JPH0735351B2 - アリ−ル水酸化物の製法 - Google Patents
アリ−ル水酸化物の製法Info
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- -1 aryl hydroxide Chemical compound 0.000 title description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- VEFXTGTZJOWDOF-UHFFFAOYSA-N benzene;hydrate Chemical compound O.C1=CC=CC=C1 VEFXTGTZJOWDOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 claims description 3
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229960003742 phenol Drugs 0.000 description 11
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 6
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 4
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 4
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 4
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBOLNFYSRZVALD-UHFFFAOYSA-N 1,2-diiodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1I BBOLNFYSRZVALD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLPXNBYWDDYJTN-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2,3-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=CC(Br)=C1C WLPXNBYWDDYJTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Br QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVLHGZIXTRYOKT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2,3-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=CC(Cl)=C1C NVLHGZIXTRYOKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DANMWBNOPFBJSZ-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-2,3-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=CC(I)=C1C DANMWBNOPFBJSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RINOYHWVBUKAQE-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1I RINOYHWVBUKAQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMJBXEZHJUYJQY-UHFFFAOYSA-N 4-(aminomethyl)octane-1,8-diamine Chemical compound NCCCCC(CN)CCCN HMJBXEZHJUYJQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910001464 rare earth metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、各種ポリマー原料として有用なフエノール類
の製造法に関するものである。
の製造法に関するものである。
(従来の技術) アリールハロゲン化物を水の存在下、気相において加水
分解してアリール水酸化物に転化する方法は、古くから
フエノール合成におけるラシヒ法の後段反応として知ら
れている。
分解してアリール水酸化物に転化する方法は、古くから
フエノール合成におけるラシヒ法の後段反応として知ら
れている。
このアリールハロゲン化物の加水分解の触媒としては、
