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JPH0752760B2 - Package for semiconductor device - Google Patents
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JPH0752760B2 - Package for semiconductor device - Google Patents

Package for semiconductor device

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JPH0752760B2
JPH0752760B2 JP62203988A JP20398887A JPH0752760B2 JP H0752760 B2 JPH0752760 B2 JP H0752760B2 JP 62203988 A JP62203988 A JP 62203988A JP 20398887 A JP20398887 A JP 20398887A JP H0752760 B2 JPH0752760 B2 JP H0752760B2
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device package
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires

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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 パッケージ内部が、外部から電磁遮蔽されている高周波
用半導体装置用パッケージの構造的改良に関し、 電磁遮蔽を有し、小型の、高周波用半導体装置用パッケ
ージの信頼性を向上し、製造歩留りを向上するように改
良することを目的とし、 側壁の内面に、液状の金属が付着しにくい材料(二酸化
シリコン、窒化シリコン、または、ポリイミド等)の被
膜を形成するように構成される。
The present invention relates to a structural improvement of a high-frequency semiconductor device package in which the inside of the package is electromagnetically shielded from the outside, and the reliability of a small-sized high-frequency semiconductor device package having an electromagnetic shield is described. The inner surface of the side wall with a material (such as silicon dioxide, silicon nitride, or polyimide) that is hard to adhere to for the purpose of improving the properties and improving the manufacturing yield. Is composed of.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、パッケージ内部が、外部から電磁遮蔽されて
いる高周波用半導体装置用パッケージの構造的改良に関
する。
The present invention relates to a structural improvement of a high frequency semiconductor device package in which the inside of the package is electromagnetically shielded from the outside.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体装置は、(イ)外的雰囲気からの保護、(ロ)機
械的な固定、(ハ)外部への電気的引き出し、(ニ)放
熱等の目的をもって、何らかのパッケージに入れて使用
される。
The semiconductor device is used by being put in some package for the purposes of (a) protection from an external atmosphere, (b) mechanical fixation, (c) electrical extraction to the outside, and (d) heat dissipation.

従来技術に係る半導体装置用パッケージには種々なモデ
ルがあるが、本発明に従来技術に係る2例について以下
に略述する。
Although there are various models of semiconductor device packages according to the related art, two examples according to the related art of the present invention will be briefly described below.

第1例 第5図において、方形の金属板よりなるステム1の上の
周辺領域に、中央部(半導体チップ搭載領域)に開口を
有する枠状のセラミック板11が乗せられ、その上に、ス
クリーン印刷法を使用して金属ペースト等の導電材より
なる被膜を印刷して形成したメタライズ層よりなる入出
力リード部4が設けられている。ステム1上の中央領域
には、半導体チップ6が金錫鑞等の金属鑞8で固定さ
れ、ボンディングワイヤ7をもって、前記入出力リード
部4と接続されている。また、ステム1上には、半導体
チップ6を囲う側壁としてセラミック材よりなる方形筒
状体の側壁2が設けられ、側壁2の内壁21には、電磁遮
蔽のためのメタライズ層5が形成されている。セラミッ
ク材よりなる側壁2の上部開口は金属製キャップ(頂
部)3で覆われ、金錫鑞等の金属鑞8でシールされてい
る。
First Example In FIG. 5, a frame-shaped ceramic plate 11 having an opening in a central portion (semiconductor chip mounting region) is placed on a peripheral region on a stem 1 made of a rectangular metal plate, and a screen is placed thereon. An input / output lead section 4 is provided which is made of a metallized layer formed by printing a film made of a conductive material such as a metal paste using a printing method. A semiconductor chip 6 is fixed to a central region on the stem 1 with a metal braze 8 such as gold tin braze, and is connected to the input / output lead portion 4 with a bonding wire 7. Further, a side wall 2 of a rectangular cylindrical body made of a ceramic material is provided as a side wall surrounding the semiconductor chip 6 on the stem 1, and an inner wall 21 of the side wall 2 is provided with a metallized layer 5 for electromagnetic shielding. There is. The upper opening of the side wall 2 made of a ceramic material is covered with a metal cap (top portion) 3 and sealed with a metal braze 8 such as gold tin braze.

