブロックのブロック
領域(91)における、部分拡大上面図であり、パッド
(90)…(90)と第3の電源ライン(35),(36)との
間を更に詳しく示したものである。点線で示した(9
2),(93),(94)が夫々第1乃至第3の拡散領域で
あり、一点鎖線で示した(35),(36)が第3の電源ラ
インである。
FIG. 2A is a partially enlarged top view of the block area (91) of the AM tuner block of FIG. 1, showing pads (90) ... (90) and third power supply lines (35), (36). This is a more detailed representation of the space between. Indicated by dotted line (9
2), (93), and (94) are the first to third diffusion regions, respectively, and (35) and (36) indicated by the alternate long and short dash line are the third power supply lines.

前記第2の拡散領域(93)内には、点線で示したN+型の
コンタクト領域(95)があり、このコンタクト領域(9
5)を介して、前記第3の拡散領域(94)へ延在した一
点鎖線で示した第1の電極(96)がある。この第1の電
極(96)の一端は、実線で示したパッド(90)が形成さ
れ、他端には電子回路ブロックと接続する実線で示した
第2の電極(97)が形成されている。(98),(99),
(100)の×印は、第1の電極(96)とパッド(90)と
のコンタクト、第3の拡散領域(94)と第1の電極(9
6)とのコンタクト、第1の電極(96)と第2の電極(9
7)とのコンタクトを示している。そして(101)の×印
は、第3の電極ライン(35)と第1の拡散領域(92)と
のコンタクトを示している。また点線で示した(102)
は、N型の第2の領域(93)を囲むN型のダミーアイラ
ンドである。
In the second diffusion region (93), there is an N + type contact region (95) shown by a dotted line, and this contact region (9
There is a first electrode (96) indicated by a chain line extending to the third diffusion region (94) through the above 5). A pad (90) shown by a solid line is formed at one end of the first electrode (96), and a second electrode (97) shown by a solid line is formed at the other end to connect to the electronic circuit block. . (98), (99),
The cross mark (100) indicates the contact between the first electrode (96) and the pad (90), the third diffusion region (94) and the first electrode (9).
6) Contact with the first electrode (96) and the second electrode (9)
7) shows contact with. The cross mark (101) indicates the contact between the third electrode line (35) and the first diffusion region (92). Also shown by the dotted line (102)
Is an N-type dummy island surrounding the N-type second region (93).

次に、第2図Aに於けるA−A'線の断面図である第2図
Bを用いて説明する。
Next, description will be given with reference to FIG. 2B which is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 2A.

P型の半導体基板(14)上には、N型のエピタキシャル
層(15)が積層されており、このN型のエピタキシャル
層(15)を介して半導体基板(14)まで到達するP+型の
分離領域(16)がある。そしてこの分離領域(16)に囲
まれて、第1および第2の拡散領域(92),(93)とダ
ミーアイランド(102)が形成されている。
An N type epitaxial layer (15) is laminated on a P type semiconductor substrate (14), and a P + type epitaxial layer (15) reaching the semiconductor substrate (14) via the N type epitaxial layer (15) is formed. There is a separation area (16). Surrounded by the isolation region (16), the first and second diffusion regions (92) and (93) and the dummy island (102) are formed.

第2図CはマットN〜Pに対応するパッド(90)…(9
0)と第3のグランドライン(72),(73),(74)と
の間を示した図である。基本的には第2図Aと同じであ
るが、第1の拡散領域(92)の一部がブロック領域へ突
出し、×印で示したコンタクト(103)で第1の電源ラ
インとコンタクトしている。
FIG. 2C shows pads (90) corresponding to the mats N to P (9
It is a figure showing between 0) and the 3rd grand lines (72), (73), and (74). Basically the same as in FIG. 2A, except that a part of the first diffusion region (92) projects into the block region, and the contact (103) shown by a cross connects to the first power supply line. There is.

