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JPH0669062B2 - High-speed automatic carrier for flat objects - Google Patents
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JPH0669062B2 - High-speed automatic carrier for flat objects - Google Patents

High-speed automatic carrier for flat objects

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JPH0669062B2
JPH0669062B2 JP26895985A JP26895985A JPH0669062B2 JP H0669062 B2 JPH0669062 B2 JP H0669062B2 JP 26895985 A JP26895985 A JP 26895985A JP 26895985 A JP26895985 A JP 26895985A JP H0669062 B2 JPH0669062 B2 JP H0669062B2
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cassette
flat object
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alignment
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Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明はウエハの如き板状物体や偏平容器内の収納物等
の検査、製造を自動あるいは半自動で行なうために、板
状物体や偏平容器等の偏平物体を搬送する自動搬送装置
に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a plate-shaped object, a flat container or the like in order to automatically or semi-automatically inspect and manufacture a plate-shaped object such as a wafer or a stored object in the flat container. The present invention relates to an automatic transfer device for transferring flat objects.

(発明の背景) 周知のとうり、半導体素子の製造、検査等の市場要求の
1つに短時間で処理を行なえることがある。例えば、ウ
エハ外観検査においてはウエハの観察は顕微鏡等を用
い、人手により検査判定を行うことが多い。従って短時
間で且つ効率良い作業を行なうには観察者の待ち時間
(カセットからウエハが送られ観察できるまでの時間)
ができる限り短いことが必要とされる。第13図は従来の
ウエハ外観検査装置に用いられているウエハ自動搬送装
置の一例の概要図である。
(Background of the Invention) As is well known, one of the market demands for manufacturing and inspecting semiconductor devices can be processed in a short time. For example, in a wafer appearance inspection, a wafer is often observed by using a microscope or the like, and inspection determination is often performed manually. Therefore, in order to perform work efficiently in a short time, the waiting time of the observer (time until the wafer is sent from the cassette and observation is possible)
Is required to be as short as possible. FIG. 13 is a schematic view of an example of a wafer automatic transfer device used in a conventional wafer visual inspection device.

上下方向(紙面に垂直な方向)にウエハ収納部を並設し
たカセット81は、不図示の第1カセット載置装置によっ
てウエハ収納部が順次所定高さ位置に位置決めされる。
ウエハの押出し押戻し装置を有するものでは(ウエハの
押出し部材89A,89Bをカセットの前後に配設し、カセッ
ト81からのウエハの押出しは部材89Bの右方直線移動
で、カセット81へのウエハの収納(押戻し)は部材89A
の上昇かつ左方移動で行なう部材89a,89Bの駆動はウエ
ハの存否を検出する光電センサ等の出力により行なう。
なお、この場合一対のベルト84はカセット外に出てい
る。)カセット81をセンダ用(処理前のウエハ収納
用)、レシーバ用(処理後のウエハ収納用)に併用でき
る。一対のベルト(搬送ベルト)84の一端は上述の所定
位置にあるウエハ収納部のウエハをカセット81から引き
出し搬送するために、所定高さ位置に位置しており、他
端はカセット81に対峙した第2カセット82の所定高さ位
置に位置している(ウエハの押出し押戻し装置は一対の
ベルト84と共にウエハの搬出、搬入のための搬送装置を
構成する。一対のベルト84は左右のプーリ(不図示)に
よって一体に回転移動されるように各々ループ(輪)状
に形成され、一方のプーリをモータにて回転制御する構
成でる。第2カセット82に並置されて第3カセット83が
配設され、一対のベルト84に直交して一対のベルト85が
設けられ、ベルト84に直交して一対のベルト86が第3カ
セット83の所定高さ位置に一端が位置するように設けら
れている。一対のベルト84の途中には位置合せ装置87が
設けられ、位置合せ装置87と不図示の顕微鏡ステージと
の間でウエハの受渡しを行なう受渡しアーム88が設けら
れている。また、一対のベルト84と一対のベルト85の交
差位置及び一対のベルト85と一対のベルト86の交差位置
にはウエハの検出器T1,T2が配設されている。検出器T1,
T2はウエハが上方にきたことを検出し、不図示の制御装
置に検出信号を出力する。制御装置は動作手順指令信号
と検出信号とによって、搬送ベルト84,85,86の回転駆動
を制御すると共に、位置合せ装置84、受渡しアーム88の
動作をも制御する。通常の使い方としては、カセット81
をセンダ用(処理前のウエハ収納用)とし、カセット8
2,83をレシーバ用(処理後のウエハ収納用)とする。ウ
エハはカセット81→搬送ベルト84→位置合せ装置87→受
渡しアーム88→処理装置(図示せず)→受渡しアーム88
→位置合せ装置87→搬送ベルト84を経由してカセット82
あるいはカセット83に収納される。ここでカセット82に
収納される場合ウエハは搬送ベルト84から一直線にカセ
ット82に収納される。ウエハをカセット83に収納する場
合は、位置合せ装置87のウエハは搬送ベルト84で右方へ
送られ位置T1で停止する。そして搬送ベルト85が上昇
(搬送ベルト84,86のベルト上面より高い位置)。搬送
ベルト85回転位置T2で停止。搬送ベルト85下降(初期位
置)。そして搬送ベルト86が回転し、ウエハはカセット
83へ収納される。又、この種の装置(ウエハ外観検査装
置等)において、ウエハの処理終了後の判定によってカ
セット81〜83を使い分ける。従来の装置ではカセット81
がセンダ用(専用)であり、カセット82,83を処理後の
良(合格)、不良(不合格)用に使用する。前にのべた
のがこの使い方である。(2種に判定) この他ウエハ処理後の判定に良、不良、再生3種にふる
いわける場合がある。この時は前述した如く搬送ベルト
と共に押出し、押戻し装置(カセット載置装置にウエハ
の押出し、押戻し装置をそなえたもの、………89A,89
B)を併用することによりカセット81をセンダ、レシー
バ併用することができる。つまりカセット81をウエハ判
定後のレシーバとして使用するウエハの流れは処理後、
受渡しアーム88→位置合せ装置87→搬送ベルト84→カセ
ット81となる。従ってこの場合には、次に処理するウエ
ハは処理終了したウエハがカセット81に戻らないと、カ
セット81から出すことができない。又ウエハの戻る位置
と出る位置で、カセット位置が異なる為、カセット載置
装置によるカセット81の上下動時間も付加され、観察者
の待ち時間が長くなり、ウエハ処理時間(スループッ
ト)が長くなるという欠点がある。
In the cassette 81 in which the wafer accommodating portions are arranged side by side in the up-down direction (direction perpendicular to the paper surface), the wafer accommodating portions are sequentially positioned at a predetermined height position by a first cassette placing device (not shown).
In the case of having a wafer push-out push-back device (wafer push-out members 89A and 89B are arranged before and after the cassette, the push-out of the wafer from the cassette 81 is a linear movement of the member 89B to the right, so that Storage (push back) is member 89A
The members 89a and 89B are driven by raising and moving to the left by the output of a photoelectric sensor or the like for detecting the presence or absence of the wafer.
In this case, the pair of belts 84 are out of the cassette. The cassette 81 can be used for both the sender (for storing wafers before processing) and the receiver (for storing wafers after processing). One end of the pair of belts (conveying belts) 84 is located at a predetermined height position for pulling out and carrying the wafer in the wafer storage section at the above-mentioned predetermined position from the cassette 81, and the other end is opposed to the cassette 81. It is located at a predetermined height position of the second cassette 82 (the wafer push-out push-back device together with the pair of belts 84 constitutes a transfer device for carrying out and carrying in the wafer. Each of them is formed in a loop (ring) shape so as to be integrally rotated by (not shown), and one pulley is rotationally controlled by a motor.The third cassette 83 is arranged in parallel with the second cassette 82. A pair of belts 85 are provided so as to be orthogonal to the pair of belts 84, and a pair of belts 86 are provided so as to be orthogonal to the belt 84 and one end of which is located at a predetermined height position of the third cassette 83. In the middle of a pair of belts 84 Is provided with a positioning device 87, and is provided with a transfer arm 88 for transferring a wafer between the positioning device 87 and a microscope stage (not shown). Wafer detectors T 1 and T 2 are disposed at the intersecting positions and at the intersecting positions of the pair of belts 85 and the pair of belts 86. Detectors T 1 ,
T 2 detects that the wafer has come upward, and outputs a detection signal to a control device (not shown). The control device controls the rotational driving of the conveyor belts 84, 85, 86 and also the operations of the alignment device 84 and the delivery arm 88 by the operation procedure command signal and the detection signal. For normal use, cassette 81
Is for the sender (for storing wafers before processing), and cassette 8
2,83 are used for receivers (for storing processed wafers). Wafers are cassette 81 → transport belt 84 → alignment device 87 → delivery arm 88 → processing device (not shown) → delivery arm 88
→ alignment device 87 → cassette 82 via conveyor belt 84
Alternatively, it is stored in the cassette 83. When the wafers are stored in the cassette 82, the wafers are stored in the cassette 82 straight from the transfer belt 84. When the wafer is stored in the cassette 83, the wafer of the alignment device 87 is sent to the right by the transfer belt 84 and stopped at the position T 1 . Then, the conveyor belt 85 rises (a position higher than the upper surfaces of the conveyor belts 84 and 86). Transport belt 85 Stops at rotation position T 2 . Conveyor belt 85 descends (initial position). Then, the conveyor belt 86 rotates, and the wafer is set in the cassette.
Stored in 83. Further, in this type of apparatus (wafer appearance inspection apparatus or the like), the cassettes 81 to 83 are selectively used depending on the judgment after the completion of the wafer processing. Cassette 81 in conventional equipment
Is for the sender (dedicated) and is used for good (pass) and bad (fail) after processing the cassettes 82 and 83. This is what I mentioned before. (Judgment into 2 types) In addition to this, there are cases where the judgment after the wafer processing is screened into 3 types of good, defective, and regenerated. At this time, as described above, the push-back device is pushed out together with the conveyor belt (the cassette placement device is provided with the wafer push-out device and the push-back device, ... 89A, 89
By using B) together, the cassette 81 can be used as both a sender and a receiver. That is, the flow of the wafer that uses the cassette 81 as a receiver after the wafer determination is processed,
The delivery arm 88 → the alignment device 87 → the conveyor belt 84 → the cassette 81. Therefore, in this case, the next wafer to be processed cannot be taken out from the cassette 81 unless the processed wafer returns to the cassette 81. Further, since the cassette position is different between the returning position and the exiting position of the wafer, the vertical movement time of the cassette 81 by the cassette mounting device is also added, the waiting time of the observer becomes long, and the wafer processing time (throughput) becomes long. There are drawbacks.

