JPH062832B2 - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPH062832B2 JPH062832B2 JP6902785A JP6902785A JPH062832B2 JP H062832 B2 JPH062832 B2 JP H062832B2 JP 6902785 A JP6902785 A JP 6902785A JP 6902785 A JP6902785 A JP 6902785A JP H062832 B2 JPH062832 B2 JP H062832B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- positive electrode
- processing chamber
- bush
- spherical seat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Standing Axle, Rod, Or Tube Structures Coupled By Welding, Adhesion, Or Deposition (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は合成繊維やプラスチツク成形品、たとえば塩化
ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を連続的に真空状
態でプラズマ処理する装置に関するものである。
ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を連続的に真空状
態でプラズマ処理する装置に関するものである。
この種の真空連続処理装置は、本願出願人によりすでに
特開昭５７−195751号公報などで出願されている。この
装置は、プラスチツク成形品など可撓性の被処理物に真
空処理室内のドラム状陰電極と棒状陽電極間でプラズマ
放電させながら表面処理を施すようになつている。
特開昭５７−195751号公報などで出願されている。この
装置は、プラスチツク成形品など可撓性の被処理物に真
空処理室内のドラム状陰電極と棒状陽電極間でプラズマ
放電させながら表面処理を施すようになつている。
ところで、前記棒状の陽電極は真空処理室内の側壁に片
持支持されているため、特に被処理物の幅が大きい場合
にはそれだけ陽電極も長くなり自重によつてたわみが発
生する。また、支持部材のガタなどによつてもたわみが
発生する。この結果、両電極間においては、プラズマ放
電強さが一様でなくなり、したがつて処理ムラなどによ
り被処理物に均一なプラズマ処理が得られない。
持支持されているため、特に被処理物の幅が大きい場合
にはそれだけ陽電極も長くなり自重によつてたわみが発
生する。また、支持部材のガタなどによつてもたわみが
発生する。この結果、両電極間においては、プラズマ放
電強さが一様でなくなり、したがつて処理ムラなどによ
り被処理物に均一なプラズマ処理が得られない。
さらに、陽電極は非導電材の絶縁ブツシユを介して支持
されているが、このブツシユには長時間の使用によつて
クリープ現象が発生する。このブツシユの変形によつて
真空処理室内のシール効果が損われる。
されているが、このブツシユには長時間の使用によつて
クリープ現象が発生する。このブツシユの変形によつて
真空処理室内のシール効果が損われる。
〔発明の目的〕 本発明の目的は、非処理物の幅の大きさに関係なく非処
理物に均一な表面処理を施すようにした真空連続処理装
置を提供することにある。
理物に均一な表面処理を施すようにした真空連続処理装
置を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するために、棒状の陽電極を球
面座を介して支持することにより、陰電極と陽電極を常
に一定の間隔に調節可能としたことを特徴とする。
面座を介して支持することにより、陰電極と陽電極を常
に一定の間隔に調節可能としたことを特徴とする。
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図および第２図において、１はプラスチツクフイル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムのように可撓性の
非処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される
予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに接続す
る真空ポンプ４により１０-2トール程度の真空圧力に保
持するように排気管５を介して真空排気される。前記予
備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ６により
前記真空処理室１内の真空圧力により若干高く、かつ大
気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように排気
管７を介して真空排気される。
ム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムのように可撓性の
非処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される
予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに接続す
る真空ポンプ４により１０-2トール程度の真空圧力に保