銅を含むリン酸カルシウムアパタイト(USP3,148,222
号、USP2,988,573号)、銅を含むリン酸ジルコニウム
(特公昭51-6108号)、希土類金属リン酸塩及びその銅
を含んだ物(特開昭47-27936号)等が知られている。
銅を含むリン酸カルシウムアパタイト(USP3,148,222
号、USP2,988,573号)、銅を含むリン酸ジルコニウム
(特公昭51-6108号)、希土類金属リン酸塩及びその銅
を含んだ物(特開昭47-27936号)等が知られている。
(発明が解決しようとする問題点) これまでの触媒は、活性が低いため、高転化率を得るた
めには、500℃以上の高温で反応させるか、又は非常に
低いSVで反応させる必要があつた。
めには、500℃以上の高温で反応させるか、又は非常に
低いSVで反応させる必要があつた。
(問題を解決するための手段) 本発明者らは、高活性な触媒を開発すべく鋭意検討した
結果、周期律表上のIB族及び又はVIII族の金属を含有す
る無水の状態で下記の組成を有する結晶性クロモシリケ
ートが高活性である事を見い出し、本発明を完成するに
至つた。
結果、周期律表上のIB族及び又はVIII族の金属を含有す
る無水の状態で下記の組成を有する結晶性クロモシリケ
ートが高活性である事を見い出し、本発明を完成するに
至つた。
すなわち、本発明は、アリールハロゲン化物を水の存在
下、気相において加水分解してアリール水酸化物に転化
する際に、触媒として周期律表のIB族及び又はVIII族の
金属を含有する無水の状態で下記の組成を有する結晶性
クロモシリケートを用いる事を特徴とするアリール水酸
化物の製法に関するものである。
下、気相において加水分解してアリール水酸化物に転化
する際に、触媒として周期律表のIB族及び又はVIII族の
金属を含有する無水の状態で下記の組成を有する結晶性
クロモシリケートを用いる事を特徴とするアリール水酸
化物の製法に関するものである。
本発明に用いられる結晶性クロモシリケートとは、一般
にゼオライトと呼ばれる結晶性アルミノシリケートと同
様な剛性の三次元構造を有する無機結晶体である。この
結晶性クロモシリケートはSiO4とCrO4又はAlO4が酸素原
子を介して交さ結合しており、このクロム原子とアルミ
ニウム原子とケイ素原子の和と酸素原子との比は1:2で
あり、またクロム又はアルミニウムを含有する四面体の
電子価は結晶内に種々のカチオンを含有することによつ
て平衡が保たれている。
にゼオライトと呼ばれる結晶性アルミノシリケートと同
様な剛性の三次元構造を有する無機結晶体である。この
結晶性クロモシリケートはSiO4とCrO4又はAlO4が酸素原
子を介して交さ結合しており、このクロム原子とアルミ
ニウム原子とケイ素原子の和と酸素原子との比は1:2で
あり、またクロム又はアルミニウムを含有する四面体の
電子価は結晶内に種々のカチオンを含有することによつ
て平衡が保たれている。
本発明に用いられる結晶性クロモシリケートは無水の状
態で以下の組成式で表わされる。
態で以下の組成式で表わされる。
M2/nO・xSiO2・yAl2O3・zCr2O3 (ただし、Mはn価の少なくとも一種のカチオンを示
し、y+z=1,y≧0,z>0,xは10〜1000である。) ここで示されるxは、10〜1000であるが好ましいのは20
〜500、さらに好ましいのは30〜200の範囲である。
し、y+z=1,y≧0,z>0,xは10〜1000である。) ここで示されるxは、10〜1000であるが好ましいのは20
〜500、さらに好ましいのは30〜200の範囲である。
本発明に用いられる結晶性クロモシリケートはクロム原
子を必ず含むが、その量は、好ましくは式中のzの値で
0.2〜1.0、さらに好ましくは、0.3〜1.0の範囲である。
子を必ず含むが、その量は、好ましくは式中のzの値で
0.2〜1.0、さらに好ましくは、0.3〜1.0の範囲である。
この様な結晶性クロモシリケートとしては、ゼオライト
ZSM-5類似のクロモシリケート(特開昭57-169434号)、
結晶性クロモシリケートAZ-3(特開昭60-226411号)等
が挙げられる。
ZSM-5類似のクロモシリケート(特開昭57-169434号)、
結晶性クロモシリケートAZ-3(特開昭60-226411号)等
が挙げられる。
本発明に用いられる結晶性クロモシリケートは周期律表
上のIB族及び又はVIII族の金属を含有する必要がある。
周期律表上のIB族とは、銅、銀、金であり、VIII族と
は、ニツケル、パラジウム、白金、コバルト、ロジウ
ム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウムである
が、これらの中で好ましいのは、銅、ニツケル、コバル
ト、パラジウムであり、特に好ましいのは銅である。
上のIB族及び又はVIII族の金属を含有する必要がある。
周期律表上のIB族とは、銅、銀、金であり、VIII族と
は、ニツケル、パラジウム、白金、コバルト、ロジウ
ム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウムである
