Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH071783B2 - Automatic transport device for flat objects - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH071783B2 - Automatic transport device for flat objects - Google Patents

Automatic transport device for flat objects

Info

Publication number
JPH071783B2
JPH071783B2 JP26895785A JP26895785A JPH071783B2 JP H071783 B2 JPH071783 B2 JP H071783B2 JP 26895785 A JP26895785 A JP 26895785A JP 26895785 A JP26895785 A JP 26895785A JP H071783 B2 JPH071783 B2 JP H071783B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
cassette
transfer
belt
transferred
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP26895785A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62128144A (en
Inventor
憲慶 橋本
邦行 吉川
和明 佐伯
一浩 前川
菊雄 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP26895785A priority Critical patent/JPH071783B2/en
Publication of JPS62128144A publication Critical patent/JPS62128144A/en
Publication of JPH071783B2 publication Critical patent/JPH071783B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明はウエハの如き板状物体や偏平容器内の収納物等
の検査、製造を自動あるいは半自動で行なうために、板
状物体や偏平容器等の偏平物体を搬送する自動搬送装置
に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a plate-shaped object, a flat container or the like in order to automatically or semi-automatically inspect and manufacture a plate-shaped object such as a wafer or a stored object in the flat container. The present invention relates to an automatic transfer device for transferring flat objects.

(発明の背景) 第13図は従来のウエハ外観検査装置に用いられているウ
エハ自動搬送装置の一例についての概要図である。
(Background of the Invention) FIG. 13 is a schematic view of an example of an automatic wafer transfer device used in a conventional wafer appearance inspection device.

上下方向(紙面に垂直な方向)にウエハ収納部を並設し
たカセツト81は、不図示の第1カセツト載置装置によつ
てウエハ収納部が順次所定位置に位置決めされる。一対
のベルト84の一端は上述の所定位置にあるウエハ収納部
のウエハをカセツト81から引き出し搬送するために、所
定位置に位置しており、他端はカセツト81に対峙した第
2カセツト82の所定位置に位置している。一対のベルト
84は左右のプーリ(不図示)によつて一体に回転移動さ
れるように各々輪状に形成され、一方のプーリをモータ
にて回転制御する構成である。第2カセツト82に並置さ
れて第3カセツト83が配設され、一対のベルト84に直交
して一対のベルト85が設けられ、ベルト84に直交して一
対のベルト86が第3カセツト83の所定位置に一端が位置
するように設けられている。一対のベルト84の途中には
位置合せ装置87が設けられ、位置合せ装置87と不図示の
顕微鏡ステージとの間でウエハの受渡しを行なう受渡し
アーム88が設けられている。また、一対のベルト84と一
対のベルト85の交差点及び一対のベルト85と一対のベル
ト86の交差点にはウエハの検出器T1、T2が配設されてい
る。検出器T1、T2はウエハが上方にきたことを検出し、
不図示の制御装置に検出信号を入力する。制御装置は動
作手順指令信号と検出信号とによつて、ベルト84、85、
86の回転駆動を制御すると共に、位置合せ装置84、受渡
しアーム88の動作をも制御する。
In the cassette 81 in which the wafer accommodating portions are arranged side by side in the up-down direction (direction perpendicular to the paper surface), the wafer accommodating portions are sequentially positioned at predetermined positions by a first cassette placing device (not shown). One end of the pair of belts 84 is located at a predetermined position for pulling out and transporting the wafer in the wafer storage unit at the above-mentioned predetermined position from the cassette 81, and the other end thereof is located at a predetermined position of the second cassette 82 facing the cassette 81. Located in position. A pair of belts
Each of 84 is formed in a ring shape so as to be integrally rotated by left and right pulleys (not shown), and one of the pulleys is rotationally controlled by a motor. A third cassette 83 is arranged in juxtaposition with the second cassette 82, a pair of belts 85 is provided orthogonally to the pair of belts 84, and a pair of belts 86 orthogonal to the belt 84 is a predetermined portion of the third cassette 83. It is provided so that one end is located at the position. An alignment device 87 is provided in the middle of the pair of belts 84, and a delivery arm 88 is provided for delivering the wafer between the alignment device 87 and a microscope stage (not shown). Wafer detectors T 1 and T 2 are arranged at the intersections of the pair of belts 84 and the pair of belts 85 and at the intersections of the pair of belts 85 and the pair of belts 86. The detectors T 1 and T 2 detect that the wafer has come upward,
A detection signal is input to a control device (not shown). The control device uses the operation procedure command signal and the detection signal to detect the belts 84, 85,
It controls the rotation drive of 86, and also controls the operations of the alignment device 84 and the delivery arm 88.

通常の使い方としては、カセツト81をセンダ用(処理前
のウエハ収納用)とし、カセツト82、83をレシーバ用
(処理後のウエハ収納用)とする。ウエハはカセツト81
→搬送ベルト84→位置合せ装置87→受渡し装置88→顕微
鏡ステージ(図示せず)受渡し装置88→位置合せ装置87
→搬送ベルト84を経由してカセツト82に、あるいは搬送
ベルト84、85、86を経由してカセツト83に収納される。
As a normal usage, the cassette 81 is used for the sender (for storing the wafer before processing) and the cassettes 82 and 83 are used for the receiver (for storing the wafer after processing). Wafer cassette 81
→ conveyor belt 84 → alignment device 87 → delivery device 88 → microscope stage (not shown) delivery device 88 → alignment device 87
→ Stored in the cassette 82 via the conveyor belt 84, or in the cassette 83 via the conveyor belts 84, 85, 86.

ところが、このような従来の搬送装置では3つのカセツ
トを用いる場合、搬送ベルト85を設けてある為、装置の
横方向寸法に必ずウエハ1枚分のスペースが必要となり
装置の横方向寸法が長くなる、という欠点があつた。
However, in the case where three cassettes are used in such a conventional transfer apparatus, since the transfer belt 85 is provided, a space for one wafer is always required in the lateral dimension of the apparatus, and the lateral dimension of the apparatus becomes long. There was a drawback.

(発明の目的) 本発明は従来の問題点を除去し、コンパクトな搬送装置
を提供することを目的とするものである。
(Object of the Invention) It is an object of the present invention to eliminate the conventional problems and to provide a compact conveying device.

(発明の概要) 本発明は、第1カセツト載置装置(1A)と、偏平物体の
平面内での位置合せを行なう位置合せ装置(17)と、前
記第1カセツト載置装置と前記位置合せ装置との間に直
線的に配設され、偏平物体の搬送を行なう第1搬送装置
(4、400、5、500)と、前記第1カセツト載置装置に
対し前記第1搬送装置の搬送方向に直交する方向へ並設
された第2カセツト載置装置(1B)と、前記第2カセツ
ト載置装置に対峙するように前記位置合せ装置に並設さ
れた第3カセツト載置装置(1C)と、前記第2カセツト
載置装置と前記第3カセツト載置装置との間に直線的に
配設され、偏平物体の搬送を行なう第2搬送装置(6、
700、7、600)と、偏平物体を処理するための処理装置
(20、20A)と、前記位置合せ装置と前記処理装置との
間で偏平物体の受渡しを行なう第1受渡し装置(18、18
0)と、前記位置合せ装置と前記第2搬送装置との間で
偏平物体の受渡しを行なう第2受渡し装置(19、19A、1
9B)と、前記第1カセツト載置装置、前記第2カセツト
載置装置、前記第3カセツト載置装置、前記第1搬送装
置、前記第2搬送装置、前記位置合せ装置、前記第1受
渡し装置及び前記第2受渡し装置の駆動制御を行なう制
御装置(23)と、を有することを特徴とする偏平物体の
自動搬送装置である。
(Summary of the Invention) The present invention provides a first cassette placing device (1A), an alignment device (17) for aligning a flat object in a plane, the first cassette placing device and the alignment. A first conveying device (4, 400, 5, 500) which is linearly arranged between the first conveying device and the conveying device and conveys a flat object; and a conveying direction of the first conveying device with respect to the first cassette mounting device. Second cassette mounting device (1B) arranged in a direction orthogonal to the second cassette mounting device, and a third cassette mounting device (1C) arranged in parallel with the alignment device so as to face the second cassette mounting device. And a second transfer device (6, 6) linearly arranged between the second cassette mounting device and the third cassette mounting device for carrying a flat object.
700, 7, 600), a processing device (20, 20A) for processing a flat object, and a first delivery device (18, 18) for delivering a flat object between the alignment device and the processing device.
0) and a second delivery device (19, 19A, 1) for delivering a flat object between the alignment device and the second transport device.
9B), the first cassette mounting device, the second cassette mounting device, the third cassette mounting device, the first transport device, the second transport device, the alignment device, and the first delivery device And a control device (23) for controlling the drive of the second delivery device, the automatic conveyance device for a flat object.