持するように排気管５を介して真空排気される。前記予
備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ６により
前記真空処理室１内の真空圧力により若干高く、かつ大
気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように排気
管７を介して真空排気される。
処理される非処理物Ｆは巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０は駆動用モータで、この駆動用
モータ１０はラインシヤフト１１および無段変速機１
２，１３，１４，１５を介して真空処理室１、予備真空
室２，３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室
１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動系の回
転速度は前記無段変速機１２，１３，１４，１５により
適宜調整される。
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０は駆動用モータで、この駆動用
モータ１０はラインシヤフト１１および無段変速機１
２，１３，１４，１５を介して真空処理室１、予備真空
室２，３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室
１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動系の回
転速度は前記無段変速機１２，１３，１４，１５により
適宜調整される。
第３図は前記真空処理室１の概要を示すもので、真空処
理室１はドラム状の陰電極１６と、この陰電極１６と、
この陰電極１６の外周側に配列された少なくとも１本の
棒状の陽電極１７と、非処理物Ｆを案内する少なくとも
１本のガイドローラ１８とから成つており、これら両電
極およびガイドローラ１８は一方の側板１９に片持支持
され、他方の側板２０は開閉扉になつている。
理室１はドラム状の陰電極１６と、この陰電極１６と、
この陰電極１６の外周側に配列された少なくとも１本の
棒状の陽電極１７と、非処理物Ｆを案内する少なくとも
１本のガイドローラ１８とから成つており、これら両電
極およびガイドローラ１８は一方の側板１９に片持支持
され、他方の側板２０は開閉扉になつている。
第４図および第５図は本発明の棒状の陽電極１７の取付
構造を示すもので、２１は後述する絶縁ブツシユなどを
介して陽電極を任意に回動可能に支持する一方の球面座
で、この球面座２１は側板１９に取付けられている。２
２はフツソ樹脂などにより形成された絶縁ブツシユで、
ブツシユ２２と球面座２１は互いに球面で接触してい
る。２３，２４は大気側と真空処理室１内のシールを施
すＯリング、２５はテーパホルダーで、このテーパホル
ダー２５の内面にはこのテーパと嵌合するテーパ外面を
有する絶縁用のテーパブツシユ２６が挿入されており、
このテーパブツシユ２６は押付ボルト２７を軸方向に締
付けることによつて陽電極１７を固定するために、半径
方向にスリツト２６ａが形成されている。２８は他方の
球面座、２９は絶縁ブツシユで、このブツシユ２９と球
面座２８は互いに球面で接触している。３０は絶縁ブツ
シユ２２，２６の外周側に挿入されるスリーブで、この
スリーブ３０は陽電極１７をボルト３３により固定す
る。３１はボルト３５によつてホルダー３２に支持され
るプレート、３４は球面座２８内に介在されるばねで、
このばね３４は球面座２８、絶縁ブツシユ２９、テーパ
ホルダー２５を介して絶縁ブツシユ２６を球面座２１に
押付ける作用を有している。前記ホルダー３２はボルト
３６により側板１９に支持される。
構造を示すもので、２１は後述する絶縁ブツシユなどを
介して陽電極を任意に回動可能に支持する一方の球面座
で、この球面座２１は側板１９に取付けられている。２
２はフツソ樹脂などにより形成された絶縁ブツシユで、
ブツシユ２２と球面座２１は互いに球面で接触してい
る。２３，２４は大気側と真空処理室１内のシールを施
すＯリング、２５はテーパホルダーで、このテーパホル
ダー２５の内面にはこのテーパと嵌合するテーパ外面を
有する絶縁用のテーパブツシユ２６が挿入されており、
このテーパブツシユ２６は押付ボルト２７を軸方向に締
付けることによつて陽電極１７を固定するために、半径
方向にスリツト２６ａが形成されている。２８は他方の
球面座、２９は絶縁ブツシユで、このブツシユ２９と球
面座２８は互いに球面で接触している。３０は絶縁ブツ
シユ２２，２６の外周側に挿入されるスリーブで、この
スリーブ３０は陽電極１７をボルト３３により固定す
る。３１はボルト３５によつてホルダー３２に支持され
るプレート、３４は球面座２８内に介在されるばねで、
このばね３４は球面座２８、絶縁ブツシユ２９、テーパ
ホルダー２５を介して絶縁ブツシユ２６を球面座２１に
押付ける作用を有している。前記ホルダー３２はボルト
３６により側板１９に支持される。
上記の構成において、被処理物Ｆに対し均一なプラズマ
処理を施すために、ドラム状の陰電極１６と棒状の陽電
極１７の間隔を一定にする場合について説明する。
処理を施すために、ドラム状の陰電極１６と棒状の陽電
極１７の間隔を一定にする場合について説明する。
第４図に示す状態からボルト３３を緩めることにより陽
電極１７とスリーブ２９の固定が解放される。この状態
で棒状の陽電極１７が自重あるいは部品のガタにより先
端部分がたわんだ場合、陽電極１７および陽電極１７を