が、これらの中で好ましいのは、銅、ニツケル、コバル
ト、パラジウムであり、特に好ましいのは銅である。
結晶性クロモシリケート中に含まれるこれらの金属の状
態は、カチオン、酸化物、ハロゲン化物等の塩、還元金
属いずれの状態でも構わないが、好ましいのは、カチオ
ンの状態である。
態は、カチオン、酸化物、ハロゲン化物等の塩、還元金
属いずれの状態でも構わないが、好ましいのは、カチオ
ンの状態である。
これらの金属の含有量は特に制限はないが、あまり少な
いと活性が低く、多すぎると選択性が低くなるので、通
常は結晶性クロモシリケートに対して、0.005〜50wt
%、好ましくは0.01〜20wt%、さらに好ましくは0.1〜1
0wt%の範囲である。
いと活性が低く、多すぎると選択性が低くなるので、通
常は結晶性クロモシリケートに対して、0.005〜50wt
%、好ましくは0.01〜20wt%、さらに好ましくは0.1〜1
0wt%の範囲である。
結晶性クロモシリケートに、これらの金属を含有させる
方法としては、通常のイオン交換法、含浸法等が用いら
れる。
方法としては、通常のイオン交換法、含浸法等が用いら
れる。
本発明におけるアリールハロゲン化物とは、例えば、ク
ロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン、ジク
ロルベンゼン、ジブロムベンゼン、ジヨードベンゼン、
クロルトルエン、ブロムトルエン、ヨードトルエン、ク
ロルキシレン、ブロムキシレン、ヨードキシレン等が挙
げられる。
ロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン、ジク
ロルベンゼン、ジブロムベンゼン、ジヨードベンゼン、
クロルトルエン、ブロムトルエン、ヨードトルエン、ク
ロルキシレン、ブロムキシレン、ヨードキシレン等が挙
げられる。
本発明における水とアリールハロゲン化物の比は、通
常、水/アリールハロゲン化物モル比で0.5〜100、好ま
しくは、1〜50、さらに好ましくは2〜20の範囲であ
る。
常、水/アリールハロゲン化物モル比で0.5〜100、好ま
しくは、1〜50、さらに好ましくは2〜20の範囲であ
る。
本発明におけるアリール水酸化物とは、原料がモノハロ
ゲン化ベンゼンの場合は、対応するヒドロキシベンゼン
であり、原料がジハロゲン化物の場合は、モノヒドロキ
シベンゼン及び又は、ジヒドロキシベンゼンである。
ゲン化ベンゼンの場合は、対応するヒドロキシベンゼン
であり、原料がジハロゲン化物の場合は、モノヒドロキ
シベンゼン及び又は、ジヒドロキシベンゼンである。
本発明における反応温度は、通常250〜600℃、好ましく
は300〜550℃、さらに好ましくは350〜500℃の範囲であ
る。
は300〜550℃、さらに好ましくは350〜500℃の範囲であ
る。
本発明における圧力は、減圧、常圧、加圧いずれでも良
い。
い。
(発明の効果) 本発明における触媒は、従来の触媒に比べて活性が高
い。この事は、工業的に行う上で非常に有利となる。
い。この事は、工業的に行う上で非常に有利となる。
(実施例) 次に本発明を実施例を用いて説明する。
実施例1 Q brandケイ酸塩水溶液(Na2O 8.9wt%,SiO2 28.9wt%、H2O
62.2wt%)300gに10wt%テトラプロピルアンモニウムハ
イドロキサイド水溶液200gを加え、さらに水100gにCr(N
O3)3・9H2O23gを溶かした溶液を加えて均質な溶液を得
た。さらに硝酸をかきまぜながら滴下してpHを約11に調
整して均質なゲルを得た。このゲルをテフロン内張りオ
ートクレーブに仕込み、かきまぜながら180℃、24時間
結晶化させた。
62.2wt%)300gに10wt%テトラプロピルアンモニウムハ
イドロキサイド水溶液200gを加え、さらに水100gにCr(N
O3)3・9H2O23gを溶かした溶液を加えて均質な溶液を得
た。さらに硝酸をかきまぜながら滴下してpHを約11に調
整して均質なゲルを得た。このゲルをテフロン内張りオ
ートクレーブに仕込み、かきまぜながら180℃、24時間
結晶化させた。
得られた生成物を濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥、500
℃で6時間空気中で焼成した。この生成物は、X線回折
分析より、ゼオライトZSM5類似の結晶性クロモシリケー
トである事が分つた。又、1Nの硝酸でイオン交換した
後、乾燥した状態で、ケイ光X線分析より求めたこの結
晶性シリケートの無水の状態での組成式は H2O・50SiO2・0.05Al2O3・0.95Cr2O3であつた。
℃で6時間空気中で焼成した。この生成物は、X線回折
分析より、ゼオライトZSM5類似の結晶性クロモシリケー
トである事が分つた。又、1Nの硝酸でイオン交換した
後、乾燥した状態で、ケイ光X線分析より求めたこの結
晶性シリケートの無水の状態での組成式は H2O・50SiO2・0.05Al2O3・0.95Cr2O3であつた。
