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JPH0758587B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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JPH0758587B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0758587B2
JPH0758587B2 JP61296365A JP29636586A JPH0758587B2 JP H0758587 B2 JPH0758587 B2 JP H0758587B2 JP 61296365 A JP61296365 A JP 61296365A JP 29636586 A JP29636586 A JP 29636586A JP H0758587 B2 JPH0758587 B2 JP H0758587B2
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bit
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ダイナミック型半導体記憶装置に関し、特
に信号読み出し誤りの防止に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device, and more particularly to prevention of signal read error.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図は従来のダイナミック型半導体記憶装置のビット
線対の構造を示す。ビット線対BL,▲▲には複数個
のメモリセル(Cs)及びメモリセルとビット線を接続す
るための、ゲートにワード線信号(WL0,WL1……)を受
けるトランスファゲートTGが接続される。また、各ビッ
ト線にはレファレンスレベル発生のためのダミーセル
(DC0,DC1)及びこれとビット線を接続するダミーワー
ド線(DWL0,DWL1)が接続され、またワード線,ダミー
ワード線が立ち上って、ビット線対に信号電圧差が現わ
れた後に、このビット線電位をセンス増幅するためのセ
ンサアンプ(SA)が接続されている。また、コラムアド
レスに従って選択されたビット線対をデータ入出力線対
(I/O,▲▼)に接続するトランスファゲートQ1,
▲▼があり、このゲートにはコラムデコーダ1出力
が入力される。
FIG. 4 shows the structure of a bit line pair of a conventional dynamic semiconductor memory device. A plurality of memory cells (Cs) and a transfer gate TG for receiving word line signals (WL 0 , WL 1 ...) Are connected to the gates for connecting the memory cells and the bit lines to the bit line pair BL, ▲▲. To be done. In addition, a dummy cell (DC 0 , DC 1 ) for generating a reference level and a dummy word line (DWL 0 , DWL 1 ) connecting the bit line to the bit cell are connected to each bit line, and the word line and the dummy word line are connected. Rise, and after a signal voltage difference appears on the bit line pair, a sensor amplifier (SA) for sense-amplifying the bit line potential is connected. In addition, the transfer gate Q 1 for connecting the bit line pair selected according to the column address to the data input / output line pair (I / O, ▲ ▼),
There is ▲ ▼, and the output of the column decoder 1 is input to this gate.

次に、信号読み出し時に、各ビット線対上に現われる信
号電圧を考える。
Next, consider the signal voltage appearing on each bit line pair during signal reading.

各ビット線は第5図に示すように、各々セルプレートあ
るいは基板を介して接地電圧(固定電位)に対してC1,
対をなすビット線に対してC2,隣接するビット線対のビ
ット線に対してC3なる容量を有するものとする。ビット
線長をl、メモリセル容量をCsとする。
Each bit line is connected to the ground voltage (fixed potential) C 1 ,
It has a capacitance of C 2 for a pair of bit lines and a capacitance of C 3 for a bit line of an adjacent bit line pair. The bit line length is 1, and the memory cell capacity is Cs.

メモリセルには、 “H"レベル:CsVCC(VCC書き込み) “L"レベル:0(0V書き込み) なる電荷が蓄えられているものとする。For memory cells, “H” level: CsV CC (V CC write) “L” level: 0 (0 V write) It is assumed that the electric charge is stored.

ビット線のプリチャージレベルをVCCとすると、例えば
ビット線BL1に接続されるメモリセルが選択され、ビッ
ト線▲▼にダミーセルが接続された場合、ビット
線BL1,▲▼の電位VBL1,V▲▼は、 但し、ΔV▲▼,ΔV▲▼,ΔVBL1,ΔV
BL2は各々、添字で示したビット線の電位変化である。
When the precharge level of the bit line is V CC , for example, when a memory cell connected to the bit line BL 1 is selected and a dummy cell is connected to the bit line ▲ ▼, the potential V BL1 of the bit line BL 1 , ▲ ▼ , V ▲ ▼ is However, ΔV ▲ ▼, ΔV ▲ ▼, ΔV BL1 , ΔV
BL2 is the potential change of the bit line indicated by the subscript.

式(1)〜(3)より、ビット線BL1,▲▼は共に
プリチャージレベルが等しいことを考え、式(1)−
(2),(1)−(3)の演算より、ビット線対間の電
圧差は次のようになる。
From the expressions (1) to (3), it is considered that the bit lines BL 1 and ▲ ▼ have the same precharge level.
From the operations (2) and (1)-(3), the voltage difference between the bit line pair is as follows.