(ト)発明の効果 以上の説明からも明らかな如く、第1にパッド(90)…
(90)群、パッド群と電源ラインまたはグランドライン
との間、およびこの電源ラインまたはグランドラインの
一部を有効に活用して第10図の如き構成が達成できる。
しかも第1の拡散領域(92)は、ブロック領域毎に1つ
設けられている。従って第1の拡散領域にノイズが入っ
ても、このブロック領域のみが干渉を受けるだけで、他
のブロック領域には殆んど影響を与えない。そのため、
ブロック間の相互干渉防止策として効果を有する。
(G) Effect of the Invention As is apparent from the above description, firstly, the pad (90) ...
The structure as shown in FIG. 10 can be achieved by effectively utilizing between the (90) group and the pad group and the power supply line or the ground line and a part of the power supply line or the ground line.
Moreover, one first diffusion region (92) is provided for each block region. Therefore, even if noise enters the first diffusion region, only this block region is interfered with, and other block regions are hardly affected. for that reason,
It is effective as a measure for preventing mutual interference between blocks.

またブロック領域の外周に保護ダイオードが形成できる
ので、ブロック領域のパターン配置には殆んど影響を与
えず整然とレイアウトできる。
Further, since the protection diode can be formed on the outer periphery of the block area, the pattern arrangement in the block area is hardly affected and the layout can be arranged in an orderly manner.

第2に、前記N型の第2の拡散領域(93)の周囲に、分
離領域で囲まれたN型のダミーアイランド(102)を設
けることで、この第2の拡散領域(93)と第1の拡散領
域(92)による寄生サイリスタ動作を防止できる。その
ため寄生サイリスタ動作によって生じる破壊を防止でき
る。ここでは電源ラインVCCと接続されている回路素子
を破壊より守ることができる。
Secondly, by providing an N-type dummy island (102) surrounded by an isolation region around the N-type second diffusion region (93), the second diffusion region (93) and the second diffusion region (93) are separated from each other. The parasitic thyristor operation due to the diffusion region (92) of No. 1 can be prevented. Therefore, it is possible to prevent the destruction caused by the operation of the parasitic thyristor. Here, the circuit element connected to the power supply line V CC can be protected from being destroyed.

第3に、前記第1の拡散領域(92)上に、電源ライン、
第1の電極および第2の電極を延在できるので、この第
1の拡散領域上を有効に活用でき、チップ面積の増大を
防止できる。
Thirdly, a power supply line on the first diffusion region (92),
Since the first electrode and the second electrode can be extended, the first diffusion region can be effectively utilized and the increase of the chip area can be prevented.

第4に、区画ライン()で半導体チップ(1)上面を
実質的に同一サイズの多数のマットに分割し、複数の機
能の異なる電子回路ブロックを整数個のマットに収容す
ると、電子回路ブロック毎に並行して設計ができ、設計
期間を大幅に短縮できる。また電子回路ブロックを一定
の素子数で分割し、マット毎の設計が行えるので、マッ
ト毎の並行設計もできる。また削除、追加および修正等
の回路変更も電子回路ブロック毎またはブロック毎に設
計できるので、ブロック毎またはマット毎の変更のみで
足り、IC全体の設計変更が不要となる。更にはマットを
基本ブロックとしてセル化できるので、一端設計を終了
すれば、この後の回路変更の際、変更するマットのみの
修正だけで、他のマットはそのまま使え信頼性が非常に
高くなる。
Fourth, when the upper surface of the semiconductor chip (1) is divided into a large number of mats of substantially the same size by the division line ( 5 ) and a plurality of electronic circuit blocks having different functions are accommodated in an integer number of mats, the electronic circuit block is formed. Each design can be done in parallel and the design period can be greatly shortened. Further, since the electronic circuit block is divided into a certain number of elements and the design for each mat can be performed, the parallel design for each mat can also be performed. Further, since circuit changes such as deletion, addition and correction can be designed for each electronic circuit block or each block, only the change for each block or each mat is sufficient, and the design change of the entire IC is not necessary. Furthermore, since the mat can be made into a cell as a basic block, once the design is completed, other mats can be used as they are, and the reliability can be improved very much by modifying only the mat to be changed when the circuit is changed thereafter.