(実施例) 以下、図面に示した実施例に基づいて本発明を説明す
る。
(Example) Hereinafter, the present invention will be described based on an example shown in the drawings.

第1図は本発明の第1実施例であつて、上下方向(紙面
に垂直な方向)にウエハ収納部を並設したカセツト1を
上下に移動せしめ、カセツトのウエハ収納部を順次所定
高さ位置に位置決めする第1カセツト載置装置1Aが設け
られている。第1カセツト載置装置1Aは、固定部材に設
けた2軸ガイド軸に移動部材に設けたボールブッシュが
上下スライドする構造によつて上下動自在に構成されて
おり、移動部材の上下動は、固定部材に設けた送りねじ
に移動部材に設けたナツトを螺合し、位置決め等をオー
プンループで可能なステツピングモータによつて送りね
じを回転駆動している。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention, in which a cassette 1 having wafer storages arranged in a vertical direction (a direction perpendicular to the plane of the drawing) is moved up and down to sequentially move the wafer storages of the cassette to a predetermined height. A first cassette placing device 1A for positioning the position is provided. The first cassette mounting device 1A is configured to be vertically movable by a structure in which a ball bush provided on a moving member slides up and down on a biaxial guide shaft provided on a fixed member. A nut provided on the moving member is screwed onto a feed screw provided on the fixed member, and the feed screw is rotationally driven by a stepping motor capable of positioning and the like in an open loop.

ステツピングモータの代わりにDCモータにエンコーダを
組合せたものを用いても同様である。なお、上下動方向
の切換えは、モータの正、逆回転によつて容易に行ない
うる。
The same applies when a DC motor combined with an encoder is used instead of the stepping motor. The vertical movement direction can be easily switched by rotating the motor in the forward or reverse direction.

一端を所定高さ位置においてカセツト1に一端を対向す
るように置かれた第1搬送ベルト(従来と同様の一対の
並行なベルト)4及び第1搬送ベルト4に直線的に連続
する第2搬送ベルト5が配設されている。また、カセツ
ト内のウエハを搬出し、またはカセツト内にウエハを搬
入するために周知の構造であるウエハの押出し部材89
B、押戻し部材89Aを有する押出し押戻し装置が設けられ
ている。なお、これら搬送ベルト4、5はウレタン系の
材料にてループ状に形成され、ベルトの回転移動は周知
の如く、DCモータとベルトプーリにて行ない、回転方向
の切換えはモータの正、逆回転により行なわれる。
A first conveyor belt (a pair of parallel belts similar to the conventional one) 4 placed with one end facing the cassette 1 at a predetermined height position and a second conveyor linearly continuous with the first conveyor belt 4. A belt 5 is arranged. Further, a wafer push-out member 89 having a well-known structure for carrying out the wafer in the cassette or carrying the wafer in the cassette is used.
B, an extrusion push-back device having a push-back member 89A is provided. The conveyor belts 4 and 5 are formed of a urethane-based material in a loop shape, and the rotational movement of the belt is performed by a DC motor and a belt pulley as well known, and the rotation direction is switched between the forward and reverse rotations of the motor. Performed by.

第2搬送ベルト5の第1搬送ベルト4の他端に対向しな
い方の端(他端)近傍にはウエハの位置合せ装置17が配
設されている。この位置合せ装置17は、第2搬送ベルト
5によつて左から右へ搬送されてきたウエハを停止する
ストツパ部17A、ウエハを真空吸着、回転する吸着回転1
7C、ウエハを3本のローラピンに押圧する押し付け部17
Bから構成されている。
A wafer alignment device 17 is arranged near the other end (the other end) of the second transfer belt 5 that does not face the other end of the first transfer belt 4. The alignment device 17 includes a stopper unit 17A that stops the wafer that has been transferred from the left to the right by the second transfer belt 5, and a suction rotation 1 that vacuum-sucks and rotates the wafer.
7C, pressing part 17 that presses the wafer against the three roller pins 17
Composed of B.

第1カセツト載置装置1Aに対して搬送ベルト4によるウ
エハの搬送方向に直交する方向に第2カセツト載置装置
1Bが並設されており、(図では紙面内上方)、第2カセ
ツト載置装置1Bには上下方向にウエハ収納部を並設した
カセツト2が載置されている。ウエハ位置合せ装置17に
対し第2カセツト載置装置1Bに対峙するように第3カセ
ツト載置装置1Cが並設されている。第2カセツト載置装
置1B、第3カセツト載置装置1Cは第1カセツト載置装置
1aと同構造である。第3カセツト載置装置1Cにはカセツ
ト3が載置されている。第3搬送ベルト7が第1搬送ベ
ルト4と並設され、一端が第3搬送ベルト7の他端に対
峙し、他端が所定位置においてカセツト3内にわずかに
挿入された第4搬送ベルト6が第2搬送ベルト5に並設
されている。なお、第3搬送ベルト7側にもウエハの押
出し部材89B、押戻し部材89Aを有する押出し押戻し装置
が設けられている。また、第1搬送ベルト4と第3搬送
ベルト7とを連結するように両者に直交した第5搬送ベ
ルト8が配設されている。
A second cassette loading device in the direction orthogonal to the wafer transport direction by the transport belt 4 with respect to the first cassette loading device 1A.
1B are arranged side by side (upper in the drawing in the figure), and a cassette 2 having wafer accommodating portions arranged side by side in the vertical direction is placed on the second cassette placing device 1B. A third cassette placement device 1C is arranged in parallel with the wafer alignment device 17 so as to face the second cassette placement device 1B. The second cassette loading device 1B and the third cassette loading device 1C are the first cassette loading device.
It has the same structure as 1a. The cassette 3 is mounted on the third cassette mounting device 1C. A third conveyor belt 7 is arranged in parallel with the first conveyor belt 4, one end of which faces the other end of the third conveyor belt 7, and the other end of which is slightly inserted into the cassette 3 at a predetermined position. Are arranged side by side on the second conveyor belt 5. An extrusion push-back device having a wafer push-out member 89B and a push-back member 89A is also provided on the third conveyor belt 7 side. Further, a fifth conveyor belt 8 orthogonal to the first conveyor belt 4 and the third conveyor belt 7 is arranged so as to connect the first conveyor belt 4 and the third conveyor belt 7.