(発明の目的) 本発明は従来の問題点を除去し、一つのカセットを搬
出、搬入に共用するに際し、スループット(処理時間)
を向上させることを可能な自動搬送装置を提供すること
を目的とするものである。
(Object of the Invention) The present invention eliminates the conventional problems, and throughput (processing time) when a single cassette is commonly used for unloading and loading
It is an object of the present invention to provide an automatic transfer device capable of improving the above.

(発明の概要) 本発明は、上下方向に偏平物体の収納部を並設したカセ
ットを上下に移動せしめ、前記収納部のいずれかを所定
高さ位置に位置決めするカセット載置装置(1A)と、搬
送されてきた偏平物体の平面内での位置合せを行なう位
置合せ装置(17)と、前記カセット載置装置と前記位置
合せ装置との間に直線的に設けられ、前記所定高さ位置
の収納部に存在する偏平物体の搬出及び未収納の収納部
への偏平物体の搬入を行なう第1搬送装置(4,5)と、
偏平物体を処理するための処理装置(20)と、前記位置
合せ装置と前記処理装置との間で偏平物体を搬送する第
2搬送装置(18)と、前記カセット載置装置,前記位置
合せ装置,前記第1搬送装置,前記第2搬送装置の駆動
制御を行う制御装置(20)と,を有する自動搬送装置に
おいて、 前記第1搬送装置を前記載置装置側の第1部分(4)と
前記位置合せ装置側の第2部分(5)とに各々を独立し
て制御自在に2分し、前記第2部分の前記第1部分側に
偏平物体の存否を検出する検出器(10)を設けると共
に、前記位置合せ装置の偏平物体を保持部(19B)によ
って保持し前記第1部分に受渡すアーム(19A)を有す
る第3搬送装置(19)を設け、 前記制御装置(20)は、前記位置合せ装置の偏平物体
(n枚目)が前記第2搬送装置に移ってから再び戻って
くるまでの間(207〜209)にカセット内の新たな偏平物
体(n+2枚目)を前記第1部分と前記第2部分とによ
って搬送すると共に前記検出器からの検知信号によって
前記第1部分と前記第2部分の駆動を停止して該新たな
偏平物体(n+2枚目)を前記位置合せ装置の前方に待
機させ、前記位置合せ装置に再び戻った偏平物体(n枚
目)を前記アームに保持せしめて前記第1部分に受渡
し、該アームによる保持から前記第1部分に受渡すまで
の間(209〜210)に前記第2部分を駆動して前記待機し
ている新たな偏平物体(n+2枚目)を前記位置合せ装
置まで搬送する(211)ように制御することを特徴とす
る自動搬送装置である。
(Summary of the Invention) The present invention is a cassette placement device (1A) for vertically moving a cassette in which storage units for flat objects are arranged in the vertical direction and positioning any one of the storage units at a predetermined height position. A positioning device (17) for positioning the conveyed flat object in a plane, and is provided linearly between the cassette placing device and the positioning device, and A first transfer device (4,5) for carrying out a flat object existing in the storage section and for carrying the flat object into an unstored storage section;
A processing device (20) for processing a flat object, a second transfer device (18) for transferring a flat object between the alignment device and the processing device, the cassette placement device, and the alignment device. , A control device (20) for controlling driving of the first transfer device and the second transfer device, wherein the first transfer device is a first part (4) on the placement device side. A detector (10) for controlling the presence and absence of a flat object is independently controllably bisected into the second part (5) on the side of the alignment device and independently controllable into two parts. A third transfer device (19) having an arm (19A) for holding the flat object of the alignment device by a holding part (19B) and delivering it to the first part is provided, and the control device (20), After the flat object (n-th sheet) of the alignment device moves to the second transport device, The new flat object (n + 2nd) in the cassette is conveyed by the first portion and the second portion until it returns (207 to 209) and the first signal is detected by the detection signal from the detector. The driving of the first portion and the second portion is stopped, the new flat object (n + 2th sheet) is made to stand by in front of the alignment apparatus, and the flat object (nth sheet) returned to the alignment apparatus is returned. A new flat that is held by the arm and delivered to the first portion, and the second portion is driven to stand by by driving the second portion between the holding by the arm and the delivery to the first portion (209 to 210). An automatic transporting device is characterized in that an object (n + 2nd sheet) is controlled to be transported (211) to the alignment device.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面に示した実施例に基づいて本発明を説明す
る。
The present invention will be described below based on the embodiments shown in the drawings.

第1図は本発明の第1実施例であって、上下方向(紙面
に垂直な方向)にウエハ収納部を並設したカセット1を
上下に移動せしめ、カセットのウエハ収納部を順次所定
高さ位置に位置決めする第1カセット載置装置1Aが設け
られている。第1カセット載置装置1Aは、固定部材に設
けた2軸ガイド軸に移動部材に設けたボールブッシュが
上下スライドする構造によって上下動自在に構成されて
おり、移動部材の上下動は、固定部材に設けた送りねじ
に移動部材に設けたナットを螺合し、位置決め等をオー
プンループで可能なステッピングモータによって送りね
じを回転駆動している。ステッピングモータの代わりに
DCモータにエンコーダを組合せたものを用いても同様で
ある。なお、上下動方向の切換えは、モータの正,逆回
転によって容易に行いうる。
FIG. 1 is a first embodiment of the present invention, in which a cassette 1 having wafer storage portions arranged in parallel in the vertical direction (direction perpendicular to the paper surface) is moved up and down, and the wafer storage portions of the cassettes are sequentially moved to a predetermined height. The 1st cassette mounting device 1A which positions in a position is provided. The first cassette placing device 1A is configured to be vertically movable by a structure in which a ball bush provided on a moving member slides up and down on a biaxial guide shaft provided on a fixed member, and the vertical movement of the moving member is fixed. A nut provided on the moving member is screwed onto the feed screw provided on the drive screw, and the feed screw is rotationally driven by a stepping motor capable of positioning in an open loop. Instead of stepper motor
The same applies when a DC motor combined with an encoder is used. The up / down movement direction can be easily switched by rotating the motor in the forward and reverse directions.

