JPH0648549B2 - Disk holding device - Google Patents
Disk holding deviceInfo
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- JPH0648549B2 JPH0648549B2 JP61315229A JP31522986A JPH0648549B2 JP H0648549 B2 JPH0648549 B2 JP H0648549B2 JP 61315229 A JP61315229 A JP 61315229A JP 31522986 A JP31522986 A JP 31522986A JP H0648549 B2 JPH0648549 B2 JP H0648549B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29C65/7802—Positioning the parts to be joined, e.g. aligning, indexing or centring
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-
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Landscapes
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- Holding Or Fastening Of Disk On Rotational Shaft (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はコンパクトディスクに代表されるディスクを製
造するとき特に用いられるディスク保持装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a disc holding device particularly used for producing a disc represented by a compact disc.
本発明においては、中心孔に挿通され、ディスクを保持
するバネが、ディスク着脱時においてその都度小径化さ
れる。In the present invention, the spring that is inserted into the center hole and holds the disc is made smaller each time the disc is attached or detached.
コンパクトディスクにおいては記録情報が転写された基
板の信号面上にアルミニウム等よりなる反射膜が形成さ
れ、さらにその上から紫外線硬化樹脂等よりなる保護膜
が被覆されている。反射膜を形成するとき、ホルダに信
号面を有する複数の基板を保持させ、そのような複数の
ホルダを蒸着装置等の内部に搬入し、信号面にアルミニ
ウムを蒸着させる。蒸着が終了したときホルダを蒸着装
置の外部に引き出し、反射膜が形成された基板を全ての
ホルダから取り外し、それが終了したとき再び反射膜が
形成されていない基板を各ホルダに取り付ける。In a compact disc, a reflective film made of aluminum or the like is formed on the signal surface of a substrate onto which recorded information is transferred, and a protective film made of an ultraviolet curable resin or the like is further coated on the reflective film. When forming the reflective film, a plurality of substrates having a signal surface are held by a holder, such a plurality of holders are carried into the inside of a vapor deposition device or the like, and aluminum is vapor-deposited on the signal surface. When the vapor deposition is completed, the holder is pulled out of the vapor deposition apparatus, the substrates on which the reflective film is formed are removed from all the holders, and when the vapor deposition is completed, the substrate on which the reflective film is not formed is attached to each holder again.
ところでこのように反射膜が形成されていない基板をホ
ルダに対して取り付け(ローディングし)、または反射膜
が形成された基板を取り外す(アンローディングする)作
業を自動化し、機械化する場合、基板を取り上げて所定
位置に移動させた後取り外すことができる保持装置が必
要になる。By the way, in the case of automating the work of attaching (loading) a substrate without a reflection film to the holder or removing (unloading) the substrate with a reflection film, in the case of mechanization, the substrate is taken up. Therefore, a holding device that can be removed after being moved to a predetermined position is required.
従来の保持装置は、例えば基板の外周部や平面部を所定
の部材で係止し、中心孔の内周端部でバネを弾性変形さ
せながら着脱するようにしていた。In the conventional holding device, for example, the outer peripheral portion or the flat surface portion of the substrate is locked by a predetermined member, and the spring is elastically deformed at the inner peripheral end portion of the central hole to be attached / detached.
このように従来の装置は基板の中心孔自身でバネを押圧
するようにしているので、保持を確実にするためバネの
付勢力を強くすると、中心孔がバネの反作用を受け、ヒ
ビ等の損傷が発生することがあった。As described above, in the conventional device, the center hole of the substrate itself presses the spring, so if the biasing force of the spring is increased to ensure the holding, the center hole receives the reaction of the spring and damages such as cracks. May occur.
そこで本発明は保持を確実にするとともに、斯かる損傷
が発生し難い保持装置を提供することを目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a holding device that ensures holding and is less likely to cause such damage.
本発明はディスク保持装置において、ディスクの中心孔
に挿通され、その弾性力によりディスクを保持するバネ
と、ディスクの中心孔近傍の平面部と当接する第1のフ
ランジ部と、移動するときチャック等により把持される
把持部とを有する第1の手段と、第1の手段に該ディス
クを着脱するときディスクの平面部と接触する第2のフ
ランジ部と、第2のフランジ部の中心より突出し、バネ
に当接してバネを該中心孔より小径に弾性変形させる、
中心孔より小径の当接部とを有する第2の手段とを備え
ることを特徴とする。According to the present invention, in a disc holding device, a spring that is inserted into a center hole of a disc and holds the disc by its elastic force, a first flange portion that abuts a flat portion near the center hole of the disc, a chuck when moving, and the like. A first means having a gripping portion that is gripped by the second means, a second flange portion that comes into contact with the flat surface portion of the disc when the disc is attached to and detached from the first means, and protrudes from the center of the second flange portion, Abutting against the spring to elastically deform the spring to a smaller diameter than the central hole,
And a second means having an abutment portion having a diameter smaller than that of the central hole.
