JPH0650736B2 - 縦型プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、それぞれ搬送機構を備え互いに隣り合う成
膜室の間で表面に形成される基板が鉛直に取り付けられ
たサセプタの受渡しが行われる縦型プラズマＣＶＤ装置
における搬送機構の構成に関する。

〔従来の技術〕

第２図は従来のこの種搬送機構の第１の構成例を示す。
互に隣り合うそれぞれの成膜室１の下方には、表面に薄
膜が形成される基板２が鉛直に取り付けられたサセプタ
３の移動方向（矢印の方向）に直角方向水平にかつ水平
方向に間隔をおいて配列された複数の軸にそれぞれ固設
された複数のピニオン５を成膜室外部から同方向に回転
駆動することにより、このピニオン５と噛み合うラック
４を下端縁に備えたサセプタ３が矢印方向に移動し、両
成膜室１間でサセプタ３の受渡しが行われる。

第３図に従来のこの種搬送機構の第２の構成例を示す。
この例では、互いに隣り合うそれぞれの成膜室１の上方
に、サセプタ３の移動方向に直角方向水平にかつ水平方
向に間隔をおいて上下２段にそれぞれ同数配列された複
数の軸にそれぞれスプロケット６を固設するとともに上
段のスプロケット６は共通のローラチェーン７ａをかけ
わたされて回転を共にし、下段のスプロケット６はロー
ラチェーン７ｂを介してそれぞれ上段のスプロケット６
と回転を共にするように構成されている。さらに、下段
の水平軸にはそれぞれローラ８が固設され、上段の水平
軸のいずれか１つ，たとえば各成膜室左上の軸をそれぞ
れ成膜室１外部から回転駆動することにより、上端縁屈
曲部でローラ８に吊り上げられたサセプタ３が矢印方向
に移動し、両成膜室間でサセプタ３の受渡しが行われ
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上のように構成された従来の搬送機構の問題点は次の
通りである。すなわち、第２図に示す構成の搬送機構で
は、それぞれの成膜室下方の複数のピニオンのうち、サ
セプタの移動方向の幅の関係から、外部からの駆動を要
するピニオンが複数存在する場合には、これらのピニオ
ンは通常それぞれの成膜室外部に配された共通の駆動装
置により互いに機械的に連動して駆動されるから、ピニ
オンとラックとの噛み合いを円滑にするための調整が著
しく困難であり、また、成膜室相互間で搬送速度が異な
った場合には、サセプタの受渡しが不可能となる欠点が
あった。

また、第３図のように、サセプタをローラに吊り下げて
搬送する構成では搬送機構が複雑となり、また、サセプ
タとローラとの間ですべりをおこしやすく、成膜に不都
合な微粉を生じやすいという欠点があった。

この発明の目的は、１つの成膜室内での搬送の不円滑や
両成膜室間での受渡し不能の問題が生ぜず、かつ搬送，
受渡しに伴う微粉の発生を極小に抑えうる，サセプタを
含む縦型プラズマＣＶＤ装置の構成を提供することであ
る。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題を解決するために、ここの発明によれば、それ
ぞれ搬送機構を備え互いに隣り合う成膜室の間で表面に
薄膜が形成される基板が鉛直に取り付けられたサセプタ
の受渡しが前記搬送機構を用いて行われる縦型プラズマ
ＣＶＤ装置を、前記サセプタが上端縁に該サセプタを懸
吊状態に下方から支承せしめるための，受渡し方向両端
にそれぞれ上方へ伸びる突起部を備えた屈曲辺縁を形成
するとともに、前記それぞれの成膜室が、サセプタの受
渡し方向と直角方向水平にかつ水平方向に間隔をおいて
配列された複数の軸にそれぞれ回転自在に取り付けられ
前記サセプタ上端の屈曲辺縁を下方から支承する複数の
フリーローラと、前記フリーローラ列の上方にかつ水平
方向に間隔をおいて配されたスプロケットと該スプロケ
ット６に循環可能にかけわたされ外方へ突出するドック
を備えたローラチェーンとを備えてなるチェーン搬送機
構とを備えたものとして、前記それぞれの成膜室のチェ
ーン搬送機構を同方向に搬送駆動することにより前記サ
セプタを渡す側のチェーン搬送機構のドックがサセプタ
の屈曲辺縁後方の突起部を押し、サセプタを受ける側の
チェーン搬送機構のドックがサセプタ屈曲辺縁前方の突
起部をおくれて引掛けることにより受渡しを行うものと
する。