第3搬送ベルト7、第4搬送ベルト6、第5搬送ベルト
8は既に述べた搬送ベルトと同様であるが、搬送ベルト
8には、さらに、回転移動と共に、ベルト8全体を上下
動する装置が設けられている。搬送ベルト8を使用しな
い状態(下死点)では搬送ベルト8上面位置(高さ方
向)は搬送ベルト4、7のベルト上面より下がつた位置
にある。又使用時は、搬送ベルト8上面位置が搬送ベル
ト4、7のベルト上面より上がつた位置で停止した状態
(上死点)になる。この上下動駆動には、高速化が可能
なエアシリンダを採用しているが、勿論各種モータ等別
の駆動源を用いても良い。
The third conveyor belt 7, the fourth conveyor belt 6, and the fifth conveyor belt 8 are the same as the conveyor belts described above, but the conveyor belt 8 further includes a device that moves the belt 8 up and down together with the rotational movement. It is provided. When the conveyor belt 8 is not used (bottom dead center), the upper surface position (height direction) of the conveyor belt 8 is below the upper surface of the conveyor belts 4 and 7. During use, the upper surface of the conveyor belt 8 is stopped at a position higher than the upper surfaces of the conveyor belts 4 and 7 (top dead center). An air cylinder capable of speeding up is adopted for the up-and-down drive, but of course, another drive source such as various motors may be used.

ウエハ処理装置20は第2搬送ベルト5に対し第4搬送ベ
ルト6とは反対側に設けられ、X−Yステージ、観察装
置等を含むものであるが、図ではウエハを吸着保持する
シリンダ20Aのみを示した。シリンダ20Aのウエハ保持は
真空吸着、またシリンダ20Aには回転機構が設けてあ
る。X−Yステージストロークはウエハ全域移動(例え
ば6インチウエハだと150mm)可能な量とし、位置精度
が必要な為、DCサーボモータにエンコーダを組合せて構
成している。
The wafer processing apparatus 20 is provided on the opposite side of the second conveyor belt 5 from the fourth conveyor belt 6 and includes an XY stage, an observation device, etc., but only the cylinder 20A for adsorbing and holding the wafer is shown in the figure. It was A wafer is held on the cylinder 20A by vacuum suction, and the cylinder 20A is provided with a rotation mechanism. The XY stage stroke is set so that it can be moved over the entire wafer (for example, 150 mm for a 6-inch wafer). Since positional accuracy is required, a DC servo motor and encoder are combined.

ウエハ位置合せ装置17とシリンダ20Aの間には、各々の
間でウエハの受渡しを行なう受渡し装置を構成するアー
ム18が設けられている。アーム18によるウエハの保持は
真空吸着で行なわれ、アーム回転駆動にはオープンルー
プで使用可能なステツピングモータを採用している。
Between the wafer alignment device 17 and the cylinder 20A, there is provided an arm 18 which constitutes a delivery device for delivering the wafer between each of them. The wafer is held by the arm 18 by vacuum suction, and a stepping motor that can be used in an open loop is used to drive the arm rotation.

また、第2搬送ベルト5と第4搬送ベルト6の間には、
ウエハ位置合せ装置17のウエハを第1搬送ベルト4、第
4搬送ベルト6に受渡す補助の受渡し装置19が設けられ
ている。この補助の受渡し装置19は先端にウエハ吸着部
19Bを有する補助アーム19Aを有している。補助の受渡し
装置19の構造については後述する。
Further, between the second conveyor belt 5 and the fourth conveyor belt 6,
An auxiliary transfer device 19 for transferring the wafer of the wafer alignment device 17 to the first transfer belt 4 and the fourth transfer belt 6 is provided. This auxiliary delivery device 19 has a wafer suction unit at the tip.
It has an auxiliary arm 19A with 19B. The structure of the auxiliary delivery device 19 will be described later.

第1搬送ベルト4と第5搬送ベルト8の交差位置、第2
搬送ベルト5の一端近傍、第3搬送ベルト7と第5搬送
ベルト8の交差位置、第4搬送ベルト6の一端近傍には
ウエハの存否を検出するための光電検出器9、10、13、
12が配設され、位置合せ装置17にもウエハの切欠部を検
出するための光電検出器11が配設されている。
Crossing position of the first conveyor belt 4 and the fifth conveyor belt 8, the second
Photoelectric detectors 9, 10, 13, for detecting the presence or absence of a wafer, in the vicinity of one end of the transfer belt 5, at the intersection of the third transfer belt 7 and the fifth transfer belt 8, and in the vicinity of one end of the fourth transfer belt 6.
12 is provided, and the alignment device 17 is also provided with a photoelectric detector 11 for detecting the cutout portion of the wafer.

ウエハ処理装置20の左右には、キーボード部21、ジヨイ
ステイツク22が設けられると共に、筐体25にコード24に
て接続した制御部23が設けられ、キーボード部21、ジヨ
イステイツク部22、制御部23、光電検出器9、10、11、
12、13、搬送ベルト4、5、6、7、8の回転移動の制
御やアーム18、19の制御等を行なう各種モータ(後述す
る)等によつて制御装置が構成される。
A keyboard section 21 and a joystick 22 are provided on the left and right sides of the wafer processing apparatus 20, and a control section 23 connected to a housing 25 by a cord 24 is provided. The keyboard section 21, the joystick section 22, the control section 23, and the photoelectric Detectors 9, 10, 11,
A control device is constituted by various motors (described later) for controlling the rotational movements of the conveyor belts 12, 13, the conveyor belts 4, 5, 6, 7, 8 and the arms 18, 19.

上述した補助の受渡し装置19の構造を平面図である第2
図、第2図のX−X断面図である第3図にて説明する
に、補助の受渡し装置19は、処理終了したウエハ(良、
不良、再生などに判定分類される。)を決められたカセ
ツトへ収納する為にウエハを収納すべく選択されたカセ
ツトに一番近い搬送ベルト(16あるいは4)上にウエハ
を渡すものであり、補助アーム19Aを回転、上下動およ
びリニアに移動できる。アーム19Aの回転は、モータ54
の回転をモータ54の回転軸に固定のプーリ53Bとアーム
回転軸に一体の大プーリ53Aとの間のタイミングベルト5
3にてアーム回転軸52に伝え、アーム回転軸52に固定さ
れたアーム19Aを回転させる。軸受55にはアンギユラコ
ンタクト型ベアリング56を用いアーム回転軸52まわりの
スラストおよびラジアル荷重を受けアーム19Aが低摩擦
で回転可能な構造になつている。尚、モータ54には、オ
ープンループで回転制御が可能なステツピングモータを
採用している。
FIG. 2 is a plan view showing the structure of the auxiliary delivery device 19 described above.
As shown in FIG. 3, which is a sectional view taken along the line XX in FIG. 2, the auxiliary transfer device 19 is provided with a processed wafer (good,
It is classified as defective or regenerated. ) Is stored in a predetermined cassette, the wafer is transferred onto the transfer belt (16 or 4) closest to the cassette selected to store the wafer, and the auxiliary arm 19A is rotated, moved up and down, and moved linearly. You can move to. The rotation of the arm 19A is controlled by the motor 54
Timing belt 5 between the pulley 53B fixed to the rotary shaft of the motor 54 and the large pulley 53A integrated with the arm rotary shaft.
The arm 19A fixed to the arm rotation shaft 52 is rotated by transmitting to the arm rotation shaft 52 at 3. An angular contact bearing 56 is used as the bearing 55, and the arm 19A receives a thrust and radial load around the arm rotation shaft 52 and is rotatable with low friction. The motor 54 employs a stepping motor whose rotation can be controlled in an open loop.