しかもマット分割の構成であるので、第3の電源ライン
や第3のグランドラインの下層を有効に使える。また第
1の拡散領域(92)と電源ラインとの接続は、チップの
上半分はパッド(90)…(90)とブロック領域との間に
電源ラインが、チップの下半分にはブロック領域の下端
まで第1の電源ラインが延在されているので、改めて電
源ラインを設けずとも容易に接続できる。また電子回路
ブロック毎の相互干渉を嫌うために、次の対策をしてい
る。つまりブロック領域毎に第1の拡散領域を設けてい
る。これはあるブロックの第1の拡散領域にノイズが入
っても、ブロック毎に分離されているので、他のブロッ
クへノイズが入らない利点を有する。逆に第1の拡散領
域をパッド毎に分離して設ければこの効果は更に向上す
るが、電源ラインとの接続が非常に複雑となる。従って
ブロック毎に設ければ、電源ラインとの接続数が減少で
き、しかも他ブロックへの干渉も防止できる利点を有す
る。
Moreover, since the mat is divided, the lower layers of the third power supply line and the third ground line can be effectively used. The first diffusion region (92) is connected to the power supply line by connecting the power supply line between the pads (90) ... (90) and the block region in the upper half of the chip and the block region in the lower half of the chip. Since the first power supply line extends to the lower end, it is possible to easily connect without providing another power supply line. The following measures are taken to avoid mutual interference between electronic circuit blocks. That is, the first diffusion region is provided for each block region. This has the advantage that even if noise enters the first diffusion region of a block, it is separated for each block, so that noise does not enter other blocks. On the contrary, if the first diffusion region is provided separately for each pad, this effect is further improved, but the connection with the power supply line becomes very complicated. Therefore, if each block is provided, there is an advantage that the number of connections with the power supply line can be reduced and also interference with other blocks can be prevented.