ディスク保持装置は第1の手段と第2の手段とにより構
成されている。第1の手段はバネと、第1のフランジ部
と、把持部とを有する。バネがディスクの中心孔に挿通
された後、中心孔より大径になるので、その付勢力によ
り第1のフランジ部がディスクに圧着される。この第1
の手段がディスクに装着された状態で把持部を把持し、
ディスクを所定位置に移動させることができる。The disk holding device is composed of first means and second means. The first means has a spring, a first flange portion, and a grip portion. After the spring is inserted into the center hole of the disc, the diameter of the spring becomes larger than that of the center hole, so that the first flange portion is pressed against the disc by the urging force. This first
Grasp the gripping part with the means attached to the disc,
The disc can be moved into position.
第1の手段をディスクに対して着脱するとき、第2の手
段の当接部がバネに当接し、バネを中心孔より小径にす
る。この状態で第2の手段の第2のフランジ部がディス
クに接触し、ディスクを支持する。When the first means is attached to or detached from the disk, the contact portion of the second means contacts the spring, and the spring has a diameter smaller than that of the central hole. In this state, the second flange portion of the second means contacts the disk and supports the disk.
第4図は本発明のディスク製造装置の平面図を表わして
いる。1は供給手段であり、複数のケース2が装着され
ている。ケース2には記録情報が転写された信号面を有
する複数枚の基板4が収容されている。この基板4は例
えばポリカーボネイト等の合成樹脂により構成されてい
る。3は取り出し手段であり、ケース2から基板4を1
枚づつ真空吸引する等して取り出し、搬送手段11上に
順次載置する。FIG. 4 shows a plan view of the disk manufacturing apparatus of the present invention. Reference numeral 1 is a supply means, to which a plurality of cases 2 are attached. The case 2 accommodates a plurality of substrates 4 having a signal surface onto which recording information is transferred. The substrate 4 is made of, for example, a synthetic resin such as polycarbonate. Denoted at 3 is a take-out means, and the substrate 4 from the case 2 is
The sheets are taken out one by one by vacuum suction or the like and sequentially placed on the conveying means 11.
第4図及び第2図に示す如く、搬送手段11は所定のピ
ッチPで基板4を位置決めするガイド部12を有する2
本のバー13を有する。バー13は垂直(第4図におい
て紙面と垂直な方向、第2図において上方向)に上昇し
た後前方(第4図中右方向、第2図中紙面と垂直な方向)
に1ピッチだけ移動し、垂直に下降した後後方に1ピッ
チだけ移動する動作を繰り返す。ガイド部12に位置決
めされた基板4の中心孔に対応する位置に、1ピッチP
毎に係止部14が固定、配置されている。係止部14は
基板4の中心孔に嵌合する円錐部15と、基板4を支持
するフランジ部16とを有している。フランジ部16の
高さは、バー13が上昇したときのガイド部12の位置
より低く、下降したときの位置より高くなっている。従
ってバー13が上昇、前進、下降、後退を1サイクルと
する運動を行う度に、基板4は1ピッチPだけ前方の係
止部14に順次搬送(移動)される。As shown in FIGS. 4 and 2, the conveying means 11 has a guide portion 12 for positioning the substrate 4 at a predetermined pitch P.
It has a bar 13 of books. The bar 13 rises vertically (in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 4, upward in FIG. 2) and then forward (in the right direction in FIG. 4 and in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 2).
It moves one pitch at a time, then descends vertically, and then moves backward by one pitch. 1 pitch P is provided at a position corresponding to the center hole of the substrate 4 positioned in the guide portion 12.
The locking portion 14 is fixed and arranged for each. The locking portion 14 has a conical portion 15 that fits in the center hole of the substrate 4, and a flange portion 16 that supports the substrate 4. The height of the flange portion 16 is lower than the position of the guide portion 12 when the bar 13 is raised and is higher than the position when the bar 13 is lowered. Therefore, every time the bar 13 moves up, forward, down, and backward for one cycle, the substrate 4 is sequentially conveyed (moved) by one pitch P to the front locking portion 14.
第4図及び第2図から明らかな如く、供給手段1と搬送
手段11は複数(この実施例においては1対)設けられて
いる。従って一方と他方の供給手段1から異なる種類の
記録情報を転写した基板(ディスク)4を各々供給するこ
とができる(勿論同一であってもよい)。As is apparent from FIGS. 4 and 2, a plurality of (one pair in this embodiment) the supply means 1 and the transport means 11 are provided. Therefore, the substrates (disks) 4 to which different kinds of recording information are transferred can be respectively supplied from one and the other supplying means 1 (they may be the same, of course).
搬送手段11により8枚の基板4が所定の位置まで搬送
されてきたとき、ローディング手段21が動作を開始す
る。ローディング手段21は各搬送手段11に対応して
1ピッチP毎に配置された8個(従って合計16個)のチ
ャック22を有する。ローディング手段21はチャック
22をホルダ33の方向に移動させる。When the eight substrates 4 are transported to the predetermined position by the transport unit 11, the loading unit 21 starts the operation. The loading means 21 has eight chucks 22 (that is, a total of 16 chucks) arranged at every pitch P corresponding to each transport means 11. The loading means 21 moves the chuck 22 toward the holder 33.