一端を所定高さ位置においてカセット1に対抗するよう
におかれた第1搬送ベルト(従来と同様の一対の平行な
ベルト)4及び第1搬送ベルト4に直線的に連続する第
2搬送ベルト5が配設されている。また、カセット内の
ウエハを搬出し、またはカセット内にウエハを搬入する
ために、周知の構造であるウエハの押出し部材89B、押
戻し部材89Aを有する押出し、押戻し装置が設けられて
いる。これら搬送ベルト4,5はウレタン系の材料にてル
ープ状に形成され、ベルトの回転移動は周知の如く、DC
モータとベルトプーリにて行ない、回転方向の切換えは
モータの正、逆回転により行なわれる。
A first conveyor belt (a pair of parallel belts similar to the conventional one) 4 arranged so as to oppose the cassette 1 at one end at a predetermined height position, and a second conveyor belt 5 linearly continuous with the first conveyor belt 4. Is provided. Further, in order to carry out the wafer in the cassette or carry the wafer into the cassette, there is provided a push-out and push-back device having a well-known structure such as a wafer push-out member 89B and a push-back member 89A. These conveyor belts 4 and 5 are made of urethane-based material and formed into a loop.
A motor and a belt pulley are used to switch the rotation direction by rotating the motor in the forward and reverse directions.

第2搬送ベルト5の第1搬送ベルト4の他端に対抗しな
い方の端(他端)近傍にはウエハの位置合せ装置17が配
設されている。この位置合せ装置17は、第2搬送ベルト
5によって左から右へ搬送されてきたウエハを停止する
ストッパ部17A、ウエハを真空吸着、回転する吸着回転
部17C、ウエハを3本のローラピンに押圧する押し付け
部17B等から構成されている。
A wafer alignment device 17 is arranged near the other end (the other end) of the second transfer belt 5 that does not oppose the other end of the first transfer belt 4. The position adjusting device 17 stops the wafer conveyed from the left to the right by the second conveyor belt 17A, a stopper 17A that vacuum-adsorbs and rotates the wafer, and a roller 17C that presses the wafer against three roller pins. It is composed of a pressing portion 17B and the like.

第1カセット載置装置1Aに対して搬送ベルト4によるウ
エハの搬送方向に直交する方向に第2カセット載置装置
1Bが並設されており(図では紙面内上方)、第2カセッ
ト載置装置1Bには上下方向にウエハ収納部を並設したカ
セット2が載置されている。ウエハ位置合せ装置17に対
して第2カセット載置装置1Bに対峙するように第3カセ
ット載置装置1Cが並設されている。第2カセット載置装
置1B、第3カセット載置装置1Cは第1カセット載置装置
1aと同構造である。第3カセット載置装置1Cにはカセッ
ト3が載置されている。第3搬送ベルト7が第1搬送ベ
ルト4と並設され、一端が第3搬送ベルト7の他端に対
峙し、他端が所定位置においてカセット3内にわずか挿
入された第4搬送ベルト6が第2搬送ベルト5に並設さ
れている。なお、第3搬送ベルト7側にもウエハの押出
し部材89B、押戻し部材89Aを有する押出し、押戻し装置
が設けられている。また、第1搬送ベルト4と第3搬送
ベルト7とを連結するように両者に直交した第5搬送ベ
ルト8が配設されている。
The second cassette loading device is arranged in a direction orthogonal to the wafer transport direction by the transport belt 4 with respect to the first cassette loading device 1A.
1B are arranged side by side (upper in the drawing in the figure), and a cassette 2 having wafer accommodating portions arranged side by side in the vertical direction is placed on the second cassette placing device 1B. A third cassette loading device 1C is arranged in parallel with the wafer alignment device 17 so as to face the second cassette loading device 1B. The second cassette placement device 1B and the third cassette placement device 1C are the first cassette placement device.
It has the same structure as 1a. The cassette 3 is placed on the third cassette placing device 1C. The third conveyor belt 7 is arranged side by side with the first conveyor belt 4, one end of which faces the other end of the third conveyor belt 7, and the other end of which is the fourth conveyor belt 6 slightly inserted into the cassette 3 at a predetermined position. The second conveyor belts 5 are arranged side by side. A push-out / push-back device having a wafer push-out member 89B and a push-back member 89A is also provided on the third conveyor belt 7 side. Further, a fifth conveyor belt 8 orthogonal to the first conveyor belt 4 and the third conveyor belt 7 is arranged so as to connect the first conveyor belt 4 and the third conveyor belt 7.

第3搬送ベルト7,第4搬送ベルト6,第5搬送ベルト8は
既に述べた搬送ベルトと同様であるが、搬送ベルト8に
はさらに、回転移動と共にベルト8全体を上下動する装
置が設けられている。搬送ベルト8を使用しない状態
(下死点)では搬送ベルト8上面位置(高さ方向)は搬
送ベルト4,7のベルト上面より下がった位置にある。又
使用時は、搬送ベルト8上面位置が搬送ベルト4,7のベ
ルト上面より上がった位置で停止した状態(上死点)に
なる。この上下動駆動には高速化が可能なエアシリンダ
を採用しているが、勿論各種モータ等別の駆動源を用い
ても良い。
The third conveyor belt 7, the fourth conveyor belt 6, and the fifth conveyor belt 8 are similar to the conveyor belts described above, but the conveyor belt 8 is further provided with a device that moves the belt 8 up and down together with the rotational movement. ing. When the conveyor belt 8 is not used (bottom dead center), the upper surface position (height direction) of the conveyor belt 8 is lower than the belt upper surfaces of the conveyor belts 4 and 7. During use, the upper surface of the conveyor belt 8 is stopped at a position higher than the upper surfaces of the conveyor belts 4 and 7 (top dead center). Although an air cylinder capable of increasing the speed is adopted for the up-and-down drive, of course, another drive source such as various motors may be used.

ウエハ処理装置20は第2搬送ベルト5に対し第4搬送ベ
ルト6とは反対側に設けられ、X−Yステージ,観察装
置等を含むものであるが、図ではウエハを吸着保持する
シリンダ20Aのみを示した。シリンダ20Aのウエハ保持は
真空吸着、またシリンダ20Aには回転機構が設けてあ
る。X−Yステージストロークはウエハ全域移動(例え
ば6インチウエハなど150mm)可能な量とし、位置精度
が必要な為、DCサーボモータにエンコーダを組合せて構
成している。
The wafer processing apparatus 20 is provided on the side opposite to the fourth conveyor belt 6 with respect to the second conveyor belt 5 and includes an XY stage, an observation device, etc., but only the cylinder 20A for adsorbing and holding the wafer is shown in the figure. It was A wafer is held on the cylinder 20A by vacuum suction, and the cylinder 20A is provided with a rotation mechanism. The XY stage stroke is set so that it can be moved over the entire wafer (for example, 150 mm for a 6-inch wafer). Since positional accuracy is required, a DC servo motor and encoder are combined.

ウエハ位置合せ装置17とシリンダ20Aの間には、各々の
間でウエハの受渡しを行なう受渡し装置を構成するアー
ム18が設けられている。アーム18によるウエハの保持は
真空吸着で行なわれ、アーム回転駆動にはオープンルー
プで使用可能なステッピングモータを採用している。
Between the wafer alignment device 17 and the cylinder 20A, there is provided an arm 18 which constitutes a delivery device for delivering the wafer between each of them. A wafer is held by the arm 18 by vacuum suction, and an open loop stepping motor is used to drive the arm rotation.