アーム19Aの上下動は、2本の丸ガイド軸57A、57B上を
軸受55に取付けられた6ケのベアリング58がころがる構
造で駆動は、DCモータ(図示せず)の回転を円筒カム59
のカム面に軸受55に固定のコロ55aを載置する構成にて
直線運動(上下運動)に変換し、軸受55が上下動する。
つまり、軸受55アーム19A、アーム回転軸52は一体で上
下動する。尚お、上下動時アーム回転軸52はキー60によ
り大プーリ53Aの軸上をスライドする。アーム51のリニ
ア運動は、ケージング64の両端に取付けられたボールブ
ツシュ62が筐体25に固定したリニアガイド軸61上をスラ
イドする構造で、駆動はエアシリンダ63にて行なつてい
る。エアシリンダ63のシリンダは筐体25に固定され、ピ
ストン63aがケージング64に固定されている。また、リ
ニアガイド軸61の反対側(第2図では上方)の筐体25に
はリニアガイド面25′が形成され、ケージング64に固設
のコロ64aがリニアガイド面25′に載置されている。第
4図は補助アーム19Aの各状態図、第5図は補助アーム1
9Aの上、中、下位置状態図である。各々の動作、状態を
第4、5図にて説明する。
The vertical movement of the arm 19A is a structure in which six bearings 58 mounted on the bearing 55 roll on two round guide shafts 57A and 57B, and the driving is performed by rotating a DC motor (not shown) with a cylindrical cam 59.
The roller 55a fixed on the bearing 55 is placed on the cam surface of the bearing 55 to convert it into a linear motion (vertical motion), and the bearing 55 moves up and down.
That is, the bearing 55 arm 19A and the arm rotation shaft 52 move up and down integrally. It should be noted that the arm rotating shaft 52 slides on the shaft of the large pulley 53A by the key 60 during the vertical movement. The linear movement of the arm 51 has a structure in which ball bushings 62 attached to both ends of the caging 64 slide on a linear guide shaft 61 fixed to the housing 25, and are driven by an air cylinder 63. The cylinder of the air cylinder 63 is fixed to the housing 25, and the piston 63a is fixed to the casing 64. A linear guide surface 25 'is formed on the housing 25 on the opposite side of the linear guide shaft 61 (upper side in FIG. 2), and a roller 64a fixed to the caging 64 is placed on the linear guide surface 25'. There is. FIG. 4 shows each state of the auxiliary arm 19A, and FIG. 5 shows the auxiliary arm 1
9A is a state diagram of the upper, middle, and lower positions of 9A. FIG. Each operation and state will be described with reference to FIGS.

補助アーム19Aの初期状態は、補助アーム19Aの先端のウ
エハ吸着部19Bの中心が位置S4に、上面が高さH1にあ
る。尚高さHは、搬送ベルト5、6のベルト上面位置で
ある。処理終了したウエハは、受渡しアーム18により位
置合せ装置17上に送られる。それとほぼ同時に補助アー
ム19Aは高さH1の状態でウエハ吸着部19Bが位置S3にくる
まで回転する(このとき回転角θ1)。次にウエハ吸着
部19Bは高さH2に上がりウエハを真空吸着する(それに
よつて、ウエハは受渡しアーム18から補助アーム19Aに
渡される)。次にウエハをどのカセツト(1〜3)に収
納するかにより2通りの動きのうち何れかの動きを行な
う。
In the initial state of the auxiliary arm 19A, the center of the wafer suction portion 19B at the tip of the auxiliary arm 19A is at the position S4 and the upper surface is at the height H1. The height H is a belt upper surface position of the conveyor belts 5 and 6. The processed wafer is sent by the delivery arm 18 onto the alignment device 17. At about the same time, the auxiliary arm 19A rotates at the height H1 until the wafer suction portion 19B reaches the position S3 (at this time, the rotation angle θ 1 ). Next, the wafer suction unit 19B rises to the height H2 and vacuum-holds the wafer (thereby, the wafer is transferred from the transfer arm 18 to the auxiliary arm 19A). Next, one of two movements is performed depending on which cassette (1-3) the wafer is stored in.

先ずウエハをカセツト2あるいはカセツト3に収納する
場合を説明する。補助アーム19Aは高さH2の状態で位置S
4まで回転し(回転角θ1)、ウエハの吸着を解除する。
そして補助アーム19はベルト6の凹部を通つて高さH3に
下降し、ウエハを搬送ベルト6上にのせる。これから搬
送ベルト6、7が回転移動し、収納すべきカセツト2、
3の何れかに入る。ウエハがカセツトに入つたと同時に
補助アーム19Aは初期位置(位置S4、高さH1)に戻る。
次にウエハをカセツト1へ収納させる場合であるが、補
助アーム19Aは、高さH2状態のまま、回転角θ2まで回転
しながらリニア運動にてA点からB点に移動する。(ウ
エハ吸着部19Aは位置S1にくる。)尚、この回転および
リニア運動は、並行動作で行なえる。次にウエハの吸着
を解除し、搬送ベルト8、4の凹部(3つのプーリによ
つてV字形の凹部を形成すれば良い。尚、ベルトを2つ
に分離し、各ベルトを1つのプーリに掛けるようになし
ても良い。)を高さH3に下降し、ウエハを搬送ベルト4
上にのせる。ここから搬送ベルト4が回転し、ウエハ
は、カセツト1に収納される。そして、補助アーム19A
は高さH1まで上がり初期位置(位置S4、高さH1)に戻
る。以上が補助アーム19Aの動作である。尚、各々の動
作機構は、その目的機能が達成できれば、何れの方法で
も良い。例えば、エアシリンダ63はリードスクリユーと
モータの組合せに置き換えても構わない。
First, the case where the wafer is stored in the cassette 2 or the cassette 3 will be described. Auxiliary arm 19A is in position S at height H2
Rotate to 4 (rotation angle θ 1 ) to release the wafer suction.
Then, the auxiliary arm 19 passes through the concave portion of the belt 6 and descends to the height H3 so that the wafer is placed on the transfer belt 6. From now on, the conveyor belts 6 and 7 are rotationally moved, and the cassette 2 to be stored,
Enter any of the three. At the same time when the wafer enters the cassette, the auxiliary arm 19A returns to the initial position (position S4, height H1).
Next, in the case where the wafer is stored in the cassette 1, the auxiliary arm 19A moves from the point A to the point B in a linear motion while rotating to the rotation angle θ 2 while keeping the height H2. (The wafer suction portion 19A comes to the position S1.) The rotation and the linear movement can be performed in parallel. Next, the suction of the wafer is released, and the concave portions of the conveyor belts 8 and 4 (V-shaped concave portions may be formed by three pulleys. The belts are separated into two, and each belt is formed into one pulley. It is also possible to hang it up.) To the height H3 to transfer the wafer to the conveyor belt 4
Place on top. From here, the conveyor belt 4 rotates and the wafer is stored in the cassette 1. And the auxiliary arm 19A
Goes up to height H1 and returns to the initial position (position S4, height H1). The above is the operation of the auxiliary arm 19A. Each operating mechanism may be of any method as long as it can achieve its intended function. For example, the air cylinder 63 may be replaced with a combination of a lead screw and a motor.

次に、電気処理に係る構成につき説明する。第6図はブ
ロツク図であつて、制御装置23には光電検出器9、10、
11、12、13からウエハの存否の信号が入力され、第1ウ
エハ載置装置1A、第2ウエハ載置装置1B、第3ウエハ載
置装置1C、第1搬送装置A400、第1搬送装置B500、第2
搬送装置A600、第2搬送装置B700、位置合せ装置17、補
助受渡し装置19、受渡し装置180に制御信号を出力す
る。
Next, a configuration related to electrical processing will be described. FIG. 6 is a block diagram, in which the control device 23 has photoelectric detectors 9, 10,
A wafer presence / absence signal is input from 11, 12, and 13, and a first wafer mounting device 1A, a second wafer mounting device 1B, a third wafer mounting device 1C, a first transfer device A400, and a first transfer device B500. , Second
A control signal is output to the transfer device A600, the second transfer device B700, the alignment device 17, the auxiliary transfer device 19, and the transfer device 180.