8個の保持部が1対設けられたホルダ33は第6図及び
第7図に示す如く、3つが1組として組み合わされてい
る。ローディング手段21はそのうちの1つのホルダ3
3が搬送手段11側に対向するように部材41により位
置決めする。この対向しているホルダ33には既に反射
膜が形成された基板4が8個づつ、2列保持されてい
る。As shown in FIGS. 6 and 7, the holder 33 provided with a pair of eight holding portions is a combination of three holders. The loading means 21 is one of the holders 3
Positioning is performed by the member 41 so that 3 is opposed to the conveying means 11 side. The opposing holders 33 hold two rows of eight substrates 4 each having a reflective film already formed thereon.
第8図に示すようにチャック22はマスク51の把持部
52を把持し、基板4をホルダ33から離脱させる。板
バネ55が基板4の中心孔に挿通され、外側に広がって
いるので、基板4はマスク51のフランジ部53に押
圧、保持されている。As shown in FIG. 8, the chuck 22 holds the holding portion 52 of the mask 51 and separates the substrate 4 from the holder 33. Since the leaf spring 55 is inserted into the center hole of the substrate 4 and spreads outward, the substrate 4 is pressed and held by the flange portion 53 of the mask 51.
ローディング手段21はホルダ33からマスク51と一
体的に離脱した基板4を搬送手段61まで移動させ、ア
ンローディングさせる。アンローディングは第3図及び
第1図に示すように行なわれる。搬送手段61も搬送手
段11と同様にガイド部62が形成された2本のバー6
3と、1ピッチP毎に固定された係止部64とを有して
いる。係止部64は基板4の中心孔より小径の当接部6
5と大径のフランジ部66とを有している。当接部65
とフランジ部66は基準位置にあるとき、上昇したガイ
ド部62より下方に、かつ下降したガイド部62より上
方に位置している。チャック22が基板4を搬送手段6
1の上方の所定位置まで移動させたとき、当接部65が
プランジャ67により上昇される。当接部65は板バネ
55に当接し、板バネ55を圧縮し、その径を小さくさ
せる。その結果重力に引かれて基板4がマスク51から
離れ、落下する。このときプランジャ68により駆動さ
れ、フランジ部66も上昇しているので落下した基板4
はその中心孔が当接部65に嵌挿されるとともに、その
平面部がフランジ部66により支持される。このように
してアンローディングされた基板4を支持する当接部6
5とフランジ部66は基準位置まで下降する。The loading unit 21 moves the substrate 4 separated from the holder 33 integrally with the mask 51 to the transfer unit 61 and unloads it. Unloading is performed as shown in FIGS. 3 and 1. Similarly to the transporting means 11, the transporting means 61 also includes two bars 6 each having a guide portion 62 formed therein.
3 and a locking portion 64 fixed at every 1 pitch P. The locking portion 64 is a contact portion 6 having a diameter smaller than the center hole of the substrate 4.
5 and a large-diameter flange portion 66. Contact part 65
When the flange portion 66 is at the reference position, the flange portion 66 is located below the raised guide portion 62 and above the lowered guide portion 62. The chuck 22 transfers the substrate 4 to the transfer means 6
When moved to a predetermined position above 1, the contact portion 65 is raised by the plunger 67. The contact portion 65 contacts the leaf spring 55, compresses the leaf spring 55, and reduces its diameter. As a result, the substrate 4 is separated from the mask 51 by gravity and falls. At this time, since the flange portion 66 is driven by the plunger 68 and is raised,
The center hole is fitted into the contact portion 65, and the flat surface portion is supported by the flange portion 66. The contact portion 6 that supports the substrate 4 thus unloaded
5 and the flange portion 66 descend to the reference position.
アンローディングが終了するとバー63がバー13と同
様に上昇、前進、下降、後退を1サイクルとする運動を
するので、反射面が形成された基板(ディスク)4が1ピ
ッチPづつ、順次前方に搬送される。アンローディング
は8個の基板について行なわれるので搬送手段61の係
止部のうち最初の8個は係止部64の構成となっている
が、後は係止部14の構成となっている。搬送手段61
も搬送手段11に対応して1対設けられている。従って
一方と他方の搬送手段61から各々異なる記録情報を有
する基板を区別して取り出すことができる。勿論系統を
増加させればさらに多くの種類の基板を処理することが
できる。When the unloading is completed, the bar 63 moves upward, forward, downward, and backward as one cycle like the bar 13. Therefore, the substrate (disk) 4 on which the reflective surface is formed is sequentially moved forward by one pitch P. Be transported. Since the unloading is performed on eight substrates, the first eight of the locking portions of the transporting means 61 are the locking portions 64, but the rest are the locking portions 14. Conveying means 61
Also, one pair is provided corresponding to the transport means 11. Therefore, it is possible to separately take out the substrates having different recording information from the one and the other conveying means 61. Of course, if the number of systems is increased, more kinds of substrates can be processed.
搬送手段61により基板4は次の工程(例えば保護膜形
成工程)に回される。The substrate 4 is moved to the next step (for example, a protective film forming step) by the transfer means 61.