〔作 用〕

縦型プラズマＣＶＤ装置をこのように構成することによ
り、サセプタの受渡しは、前段の成膜室からの送り込み
動作が完了してから後段の成膜室における引込み動作が
開始されることにより行われるから、送り込み完了時点
と引込み開始時点との時間差は厳密を要することなく受
渡しが可能となり、ピニオンとラックとの組合わせの場
合のような，調整困難や受渡し不能などの問題を生じな
い。また、微粉発生の原因となるすべりは、サセプタ上
端の屈曲辺縁両端の突起部とローラチェーンのドックと
の間で生ずるが、突起部は移動行程の大部分をドックと
の間ですべりを生ずることなくドックに押圧されて移動
し、すべりは送り込み完了時点と引き込み完了時点とに
おけるわずかな寸法範囲だけでしかも生ぜず、しかも突
起部に対するドックの押圧は軸まわりに回転自在なロー
ラを介して行われるから、微粉の発生は極めて小さく抑
えられる。

〔実施例〕

第１図に本発明の一実施例を示す。図において、第２図
および第３図と同一の部材には同一符号を付し、説明を
省略する。左右の成膜室１の間で受渡しが行われるサセ
プタ１３の上端縁には、サセプタ１３の受渡し方向両端
にそれぞれ突起１１ａおよび１１ｂを備えた屈曲辺縁１
１が形成され、一方、成膜室１にはそれぞれ、サセプタ
１３の受渡し方向と直角方向水平にかつ水平方向に間隔
をおいて複数の軸１８が配列され、この軸１８にそれぞ
れ、前記サセプタ１３の屈曲辺縁１１を下方から支承す
るローラ１９が回転自在に取り付けられていた。また、
そのローラ１９列の上方には水平方向に間隔をおいて２
個のスプロケット１６が配され、このスプロケット１６
にドックク２０を備えたローラチェーン１７がかけわた
されて各成膜室１のチェーン搬送機構が形成されてい
る。いま、このチェーン搬送機構を、それぞれの成膜室
１外部に設けられた駆動装置により同方向に駆動する
と、前段の成膜室１のドック２０がサセプタ１３の屈曲
辺縁１１後方端の突起１１ｂの背面側を押し、サセプタ
１３を図の位置に送り込む。後段の成膜室１のドック２
０はこれよりおくれて前方端の突起１１ａの背面側にま
わり込み、前段のドック２０による送り込みが完了した
後、時間をおいて後段のドック２０が突起１１ａの背面
に到達し、この位置から後段のドック２０によるサセプ
タ１３の移動が開始される。このため、両チェーン搬送
機構の移動速度にわずかなずれが生じてもサセプタ１３
の受渡しが不可能になることはない。また、図に示され
るように、ドック２０は軸まわりに回転自在なローラ２
０ａを備え、このローラ２０ａを介して突起１１ａ，１
１ｂの背面側を押すから、送り込み完了時点と引込み完
了時点においてドック２０が直線軌道から円軌道へ移行
する際の突起１１ａ，１１ｂ背面上の寸法範囲でドック
２０と突起１１ａ，１１ｂとの間で生ずるすべりによる
微粉の発生は極めて小さく、基板２上に形成される薄膜
の膜質には実質的に全く影響を及ぼさない。