得られた結晶性クロモシリケートを20wt% CuCl2・2H2O水
溶液中で一日室温でイオン交換を行い、濾過、洗浄後、
120℃で4時間乾燥、400℃で5時間焼成した。この触媒
のCu含有率をケイ光X線を用いて測定した結果、もとの
結晶性クロモシリケートに対して、0.51wt%であつた。
溶液中で一日室温でイオン交換を行い、濾過、洗浄後、
120℃で4時間乾燥、400℃で5時間焼成した。この触媒
のCu含有率をケイ光X線を用いて測定した結果、もとの
結晶性クロモシリケートに対して、0.51wt%であつた。
この触媒を用いてクロルベンゼンの加水分解反応を行つ
た。
た。
反応条件は、水/クロルベンゼンモル比=2.6WHSV(ク
ロルベンゼン基準)=3.0hr-1、反応温度=450℃、常圧
で行つた。
ロルベンゼン基準)=3.0hr-1、反応温度=450℃、常圧
で行つた。
反応開始後、1〜2時間の成績を表1に示す。
実施例2 実施例1で得られた触媒を用いて、下記の条件でクロル
ベンゼンの加水分解反応を行つた。
ベンゼンの加水分解反応を行つた。
水/クロルベンゼンモル比=6、WHSV(クロルベンゼン
基準)=0.5hr-1、反応温度=400℃、常圧。
基準)=0.5hr-1、反応温度=400℃、常圧。
反応開始後、1〜2時間の結果は、クロルベンゼン転化
率=30.0%、フエノール選択率=95.5%、ベンゼン選択
率=4.5%であつた。
率=30.0%、フエノール選択率=95.5%、ベンゼン選択
率=4.5%であつた。
実施例3 実施例1で得られた触媒を用いて、下記の条件でブロム
ベンゼンの加水分解反応を行つた。
ベンゼンの加水分解反応を行つた。
反応条件は、水/ブロムベンゼンモル比=4.0WHSV(ブ
ロムベンゼン基準)=1.0hr-1、反応温度=450℃、常圧
で行つた。
ロムベンゼン基準)=1.0hr-1、反応温度=450℃、常圧
で行つた。
反応開始後、1〜2時間の結果は、ブロムベンゼン転化
率=13.0%、フエノール選択率=90.0%、ベンゼン選択
率=5.0%であつた。
率=13.0%、フエノール選択率=90.0%、ベンゼン選択
率=5.0%であつた。
実施例4 実施例1で得られた結晶性クロモシリケートを周期律表
上のIB族及びVIII族の各種金属でイオン交換した触媒を
用いてクロルベンゼンの加水分解反応を下記の条件で行
つた。
上のIB族及びVIII族の各種金属でイオン交換した触媒を
用いてクロルベンゼンの加水分解反応を下記の条件で行
つた。
水/クロルベンゼンモル比=2.6、WHSV(クロルベンゼ
ン基準)=3.0hr-1、反応温度=450℃、常圧で行つた。
ン基準)=3.0hr-1、反応温度=450℃、常圧で行つた。
反応開始後、1〜2時間の成績を表2に示す。
実施例5 特開昭60-226411号に従つて結晶性クロモシリケートAZ-
3を下記の手順で合成した。
3を下記の手順で合成した。
1,8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン10g、Cr(N
O3)3・9H2O1.1g、水酸化ナトリウム0.5gを水15gにとか
し、さらにシリカゾル(30%SiO2)20gを加えて均質な
溶液を得た。この溶液にかきまぜながら20%硫酸を滴下
してpH約11.5に調整して均質なゲルを得た。さらにこの
ゲルをミキサーに入れ、5000rpmで10分間混合しゲル化
を促進した。このゲルをテフロン製試験管に仕込みステ
ンレス製耐圧容器中で170℃、48時間静置して結晶化を
行つた。
O3)3・9H2O1.1g、水酸化ナトリウム0.5gを水15gにとか
し、さらにシリカゾル(30%SiO2)20gを加えて均質な
溶液を得た。この溶液にかきまぜながら20%硫酸を滴下
してpH約11.5に調整して均質なゲルを得た。さらにこの
ゲルをミキサーに入れ、5000rpmで10分間混合しゲル化
を促進した。このゲルをテフロン製試験管に仕込みステ
ンレス製耐圧容器中で170℃、48時間静置して結晶化を
行つた。
得られた生成物を濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥、550
℃で4時間空気中で焼成した。この生成物は、X線回折
分析よりAZ-3と同定された。又、1N塩酸中でイオン交換
した後、120℃で4時間乾燥して、ケイ光X線分析より
求めた組成は無水の状態で、 H2O・80SiO2・0.02Al2O3・0.98Cr2O3であつた。
℃で4時間空気中で焼成した。この生成物は、X線回折
分析よりAZ-3と同定された。又、1N塩酸中でイオン交換
した後、120℃で4時間乾燥して、ケイ光X線分析より
求めた組成は無水の状態で、 H2O・80SiO2・0.02Al2O3・0.98Cr2O3であつた。
このAZ-3を、10wt% CuCl2・2H2O水溶液に浸漬した後、蒸
発乾固し、さらに450℃で3時間空気中で焼成してCu担
持AZ-3を調製した。この触媒のケイ光X線で測定したCu