一方ローディング手段21はアンローディングが完了し
たとき、次に引き続いてローディングを行なう。搬送手
段11における係止部は最初の幾つかが係止部14の構
成とされ、最後の8個がローディングのため係止部64
の構成とされている。On the other hand, when the unloading is completed, the loading means 21 continues to load next. The first several locking portions of the transporting means 11 are the locking portions 14, and the last eight locking portions 64 are for loading.
Is configured.
アンローディングが完了したときチャック22はマスク
51を把持している。ローディング手段21はこのマス
ク51を搬送手段11の最後の8個の基板4の中心孔の
上方に位置させる。次に係止部64の当接部65とフラ
ンジ部66が共に上昇する。当接部65が基板4の中心
孔に嵌入され、フランジ部66が基板4の平面部に当接
するので、基板4はガイド部62から離れて上昇する。
当接部65の先端が板バネ55に当接すると、板バネ5
5は基板4の中心孔より小径に弾性変形する。このとき
突出部56がストッパとして機能するので板バネ55は
必要以上に変形しない。当接部65は板バネ55に当接
した位置で停止するが、フランジ部66はさらに上昇
し、基板4がマスク51のフランジ部53に当接しとき
停止する。この状態において次に当接部65が下降す
る。フランジ部66の内径は板バネ55の広がったとき
の径より大きく設定してあるので、当接部65による当
接が解除されたとき板バネ55は自らの弾性力により大
径となる。その結果マスク51に基板4が保持される。When the unloading is completed, the chuck 22 holds the mask 51. The loading means 21 positions the mask 51 above the center holes of the last eight substrates 4 of the transport means 11. Next, the contact portion 65 of the locking portion 64 and the flange portion 66 both rise. The contact portion 65 is fitted into the center hole of the substrate 4, and the flange portion 66 abuts on the flat surface portion of the substrate 4, so that the substrate 4 rises apart from the guide portion 62.
When the tip of the contact portion 65 contacts the leaf spring 55, the leaf spring 5
5 is elastically deformed to have a smaller diameter than the central hole of the substrate 4. At this time, since the protrusion 56 functions as a stopper, the leaf spring 55 does not deform more than necessary. The contact portion 65 stops at a position where it contacts the leaf spring 55, but the flange portion 66 further rises and stops when the substrate 4 contacts the flange portion 53 of the mask 51. In this state, the contact portion 65 then descends. Since the inner diameter of the flange portion 66 is set to be larger than the diameter when the leaf spring 55 spreads, the leaf spring 55 has a large diameter due to its own elastic force when the contact by the contact portion 65 is released. As a result, the substrate 4 is held on the mask 51.
このようにローディング及びアンローディングの場合に
おいて基板4の中心孔自身により板バネ55を押圧しな
いので、中心孔にヒビが入ったりすることが防止され
る。In this way, in the case of loading and unloading, the leaf spring 55 is not pressed by the center hole itself of the substrate 4, so that the center hole is prevented from being cracked.
ローディング手段21は基板4を保持したマスク51を
チャック22で把持し、ホルダ33の位置まで移動させ
る。いまホルダ33は反射膜を形成した基板4を取り去
った後なので、基板4はローディングされていない。チ
ャック22はホルダ33に設けられた孔43に、マスク
51の突出部56を挿入させる。突出部56は例えば磁
性ステンレスからなり、孔43には磁石44が固定され
ているので、磁石44が突出部56を吸引し、その吸引
力でフランジ部53が基板4をホルダ33側に押圧す
る。孔43の内径は板バネ55の大径より大きく設定し
てあるので板バネ55が孔43の内部において小径にな
ることはない。また充分な吸引力を得るために、突出部
56の先端は磁石44にできるだけ近づけるが、当接し
ないようになっている。孔43には空気を抜くための小
孔45が設けられている。これは反射膜形成過程におい
て減圧するとき孔43内の空気も完全に抜けるようにす
るためのものである。このようにしてホルダ33にロー
ディングされた基板4の中心孔の近傍はマスク51のフ
ランジ部53によりマスクされるので反射膜は形成され
ない。またホルダ33に環状に突出部42を設けてあ
り、これが対向しているので基板4の外周端部にも反射
膜は形成されない。The loading means 21 holds the mask 51 holding the substrate 4 with the chuck 22 and moves it to the position of the holder 33. Since the holder 33 has just removed the substrate 4 on which the reflection film is formed, the substrate 4 is not loaded. The chuck 22 inserts the protrusion 56 of the mask 51 into the hole 43 provided in the holder 33. The protrusion 56 is made of, for example, magnetic stainless steel, and the magnet 44 is fixed to the hole 43. Therefore, the magnet 44 attracts the protrusion 56, and the attraction force causes the flange 53 to press the substrate 4 toward the holder 33. . Since the inner diameter of the hole 43 is set to be larger than the large diameter of the leaf spring 55, the leaf spring 55 does not have a small diameter inside the hole 43. Further, in order to obtain a sufficient attractive force, the tip of the protruding portion 56 is brought as close as possible to the magnet 44, but is not in contact with it. The hole 43 is provided with a small hole 45 for removing air. This is to completely remove the air in the holes 43 when the pressure is reduced in the process of forming the reflective film. In this way, the vicinity of the central hole of the substrate 4 loaded in the holder 33 is masked by the flange portion 53 of the mask 51, so that no reflective film is formed. Further, the holder 33 is provided with the protruding portion 42 in an annular shape, and since the protruding portions 42 face each other, the reflection film is not formed on the outer peripheral end portion of the substrate 4.