第7図および第8図にウエハの搬送に関するフローチヤ
ートを示す。これらの図は、ウエハの搬送工程における
ウエハの停止位置(第1図20A、第4図S1〜S4、19)に
着目した表現をしながら、時間的な流れについても表現
している。
FIG. 7 and FIG. 8 show flow charts relating to wafer transfer. These figures express not only the wafer stop position (FIG. 20A, FIG. 4 S1 to S4, 19) in the wafer transfer process but also the temporal flow.

第7図は、カセツト1からウエハを搬送し、処理後、カ
セツト2もしくは、カセツト3へウエハを搬送する場合
について、第8図は、カセツト1からウエハを搬送し、
検査処理後、カセツト1へウエハを搬送する場合につい
ての工程を示している。
FIG. 7 shows a case where the wafer is transferred from the cassette 1, and after processing, the wafer is transferred to the cassette 2 or the cassette 3, and FIG. 8 shows the case where the wafer is transferred from the cassette 1.
It shows the steps for carrying the wafer to the cassette 1 after the inspection process.

尚、第9図、第10図及び第12図は、実際の実施例におけ
るウエハの搬送路を、平面的に抽象化表現したものであ
る。
Incidentally, FIGS. 9, 10 and 12 are two-dimensionally abstract representations of the wafer transfer path in the actual embodiment.

尚、第7図および第8図に示される工程は、第9図の搬
送路をとる。
Incidentally, the steps shown in FIGS. 7 and 8 take the transport path of FIG.

先ず第7図の説明を行なう。First, FIG. 7 will be described.

破線で示した処理の流れ100は、1枚のウエハに対する
処理を示している。
A process flow 100 shown by a broken line shows a process for one wafer.

処理されるウエハが、複数枚ある場合には、全てのウエ
ハについて処理工程100が施される。
When there are a plurality of wafers to be processed, the processing step 100 is performed on all the wafers.

処理作業中、n枚目のウエハは、カセツト1より、位置
S1へ搬送され(101)さらに位置S2へ搬送さえる(102)
……ウエハが位置S2にあることは光電検出器10の出力に
よる。
During the processing operation, the nth wafer is positioned from the cassette 1.
Transported to S1 (101) and further transported to position S2 (102)
The fact that the wafer is at position S2 depends on the output of the photoelectric detector 10.

ここで、n枚目のウエハより先行するn−1枚目のウエ
ハが位置S3に存在する場合(119)……光電検出器11の
出力による、n枚目のウエハは、S2の位置で待機する
(103)。すなわち、第1搬送装置B500のベルト回転用
モータが回転停止し、ベルト5は移動停止する。n−1
枚目のウエハが受渡し装置180のアーム18によりウエハ
処理装置(20)に受渡しされ(120)、位置S3にウエハ
がなくなると、n枚目のウエハは、位置S3へ搬送可能と
なり、第1搬送装置B500のベルト回転用モータが回転
し、位置S3へ搬送される(104)。
Here, when the (n-1) th wafer preceding the nth wafer exists at the position S3 (119) ... The nth wafer waits at the position S2 by the output of the photoelectric detector 11. Yes (103). That is, the belt rotation motor of the first conveyor B500 stops rotating, and the belt 5 stops moving. n-1
When the first wafer is transferred (120) to the wafer processing device (20) by the arm 18 of the transfer device 180 and no wafer is left at the position S3, the nth wafer can be transferred to the position S3 and the first transfer is performed. The belt rotating motor of the device B500 rotates and is conveyed to the position S3 (104).

そして、n枚目のウエハは、位置S3で、ウエハ処理装置
(20)へ搬送するための準備(位置合せ)を行なう(10
5)。
Then, the n-th wafer is prepared (positioned) for transfer to the wafer processing apparatus (20) at the position S3 (10).
Five).

尚、処理装置20へ搬送されたn−1枚目のウエハは、処
理装置20への搬送終了と同時に処理が施される(12
1)。
The (n-1) th wafer transferred to the processing apparatus 20 is processed at the same time as the completion of the transfer to the processing apparatus 20 (12
1).

そして、n枚目のウエハが位置S2から位置S3へ搬送され
る(104)と、位置S2へ新たなウエハの搬送が可能とな
り、第1載置装置1Aがウエハ収納部1つ分下降し、ベル
ト4上にn+1枚目のウエハの一部が載置され、第1搬
送装置A400のベルト回転用モータの回転によるベルト4
の移動で、n+1枚目のウエハがカセツト1より位置S2
へ搬送される(125、126)。ここで、n枚目のウエハ
が、位置S2へ搬送された時点(103)で、n+1枚目の
ウエハが、位置S1へ搬送可能になるが、n+1枚目のウ
エハのカセツト1から位置S2へ搬送される(125、126)
時間がn枚目のウエハが位置S3で位置合せを完了する時
間内にある場合は、処理速度に何らの影響を与えない。
Then, when the nth wafer is transferred from the position S2 to the position S3 (104), a new wafer can be transferred to the position S2, and the first mounting device 1A descends by one wafer storage unit, A part of the (n + 1) th wafer is placed on the belt 4, and the belt 4 is rotated by the rotation of the belt rotation motor of the first transfer device A400.
Move the n + 1th wafer from cassette 1 to position S2
Be transported to (125, 126). Here, when the n-th wafer is transferred to the position S2 (103), the n + 1-th wafer can be transferred to the position S1, but from the cassette 1 of the n + 1-th wafer to the position S2. Transported (125,126)
If the time is within the time for completing the alignment of the nth wafer at the position S3, it has no effect on the processing speed.

さらに、本装置の実施例(後述)を考慮すると、後続す
るウエハを位置S1で待機させるのは得策ではない。
Further, considering an embodiment of the present apparatus (described later), it is not a good idea to make the subsequent wafer stand by at the position S1.

処理装置(20)にあるn−1枚目のウエハの処理が終了
すると、n−1枚目のウエハは、位置S3に渡されること
になるが、この時、n枚目のウエハが位置S3の位置で位
置合せ(105)が終了していない場合、n枚目のウエハ
の位置合せが完了するまで、n−1枚目のウエハは、位
置S3へ搬送されない。
When the processing of the (n-1) th wafer in the processing device (20) is completed, the (n-1) th wafer is transferred to the position S3. At this time, the nth wafer is moved to the position S3. If the alignment (105) is not completed at the position of (1), the (n-1) th wafer is not transferred to the position S3 until the alignment of the nth wafer is completed.

つまり、n枚目のウエハの位置合せの完了と、n−1枚
目のウエハの処理装置(20)での処理の終了と、どちら
か遅い方に工程の進行が制限される。本装置の実施例で
は、どちらの工程についても高速化を実現している。
That is, the progress of the process is limited to the later one of the completion of the alignment of the nth wafer and the end of the processing of the n-1th wafer in the processing apparatus (20). In the embodiment of this apparatus, speeding up is realized in both processes.