また、第2搬送ベルト5と第4搬送ベルト6の間には、
ウエハ位置合せ装置17のウエハを第1搬送ベルト4、第
4搬送ベルト6に受渡す補助の受渡し装置19が設けられ
ている。この補助の受渡し装置19は先端にウエハの吸着
部19Bを有する補助アーム19Aを有している。補助の受け
渡し装置19の構造については後述する。
Further, between the second conveyor belt 5 and the fourth conveyor belt 6,
An auxiliary transfer device 19 for transferring the wafer of the wafer alignment device 17 to the first transfer belt 4 and the fourth transfer belt 6 is provided. The auxiliary delivery device 19 has an auxiliary arm 19A having a wafer suction portion 19B at the tip. The structure of the auxiliary transfer device 19 will be described later.

第1搬送ベルト4と第5搬送ベルト8の交差位置、第2
搬送ベルト5の一端近傍、第3搬送ベルト7と第5搬送
ベルト8の交差位置、第4搬送ベルト6の一端近傍には
ウエハの存否を検出するための光電検出器9,10,13,12が
配設され、位置合せ装置17にもウエハの切欠部を検出す
るための光電検出器11が配設されている。
Crossing position of the first conveyor belt 4 and the fifth conveyor belt 8, the second
Photoelectric detectors 9, 10, 13, 12 for detecting the presence / absence of a wafer in the vicinity of one end of the transfer belt 5, the intersection of the third transfer belt 7 and the fifth transfer belt 8 and in the vicinity of one end of the fourth transfer belt 6. The alignment device 17 is also provided with a photoelectric detector 11 for detecting a notch in the wafer.

ウエハ処理装置20の左右には、キーボード部21、ジョイ
スティック部22が設けられると共に、筺体25にコード24
にて接続した制御部23が設けられ、キーボード部21,ジ
ョイスティック部22,制御部23,光電検出器9,10,11,12,1
3,搬送ベルト4,5,6,7,8の回転移動の制御やアーム18,1
9,の制御等を行なう各種モータ(後述する)等によって
制御装置が構成される。
A keyboard section 21 and a joystick section 22 are provided on the left and right of the wafer processing apparatus 20, and a code 25 is attached to a housing 25.
A control unit 23 connected by is provided, and a keyboard unit 21, a joystick unit 22, a control unit 23, a photoelectric detector 9, 10, 11, 12, 1
3, Control of rotation movement of conveyor belts 4, 5, 6, 7, 8 and arm 18,1
A control device is configured by various motors (described later) for performing the control of 9, etc.

上述した補助の受渡し装置19の構造を平面図である第2
図,第2図のX−X断面図である第3図にて説明する
に、補助の受渡し装置19は処理終了したウエハ(良,不
良,再生などに判定分類される)を決められたカセット
へ収納する為にウエハを収納すべく選択されたカセット
に一番近い搬送ベルト(16あるいは4)上にウエハを渡
すものであり、補助アーム19Aを回転、上下動およびリ
ニアに移動できる。
FIG. 2 is a plan view showing the structure of the auxiliary delivery device 19 described above.
As will be described with reference to FIG. 3 which is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 2 and FIG. 2, the auxiliary transfer device 19 is a cassette in which processed wafers (classified into good, defective, regenerated, etc.) are determined. In order to store the wafer, the wafer is transferred onto the transfer belt (16 or 4) closest to the cassette selected to store the wafer, and the auxiliary arm 19A can be rotated, moved vertically and moved linearly.

アーム19Aの回転は、モータ54の回転をモータ54の回転
軸に固定のプーリ53Bとアーム回転軸に一体の大プーリ5
3Aとの間のタイミングベルト53にてアーム回転軸52に伝
え、アーム回転軸52に固定されたアーム19Aを回転させ
る。軸受55にはアンギュラコンタクト型ベアリング56を
用い、アーム回転軸52まわりのスラストおよびラジアル
荷重を受せ、アーム19Aが低摩擦で回転可能な構造にな
っている。尚、モータ54には、オープンループで回転制
御が可能なステッピングモータを採用している。アーム
19Aの上下動は、2本の丸ガイド軸57A,57B上を軸受55に
取付けられた6ケのベアリング58がころがる構造で、駆
動はDCモータ(図示せず)の回転を円筒カム59のカム面
に軸受55に固定のコロ55aを載置する構成にて直線運動
(上下運動)に変換し、軸受55が上下動する。つまり、
軸受55アーム19A、アーム回転軸52は一体で上下動す
る。尚、上下動時アーム回転軸52はキー60により大プー
リ53Aの軸上をスランドする。アーム51のリニア運動
は、ケーシング64の両端に取付けられたボールブッシュ
62が筺体25に固定したリニアガイド軸61上をスライドす
る構造で、駆動はエアシリンダ63にて行なっている。エ
アシリンダ63のシリンダは筺体25に固定され、ピストン
63aがケーシング64に固定されている。また、リニアガ
イド軸61の反対側(第2図では上方)の筺体25にはリニ
アガイド面25′が形成され、ケーシング64に固設のコロ
64aがリニアガイド面25′に載置されている。
The rotation of the arm 19A is performed by rotating the rotation of the motor 54 with a pulley 53B fixed to the rotation shaft of the motor 54 and a large pulley 5 integrated with the rotation shaft of the arm.
The timing belt 53 between the arm 3A and the arm 3A is transmitted to the arm rotation shaft 52 to rotate the arm 19A fixed to the arm rotation shaft 52. An angular contact type bearing 56 is used for the bearing 55, and the structure allows the arm 19A to rotate with low friction by receiving the thrust and radial load around the arm rotation shaft 52. The motor 54 employs a stepping motor whose rotation can be controlled in an open loop. arm
The vertical movement of 19A is a structure in which six bearings 58 attached to the bearing 55 roll on the two round guide shafts 57A and 57B, and the drive is the rotation of a DC motor (not shown) and the cam of the cylindrical cam 59. The roller 55a fixed to the bearing 55 is placed on the surface of the bearing 55 to convert it into a linear motion (vertical motion), and the bearing 55 moves up and down. That is,
The bearing 55 arm 19A and arm rotating shaft 52 move up and down as a unit. The arm rotating shaft 52 is slid on the shaft of the large pulley 53A by the key 60 during the vertical movement. The linear movement of the arm 51 is achieved by ball bushing attached to both ends of the casing 64.
The structure is such that 62 slides on a linear guide shaft 61 fixed to the housing 25, and driving is performed by an air cylinder 63. The cylinder of the air cylinder 63 is fixed to the housing 25, and the piston
63a is fixed to the casing 64. Further, a linear guide surface 25 ′ is formed on the housing 25 on the opposite side (upper side in FIG. 2) of the linear guide shaft 61, and is fixed to the casing 64.
64a is mounted on the linear guide surface 25 '.