例えば合成樹脂等により一体成形される把持部52とフ
ランジ部53の接合部付近には溝54が形成してある。
反射膜形成工程において反射膜は基板4上だけでなく、
マスク51の外側にも形成される。従ってチャック22
で把持部52を把持するとき、チャック22でこすられ
てマスク51の外側に形成された反射膜が除去される。
この除去されたカスが信号面(第8図中上方の面)に付着
するとピンホールが発生する。そこで溝54を設けるこ
とによりチャック22と接触する水平面(反射膜が形成
され易い面)をできるだけ小さくし、カスが発生し難く
なるようにしている。また発生したカスは溝54内に落
下し、基板4上に落下する分が少なくなるようになって
いる。For example, a groove 54 is formed near the joint between the grip portion 52 and the flange portion 53, which are integrally formed of synthetic resin or the like.
In the reflective film forming step, the reflective film is not only on the substrate 4,
It is also formed outside the mask 51. Therefore, the chuck 22
When the grip portion 52 is gripped by, the reflective film which is rubbed by the chuck 22 and formed on the outside of the mask 51 is removed.
When the removed dust adheres to the signal surface (the upper surface in FIG. 8), pinholes are generated. Therefore, by providing the groove 54, the horizontal surface (the surface on which the reflective film is easily formed) that is in contact with the chuck 22 is made as small as possible so that dust is not easily generated. Further, the generated debris falls into the groove 54, and the amount of the debris that falls onto the substrate 4 is reduced.
ローディング手段21は、1つのホルダ33のアンロー
ディングとローディングが終了したとき、部材41によ
る位置決めを一旦解除し、軸34を120度回転させ、
再び位置決めを行なう。これにより新しいホルダ33が
ローディング手段21と対向することになる。新たなホ
ルダ33に対しても前述した場合と同様にしてアンロー
ディングとローディングが行なわれる。When the unloading and the loading of one holder 33 are completed, the loading means 21 temporarily releases the positioning by the member 41 and rotates the shaft 34 by 120 degrees,
Position again. As a result, the new holder 33 faces the loading means 21. The new holder 33 is also unloaded and loaded in the same manner as described above.
ホルダ33は3枚を1組として第5図に示すように7組
が基台32に配置されている。従って1組のホルダ33
のアンローディングとローディングが終了したとき、基
台32に固定したギア37が図示せぬギアにより回転さ
れ、隣の1組のホルダがローディング手段21に対向さ
れる。As shown in FIG. 5, seven holders 33 are arranged on the base 32, with three holders as one set. Therefore, one set of holders 33
When the unloading and the loading are completed, the gear 37 fixed to the base 32 is rotated by a gear (not shown), and a pair of adjacent holders faces the loading means 21.
このようにして7組のホルダ33に対するホルダ毎のロ
ーディングとアンローディングが完了したとき、第4図
に示すように(便宜上同図は1組のホルダのみが示され
ている)、反射膜形成システム31において基台32は
ローディング手段21と対向するローディング位置から
位置46に移動される。位置46において、反射膜を形
成するアルミニウム等の材料40が基台32の中央に設
けたポール38に支持されているヒータ39上に装着、
配置される。基台32は装着作業の空間を確保するた
め、1組のホルダが省略された構造になっている。In this way, when the loading and unloading of each of the seven holders 33 is completed, as shown in FIG. 4 (only one holder is shown in the figure for convenience), the reflective film forming system. At 31, the base 32 is moved from the loading position facing the loading means 21 to the position 46. At a position 46, a material 40 such as aluminum for forming a reflection film is mounted on a heater 39 supported by a pole 38 provided in the center of the base 32,
Will be placed. The base 32 has a structure in which one set of holders is omitted in order to secure a space for mounting work.
勿論材料の装着は必要に応じ基台32がローディング位
置にあるとき行なうことも可能である。Of course, the material can be loaded when the base 32 is in the loading position, if necessary.
材料40が補充された基台32は位置47まで移動さ
れ、さらに反射膜形成位置に配置された反射膜形成手段
48内に移動される。The base 32 supplemented with the material 40 is moved to a position 47, and is further moved into the reflection film forming means 48 arranged at the reflection film forming position.