処理装置(20)にて、処理終了したn−1枚目のウエハ
は、受渡し装置180のアーム18にて位置S3へ受渡しされ
ると同時に、n枚目のウエハは、アーム18によつて処理
装置(20)へ受渡される(107、122)。この時、補助受
渡し装置19の補助アーム19Aは、位置S3上で待機してい
る。n−1枚目のウエハは位置S3で補助アーム(19A)
に渡され、光電検出器12の出力によつて制御装置23はそ
れを判断し次の工程へと進んでいく(123、124)。つま
り、n−1枚目のウエハは、補助アーム(19A)によ
り、位置S4に渡され、制御装置23は光電検出器12の出力
によつてそれを知り、第2搬送装置A600、第2搬送B700
に制御信号を入力し、n−1枚目のウエハはキーボード
部21への指令に基づいてカセツト2、もしくはカセツト
3に収納される。
The n-1th wafer that has been processed by the processing device (20) is transferred to the position S3 by the arm 18 of the transfer device 180, and at the same time, the nth wafer is processed by the arm 18. It is delivered to the device (20) (107, 122). At this time, the auxiliary arm 19A of the auxiliary delivery device 19 is on standby at the position S3. The n-1st wafer is the auxiliary arm (19A) at position S3.
Then, the control device 23 judges it according to the output of the photoelectric detector 12 and proceeds to the next step (123, 124). That is, the (n-1) th wafer is transferred to the position S4 by the auxiliary arm (19A), and the control device 23 knows it by the output of the photoelectric detector 12, and the second transfer device A600, the second transfer device A600. B700
A control signal is input to the wafer and the (n-1) th wafer is stored in the cassette 2 or the cassette 3 based on a command to the keyboard unit 21.

n−1枚目のウエハが位置S4上に渡されると同時にn+
1枚目のウエハは先行するウエハがたどつてきた工程と
同様の工程を進む(128、129、130),(S2→S3→位置
合せ)。そして位置S2へ新たなウエハを搬送することが
可能になるのでn+2枚目のウエハが位置S2へ搬送され
る。(132、133)。
At the same time when the (n-1) th wafer is transferred onto the position S4, n +
The first wafer proceeds through the same steps as those followed by the preceding wafer (128, 129, 130), (S2 → S3 → alignment). Then, since it becomes possible to transfer a new wafer to the position S2, the (n + 2) th wafer is transferred to the position S2. (132, 133).

尚、n枚目のウエハは、処理装置20へ受渡されたと同時
に処理が施される(121)。そして、使用者の指示もし
くは、装置自身の指示によつて処理されているウエハ
が、収納されるべきカセツト(2もしくは3)が指定さ
れた時点で処理は終了する。
The nth wafer is processed at the same time as it is delivered to the processing device 20 (121). Then, at the time when the cassette (2 or 3) to be accommodated is designated for the wafer processed according to the user's instruction or the instruction of the apparatus itself, the processing ends.

n枚目のウエハの処理が終了し、n+1枚目のウエハの
位置合せが終了したら、n枚目のウエハは、アーム18に
より位置S3上に受渡される(109)。同時にn+1枚目
のウエハは処理装置20へ受渡される(131)。
When the processing of the nth wafer is completed and the alignment of the (n + 1) th wafer is completed, the nth wafer is delivered to the position S3 by the arm 18 (109). At the same time, the (n + 1) th wafer is delivered to the processing apparatus 20 (131).

位置S3上へ渡されたn枚目のウエハは、補助アーム19A
により、位置S4へ渡される(110)。そしてn枚目のウ
エハは位置S4からベルト(7、もしくは6)により、カ
セツト(2、もしくは3)へ搬送される。つまり処理装
置(20)で処理されたウエハは位置S3から補助アーム19
Aを用いて、ベルト(6、もしくは7)へ渡されるため
に新しいウエハを搬送するベルト(4、もしくは5)に
何らの影響を与えないことになる。
The nth wafer passed to position S3 is the auxiliary arm 19A.
Is passed to position S4 (110). Then, the nth wafer is transferred from the position S4 to the cassette (2 or 3) by the belt (7 or 6). That is, the wafer processed by the processing device (20) is transferred from the position S3 to the auxiliary arm 19
Using A will have no effect on the belt (4 or 5) carrying the new wafer to be passed to the belt (6 or 7).

搬送経路を抽象化すると第9図の通りである。FIG. 9 shows the abstracted transport route.

装置のスループツトを向上させるには、搬送ベルトと
カセツトが直線上に配置されていること、各部の動き
を極力少なくする等があるが、本実施例によれば、この
目的を満たしている。
In order to improve the throughput of the apparatus, the conveyor belt and the cassette are arranged in a straight line, and the movement of each part is minimized. However, this embodiment satisfies this purpose.

第8図の処理200について説明する。The process 200 of FIG. 8 will be described.

処理を施されるウエハについて、n枚目のウエハが、処
理装置(20)で検査処理され、位置S3で補助アーム(19
A)へ搬送される工程(201〜209)までは、第7図(101
〜109)と同様である。n枚目のウエハは、補助アーム
(19A)へ受渡された後、高さH2のまま、回転およびリ
ニア運動により位置S1へ渡され(210)、位置S1で停止
する。
With respect to the wafer to be processed, the nth wafer is inspected by the processing apparatus (20), and the auxiliary arm (19
Up to the steps (201 to 209) transported to A), the process shown in FIG.
~ 109). After being transferred to the auxiliary arm (19A), the n-th wafer is transferred to position S1 (210) by rotation and linear motion while maintaining the height H2, and stops at position S1.

この時、前出のウエハの流れ(第7図100)の中で述べ
たが、n+2枚目のウエハは、位置S2から、位置S3へ搬
送され、(211)位置S2へn+3枚目のウエハが搬送可
能となる。
At this time, as described in the flow of the wafer (FIG. 100 in FIG. 7), the (n + 2) th wafer is transferred from the position S2 to the position S3, and moves to the (211) position S2 to the n + 3th wafer. Can be transported.

n+3枚目のウエハは、位置S1の高さH2にあるn枚目の
ウエハの下をぬけて、位置S2へ搬送される(212、21
3)。
The (n + 3) th wafer passes under the nth wafer at the height H2 of the position S1 and is transferred to the position S2 (212, 21).
3).

その後、n枚目のウエハは、カセツト1へ搬送される
(211)。
Then, the nth wafer is transferred to the cassette 1 (211).

ここで、n枚目のウエハが、位置S1へ搬送された(21
0)時、n+3枚目のウエハを搬送せずに、先に、n枚
目のウエハをカセツト1へ搬送し(211)その後、n+
3枚目のウエハを搬送させてもかまわない(これは、図
示せず)。但し、この場合、n+3枚目のウエハが位置
S2へ到着する時刻がn+2枚目のウエハが位置合せを完
了する時刻よりも前になつていることが条件となる。
Here, the nth wafer is transferred to position S1 (21
At the time 0), the n + th wafer is not transferred, but the nth wafer is first transferred to the cassette 1 (211), and then the n +
It does not matter if the third wafer is transferred (this is not shown). However, in this case, the (n + 3) th wafer is positioned
The condition is that the time of arrival at S2 is before the time of completion of the alignment of the (n + 2) th wafer.

第9図では、ウエハの処理工程100と200が同時に実現で
きるが、装置の構成により、独立に実現してもかまわな
い。処理前のウエハが収納されていたカセツトに処理
後、ふたたび戻す場合、従来の装置では処理装置への搬
送経路を逆にたどつてカセツトに戻していたため先行の
ウエハがふたたび収納されない限り次のウエハの搬送が
出きなかつた。
In FIG. 9, the wafer processing steps 100 and 200 can be realized at the same time, but they may be realized independently depending on the configuration of the apparatus. When returning to the cassette where the unprocessed wafer was stored after the process, the conventional wafer had to be returned to the cassette by tracing the transfer route to the processing device in reverse, so the next wafer was stored unless the preceding wafer was stored again. I couldn't deliver the product.