含有率は、1.8wt%であつた。
発乾固し、さらに450℃で3時間空気中で焼成してCu担
持AZ-3を調製した。この触媒のケイ光X線で測定したCu
含有率は、1.8wt%であつた。
この触媒を用いて、クロルベンゼンの加水分解反応を下
記の条件で行つた。
記の条件で行つた。
水/クロルベンゼンモル比=3.0、WHSV(クロルベンゼ
ン基準)=0.8hr-1、反応温度=450℃常圧。
ン基準)=0.8hr-1、反応温度=450℃常圧。
反応開始後、1〜2時間の成績は、クロルベンゼン転化
率=35.0%、フエノール選択率=96.5%、ベンゼン選択
率=3.5%であつた。
率=35.0%、フエノール選択率=96.5%、ベンゼン選択
率=3.5%であつた。
実施例6 Q brandケイ酸塩水溶液(Na2O 8.9wt%、SiO2 28.9wt%、H2O
62.2wt%)300gに10wt%テトラプロピルアンモニウムハ
イドロキサイド水溶液200gを加え、さらに水100gに硝酸
アルミニウム(Al(NO3)3・9H2O)3gとCr(NO3)3・9H2O15.0g
を溶かした溶液を加えて均質な溶液を得た。さらに硝酸
をかきまぜながら滴下してpHを約11に調整して均質なゲ
ルを得た。このゲルをテフロン内張りオートクレーブに
仕込み、かきまぜながら180℃、36時間結晶化させた。
62.2wt%)300gに10wt%テトラプロピルアンモニウムハ
イドロキサイド水溶液200gを加え、さらに水100gに硝酸
アルミニウム(Al(NO3)3・9H2O)3gとCr(NO3)3・9H2O15.0g
を溶かした溶液を加えて均質な溶液を得た。さらに硝酸
をかきまぜながら滴下してpHを約11に調整して均質なゲ
ルを得た。このゲルをテフロン内張りオートクレーブに
仕込み、かきまぜながら180℃、36時間結晶化させた。
得られた生成物を濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥、500
℃で6時間空気中で焼成した。この生成物は、X線回折
分析よりゼオライトZSM-5類似の結晶性クロモシリケー
トと同定された。
℃で6時間空気中で焼成した。この生成物は、X線回折
分析よりゼオライトZSM-5類似の結晶性クロモシリケー
トと同定された。
又、これを、1Nの塩酸中でイオン交換して、120℃で乾
燥後、ケイ光X線分析より求めた無水の状態の組成は、 H2O・35SiO2・0.4Al2O3・0.6Cr2O3であつた。
燥後、ケイ光X線分析より求めた無水の状態の組成は、 H2O・35SiO2・0.4Al2O3・0.6Cr2O3であつた。
さらに、この触媒を20wt% CuCl2・2H2O水溶液中で一日イ
オン交換を行い、濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥、400
℃で5時間焼成する操作を2回行つた。この触媒のCu含
有率を、ケイ光X線分析により測定した結果は、0.75wt
%であつた。
オン交換を行い、濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥、400
℃で5時間焼成する操作を2回行つた。この触媒のCu含
有率を、ケイ光X線分析により測定した結果は、0.75wt
%であつた。
この触媒を用いてクロルベンゼンの加水分解反応を下記
の条件で行つた。
の条件で行つた。
水/クロルベンゼンモル比=5.5、WHSV(クロルベンゼ
ン基準)=0.3hr-1、反応温度=400℃常圧。
ン基準)=0.3hr-1、反応温度=400℃常圧。
反応開始後、1〜2時間の成績は、クロルベンゼン転化
率=33.0%、フエノール収率=31.5%、フエノール選択
率=95.5%、ベンゼン選択率=4.5%であつた。
率=33.0%、フエノール収率=31.5%、フエノール選択
率=95.5%、ベンゼン選択率=4.5%であつた。
比較例1 特開昭47-27936号に従い、銅含有LaPO4を調製した。
La(NO3)3・6H2O=28.8gを水200ccに溶かした溶液に、(NH
4)2HPO4=17.6gを水100ccに溶かした溶液を激しく攪拌
しながら加える。その後、アンモニア水でpH6.0に調整
して、濾過、洗浄した後120℃で24時間乾燥、500℃で16
時間空気中で焼成して白色のLaPO4粉末を得た。このLaP
O4=10gを、Cu(NO3)2・3H2Oの0.2wt%水溶液20cc中に浸
漬して、蒸発乾固した後、450℃で5時間空気中で焼成
した。このCu含有LaPO4中のCu含有率は0.05wt%であつ
た。
4)2HPO4=17.6gを水100ccに溶かした溶液を激しく攪拌
しながら加える。その後、アンモニア水でpH6.0に調整
して、濾過、洗浄した後120℃で24時間乾燥、500℃で16
時間空気中で焼成して白色のLaPO4粉末を得た。このLaP
O4=10gを、Cu(NO3)2・3H2Oの0.2wt%水溶液20cc中に浸
漬して、蒸発乾固した後、450℃で5時間空気中で焼成
した。このCu含有LaPO4中のCu含有率は0.05wt%であつ