第4図は補助アーム19Aの各状態図、第5図は補助アー
ム19Aの上,中,下位置状態図である。各々の動作、状
態を第4,5図にて説明する。補助アーム19Aの初期状態
は、補助アーム19Aの先端のウエハ吸着部19Bの中心が位
置S4に上面が高さH1にある。尚、高さHは搬送ベルト5,
6のベルト上面位置である。処理終了したウエハは、受
渡しアーム18により位置合せ装置17上に送られる。それ
とほぼ同時に補助アーム19Aは高さH1の状態でウエハの
吸着部19Bが位置S3にくるまで回転する。(このときの
回転角θ1)。次にウエハ吸着部19Bは高さH2に上がり
ウエハを真空吸着する(それによってウエハは受渡しア
ーム18から補助アーム19Aに渡される)。次にウエハを
どのカセット(1〜3)に収納するかにより2通りの動
きのうち何れかの動きを行なう。先ずウエハをカセット
2あるいはカセット3に収納する場合を説明する。補助
アーム19Aは高さH2の状態で位置S4まで回転し(回転角
θ1)、ウエハの吸着を解除する。そして補助アーム19
はベルト6の凹部を通って高さH3に下降し、ウエハを搬
送ベルト6上にのせる。これから搬送ベルト6,7が回転
移動し、収納すべきカセット2,3の何れかに入る。ウエ
ハがカセットに入ったと同時に補助アーム19Aは初期位
置(位置S4,高さH1)に戻る。次にウエハをカセット1
へ収納させる場合であるが、補助アーム19Aは、高さH2
状態のまま回転角θ2まで回転しながらリニア運動にて
A点からB点に移動する。(ウエハ吸着部19Aは位置S1
にくる)。尚、この回転およびリニア運動は並行動作で
行なえる。次にウエハの吸着を解除し、搬送ベルト8,4
の凹部(3つのプーリによってV字形の凹部を形成すれ
ば良い。なお,ベルトを2つに分離し、各ベルトを1つ
のプーリに掛けるようになしても良い。)を高さH3に下
降し、ウエルは搬送ベルト4上にのせる。ここから搬送
ベルト4が回転し、ウエハはカセット1に収納される。
そして補助アーム19Aは高さH1まで上がり初期位置(位
置S4,高さH1)に戻る。以上が補助アーム19Aの動作であ
る。尚、各々の動作機構はその目的機能が達成できれば
何れの方法でも良い。例えば、エアシリンダ63はリード
スクリューとモータの組合せに置き換えても構わない。
FIG. 4 is a state diagram of the auxiliary arm 19A, and FIG. 5 is a state diagram of the upper, middle, and lower positions of the auxiliary arm 19A. Each operation and state will be described with reference to FIGS. In the initial state of the auxiliary arm 19A, the center of the wafer suction portion 19B at the tip of the auxiliary arm 19A is at the position S4 and the upper surface is at the height H1. The height H is determined by the conveyor belt 5,
6 is the belt upper surface position. The processed wafer is sent by the delivery arm 18 onto the alignment device 17. Almost at the same time, the auxiliary arm 19A rotates at the height H1 until the wafer suction portion 19B reaches the position S3. (The rotation angle θ1 at this time). Next, the wafer suction unit 19B rises to the height H2 and vacuum-holds the wafer (which causes the wafer to be transferred from the transfer arm 18 to the auxiliary arm 19A). Next, one of two movements is performed depending on which cassette (1 to 3) the wafer is stored in. First, the case where the wafer is stored in the cassette 2 or the cassette 3 will be described. The auxiliary arm 19A rotates to the position S4 at the height H2 (rotation angle θ1) and releases the wafer suction. And the auxiliary arm 19
Passes through the concave portion of the belt 6 and descends to the height H3, and the wafer is placed on the transfer belt 6. From now on, the conveyor belts 6 and 7 are rotated and moved into one of the cassettes 2 and 3 to be stored. At the same time when the wafer enters the cassette, the auxiliary arm 19A returns to the initial position (position S4, height H1). Next wafer 1
The auxiliary arm 19A has a height of H2.
While moving to the rotation angle θ2 in this state, the linear movement moves from point A to point B. (Wafer suction unit 19A is at position S1
Come). The rotation and the linear movement can be performed in parallel. Next, the wafer suction is released and the conveyor belts 8, 4
The concave portion (V-shaped concave portion may be formed by three pulleys. The belt may be separated into two and each belt may be hung on one pulley.) Is lowered to the height H3. , The well is placed on the conveyor belt 4. From here, the transport belt 4 rotates and the wafer is stored in the cassette 1.
Then, the auxiliary arm 19A rises to the height H1 and returns to the initial position (position S4, height H1). The above is the operation of the auxiliary arm 19A. Any operating mechanism may be used as long as it can achieve its intended function. For example, the air cylinder 63 may be replaced with a combination of a lead screw and a motor.

次に電気処理に係る構成につき説明する。第6図はブロ
ック図であって、制御装置23には光電検出器9,10,11,1
2,13からウエハの存否の信号が入力され、第1ウエハ載
置装置1A,第2ウエハ載置装置1B,第3ウエハ載置装置1
C,第1搬送装置A400,第1搬送装置B500,第2搬送装置A6
00,第2搬送装置B700,位置合せ装置17,補助受渡し装置1
9,受渡し装置180に制御信号を出力する。
Next, a configuration related to electrical processing will be described. FIG. 6 is a block diagram, and the control device 23 includes photoelectric detectors 9, 10, 11, 1
A wafer presence / absence signal is input from 2 and 13, and a first wafer mounting device 1A, a second wafer mounting device 1B, and a third wafer mounting device 1
C, first transfer device A400, first transfer device B500, second transfer device A6
00, second transfer device B700, alignment device 17, auxiliary delivery device 1
9. Output a control signal to the delivery device 180.

第7図及び第8図にウエハの搬送に関するフローチャー
トを示す。これらの図はウエハの搬送工程におけるウエ
ハの停止位置(第1図20A,第4図S1〜S4,19)に着目し
た表現をしながら、時間的な流れについても表現してい
る。第7図はカセット1からウエハを搬送し、処理後カ
セット2もしくはカセット3へウエハを搬送する場合に
ついて、第8図はカセット1からウエハを搬送し、検査
処理後カセット1へウエハを搬送する場合についての工
程を示している。なお第9図,第10図及び第12図は実際
の実施例におけるウエハの搬送路を平面的に抽象化表現
したものである。尚、第7図及び第8図に示される工程
は第9図の搬送路をとる。
FIG. 7 and FIG. 8 show flow charts concerning wafer transfer. These figures express not only the wafer stop position (FIG. 20A, FIG. 4 S1 to S4, 19) in the wafer transfer process but also the temporal flow. FIG. 7 shows a case where the wafer is transferred from the cassette 1 and is transferred to the cassette 2 or the cassette 3 after processing, and FIG. 8 is a case where the wafer is transferred from the cassette 1 to the cassette 1 after the inspection processing. Is shown. Incidentally, FIGS. 9, 10 and 12 are two-dimensionally abstract representations of the wafer transfer path in the actual embodiment. Incidentally, the steps shown in FIGS. 7 and 8 take the transport path of FIG.

先ず第7図の説明を行なう。破線で示した処理の流れ10
0は、1枚のウエハに対する処理を示している。処理さ
れるウエハが複数枚ある場合には全てのウエハについて
処理工程100が施される。処理作業中n枚目のウエハは
カセット1より位置S1へ搬送され(101)、さらに位置S
2へ搬送される(102)。ウエハが位置S2にあることは、
光電検出器10の出力によって検知される。ここで、n枚
目のウエハより先行するn−1枚目のウエハが位置S3に
存在することが光電検出器11の出力に基づいて検知され
た場合(119)、n枚目のウエハはS2の位置で待機する
(103)。すなわち、第1搬送装置B500のベルト回転用
モータが回転停止し、ベルト5は移動停止する。n−1
枚目のウエハが受渡し装置180のアーム18によりウエハ
処理装置(20)に受渡され(120)、位置S3にウエハが
なくなると、n枚目のウエハは位置S3へ搬送可能となり
第1搬送装置B500ベルト回転用モータが回転し、位置S3
へ搬送される(104)。そしてn枚目のウエハは位置S3
でウエハ処理装置(20)へ搬送するための準備(位置合
わせ)を行なう(105)。尚、処理装置20へ搬送された
n−1枚目のウエハは処理装置20への搬送終了と同時に
処理が施される(121)。そしてn枚目のウエハが位置S
2から位置S3へ搬送される(104)と、位置S2へ新たなウ
エハの搬送が可能となり、第1載置装置1Aがウエハ収納
部1つ分下降し、ベルト4上にn+1枚目のウエハの一
部が載置され、第1搬送装置A400のベルト回転用モータ
の回転によるベルト4の移動でn+1枚目のウエハがカ
セット1より位置S2へ搬送される(125,126)。ここで
n枚目のウエハが位置S2へ搬送された時点(103)でn
+1枚目のウエハが位置S1へ搬送可能になるが、n+1
枚目のウエハのカセット1から位置S2へ搬送される(12
5,126)時間がn枚目のウエハが位置S3で位置合せを完
了する時間内にある場合は処理速度に何らの影響を与え
ない。さらに本装置の実施例(後述)を考慮すると後続
するウエハを位置S1で待機させるのは得策ではない。
First, FIG. 7 will be described. Process flow indicated by broken line 10
0 indicates processing for one wafer. When there are a plurality of wafers to be processed, the processing step 100 is performed on all the wafers. During the processing operation, the nth wafer is transferred from the cassette 1 to the position S1 (101), and further moved to the position S.
It is transported to 2 (102). The fact that the wafer is in position S2 means that
It is detected by the output of the photoelectric detector 10. Here, when it is detected based on the output of the photoelectric detector 11 that the (n-1) th wafer preceding the nth wafer exists at the position S3 (119), the nth wafer is S2. Wait at the position (103). That is, the belt rotation motor of the first conveyor B500 stops rotating, and the belt 5 stops moving. n-1
When the first wafer is transferred (120) to the wafer processing device (20) by the arm 18 of the transfer device 180 and there are no more wafers at the position S3, the nth wafer can be transferred to the position S3 and the first transfer device B500. The belt rotation motor rotates to position S3.
It is transported to (104). The nth wafer is at position S3
Then, preparation (positioning) for transfer to the wafer processing apparatus (20) is performed (105). The (n-1) th wafer transferred to the processing apparatus 20 is processed simultaneously with the completion of the transfer to the processing apparatus 20 (121). The nth wafer is at position S
When the wafer is transferred from 2 to the position S3 (104), a new wafer can be transferred to the position S2, and the first mounting device 1A moves down by one wafer storage unit, and the n + 1th wafer is placed on the belt 4. Part of the wafer is placed, and the n + 1th wafer is transferred from the cassette 1 to the position S2 by the movement of the belt 4 by the rotation of the belt rotating motor of the first transfer device A400 (125, 126). Here, when the nth wafer is transferred to the position S2 (103), n
The + 1st wafer can be transferred to position S1, but n + 1
The first wafer is transferred from cassette 1 to position S2 (12
5,126) When the n-th wafer is within the time for completing the alignment at the position S3, it has no effect on the processing speed. Further, considering an embodiment of the present apparatus (described later), it is not a good idea to make the subsequent wafer stand by at the position S1.