第2例 第6図において、パッケージ側壁は電磁遮蔽のため、金
属製の方形筒状体9より構成される。その他の構成は、
メタライズ層5よりなる電磁遮蔽体が不要である他は、
第1例とおゝむね同一である。
Second Example In FIG. 6, the side wall of the package is composed of a rectangular metal tubular body 9 for electromagnetic shielding. Other configurations are
In addition to the fact that the electromagnetic shield made of the metallized layer 5 is unnecessary,
It is almost the same as the first example.

特に、ギガヘルツオーダーで使用される高周波用半導体
装置においては、ノイズ電波から半導体装置を保護する
必要があるため、上記のとおり(上記メタライズ層5に
よりまたは側壁9自体を金属とすることにより)電磁遮
蔽することが望ましい。
In particular, in the case of a high frequency semiconductor device used in the gigahertz order, it is necessary to protect the semiconductor device from noise radio waves. It is desirable to do.

さらに、ギガヘルツオーダーで使用される高周波用半導
体装置においては、特にゲインを大きくする必要があ
り、そのためには、パッケージの誘電体損失を減少する
必要があるため、パッケージを小型にすることが望まし
い。誘電体損失は誘電体の体積に依存するからである。
Further, in a high frequency semiconductor device used in the gigahertz order, it is necessary to particularly increase the gain, and for that purpose, it is necessary to reduce the dielectric loss of the package. Therefore, it is desirable to downsize the package. This is because the dielectric loss depends on the volume of the dielectric.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところで、電磁遮蔽を有する半導体装置用パッケージを
封止するには、側壁2とキャップ(頂部)3とを金錫鑞
等の金属鑞を第5図、第6図に8をもって示すように使
用するが、金属鑞とメタライズ層5または金属体9とは
ぬれ性が良好で付着しやすいので、金属鑞が第7図に81
をもって示すように側壁2、9の内面にそって流下し、
ボンディングワイヤ7を溶断し、または、ボンディング
ワイヤ7を短絡することがあり、信頼性を低下しやす
く、製造歩留りを低下しやすい欠点がある。
By the way, in order to seal a semiconductor device package having an electromagnetic shield, the side wall 2 and the cap (top portion) 3 are made of metal brazing such as gold tin brazing as shown by 8 in FIGS. 5 and 6. Since the metal braze and the metallized layer 5 or the metal body 9 have good wettability and easily adhere to each other, the metal braze is shown in FIG.
As shown by, it flows down along the inner surfaces of the side walls 2 and 9,
The bonding wire 7 may be blown out or the bonding wire 7 may be short-circuited, which has the drawbacks that the reliability is likely to decrease and the manufacturing yield is likely to decrease.

本発明の目的は、この欠点を解消することにあり、電磁
遮蔽を有し、小型の、高周波用半導体装置用パッケージ
の信頼性を向上し、製造歩留りを向上するように改良す
ることにある。
An object of the present invention is to solve this drawback, and to improve the reliability of a small-sized high-frequency semiconductor device package having an electromagnetic shield and improving the manufacturing yield.

〔問題点を解決するための手段〕 上記の目的は、内側に電磁的な遮蔽用のメタライズ部分
を有する側壁(2)と、この側壁(2)と金属鑞(8)
を介して接着された頂部(3)とを有する半導体装置用
パッケージにおいて、側壁(2)のメタライズ部分に、
金属鑞(8)が付着しにくい材料例えば二酸化シリコ
ン、窒化シリコン、または、ポリイミドの皮膜(10)が
形成されている半導体装置用パッケージによって達成さ
れる。
[Means for Solving the Problems] The above object is to provide a side wall (2) having a metallized portion for electromagnetic shielding inside, the side wall (2) and the metal brazing (8).
In a package for a semiconductor device having a top portion (3) adhered via, a metallized portion of a side wall (2) is
This is achieved by a package for a semiconductor device in which a film (10) of a material to which the metal brazing (8) is hard to adhere, for example, silicon dioxide, silicon nitride or polyimide is formed.