“+”は“H"読みだし時、“−”は“L"読み出し時 (4)式の右辺第1項は本来の読み出し電圧差、第2項
は隣接するビット線対のビット線▲▼,BL2からの
結合容量を介したノイズ成分である。
"+" Is for reading "H", "-" is for reading "L". Right side of equation (4), the first term is the original read voltage difference, and the second term is the bit line of the adjacent bit line pair. , BL 2 is the noise component via the coupling capacitance.

ところでメモリの高集積化が進んで、ビット線ピッチが
減少してくると、ビット線対間容量C3が増大し、(4)
式の第2項が大きくなってくる。従ってこれにより、読
み出し電圧を著しく損ない、読み出し余裕が低下すると
ともに、ソフトエラー率が悪化し、ついには誤動作に至
るという問題を生ずる。
By the way, as the high integration of memory progresses and the bit line pitch decreases, the capacitance C 3 between the bit line pair increases, and (4)
The second term in the equation becomes larger. Therefore, this causes a problem that the read voltage is remarkably impaired, the read margin is reduced, the soft error rate is deteriorated, and a malfunction finally occurs.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

従来のダイナミック型半導体記録装置は以上のように構
成されているので、高集積化が進み、隣接ビット線間容
量が増大するにつれて、隣接ビット線対間での容量結合
雑音により読み出し電圧差が減少し、ソフトエラー率の
悪化,読み出し余裕の低下等を招き、ついには誤動作に
至るという問題点があった。
Since the conventional dynamic semiconductor recording device is configured as described above, as the degree of integration increases and the capacitance between adjacent bit lines increases, the read voltage difference decreases due to capacitive coupling noise between adjacent bit line pairs. However, there is a problem that the soft error rate is deteriorated, the read margin is reduced, and the like, which eventually causes a malfunction.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ビット線間容量による隣接ビット線対間での
雑音による読み出し電圧振幅の低下を完全に零にするこ
とができる半導体記憶装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and a semiconductor memory device capable of completely reducing the decrease in read voltage amplitude due to noise between adjacent bit line pairs due to the capacitance between bit lines to zero. Aim to get.

〔問題点を解決するための手段〕 この発明に係る半導体記憶装置は、各ビット線対が各対
をなすビット線の各々と隣接するビット線対との間のビ
ット線間容量がすべて等しくなるよう、かつビット線対
を構成する各ビット線のビット線全体の浮遊容量が相互
に等しくなるように、該ビット線の複数箇所で該ビット
線対を構成するビット線を交差させた交差部分をもつ構
成としたものである。
[Means for Solving the Problems] In the semiconductor memory device according to the present invention, the bit line capacitances between the bit lines forming each pair and the bit line pairs adjacent to each other are all equal. In addition, in order to make the stray capacitances of the entire bit lines of each bit line forming the bit line pair equal to each other, the intersections of the bit lines forming the bit line pair at a plurality of points of the bit line are crossed. It has a structure.

〔作用〕[Action]

この発明においては、各ビット線対に適当な交差をもた
せ、対をなすビット線の各々が隣接ビット線対から受け
る容量結合雑音を全く等しくし、かつビット線対を構成
する各ビット線のビット線全体の浮遊容量を相互に等し
くしたから、読み出し電圧差の低下をなくすることがで
き、また、ビット線対を構成するビット線の浮遊容量が
バランスした状態となることで、センスアンプの感度を
向上できる。
According to the present invention, each bit line pair has an appropriate crossing so that the bit line pair makes the capacitive coupling noise received from the adjacent bit line pair completely equal, and the bit line pair bit bit Since the stray capacitances of the entire lines are made equal to each other, it is possible to eliminate the drop in the read voltage difference, and the stray capacitances of the bit lines that make up the bit line pair are balanced, so that the sensitivity of the sense amplifier is improved. Can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例による半導体記憶装置を第1
図に従って説明する。
Hereinafter, a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention will be first described.
It will be described with reference to the drawing.