処理装置(20)にあるn−1枚目のウエハの処理が終了
するとn−1枚目のウエハは位置S3に渡されることにな
るが、この時n枚目のウエハが位置S3の位置で位置合せ
(105)が終了していない場合、n枚目のウエハの位置
合せが完了するまでn−1枚目のウエハは位置S3へ搬送
されない。つまりn枚目のウエハの位置合せの完了とn
−1枚目のウエハの処理装置(20)での処理の終了と、
どちらか遅い方に工程の進行が制限される。本装置の実
施例ではどちらの工程についても高速化を実現してい
る。処理装置(20)にて処理終了したn−1枚目のウエ
ハは受渡し装置180のアーム18にて位置S3へ受渡される
と同時に、n枚目のウエハはアーム18によって処理装置
(20)へ受渡される(107,122)、この時、補助受渡し
装置19の補助アーム19Aは位置S3上で待機している。n
−1枚目のウエハは位置S3で補助アーム(19A)に渡さ
れ、光電検出器12の出力によって制御装置23はそれを判
断し、次の工程へと進んでいく(123,124)、つまりn
−1枚目のウエハは補助アーム(19A)により位置S4に
渡され、制御装置23は光電検出器12の出力によってそれ
を知り、第2搬送装置A600、第2搬送装置B700に制御信
号を入力し、n−1枚目のウエハはキーボード部21への
指令に基づいてカセット2、もしくはカセット3に収納
される。n−1枚目のウエハが位置S4上に渡されると同
時にn+1枚目のウエハは先行するウエハがたどってき
た工程と同様の工程を進む(128,129,130),(S2→S3
→位置合せ)。そして位置S2へ新たなウエハを搬送する
ことが可能になるのでn+2枚目のウエハが位置S2へ搬
送される(132,133)。尚、n枚目のウエハは処理装置2
0へ受渡されたと同時に処理が施される(121)。そして
使用者の指示もしくは装置自身の指示によって処理され
ているウエハが収納されるべきカセット(2もしくは
3)が指定された時点で処理は終了する。n枚目のウエ
ハの処理が終了し、n+1枚目のウエハの位置合せが終
了したらn枚目のウエハはアーム18により位置S3上に受
渡される(109)。同時にn+1枚目のウエハは処理装
置20へ受渡される(131)。位置S3上へ渡されたn枚目
のウエハは補助アーム19Aにより位置S4へ渡される(11
0)。そしてn枚目のウエハは位置S4からベルト(7も
しくは6)により、カセット(2もしくは3)へ搬送さ
れる。つまり処理装置(20)で処理されたウエハは位置
S3から補助アーム19Aを用いてベルト(6もしくは7)
へ渡されるために新しいウエハを搬送するベルト(4も
しくは5)に何らの影響を与えないことになる。搬送経
路を抽象化すると第9図の通りである。装置のスループ
ットを向上させるためには、搬送ベルトとカセットが
直線上に配置されていること。各部の動きを極力少な
くする等があるが、本実施例によればこの目的を満たし
ている。
When the processing of the (n-1) th wafer in the processing apparatus (20) is completed, the (n-1) th wafer is transferred to the position S3. At this time, the nth wafer is moved to the position S3. If the alignment (105) is not completed, the (n-1) th wafer is not transferred to the position S3 until the alignment of the nth wafer is completed. That is, when the alignment of the nth wafer is completed and n
-End of processing in the processing device (20) for the first wafer,
The progress of the process is limited to the slower one. In the embodiment of this apparatus, speeding up is realized in both steps. The n-1th wafer that has been processed by the processing apparatus (20) is transferred to the position S3 by the arm 18 of the transfer apparatus 180, and at the same time, the nth wafer is transferred to the processing apparatus (20) by the arm 18. When delivered (107, 122), at this time, the auxiliary arm 19A of the auxiliary delivery device 19 is on standby at the position S3. n
The -1st wafer is transferred to the auxiliary arm (19A) at the position S3, and the control device 23 judges it by the output of the photoelectric detector 12 and proceeds to the next process (123,124), that is, n.
-The first wafer is transferred to position S4 by the auxiliary arm (19A), the control device 23 knows it from the output of the photoelectric detector 12, and inputs the control signal to the second transfer device A600 and the second transfer device B700. Then, the (n-1) th wafer is stored in the cassette 2 or the cassette 3 based on a command to the keyboard unit 21. At the same time when the (n-1) th wafer is transferred onto the position S4, the (n + 1) th wafer proceeds through the same steps as those followed by the preceding wafer (128, 129, 130), (S2 → S3).
→ alignment). Then, since it becomes possible to transfer a new wafer to the position S2, the (n + 2) th wafer is transferred to the position S2 (132, 133). The nth wafer is the processing device 2
The processing is performed at the same time when it is delivered to 0 (121). Then, when the cassette (2 or 3) in which the wafer to be processed is to be stored is designated by the instruction of the user or the instruction of the apparatus itself, the processing ends. When the processing of the nth wafer is completed and the alignment of the (n + 1) th wafer is completed, the nth wafer is transferred onto the position S3 by the arm 18 (109). At the same time, the (n + 1) th wafer is delivered to the processing apparatus 20 (131). The n-th wafer transferred to the position S3 is transferred to the position S4 by the auxiliary arm 19A (11
0). Then, the nth wafer is transferred from the position S4 to the cassette (2 or 3) by the belt (7 or 6). That is, the position of the wafer processed by the processing device (20) is
Belt (6 or 7) using auxiliary arm 19A from S3
Will not affect the belt (4 or 5) carrying the new wafer in order to be delivered to. FIG. 9 shows the abstracted transport route. In order to improve the throughput of the equipment, the conveyor belt and the cassette should be arranged in a straight line. Although the movement of each part is minimized, this embodiment satisfies this purpose.