本装置では処理装置への搬送経路と、収納のための搬送
経路を別にすることにより従来の装置よりも、処理速度
を早めることができる。これは半導体素子の製造プロセ
スにおける工程処理時間を縮めるためには有効な手段で
ある。
In this apparatus, the processing speed can be made faster than that of the conventional apparatus by separating the transportation path to the processing apparatus and the transportation path for storage. This is an effective means for shortening the process time in the semiconductor element manufacturing process.

前述のウエハ処理工程は、カセツト1からウエハを搬送
する場合についてのものであるが、一度に処理をするウ
エハの枚数が一ケのカセツトに収納しきれない場合があ
る。
The above-mentioned wafer processing step is for transferring a wafer from the cassette 1, but there are cases where the number of wafers to be processed at one time cannot be stored in one cassette.

本装置では、カセツト2ケ分までのウエハを一度に処理
する工夫がほどこされている。
This device has been devised to process up to two wafers at a time.

これについて説明する。This will be described.

第10図は、カセツト1およびカセツト2からウエハを搬
送し処理を行なう場合の搬送路を示している。
FIG. 10 shows a transfer path when a wafer is transferred from the cassette 1 and the cassette 2 for processing.

第10図(a)は、第9図と似ているが、第10図(a)で
は、未処理のウエハがカセツト2に収納されているた
め、カセツト1からウエハを搬送し、カセツト2へ搬送
する工程が存在しない。
10 (a) is similar to FIG. 9, but in FIG. 10 (a), since the unprocessed wafer is stored in the cassette 2, the wafer is transferred from the cassette 1 to the cassette 2. There is no transport process.

従つて処理後のウエハはカセツト1あるいはカセツト3
へ収納される。
Therefore, the processed wafer is either a cassette 1 or a cassette 3.
Is stored in.

第10図(b)は、カセツト2からウエハを搬送する場合
で、カセツト2から搬送されたウエハは、第1図で示さ
れる第5搬送ベルト8によつて第4図の位置S1へ搬送さ
れ、さらに処理装置(20)へ搬送される。
FIG. 10 (b) shows a case where the wafer is transferred from the cassette 2, and the wafer transferred from the cassette 2 is transferred to the position S1 in FIG. 4 by the fifth transfer belt 8 shown in FIG. Further, it is transported to the processing device (20).

この場合、カセツト1には、既に処理されたウエハが収
納されているため、処理装置20から、カセツト1へ搬送
される工程は存在しない。
In this case, since the cassette 1 contains the already processed wafers, there is no step of transferring the wafer from the processing apparatus 20 to the cassette 1.

従つて処理後のウエハはカセツト2あるいはカセツト3
へ収納される。
Therefore, the processed wafer is a cassette 2 or a cassette 3.
Is stored in.

第10図の処理において、カセツト2ケ分以上のウエハを
処理する場合には、カセツト1および2に、新たに未処
理のウエハを設置することにより、処理が可能となる。
In the process shown in FIG. 10, when two or more cassettes worth of wafers are to be processed, new unprocessed wafers can be installed in the cassettes 1 and 2 for processing.

第10図(a)、(b)の搬送を行なう場合のフローチャ
ートを第11図に示す。キーボード部21においてカセツト
1とカセツト2のいずれが選択されているかを判断し
(110)、カセツト1が選択されている場合には第8図
の工程201、202、203、204、205、206、207、208、20
9、210、211と同様の工程を通り、工程211でウエハがカ
セツト1へ収納されると、カセツト1を上昇もしくは下
降させて(111)、次のウエハを搬送する。カセツト2
が選択されていると、位置S5へ搬送し(112)、次いで
位置S1へ搬送し(113)以降は第8図の工程202、203、2
04、205、206、207、208、209と同様の工程を通り、工
程210で位置S4へ受渡され、次いで位置S5へ搬送(21
1)、カセツト2へ収納される(212)。そしてウエハが
カセツト2へ収納されるとカセツト2を上昇もしくは下
降させて213)、次のウエハを搬送する。前述されるウ
エハの処理工程は、全て、本装置の処理装置20でウエハ
が検査処理をうける場合について述べられたものであ
る。
FIG. 11 shows a flowchart for carrying the conveyance shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b). It is judged whether the cassette 1 or the cassette 2 is selected on the keyboard portion 21 (110), and if the cassette 1 is selected, the steps 201, 202, 203, 204, 205, 206 of FIG. 207, 208, 20
When the wafer is stored in the cassette 1 in step 211 through the same steps as those in steps 9, 210 and 211, the cassette 1 is moved up or down (111) to transfer the next wafer. Cassette 2
Is selected, the sheet is conveyed to the position S5 (112), then to the position S1 (113), and the subsequent steps 202, 203, 2 in FIG.
After passing through the same steps as 04, 205, 206, 207, 208 and 209, they are delivered to position S4 in step 210 and then transported to position S5 (21
1) It is stored in the cassette 2 (212). When the wafer is stored in the cassette 2, the cassette 2 is moved up or down 213) to transfer the next wafer. The wafer processing steps described above are all described for the case where the wafer is subjected to the inspection processing in the processing apparatus 20 of the present apparatus.

実際のIC(検査)プロセスでは、ウエハに対して、検査
処理を必要とせずに、カセツトから別のカセツトへ搬送
する工程が存在する。
In an actual IC (inspection) process, there is a step of transferring a wafer from one cassette to another without requiring inspection processing.

本装置は、このような工程を実現する工夫がなされてい
る。第12図(a)、(b)、(c)は、ウエハに対して
処理装置(20)における処理を必要としない搬送工程の
搬送路を示している。未処理のウエハが収納されている
カセツト搬送処理されたウエハが収納されるカセツトの
選択により、(a)、(b)、(c)の3タイプに分け
られる。さらに、搬送するウエハの枚数も制御可能であ
る。
This device is devised to realize such a process. FIGS. 12 (a), (b), and (c) show a transfer path of a transfer process that does not require the processing in the processing apparatus (20) for the wafer. Cassettes in which unprocessed wafers are stored are classified into three types of (a), (b), and (c) depending on the selection of cassettes in which processed wafers are stored. Further, the number of wafers to be transferred can be controlled.

尚、以上の説明ではウエハ搬送に限って述べたが偏平容
器等、偏平物体(ウエハも含む)の搬送に用いることの
できることは当然である。
In the above description, only wafer transfer is described, but it goes without saying that it can be used to transfer flat objects (including wafers) such as flat containers.

尚、実施例では分離した第1搬送ベルト4と第2搬送ベ
ルト5は1つのものとして考えることができ、本明細書
では、第1搬送ベルト4と第2搬送ベルト5を第1搬送
装置(400、500)に含まれるものとして考えており、ま
た第3搬送ベルト7と第4搬送ベルト6についても同様
に第2搬送装置(600、700)に含まれるものとして考え
ている。
In the embodiment, the separated first conveyor belt 4 and second conveyor belt 5 can be considered as one, and in the present specification, the first conveyor belt 4 and the second conveyor belt 5 are referred to as the first conveyor device ( 400, 500), and the third conveyor belt 7 and the fourth conveyor belt 6 are also considered to be contained in the second conveyor device (600, 700).

尚、実施例では2点鎖線で囲んだベルトの組みを1つの
ブロツクとして計3つのウエハ搬送部14、15、16にて構
成することにより組立て調整等を行ない易くしている。
In the embodiment, the belt assembly surrounded by the chain double-dashed line is regarded as one block, and the total of three wafer transfer units 14, 15, 16 are used to facilitate assembly and adjustment.

さらにウエハらの搬送はベルトによらず空気流によつて
行なつても良いことは当然である。
Further, it goes without saying that the wafers may be transferred not by the belt but by the air flow.