支持する絶縁ブツシユ２２、テーパホルダー２５、テー
パブツシユ２６などを球面座２１，２８で回動させるこ
とにより、棒状の陽電極１７の先端を若干持ち上げるよ
うにすれば、陰電極１６と陽電極１７との間隔をほぼ一
様にできる。次の陽電極１７の位置が決定した状態でボ
ルト３３を締付けることにより、陽電極１７の位置はス
リーブ３０を介してホルダー３２に確実に固定される。
電極１７とスリーブ２９の固定が解放される。この状態
で棒状の陽電極１７が自重あるいは部品のガタにより先
端部分がたわんだ場合、陽電極１７および陽電極１７を
支持する絶縁ブツシユ２２、テーパホルダー２５、テー
パブツシユ２６などを球面座２１，２８で回動させるこ
とにより、棒状の陽電極１７の先端を若干持ち上げるよ
うにすれば、陰電極１６と陽電極１７との間隔をほぼ一
様にできる。次の陽電極１７の位置が決定した状態でボ
ルト３３を締付けることにより、陽電極１７の位置はス
リーブ３０を介してホルダー３２に確実に固定される。
また、絶縁ブツシユ２６がクリープ現象などにより長時
間の使用において変化したとしても、ばね３４により球
面座２８、絶縁ブツシユ２９、テーパホルダー２５を介
して絶縁ブツシユ２２を常に球面座２１に押付けている
ので、真空処理室１内のシール性が損われることはな
い。
間の使用において変化したとしても、ばね３４により球
面座２８、絶縁ブツシユ２９、テーパホルダー２５を介
して絶縁ブツシユ２２を常に球面座２１に押付けている
ので、真空処理室１内のシール性が損われることはな
い。
本発明装置によれば、陽電極を球面座を介して支持する
ようにしたので、陽電極と陰電極間を一定の間隔に調整
することができるため、被処理物の幅の大きさに関係な
く処理ムラのない均一な表面処理が施される。
ようにしたので、陽電極と陰電極間を一定の間隔に調整
することができるため、被処理物の幅の大きさに関係な
く処理ムラのない均一な表面処理が施される。
第１図は本発明の真空連続処理装置の概略縦断面図、第
２図は第１図の概略平面図、第３図は本発明装置におけ
る真空処理室の縦断面図、第４図は本発明装置における
棒状陽電極の取付状態を説明するための図、第５図は第
４図のＶ−Ｖ線矢視図である。 １…真空処理室、２，３…予備真空室、１６…陰電極、
１７…陽電極、２１，２８…球面座、２２，２９…絶縁
ブツシユ、２５…テーパホルダー、２６…テーパブツシ
ユ。
２図は第１図の概略平面図、第３図は本発明装置におけ
る真空処理室の縦断面図、第４図は本発明装置における
棒状陽電極の取付状態を説明するための図、第５図は第
４図のＶ−Ｖ線矢視図である。 １…真空処理室、２，３…予備真空室、１６…陰電極、
１７…陽電極、２１，２８…球面座、２２，２９…絶縁
ブツシユ、２５…テーパホルダー、２６…テーパブツシ
ユ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 健一 東京都千代田区神田駿河台４丁目６番地 株式会社日立製作所内 (72)発明者 上野 進 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田１番地 信 越化学工業株式会社塩ビ技術研究所内 (72)発明者 北村 肇 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田１番地 信 越化学工業株式会社塩ビ技術研究所内 (72)発明者 黒田 幸一 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田１番地 信 越化学工業株式会社塩ビ技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】真空処理室内に陰電極と陰電極に対向する
棒状の陽電極とを備え、これら両電極の間に可撓性の被
処理物を送り込むことにより被処理物の表面を処理する
真空連続処理装置において、前記棒状の陽電極を、両電
極が常に一定の間隔に調整可能なように球面座を介して
支持することを特徴とする真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6902785A JPH062832B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6902785A JPH062832B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61228028A JPS61228028A (ja) | 1986-10-11 |
| JPH062832B2 true JPH062832B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=13390686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6902785A Expired - Lifetime JPH062832B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062832B2 (ja) |
-
1985
- 1985-04-03 JP JP6902785A patent/JPH062832B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61228028A (ja) | 1986-10-11 |
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