第8図の処理200について説明する。処理を施されるウ
エハについて、n枚目のウエハが処理装置(20)で検査
処理され、位置S3で補助アーム(19A)へ搬送される工
程(201〜209)までは第7図(101〜109)と同様であ
る。n枚目のウエハは補助アーム(19A)へ受渡された
後、高さH2のまま補助アーム(19A)の回転及びリニア
運動により位置S1へ渡され(210)、位置S1で停止す
る。この時、前出のウエハの流れ(第7図100)の中で
述べたが、n+2枚目のウエハは位置S2から位置S3へ搬
送され(211)、位置S2へn+3枚目のウエハが搬送可
能となる。n+3枚目のウエハは位置S1の高さH2にある
n枚目のウエハの下をぬけて位置S2へ搬送される(212,
213)。その後、n枚目のウエハはカセット1へ搬送さ
れる(211)。ここで、n枚目のウエハが位置S1へ搬送
された(210)時、n+3枚目のウエハを搬送せずに先
にn枚目のウエハをカセット1へ搬送し(211)、その
後、n+3枚目のウエハを搬送させてもかまわない(こ
れは図示せず)。正し、この場合n+3枚目のウエハが
位置S2へ到着する時刻がn+2枚目のウエハが位置合せ
を完了する時刻よりも前になっていることが行条件とな
る。第9図ではウエハの処理工程100と200が同時に実現
できるが、装置の構成により独立に実現してもかまわな
い。処理前のウエハが収納されていたカセット処理後ふ
たたび戻す場合、従来の装置では処理装置への搬送経路
を逆にたどってカセットに戻していたため、先行のウエ
ハがふたたび収納されない限り、次のウエハ搬送が出き
なかった。本装置では処理装置への搬送経路と収納のた
めの搬送経路を別にすることにより従来の装置よりも処
理速度を早めることができる。これは半導体素子の製造
プロセスにおける工程処理時間を縮めるためには有効な
手段である。前述のウエハ処理工程は、カセット1から
ウエハを搬送する場合についてのものであるが、一度に
処理をするウエハの枚数が1ケのカセットに収納しきれ
ない場合がある。本装置ではカセット2ケ分までのウエ
ハを一度に処理することができる。
The process 200 of FIG. 8 will be described. Regarding the wafer to be processed, the nth wafer is inspected by the processing device (20) and transferred to the auxiliary arm (19A) at the position S3 until steps (201 to 209) shown in FIG. It is similar to 109). After the nth wafer is transferred to the auxiliary arm (19A), the nth wafer is transferred to position S1 (210) by the rotation and linear movement of the auxiliary arm (19A) while maintaining the height H2 and stopped at position S1. At this time, as described in the flow of the wafer (FIG. 100 in FIG. 7), the n + 2th wafer is transferred from the position S2 to the position S3 (211), and the n + 3th wafer is transferred to the position S2. It will be possible. The (n + 3) th wafer is transported to the position S2 by passing under the nth wafer at the height H2 of the position S1 (212,
213). After that, the nth wafer is transferred to the cassette 1 (211). Here, when the nth wafer is transferred to the position S1 (210), the nth wafer is first transferred to the cassette 1 without transferring the n + 3th wafer (211), and then the n + 3th wafer is transferred. The second wafer may be transferred (this is not shown). Correctly, in this case, the row condition is that the time when the (n + 3) th wafer arrives at the position S2 is before the time when the (n + 2) th wafer completes the alignment. In FIG. 9, the wafer processing steps 100 and 200 can be realized at the same time, but they may be realized independently depending on the configuration of the apparatus. When a cassette that contains unprocessed wafers is returned to the cassette after processing, the transfer route to the processing device is reversed in the conventional system to return to the cassette, so the next wafer is transferred unless the preceding wafer is stored again. Did not come out. In this apparatus, the processing speed can be made faster than that of the conventional apparatus by separating the transportation path to the processing apparatus and the transportation path for storage. This is an effective means for shortening the process time in the semiconductor element manufacturing process. The above-described wafer processing process is for transferring wafers from the cassette 1. However, there are cases where the number of wafers to be processed at one time cannot be stored in one cassette. This apparatus can process wafers up to two cassettes at a time.

これについて説明する。This will be described.

第10図はカセット1及びカセット2からウエハを搬送
し、処理を行なう場合の搬送路を示している。
FIG. 10 shows a transfer path when a wafer is transferred from the cassette 1 and the cassette 2 and processed.

第10図(a)は第9図と似ているが、第10図(a)で
は、未処理のウエハがカセト2に収納されているため、
カセット1からウエハを搬送し、カセット2へ搬送する
工程が存在しない。従って処理後のウエハはカセット1
あるいはカセット3へ収納される。第10図(b)は、カ
セット2からウエハを搬送する場合で、カセット2から
搬送されたウエハは第1図で示される第5搬送ベルト8
によって第4図の位置S1へ搬送され、さらに処理装置
(20)へ搬送される。この場合、カセット1には既に処
理されたウエハが収納されているため、処理装置20から
カセット1へ搬送される工程はない。従って、処理後の
ウエハはカセット2あるいはカセット3へ収納される。
第10図の処理においてカセット2ケ分以上のウエハを処
理する場合にはカセット1及び2に新たに未処理のウエ
ハを収納することにより、処理が可能となる。
Although FIG. 10 (a) is similar to FIG. 9, in FIG. 10 (a), since the unprocessed wafer is stored in the cassette 2,
There is no step of transferring the wafer from the cassette 1 to the cassette 2. Therefore, the processed wafer is the cassette 1
Alternatively, it is stored in the cassette 3. FIG. 10B shows the case where the wafer is transferred from the cassette 2, and the wafer transferred from the cassette 2 is the fifth transfer belt 8 shown in FIG.
Is carried to the position S1 in FIG. 4 and further carried to the processing device (20). In this case, since the processed wafers are already stored in the cassette 1, there is no step of transferring the processed wafers to the cassette 1. Therefore, the processed wafer is stored in the cassette 2 or the cassette 3.
In the processing shown in FIG. 10, when the wafers of two or more cassettes are processed, the processing can be performed by newly storing unprocessed wafers in the cassettes 1 and 2.

第10図(a),(b)の搬送を行なう場合のフローチャ
ートを第11図に示す。キーボード部21においてカセット
1とカセット2のいずれが選択されているかを判断し
(110),カセット1が選択されている場合には第8図
の工程201,202,203,204,205,206,207,208,209,210,211
と同様の工程を通り、工程211でウエハがカセット1へ
収納されると、カセット1を上昇もしくは下降させて
(111),次のウエハを搬送する。カセット2が選択さ
れると、位置S5へ搬送し(112)、次いで位置S1へ搬送
し(113)、以降は第8図の工程202,203,204,205,206,2
07,208,209と同様の工程を通り、工程210で位置S4で受
渡され、次いで位置S5へ搬送(211)、カセット2へ収
納される(212)。そしてウエハがカセット2へ収納さ
れるとカセット2を上昇もしくは下降させて(213),
次のウエハを搬送する。前述されたウエハの処理工程は
全て本装置の処理装置20でウエハが検査処理をうける場
合について述べられたものである。実際のIC検査プロセ
スではウエハに対して検査処理を必要とせずに、カセッ
トから別のカセットへ搬送する工程が存在する。本装置
はこのような工程を実現する工夫がなされている。
FIG. 11 shows a flowchart for carrying the conveyance shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b). It is judged which of the cassette 1 and the cassette 2 is selected on the keyboard portion 21 (110), and when the cassette 1 is selected, the steps 201, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208, 209, 210, 211 of FIG. 8 are selected.
When the wafer is stored in the cassette 1 in the step 211 through the same steps as the step 1, the cassette 1 is moved up or down (111) to transfer the next wafer. When the cassette 2 is selected, it is transported to the position S5 (112) and then to the position S1 (113), and thereafter, steps 202, 203, 204, 205, 206, 2 in FIG.
After passing through the same process as 07, 208, 209, it is delivered at position S4 at process 210, then conveyed to position S5 (211) and stored in the cassette 2 (212). When the wafer is stored in the cassette 2, the cassette 2 is raised or lowered (213),
The next wafer is transferred. The above-described wafer processing steps are all described for the case where the wafer is subjected to the inspection processing in the processing apparatus 20 of the present apparatus. In an actual IC inspection process, there is a step of transferring a wafer from one cassette to another cassette without requiring inspection processing on the wafer. This device has been devised to realize such a process.