〔作用〕[Action]

本発明に係る半導体装置用パッケージにあっては、側壁
2、9の内面に、液状の金属が付着しにくい材料の被膜
10が形成されているので、この被膜10が金属鑞8の流下
を防止し、ボンディングワイヤ7を溶断し、または、ボ
ンディングワイヤ7を短絡することを防止し、電磁遮蔽
を有し、小型の高周波用半導体装置用パッケージの信頼
性を向上し、製造歩留りを向上することができる。
In the semiconductor device package according to the present invention, the inner surface of the side walls 2 and 9 is made of a film of a material to which liquid metal is unlikely to adhere.
Since the coating film 10 is formed, the coating film 10 prevents the metal brazing material 8 from flowing down, prevents the bonding wire 7 from being cut off, or prevents the bonding wire 7 from short-circuiting. It is possible to improve the reliability of the semiconductor device package and improve the manufacturing yield.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照しつゝ、本発明の一実施例に係る半導
体装置用パッケージについて、さらに説明する。
Hereinafter, a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention will be further described with reference to the drawings.

まず、第2図に示すように、方形の金属板よりなるステ
ム1の上の周辺領域に、中央部(半導体チップ搭載領
域)に開口を有する枠状のセラミック板11を乗せ、その
上に、スクリーン印刷法を使用して金属ペースト等の導
電材よりなる被膜を印刷してメタライズ層よりなる入出
力リード部4を形成する。
First, as shown in FIG. 2, a frame-shaped ceramic plate 11 having an opening in the central portion (semiconductor chip mounting region) is placed on the peripheral region on the stem 1 made of a rectangular metal plate, and then, A screen made of a conductive material such as a metal paste is printed by using a screen printing method to form the input / output lead portion 4 made of a metallized layer.

次に、第3図に示すように、セラミック材よりなる方形
筒状体2の内面に電磁遮蔽のため、メタライズ層5を形
成して、上記のステム1上に乗せる。このとき、メタラ
イズ層5の下端と、方形筒状体2の下面との間には空間
を残留させる必要がある。入出力リード部4との絶縁を
確保するためである。
Next, as shown in FIG. 3, a metallized layer 5 is formed on the inner surface of the rectangular cylindrical body 2 made of a ceramic material for electromagnetic shielding and placed on the stem 1. At this time, it is necessary to leave a space between the lower end of the metallized layer 5 and the lower surface of the rectangular tubular body 2. This is to ensure insulation from the input / output lead section 4.

次に、第4図に示すように、メタライズ層5の内面に液
状の金属が付着しにくい材料、例えば、二酸化シリコ
ン、窒化シリコン、または、ポリイミド等の被膜10を形
成する。
Next, as shown in FIG. 4, a coating 10 made of a material to which a liquid metal does not easily adhere, such as silicon dioxide, silicon nitride, or polyimide, is formed on the inner surface of the metallized layer 5.

次に、第1図に示すように、半導体チップ6を金錫鑞等
の金属鑞8で固定し、ボンディングワイヤ7をもって、
前記入出力リード部4と接続する。最後に、上部開口を
金属製キャップ(頂部)3で覆い、金錫鑞等の金属鑞8
でシールする。
Next, as shown in FIG. 1, the semiconductor chip 6 is fixed with a metal braze 8 such as gold-tin braze, and a bonding wire 7 is held.
It is connected to the input / output lead section 4. Finally, the upper opening is covered with a metal cap (top portion) 3, and a metal braze 8 such as gold tin braze is used.
Seal with.