反射膜形成手段48は基台32が内部に配置されたと
き、室内を減圧し、ヒータ39を熱して材料40を蒸発
させる。蒸発された材料40は微粒子となって放射状に
飛散し、ホルダ33に保持された基板4上に反射膜を形
成する。このときギア37が回転されるので基台32が
回転し、各ホルダは公転する。このとき各ホルダの組に
設けたギア35が中央の固定ギア36により回転される
ので、各ホルダは公転すると同時に自転する。このよう
にして反射膜が均一に形成される。When the base 32 is arranged inside, the reflection film forming means 48 decompresses the inside of the chamber and heats the heater 39 to evaporate the material 40. The evaporated material 40 becomes fine particles and is scattered in a radial manner to form a reflective film on the substrate 4 held by the holder 33. At this time, since the gear 37 is rotated, the base 32 is rotated and each holder revolves. At this time, the gear 35 provided in each holder set is rotated by the central fixed gear 36, so that each holder revolves around the sun at the same time. In this way, the reflective film is uniformly formed.
反射膜の形成が終了したとき、基台32は位置49に移
動され、さらに再びローディング手段21と対向する位
置に移動される。すなわち基台32は各位置を循環す
る。When the formation of the reflective film is completed, the base 32 is moved to the position 49, and then to the position facing the loading means 21 again. That is, the base 32 circulates in each position.
反射膜の形成に約10分、ローディング及びアンローデ
ィングに約13分乃至15分を要するとき、例えば3台
の基台32を循環させると効率が良い。すなわち1台の
基台32がローディング、アンローディングしていると
き、他の1台を反射膜形成位置に配し、反射膜を形成す
る。反射膜の形成の方が若干早く終了するから、終了し
た基台は位置49に移動、待機させる。そして位置46
で待機させておいた他の1台を位置47に移動、待機さ
せる。最も長時間を要するローディング、アンローディ
ングが終了したとき、その基台を位置46に、位置49
の基台をローディング位置に、位置47の基台を反射膜
形成手段48内に、各々移動させる。When it takes about 10 minutes to form the reflective film and about 13 to 15 minutes for loading and unloading, it is efficient to circulate, for example, three bases 32. That is, when one base 32 is being loaded and unloaded, another one is placed at the reflection film forming position to form the reflection film. Since the formation of the reflective film is completed a little earlier, the completed base is moved to the position 49 and made to stand by. And position 46
The other one that had been made to stand by is moved to the position 47 and made to stand by. When the loading and unloading that takes the longest time is completed, place the base at position 46 and position 49.
The pedestal is moved to the loading position, and the pedestal at the position 47 is moved into the reflection film forming means 48.
第9図及び第10図はホルダ33を回転させる機構を表
わしている。ギア35は略円筒状のギア軸71に固定さ
れている。ギア軸71の中心にはピン72が回転かつ上
下動自在に挿通されている。73はスプリングであり、
ピン72の先端に固定された結合部70の下面がギア軸
71の上面に当接するように付勢している。結合部70
の下面には孔75が相互に120度の間隔で3個設けら
れている。またギア軸71の上面にも孔75に嵌合する
結合ピン74が3個設けられている。ホルダ33の中心
の軸34の底面には孔77が3個、結合部70の上面に
は孔77に嵌合する結合ピン76が3個、各々設けられ
ている。9 and 10 show a mechanism for rotating the holder 33. The gear 35 is fixed to a substantially cylindrical gear shaft 71. A pin 72 is inserted in the center of the gear shaft 71 so as to be rotatable and vertically movable. 73 is a spring,
The lower surface of the coupling portion 70 fixed to the tip of the pin 72 is urged so as to contact the upper surface of the gear shaft 71. Coupling part 70
Three holes 75 are provided on the lower surface of the device at intervals of 120 degrees. Further, three coupling pins 74 that fit into the holes 75 are also provided on the upper surface of the gear shaft 71. Three holes 77 are provided on the bottom surface of the shaft 34 at the center of the holder 33, and three coupling pins 76 that fit into the holes 77 are provided on the upper surface of the coupling portion 70.
ホルダ33が部材41により位置決めされる位置以外に
位置しているとき、結合ピン76が孔77に、また結合
ピン74が孔75に、各々嵌合している。従ってギア3
5が回転すると、ギア軸71、結合部70、軸34が回
転し、軸34に支持されているホルダ33が回転(自転)
する。When the holder 33 is located at a position other than the position where it is positioned by the member 41, the coupling pin 76 is fitted in the hole 77 and the coupling pin 74 is fitted in the hole 75. Therefore gear 3
When 5 rotates, the gear shaft 71, the coupling portion 70, and the shaft 34 rotate, and the holder 33 supported by the shaft 34 rotates (rotates).
To do.
ホルダ33が部材41により位置決めされる位置にある
とき、ヘッド78が上昇し、その上面に形式された3個
の結合ピン79がピン72の下面に形成された3個の孔
80に嵌合する。スプリング73の付勢力に抗してヘッ
ド78がさらに上昇するとピン72も上昇し、結合ピン
74と孔75の係合が解除される。この状態においてヘ
ッド78の外周に固定されたギア81を介してヘッド7
8が略120度回転される。従ってピン72、結合部7
0、軸34が略120度回転され(このときギア35、
ギア軸71は回転しない)、結局ホルダ33が略120
度回転される。120度回転された位置においてホルダ
33が部材41により位置決めされることは上述した通
りである。When the holder 33 is positioned by the member 41, the head 78 moves up and the three coupling pins 79 formed on the upper surface of the head 78 fit into the three holes 80 formed on the lower surface of the pin 72. . When the head 78 further rises against the biasing force of the spring 73, the pin 72 also rises, and the engagement between the coupling pin 74 and the hole 75 is released. In this state, the head 7 is attached via the gear 81 fixed to the outer periphery of the head 78.