第12図(a),(b),(c)はウエハに対して処理装
置(20)における処理を必要としない搬送工程の搬送路
を示している。未処理のウエハが収納されているカセッ
ト搬送処理されたウエハが収納されるカセットの選択に
より、(a),(b),(c)の三タイプに分けられ
る。さらに搬送するウエハの枚数も制御可能である。
FIGS. 12 (a), (b), and (c) show a transfer path of a transfer process which does not require processing in the processing device (20) for the wafer. Cassette transfer for storing unprocessed wafers Depending on the selection of the cassette for storing processed wafers, there are three types: (a), (b), and (c). Further, the number of wafers to be transferred can be controlled.

なお、以上の説明ではウエハ搬送に限って述べたが偏平
容器等、偏平物体(ウエハも含む)の搬送に用いること
のできることは当然である。
In the above description, only wafer transfer is described, but it goes without saying that it can be used to transfer flat objects (including wafers) such as flat containers.

なお、実施例では2点鎖線で囲んだベルトの組を1つの
ブロックとして計3つのウエハ搬送部14,15,16にて構成
することにより組立て調整等を行ない易くしている。
In the embodiment, a set of belts surrounded by a chain double-dashed line is regarded as one block, and a total of three wafer transfer units 14, 15 and 16 are used to facilitate assembly and adjustment.

さらにウエハ等の搬送はベルトによらず空気流によって
行っても良いことは当然である。
Further, it goes without saying that the wafer or the like may be conveyed by an air flow instead of the belt.

(発明の効果) 以上のように本発明によれば、一つの偏平物体をカセッ
トから搬出し、処理した後、再び同じカセットに搬入す
る場合であっても、上記偏平物体をカセットに搬入する
前に、次の偏平物体を搬出することができるので、スル
ープットを向上させることができる。
(Effect of the invention) As described above, according to the present invention, even when one flat object is unloaded from the cassette, processed, and then loaded into the same cassette again, the flat object is not loaded into the cassette. Moreover, since the next flat object can be carried out, the throughput can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の第1実施例のブロック図、第2図は第
1図で用いた補助の受渡し装置の平面図、第3図は第2
図のX−X矢視断面図、第4図は補助アームの平面動作
説明図、第5図は補助アームの上下動作説明図、第6図
は電気処理に係るブロック図、第7図,第8図,第11図
はウエハの搬送に関するフローチャート、第9図,第10
図(a),(b),第12図(a),(b),(c)はウ
エハの搬送路を概略的に示した図、第13図は従来をウエ
ハ搬送装置の一例を示す図,である。 (主要部分の符号の説明) 1A……第1カセット載置装置,1B……第2カセット載置
装置,1C……第3カセット載置装置,4……第1搬送ベル
ト,400……第1搬送装置A,5……第2搬送ベルト,50……
第1搬送装置B,6……第4搬送ベルト,600……第2搬送
装置A,7……第3搬送ベルト,700……第2搬送装置B,17
……位置合せ装置,18……アーム,180……受渡し装置,19
……補助の受渡し装置,20……処理装置,23……制御装
置,89A……ウエハの押戻し部材,89B……ウエハの押出し
部材。
FIG. 1 is a block diagram of the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the auxiliary delivery device used in FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line X--X of FIG. 4, FIG. 4 is a plane operation explanatory view of the auxiliary arm, FIG. 5 is a vertical movement explanatory view of the auxiliary arm, and FIG. 6 is a block diagram relating to electrical processing, FIG. 8 and 11 are flow charts relating to wafer transfer, and FIGS. 9 and 10.
Figures (a), (b) and Figures 12 (a), (b), and (c) are diagrams schematically showing a wafer transfer path, and Figure 13 is a view showing an example of a conventional wafer transfer device. ,. (Description of symbols of main parts) 1A ... 1st cassette placing device, 1B ... 2nd cassette placing device, 1C ... 3rd cassette placing device, 4 ... 1st conveyor belt, 400 ... 1 Conveyor A, 5 ...... Second conveyor belt, 50 ......
1st conveyor B, 6 ... 4th conveyor belt, 600 ... 2nd conveyor A, 7 ... 3rd conveyor belt, 700 ... 2nd conveyor B, 17
…… Alignment device, 18 …… Arm, 180 …… Transfer device, 19
...... Auxiliary delivery device, 20 ...... Processing device, 23 ...... Control device, 89A ...... Wafer pushing member, 89B ...... Wafer pushing member.

フロントページの続き (72)発明者 佐伯 和明 神奈川県横浜市戸塚区長尾台町471番地 日本光学工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 前川 一浩 神奈川県横浜市戸塚区長尾台町471番地 日本光学工業株式会社横浜製作所内Front page continued (72) Inventor Kazuaki Saeki 471 Nagaodai-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Japan Optical Industry Co., Ltd.Yokohama Works (72) Inventor Kazuhiro Maekawa 471 Nagaodai-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Japan Kanagawa Prefecture Japan Optical Industry Co., Ltd. Yokohama Works

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】上下方向に偏平物体の収納部を並設したカ
セットを上下に移動せしめ、前記収納部のいずれかを所
定高さ位置に位置決めするカセット載置装置と、搬送さ
れてきた偏平物体の平面内での位置合せを行なう位置合
せ装置と、前記カセット載置装置と前記位置合せ装置と
の間に直線的に設けられ、前記所定高さ位置の収納部に
存在する偏平物体の搬出及び未収納の収納部への偏平物
体の搬入を行なう第1搬送装置と、偏平物体を処理する
ための処理装置と、前記位置合せ装置と前記処理装置と
の間で偏平物体を搬送する第2搬送装置と、前記カセッ
ト載置装置,前記位置合せ装置,前記第1搬送装置,前
記第2搬送装置の駆動制御を行う制御装置と,を有する
自動搬送装置において、 前記第1搬送装置を前記載置装置側の第1部分と前記位
置合せ装置側の第2部分とに各々を独立して制御自在に
2分し、前記第2部分の前記第1部分側に偏平物体の存
否を検出する検出器を設けると共に、前記位置合せ装置
の偏平物体を保持部によって保持し前記第1部分に受渡
すアームを有する第3搬送装置を設け、 前記制御装置は、前記位置合せ装置の偏平物体が前記第
2搬送装置に移ってから再び戻ってくるまでの間にカセ
ット内の新たな偏平物体を前記第1部分と前記第2部分
とによって搬送すると共に前記検出器からの検知信号に
よって前記第1部分と前記第2部分の駆動を停止して該
新たな偏平物体を前記位置合せ装置の前方に待機させ、
前記位置合せ装置に再び戻った偏平物体を前記アームに
保持せしめて前記第1部分に受渡し、該アームによる保
持から前記第1部分に受渡すまでの間に前記第2部分を
駆動して前記待機している新たな偏平物体を前記位置合
せ装置まで搬送するように制御することを特徴とする自
動搬送装置。
1. A cassette placing device for vertically moving a cassette in which accommodating portions for a flat object are arranged side by side to position one of the accommodating portions at a predetermined height position, and a conveyed flat object. A positioning device for performing positioning in the plane, and a flat object linearly provided between the cassette placing device and the positioning device and for carrying out the flat object existing in the storage unit at the predetermined height position and A first transport device for loading a flat object into an unstored storage unit, a processing device for processing a flat object, and a second transport device for transporting a flat object between the alignment device and the processing device. An automatic transporting device including a cassette mounting device, the alignment device, the first transporting device, and a control device that controls driving of the second transporting device. With the first part on the device side A second part on the side of the alignment device is independently controllably divided into two parts, and a detector for detecting the presence or absence of a flat object is provided on the side of the first part of the second part, and the alignment is performed. A third transfer device having an arm for holding a flat object of the device by a holding part and delivering the flat object to the first part is provided, and the control device again controls the flat object of the alignment device to move to the second transfer device. Before returning, a new flat object in the cassette is conveyed by the first portion and the second portion, and the driving of the first portion and the second portion is stopped by the detection signal from the detector. Then, the new flat object is made to stand by in front of the alignment device,
The flat object returned to the aligning device is held by the arm and delivered to the first portion, and the second portion is driven to stand by between the holding by the arm and the delivery to the first portion. A new flat object is controlled to be transported to the alignment device.
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