本実施例に係る半導体装置用パッケージのキャップ封止
工程においては、メタライズ層5の内面に形成されてい
る液状の金属が付着しにくい材料、例えば、二酸化シリ
コン、窒化シリコン、または、ポリイミド等の被膜10に
よって金属鑞の流下が防止されるので、ボンディングワ
イヤ7を溶断し、または、ボンディングワイヤ7を短絡
することが有効に防止されている。
In the cap sealing process of the semiconductor device package according to the present embodiment, a material formed on the inner surface of the metallized layer 5 to which a liquid metal is hard to adhere, for example, a film such as silicon dioxide, silicon nitride, or polyimide. Since the metal braze is prevented from flowing down by 10, the cutting of the bonding wire 7 or the short-circuiting of the bonding wire 7 is effectively prevented.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明せるとおり、本発明に係る、少なくとも側壁と
頂部とが外部から電磁的に遮蔽されている高周波用半導
体装置用パッケージにおいては、その側壁の内面に、金
属鑞が付着しにくい材料、例えば、二酸化シリコン、窒
化シリコン、または、ポリイミドの被膜が形成されてい
るため、側壁と頂部とを封止するための金錫鑞等の金属
鑞が、側壁の内面にそって流下することがなく、ボンデ
ィングワイヤを溶断することがなく、また、ボンディン
グワイヤを短絡することもない。
As described above, in the high-frequency semiconductor device package in which at least the side wall and the top are electromagnetically shielded from the outside according to the present invention, the inner surface of the side wall is a material in which the metal brazing is difficult to adhere, for example, Since the coating of silicon dioxide, silicon nitride, or polyimide is formed, the metal brazing such as gold tin brazing for sealing the side wall and the top does not flow down along the inner surface of the side wall, and the bonding wire is It does not melt and does not short-circuit the bonding wire.

したがって、電磁遮蔽を有し、小型の高周波用半導体装
置用パッケージの信頼性を向上し、製造歩留りを向上す
ることができる。
Therefore, it is possible to improve the reliability of a small-sized high-frequency semiconductor device package having an electromagnetic shield and improve the manufacturing yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明の一実施例に係る半導体装置用パッケ
ージの断面図である。 第2〜4図は、本発明の一実施例に係る半導体装置用パ
ッケージの工程図である。 第5、6図は、従来技術に係る半導体装置用パッケージ
の断面図である。 第7図は、従来技術に係る欠点(半導体装置用パッケー
ジにおける金属鑞流下状況)を示す断面図である。 1……ステム(金属)、 11……セラミック板、 2……側壁(セラミック)、 21……側壁の内面、 3……頂部(金属キャップ)、 4……入出力リード部、 5……メタライズ層、 6……半導体チップ、 7……ボンディングワイヤ、 8……金属鑞、 9……側壁(金属)、 10……ぬれ性の低い材料による被膜、 81……流下した金属鑞。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention. 2 to 4 are process diagrams of a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention. 5 and 6 are cross-sectional views of a semiconductor device package according to the related art. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a defect (a metal braze flow-down state in a semiconductor device package) according to the conventional technique. 1 ... Stem (metal), 11 ... Ceramic plate, 2 ... Side wall (ceramic), 21 ... Side wall inner surface, 3 ... Top part (metal cap), 4 ... Input / output lead part, 5 ... Metallization Layer, 6 ... Semiconductor chip, 7 ... Bonding wire, 8 ... Metal brazing, 9 ... Sidewall (metal), 10 ... Coating made of material with low wettability, 81 ... Metal brazing.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】内側に電磁的な遮蔽用のメタライズ部分を
有する側壁(2)と、該側壁(2)と金属鑞(8)を介
して接着された頂部(3)とを有する半導体装置用パッ
ケージにおいて、 前記側壁(2)のメタライズ部分に、前記金属鑞(8)
が付着しにくい材料の皮膜(10)が形成されている ことを特徴とする半導体装置用パッケージ。
1. A semiconductor device having a side wall (2) having a metallized portion for electromagnetic shielding inside and a top portion (3) adhered to the side wall (2) through a metal brazing (8). In the package, the metal brazing (8) is provided on the metallized portion of the side wall (2).
A semiconductor device package, characterized in that a film (10) of a material that does not easily adhere is formed.
【請求項2】前記皮膜(10)の材料は、二酸化シリコ
ン、窒化シリコン、または、ポリイミドである ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装
置用パッケージ。
2. The semiconductor device package according to claim 1, wherein the material of the film (10) is silicon dioxide, silicon nitride, or polyimide.
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