またマットA〜J,マットK〜Tが形成された領域を囲ん
で、第1の拡散領域が形成されているので、チップ周辺
からのノイズ侵入を防止できる。
Further, since the first diffusion region is formed so as to surround the area where the mats A to J and the mats K to T are formed, it is possible to prevent noise from entering around the chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の半導体集積回路に於ける保護ダイオー
ドの形成位置を説明する上面図、第2図Aは第1図の保
護ダイオードの部分拡大図、第2図Bは第2図AのA−
A′線の断面図、第2図Cは第1図の保護ダイオードの
部分拡大図、第3図は本発明の半導体集積回路を示す上
面図、第4図Aは本発明の半導体集積回路のマット領域
を示す上面図、第4図Bは第4図AにおけるA−A′線
の断面図、第5図は本発明の半導体集積回路の電極パタ
ーンを示す上面図、第6図は本発明の半導体集積回路に
組み込まれる電子回路ブロック図、第7図AはAMチュー
ナーブロックを説明する図、第7図BはFMフロントエン
ドブロックとFM−IFブロックを説明する図、第7図Cは
マルチプレックスデコーダーブロックを説明する図、第
8図は従来の半導体集積回路の上面図、第9図は第8図
におけるブロックbとブロックcの間の断面図、第10図
は、保護ダイオードの構成を示す回路図である。 (1)……半導体チップ、(2)……分割領域、(3)
……第1の領域、(4)……第2の領域、()……区
画ライン、(35),(36),(37),(38)……第3の
電源ライン、(41),(42),(43)……第2のグラン
ドライン、(69),(70),(71)……第2の電源ライ
ン、(72),(73),(74)……第3のグランドライ
ン、(90)……パッド、(91)……ブロック領域、(9
2)……第1の拡散領域、(93)……第2の拡散領域、
(94)……第3の拡散領域、(96)……第1の電極、
(97)……第2の電極、(102)……ダミーアイラン
ド。
FIG. 1 is a top view for explaining a formation position of a protection diode in a semiconductor integrated circuit of the present invention, FIG. 2A is a partially enlarged view of the protection diode of FIG. 1, and FIG. 2B is a view of FIG. 2A. A-
FIG. 2C is a partial enlarged view of the protection diode of FIG. 1, FIG. 3 is a top view showing a semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 4A is a semiconductor integrated circuit of the present invention. 4B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 4A, FIG. 5 is a top view showing an electrode pattern of the semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 6 is the present invention. FIG. 7A is a diagram illustrating an AM tuner block, FIG. 7B is a diagram illustrating an FM front end block and an FM-IF block, and FIG. 7C is a multi-circuit diagram. FIG. 8 is a diagram for explaining a plex decoder block, FIG. 8 is a top view of a conventional semiconductor integrated circuit, FIG. 9 is a sectional view between block b and block c in FIG. 8, and FIG. It is a circuit diagram shown. (1) …… Semiconductor chip, (2) …… Divided area, (3)
...... First area, (4) ...... Second area, ( 5 ) ...... Partition line, (35), (36), (37), (38) ...... Third power supply line, (41 ), (42), (43) …… Second ground line, (69), (70), (71) …… Second power line, (72), (73), (74) …… 3 ground line, (90) …… pad, (91) …… block area, (9
2) …… first diffusion region, (93) …… second diffusion region,
(94) ... third diffusion region, (96) ... first electrode,
(97) …… Second electrode, (102) …… Dummy island.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 A 8427−4M (56)参考文献 特開 昭62−293660(JP,A) 特開 昭61−292341(JP,A) 特開 昭59−84542(JP,A) 特開 昭58−39053(JP,A) 特開 昭48−15483(JP,A) 特開 昭59−124740(JP,A)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical indication location H01L 27/04 A 8427-4M (56) References JP 62-293660 (JP, A) Special features Kai 61-292341 (JP, A) JP 59-84542 (JP, A) JP 58-39053 (JP, A) JP 48-15483 (JP, A) JP 59-124740 (JP JP, A)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップの半導体層に位置付けられ、
実質的に同じサイズの形状が複数個で成る前記半導体層
内に形成される半導体素子の配置領域(マット)と、 回路の大きさが実質的に異なる機能別に分けられた複数
のリニア電子回路ブロックより成る電子回路の半導体素
子が前記配置領域(マット)内に形成される半導体集積
回路であって、 前記機能別に分けられた電子回路ブロックの全ての半導
体素子は、前記配置領域(マット)を単位としてこの電
子回路ブロックの総半導体素子数を分割して得られる複
数個の配置領域(マット)に、実質的に形成され 前記半導体チップの周辺の電子回路ブロック領域に対応
して設けられた複数のパッドと、 前記電子回路ブロック領域とこの電子回路ブロック領域
に対応した前記複数のパッドとの間に一体となって形成
された一導電型の第1の拡散領域と、 前記複数のパッドの下層に設けられた一導電型の第2の
拡散領域と、 この第2の拡散領域と接合を有し、グランドに接続され
た逆導電型の半導体領域と、 前記複数のパッドに夫々対応し、前記第1の拡散領域内
に形成した逆導電型の複数の第3の領域と、 前記第2の拡散領域と前記第3の拡散領域とを接続する
第1の電極と、 この第1の電極と前記電子回路ブロックとを接続する第
2の電極と、 前記第1の拡散領域と接続された電源ラインとを備える
ことを特徴とした半導体集積回路。
1. Positioned on a semiconductor layer of a semiconductor chip,
A plurality of linear electronic circuit blocks, each having a semiconductor element arrangement region (mat) formed in the semiconductor layer, which has a plurality of shapes of substantially the same size, and a function of which the circuit size is substantially different. In the semiconductor integrated circuit, the semiconductor element of the electronic circuit is formed in the arrangement area (mat), and all the semiconductor elements of the electronic circuit block classified by the function have the arrangement area (mat) as a unit. As a plurality of placement regions (mats) obtained by dividing the total number of semiconductor elements of this electronic circuit block, the plurality of placement regions (mats) provided substantially corresponding to the electronic circuit block region around the semiconductor chip are provided. A pad, a first conductivity type diffusion region integrally formed between the electronic circuit block region and the plurality of pads corresponding to the electronic circuit block region. An area, a second diffusion region of one conductivity type provided in a lower layer of the plurality of pads, a semiconductor region of an opposite conductivity type having a junction with the second diffusion region and connected to ground, A first region that corresponds to a plurality of pads and that connects a plurality of third regions of the opposite conductivity type formed in the first diffusion region and the second diffusion region and the third diffusion region, respectively. A semiconductor integrated circuit comprising: an electrode; a second electrode connecting the first electrode to the electronic circuit block; and a power supply line connected to the first diffusion region.
【請求項2】前記第2の拡散領域の周囲に、分離領域で
囲まれた一導電型のダミーアイランド領域を設けた請求
項第1項記載の半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a dummy island region of one conductivity type surrounded by an isolation region is provided around the second diffusion region.
【請求項3】前記電源ラインは、前記第1の拡散領域上
に形成される請求項第1項記載の半導体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the power supply line is formed on the first diffusion region.
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