た。
このCu含有LaPO4を触媒に用いてクロルベンゼンの加水
分解反応を下記の条件で行つた。
分解反応を下記の条件で行つた。
水/クロルベンゼンモル比=2.6、WHSV(クロルベンゼ
ン基準)=0.6hr-1、反応温度=450℃、常圧で行つた。
ン基準)=0.6hr-1、反応温度=450℃、常圧で行つた。
反応開始後、1〜2時間の結果は、クロルベンゼン転化
率=13.0%、フエノール収率=12.5%、フエノール選択
率=96.5%、ベンゼン転化率=3.5%であつた。
率=13.0%、フエノール収率=12.5%、フエノール選択
率=96.5%、ベンゼン転化率=3.5%であつた。
比較例2 特公昭51-6108号に従つて、銅を含むリン酸ジルコニウ
ムを調製した。
ムを調製した。
ZrOCl2・8H2O=24gを水100gに溶かし、さらにCuCl2・2H2O
=0.6gを溶かした。この溶液を、NaOH=8.0gと85%H3PO
4=14.8gを水100gに溶かした溶液に加え、44時間室温で
攪拌を続けた。得られたスラリーを濾過、洗浄した後、
110℃で4時間乾燥、400℃で3時間空気中で焼成を行い
銅含有リン酸ジルコニウムを得た。
=0.6gを溶かした。この溶液を、NaOH=8.0gと85%H3PO
4=14.8gを水100gに溶かした溶液に加え、44時間室温で
攪拌を続けた。得られたスラリーを濾過、洗浄した後、
110℃で4時間乾燥、400℃で3時間空気中で焼成を行い
銅含有リン酸ジルコニウムを得た。
この銅含有リン酸ジルコニウムを触媒に用いて比較例1
と同じ条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行つた。
と同じ条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行つた。
反応開始後、1〜2時間の成績は、クロルベンゼン転化
率=9.2%、フエノール収率=8.9%、フエノール選択率
=97.0%、ベンゼン=3.0%であつた。
率=9.2%、フエノール収率=8.9%、フエノール選択率
=97.0%、ベンゼン=3.0%であつた。
Claims (1)
- 【請求項1】ハロゲン化ベンゼンを水の存在下、気相に
おいて加水分解して水酸化ベンゼンに転化する際に、無
水の状態で下記の組成を有する結晶性クロモシリケート
に、銅及び又は周期律表のVIII族の金属を含有せしめた
触媒を用いることを特徴とする水酸化ベンゼンの製造
法。 M2/nO・xSiO2・yAl2O3・zCr2O3 (但し、Mはn価の少なくとも一種のカチオンを示し、
y+z=1、y≧0、z>0、xは10〜1000である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61082250A JPH0735351B2 (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | アリ−ル水酸化物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61082250A JPH0735351B2 (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | アリ−ル水酸化物の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62240634A JPS62240634A (ja) | 1987-10-21 |
| JPH0735351B2 true JPH0735351B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=13769186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61082250A Expired - Lifetime JPH0735351B2 (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | アリ−ル水酸化物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735351B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07110825B2 (ja) * | 1993-02-03 | 1995-11-29 | 旭化成工業株式会社 | フェノールの製造法 |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP61082250A patent/JPH0735351B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62240634A (ja) | 1987-10-21 |
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