(発明の効果) 以上のように本発明によれば、空間を有効に用いること
によりコンパクトになすと共に、第2ウエハ受渡し装置
によつてウエハの流れを逆にすることなく一方向で行な
うことができるから、従来のものに比しスループツトを
低下させることもない偏平物体の自動搬送装置を得るこ
とができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, the space can be effectively used to make it compact, and the second wafer transfer device can perform the wafer flow in one direction without reversing the flow. As a result, it is possible to obtain an automatic conveying apparatus for flat objects, which does not reduce the throughput as compared with the conventional one.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の第1実施例のブロツク図、第2図は第
1図で用いた補助の受渡し装置の平面図、第3図は第2
図のX−X矢視断面図、第4図は補助アームの平面動作
説明図、第5図は補助アームの上下動作説明図、第6図
は電気処理に係るブロツク図、第7図、第8図、第11図
はウエハの搬送に関するフローチャート、第9図、第10
図(a)、(b)、第12図(a)、(b)、(c)はウ
エハの搬送路を概略的に示した図、第13図は従来のウエ
ハ搬送装置の一例を示す図、である。 〔主要部分の符号の説明〕 1A……第1カセツト載置装置 1B……第2カセツト載置装置 1C……第3カセツト載置装置 4……第1搬送ベルト 400……第1搬送装置A 5……第2搬送ベルト 500……第1搬送装置B 6……第4搬送ベルト 600……第2搬送装置A 7……第3搬送ベルト 700……第2搬送装置B 17……位置合せ装置 18……アーム、180……受渡し装置 19……補助の受渡し装置 20……処理装置、23……制御装置 89A……ウエハの押戻し部材 89B……ウエハの押出し部材。
FIG. 1 is a block diagram of the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the auxiliary transfer device used in FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 4, FIG. 4 is an explanatory plan view of the auxiliary arm, FIG. 5 is an explanatory view of vertical movement of the auxiliary arm, and FIG. 8 and 11 are flowcharts relating to wafer transfer, and FIGS. 9 and 10.
Figures (a), (b), Figures 12 (a), (b), and (c) are diagrams schematically showing a wafer transfer path, and Figure 13 is an example of a conventional wafer transfer apparatus. ,. [Explanation of reference numerals of main parts] 1A: first cassette placing device 1B: second cassette placing device 1C: third cassette placing device 4: first conveyor belt 400: first conveying device A 5 ... second conveyor belt 500 ... first conveyor B 6 ... fourth conveyor 600 ... second conveyor A 7 ... third conveyor 700 ... second conveyor B 17 ... alignment Device 18 ... Arm, 180 ... Delivery device 19 ... Auxiliary delivery device 20 ... Processing device, 23 ... Control device 89A ... Wafer pushing member 89B ... Wafer pushing member

フロントページの続き (72)発明者 前川 一浩 神奈川県横浜市戸塚区長尾台町471番地 日本光学工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 平田 菊雄 神奈川県横浜市戸塚区長尾台町471番地 日本光学工業株式会社横浜製作所内Front page continued (72) Inventor Kazuhiro Maekawa 471 Nagaodai-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Nippon Optical Industry Co., Ltd.Yokohama Works (72) Inventor Kikuo Hirata 471 Nagaodai-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Nihon Kogaku Industrial Co., Ltd. Yokohama Works

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1カセツト載置装置と、 偏平物体の平面内での位置合せを行なう位置合せ装置
と、 前記第1カセツト載置装置と前記位置合せ装置との間に
直線的に配設され、偏平物体の搬送を行なう第1搬送装
置と、 前記第1カセツト載置装置に対し前記第1搬送装置の搬
送方向に直交する方向へ並設された第2カセツト載置装
置と、 前記第2カセツト載置装置に対峙するように前記位置合
せ装置に並設された第3カセツト載置装置と、 前記第2カセツト載置装置と前記第3カセツト載置装置
との間に直線的に配設され、偏平物体の搬送を行なう第
2搬送装置と、 偏平物体を処理するための処理装置と、 前記位置合せ装置と前記処理装置との間で偏平物体の受
渡しを行なう第1受渡し装置と、 前記位置合せ装置と前記第2搬送装置との間で偏平物体
の受渡しを行なう第2受渡し装置と、 前記第1カセツト載置装置、前記第2カセツト載置装
置、前記第3カセツト載置装置、前記第1搬送装置、前
記第2搬送装置、前記位置合せ装置、前記第1受渡し装
置及び前記第2受渡し装置の駆動制御を行なう制御装置
と、 を有することを特徴とする偏平物体の自動搬送装置。
1. A first cassette placing device, an aligning device for aligning a flat object in a plane, and a linear arrangement between the first cassette placing device and the aligning device. A first transporting device for transporting the flat object, a second cassette loading device juxtaposed in a direction orthogonal to the transport direction of the first transporting device with respect to the first cassette loading device, A third cassette placing device arranged in parallel with the alignment device so as to face the two cassette placing device and a linear arrangement between the second cassette placing device and the third cassette placing device. A second transfer device that is provided to transfer the flat object; a processing device that processes the flat object; a first transfer device that transfers the flat object between the alignment device and the processing device; Of the alignment device and the second transfer device. A second delivery device for delivering a flat object by means of the first cassette mounting device, the second cassette mounting device, the third cassette mounting device, the first transport device, the second transport device, and the second transport device. An automatic conveying device for a flat object, comprising: a positioning device; a control device for controlling the drive of the first delivery device and the second delivery device.
JP26895785A 1985-11-28 1985-11-28 Automatic transport device for flat objects Expired - Lifetime JPH071783B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26895785A JPH071783B2 (en) 1985-11-28 1985-11-28 Automatic transport device for flat objects

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26895785A JPH071783B2 (en) 1985-11-28 1985-11-28 Automatic transport device for flat objects

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62128144A JPS62128144A (en) 1987-06-10
JPH071783B2 true JPH071783B2 (en) 1995-01-11

Family

ID=17465646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26895785A Expired - Lifetime JPH071783B2 (en) 1985-11-28 1985-11-28 Automatic transport device for flat objects

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH071783B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2885133B2 (en) * 1995-06-12 1999-04-19 トヨタ自動車株式会社 Internal combustion engine piston

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62128144A (en) 1987-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003506289A (en) Conveyor with integrated carrier and director
JPH0465148A (en) Automatic handling device and multiple gripping mechanism
US4749330A (en) Transport mechanism
US6357996B2 (en) Edge gripping specimen prealigner
US11264263B2 (en) Conveyor inspection system, substrate rotator, and test system having the same
US12131930B2 (en) Inspection system
JP2673239B2 (en) Processing equipment
EP0821227B1 (en) Glass container inspection machine
JPH071783B2 (en) Automatic transport device for flat objects
JP2584531B2 (en) Test tube sorting and transport equipment
US3760929A (en) Lid inspection means
JPH0669062B2 (en) High-speed automatic carrier for flat objects
JPH0669061B2 (en) Multi-purpose automatic carrier for flat objects
JPH0986655A (en) Sample conveyer
JPH07285611A (en) Stocker device
JP2666306B2 (en) Wafer inspection equipment
JPS61179549A (en) Microscope device for wafer inspection
JPH01305404A (en) Positioning device for object to be carried
JP3396208B2 (en) Worm type transfer device
JPH0236666Y2 (en)
JPH06227646A (en) Inspected object transport mechanism of external appearance inspecting device
JP2581085B2 (en) Wafer alignment device
JP2759155B2 (en) Coating device
JP2743048B2 (en) Wafer cassette rotation width moving device
JPS61183614A (en) Wafer inspecting microscope device

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term