8 is rotated about 120 degrees. Therefore, the pin 72 and the connecting portion 7
0, the shaft 34 is rotated about 120 degrees (at this time, the gear 35,
The gear shaft 71 does not rotate.)
Is rotated once. The holder 33 is positioned by the member 41 at the position rotated by 120 degrees, as described above.
3つのホルダ33のうち、第1のホルダ33に対するア
ンローディング、ローディングが終了したとき、軸34
が120度回転されて第2のホルダ33に対するアンロ
ーディング、ローディングが行われる。それが終了した
とき軸34はさらに120度回転されて第3のホルダ3
3に対するアンローディング、ローディングが行われ
る。すなわち3つのホルダ33に対してローディング、
アンローディングするために必要な軸34の回転角は2
40度である。3つのホルダ33のローディング、アン
ローディングが終了したとき、ヘッド78が下降され、
それに伴いピン72も下降する。結合部70の下面とギ
ア軸71の上面の結合が、例えば一方と他方に設けた1
本の溝とそれに嵌合する1本の突起部とにより行われる
場合、ピン72(又はギア軸71)をさらに120度回転
し、合計360度回転した状態にしないと両者の結合が
できない。そのため本来の動作には不要な回転が必要に
なり、それだけ時間がかかる。しかしながらこの実施例
においては、ホルダ33の数に対応する数だけピン74
と孔75とが設けられているので、ピン72をさらに1
20度回転させず、そのまま下降させても結合部70と
ギア軸71を結合させることが可能である。従って本来
の動作以外の動作が不用になる。When the unloading and loading of the first holder 33 among the three holders 33 is completed, the shaft 34
Is rotated 120 degrees to unload and load the second holder 33. When it is finished, the shaft 34 is rotated further 120 degrees and the third holder 3
Unloading and loading of 3 are performed. That is, loading on the three holders 33,
The rotation angle of the shaft 34 required for unloading is 2
It is 40 degrees. When the loading and unloading of the three holders 33 are completed, the head 78 is lowered,
Along with that, the pin 72 also descends. The lower surface of the coupling portion 70 and the upper surface of the gear shaft 71 are coupled to each other by, for example,
In the case of using a groove and a protrusion that fits in the groove, the pin 72 (or the gear shaft 71) must be further rotated by 120 ° for a total rotation of 360 ° before the two can be joined. Therefore, the original operation requires unnecessary rotation, which takes time. However, in this embodiment, as many pins 74 as the number of holders 33 are provided.
And the hole 75, the pin 72 is
It is possible to connect the connecting portion 70 and the gear shaft 71 by lowering them without rotating them by 20 degrees. Therefore, the operation other than the original operation becomes unnecessary.
例えば4枚のホルダ33を1組とする場合は結合ピンと
対応する孔を4つにするか、垂直に交叉する2本の溝と
2本の突起部とを設けるようにすればよい。ホルダの数
をそれ以上増加した場合も同様に結合ピンと孔を増加す
ればよい。For example, when four holders 33 are used as one set, four holes corresponding to the coupling pins may be provided, or two grooves and two protrusions that vertically intersect each other may be provided. Even when the number of holders is further increased, the number of connecting pins and holes may be similarly increased.
以上の如く本発明はディスク保持装置において、ディス
クの中心孔に挿通され、その弾性力によりディスクを保
持するバネと、ディスクの中心孔近傍の平面部と当接す
る第1のフランジ部と、移動するときチャック等により
把持される把持部とを有する第1の手段と、第1の手段
にディスクを着脱するときディスクの平面部と接触する
第2のフランジ部と、第2のフランジ部の中心より突出
し、バネに当接してバネを中心孔より小径に弾性変形さ
せる、中心孔より小径の当接部とを有する第2の手段と
を備えるようにしたので、バネを強くすることができ、
ディスクが移動途中で脱落したりすることを防止するこ
とができるばかりでなく、中心孔の損傷も防止すること
ができ、歩留まりを向上させることが可能になる。As described above, according to the present invention, in the disc holding device, the spring that is inserted into the center hole of the disc and holds the disc by its elastic force, and the first flange portion that comes into contact with the flat portion near the center hole of the disc move. A first means having a gripping portion that is gripped by a chuck or the like, a second flange portion that comes into contact with a flat surface portion of the disc when the disc is attached to or detached from the first means, and a center of the second flange portion. Since the second means having a contacting portion having a diameter smaller than that of the central hole and protruding and elastically deforming the spring by contacting the spring with a diameter smaller than that of the central hole is provided, the spring can be strengthened,
Not only can the disc be prevented from falling off during movement, but also damage to the center hole can be prevented, and the yield can be improved.