〔発明の効果〕

以上述べたように、本発明によれば、それぞれ搬送機構
を備え互いに隣り合う成膜室の間で表面に薄膜が形成さ
れる基板が鉛直に取り付けられたサセプタの受渡しが前
記搬送機構を用いて行われる縦型プラズマＣＶＤ装置
を、前記サセプタが上端縁に該サセプタを懸吊状態に下
方から支承せしめるための，受渡し方向両端にそれぞれ
上方へ伸びる突起部を備えた屈曲辺縁を形成するととも
に、前記それぞれの成膜室が、サセプタの受渡し方向と
直角方向水平にかつ水平方向に間隔をおいて配列された
複数の軸にそれぞれ回転自在に取り付けられ前記サセプ
タ上端の屈曲辺縁を下方から支承する複数のフリーロー
ラと、前記フリーローラ列の上方にかつ水平方向に間隔
をおいて配されたスプロケットと該スプロケットに循環
可能にかけわたされ外方へ突出するドックを備えたロー
ラチェーンとを備えてなるチェーン搬送機構とを備えた
ものとして、前記それぞれの成膜室のチェーン搬送機構
を同方向に搬送駆動することにより前記サセプタを渡す
側のチェーン搬送機構のドックがサセプタの屈曲辺縁後
方の突起部を押し、サセプタを受ける側のチェーン搬送
機構のドックがサセプタ屈曲辺縁前方の突起部をおくれ
て引掛けることにより受渡しが行われるようにしたの
で、前段の成膜室からの送り込みが完了してから後段の
成膜室における引込みが開始され、従来のように、サセ
プタを介した両搬送機構の機械的干渉がなくなるから、
ピニオンとラックとを組み合わせる場合のような、サセ
プタの振動や衝撃がなくなり、基板の落下や破損のおそ
れなく円滑，確実な受渡しが可能になる。従ってまた、
それぞれの成膜室におけるサセプタの搬送速度を変える
ことが可能となるから、成膜室の使用に応じた速度設定
を可能になる。そして、サセプタを含む搬送系の構成が
簡単でありコストダウン効果がもたらされる。さらに、
すべりによる微粉の発生は、サセプタの屈曲辺縁両端の
突起起部背面が回転自在なローラを介して押圧されかつ
ドックが直線軌道から円軌道に移行する際の僅かな寸法
範囲でしかも生じないことから極めて小さく抑えられ、
搬送系の影響をうけない，膜質の良好な成膜が可能にな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に基づく縦型プラズマＣＶＤ装置構成の
一実施例を示す断面図、第２図および第３図は従来の縦
型プラズマＣＶＤ装置構成のそれぞれ別の例を示す断面
図である。 １……成膜室、２……基板、３，１３……サセプタ、１
１……屈曲辺縁、１１ａ，１１ｂ……突起、１６……ス
プロケット、１７……ローラチェーン、１８……軸、１
９……ローラ（フリーローラ）、２０……ドック。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】それぞれ搬送機構を備え互いに隣り合う成
   膜室の間で表面に薄膜が形成される基板が鉛直に取り付
   けられたサセプタの受渡しが前記搬送機構を用いて行わ
   れる縦型プラズマＣＶＤ装置において、前記サセプタが
   上端縁に該サセプタを懸吊状態に下方から支承せしめる
   ための，受渡し方向両端にそれぞれ上方へ伸びる突起部
   を備えた屈曲辺縁を形成するとともに、前記それぞれの
   成膜室が、サセプタの受渡し方向と直角方向水平にかつ
   水平方向に間隔をおいて配列された複数の軸にそれぞれ
   回転自在に取り付けられ前記サセプタ上端の屈曲辺縁を
   下方から支承する複数のフリーローラと、前記フリーロ
   ーラ列の上方にかつ水平方向に間隔をおいて配されたス
   プロケットと該スプロケットに循環可能にかけわたされ
   外方へ突出するドックを備えたローラチェーンとを備え
   てなるチェーン搬送機構とを備え、前記それぞれの成膜
   室のチェーン搬送機構を同方向に搬送駆動することによ
   り前記サセプタを渡す側のチェーン搬送機構のドックが
   サセプタの屈曲辺縁後方の突起部を押し、サセプタを受
   ける側のチェーン搬送機構のドックがサセプタ屈曲辺縁
   前方の突起部をおくれて引掛けることにより受渡しが行
   われることを特徴とする縦型プラズマＣＶＤ装置。