第1図、第2図及び第3図は本発明のディスク製造装置
の搬送手段の側面図、第4図はそのディスク製造装置の
平面図、第5図はその基台の平面図、第6図及び第7図
はそのホルダの平面図と正面図、第8図はそのホルダの
分解平面図、第9図及び第10図はそのホルダの回転機
構の側面図と底面図である。 1……供給手段 2……ケース 3……取り出し手段 4……基板 11……搬送手段 12……ガイド部 13……バー 14……係止部 15……円錐部 16……フランジ部 21……ローディング手段 22……チャック 31……反射膜形成システム 32……基台 33……ホルダ 34……軸 35,36,37……ギア 38……ポール 39……ヒータ 40……材料 41……部材 42……突出部 43……孔 44……磁石 45……小孔 46,47,49……位置 48……反射膜形成手段 51……マスク 52……把持部 53……フランジ部 54……溝 55……板バネ 56……突出部 61……搬送手段 62……ガイド部 63……バー 64……係止部 65……当接部 66……フランジ部 67,68……プランジャ 70……結合部 71……ギア軸 72……ピン 73……スプリング 74……結合ピン 75……孔 76……結合ピン 77……孔 78……ヘッド 79……結合ピン 80……孔 81……ギアFIGS. 1, 2 and 3 are side views of the conveying means of the disk manufacturing apparatus of the present invention, FIG. 4 is a plan view of the disk manufacturing apparatus, FIG. 5 is a plan view of its base, and FIG. 7 and 8 are a plan view and a front view of the holder, FIG. 8 is an exploded plan view of the holder, and FIGS. 9 and 10 are a side view and a bottom view of a rotation mechanism of the holder. 1 ... Supplying means 2 ... Case 3 ... Ejecting means 4 ... Substrate 11 ... Conveying means 12 ... Guide section 13 ... Bar 14 ... Locking section 15 ... Cone section 16 ... Flange section 21 ... ... Loading means 22 ... Chuck 31 ... Reflective film forming system 32 ... Base 33 ... Holder 34 ... Shaft 35, 36, 37 ... Gear 38 ... Pole 39 ... Heater 40 ... Material 41 ... Member 42 ... Projection 43 ... Hole 44 ... Magnet 45 ... Small hole 46, 47, 49 ... Position 48 ... Reflective film forming means 51 ... Mask 52 ... Grip 53 ... Flange 54 ... ... Groove 55 ... Leaf spring 56 ... Projection part 61 ... Conveying means 62 ... Guide part 63 ... Bar 64 ... Locking part 65 ... Contact part 66 ... Flange part 67, 68 ... Plunger 70 ...... Coupling 71 ...... Gi Axis 72 ...... pin 73 ...... spring 74 ...... coupling pin 75 ...... hole 76 ...... coupling pin 77 ...... hole 78 ...... head 79 ...... connecting pin 80 ...... hole 81 ...... gear
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 洋明 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 稲村 俊二 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 大越 章雄 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 岩崎 恒夫 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroaki Watanabe 2680 Nishi Hanawa, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Pioneer Video Co., Ltd. (72) Shunji Inamura 2680 Nishi-hanawa, Tatomi-cho, Nakanima-gun Yamanashi Pioneer Video Incorporated (72) Inventor Akio Ogoshi 2680 Nishi Hanawa, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Pioneer Video Corp. (72) Inventor Tsuneo Iwasaki 2680 Nishi-wana, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Pioneer Video Ltd.
Claims (1)
により該ディスクを保持するバネと、該ディスクの該中
心孔近傍の平面部と当接する第1のフランジ部と、移動
するときチャック等により把持される把持部とを有する
第1の手段と、 該第1の手段に該ディスクを着脱するとき該ディスクの
平面部と接触する第2のフランジ部と、該第2のフラン
ジ部の中心より突出し、該バネに当接して該バネを該中
心孔より小径に弾性変形させる、該中心孔より小径の当
接部とを有する第2の手段とを備えることを特徴とする
ディスク保持装置。1. A spring which is inserted into a center hole of a disk and holds the disk by its elastic force, a first flange part which abuts a flat surface part near the center hole of the disk, and a chuck or the like when moving. A first portion having a grip portion gripped by the second flange portion, a second flange portion that comes into contact with a flat surface portion of the disc when the disc is attached to and detached from the first means, and a center of the second flange portion. A second holding means having a contacting portion having a diameter smaller than that of the central hole and further protruding and elastically deforming the spring to have a diameter smaller than that of the central hole.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61315229A JPH0648549B2 (en) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | Disk holding device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61315229A JPH0648549B2 (en) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | Disk holding device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63167490A JPS63167490A (en) | 1988-07-11 |
| JPH0648549B2 true JPH0648549B2 (en) | 1994-06-22 |
Family
ID=18062944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61315229A Expired - Lifetime JPH0648549B2 (en) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | Disk holding device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648549B2 (en) |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP61315229A patent/JPH0648549B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63167490A (en) | 1988-07-11 |
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