本実施例においては、図に示すように、各ビット線対
(BL0,▲▼,BL1,▲▼,……)は、4等分
の区分a,b,c,dに分かれ、これらの等分点CP1,CP2,CP
3で、以下のように交差している。
In the present embodiment, as shown in the figure, each bit line pair (BL 0 , ▲ ▼, BL 1 , ▲ ▼, ...) Is divided into four equal sections a, b, c, d. Equidistant points of CP 1 , CP 2 , CP
At 3 , they intersect as follows.

BL0,▲▼は、CP2で交差、 BL1,▲▼は、CP1及びCP3で交差、 ′BL2,▲▼は、CP2で交差、 ′BL3,▲▼は、CP1及びCP3で交差、 即ち、ビット線BL0,▲▼から数えて、奇数番目の
ビット数対はCP2で交差し、偶数番目のビット線対はCP1
及びCP3で交差している。これにより、各ビット線対が
隣接するビット線対から受ける容量結合ノイズは、前述
の従来例と同様に考えると、以下のようになる。
BL 0 , ▲ ▼ intersects at CP 2 , BL 1 , ▲ ▼ intersects at CP 1 and CP 3 , ′ BL 2 , ▲ ▼ intersects at CP 2 , ′ BL 3 , ▲ ▼ represents CP 1 , And CP 3 , that is, the odd-numbered bit number pairs cross at CP 2 and the even-numbered bit line pairs at CP 1 counting from bit line BL 0 , ▲ ▼.
And cross at CP 3 . As a result, the capacitive coupling noise received by each bit line pair from the adjacent bit line pair is as follows when considered in the same manner as the above-mentioned conventional example.

ビット線BL1および▲▼が隣接ビット線対か
ら受ける容量結合ノイズΔVBL1′,ΔV▲▼′
は、 であり、両者は全く等しい。
Capacitive coupling noise ΔV BL1 ′, ΔV ▲ ▼ ′ that bit lines BL 1 and ▲ ▼ receive from an adjacent bit line pair.
Is And both are exactly the same.

ビット線BL2および▲▼が、隣接ビット線対
から受ける容量結合ノイズΔVBL2′,V▲▼′は、 であり、両者は全く等しい。
The bit line BL 2 and ▲ ▼ receive capacitive coupling noise ΔV BL2 ′, V ▲ ▼ ′ from the adjacent bit line pair, And both are exactly the same.

以下、同様に、全ビット線対について、それぞれ対をな
すビット線が、隣接ビット線対から受ける容量結合ノイ
ズは全く等しいものとなる。なお、メモリアレイ端のビ
ット線対BL0,▲▼についても、 となり、両者は全く等しい。
Similarly, for all bit line pairs, the bit lines forming each pair receive the same capacitive coupling noise from the adjacent bit line pairs. For the bit line pair BL 0 , ▲ ▼ at the end of the memory array, And both are exactly the same.

このように、本実施例では、対をなすビット線の各々が
信号読み出し時に隣接するビート線対から受ける容量結
合ノイズが、全く等しくなっているので、このノイズに
よる読み出し電圧差の低下を全くなくすることができ、
読み出しマージンの拡大,ソフトエラー率の向上を達成
できる。
As described above, in the present embodiment, since the capacitive coupling noise received by the pair of adjacent beat lines at the time of signal reading is equal to each of the paired bit lines, there is no reduction in the read voltage difference due to this noise. You can
It is possible to increase the read margin and improve the soft error rate.

第2図は本発明の第2の実施例を示す。本実施例が第1
図の実施例と異なるのは、奇数番目のビット線対(BL0,
▲▼,BL2,▲▼……)に、更に、ビット線
端CP4で交差が追加されていることである。本発明で設
ける交差CP1,CP2,CP3はいずれも、これらをビット線対
について、完全な対称形でレイアウトすることは不可能
である。第1図の実施例の場合、偶数番目のビット線対
(BL1,▲▲,BL3,▲▼……)について
は、各々、交差が2ケ所あるので、ビット線対全体につ
いては、バランスしたレイアウトが可能である。例え
ば、ビット線をAl層、これと交差可能な配線層をポリSi
層とすると、 CP1では、BL1をAl,▲▼をポリSi,CP3では、BL1
ポリSi,▲▼をAlとすればよく、これにより、ビ
ット線対の浮遊容量のアンバランスを避けることができ
る。第2図の実施例は、これと同様の趣旨で、奇数番目
のビット線対についてもバランスするように、ダミーの
交差CP4を追加したものであり、これにより、全ビット
線対について容量がバランスした状態を実現できるもの
である。
FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention. This embodiment is the first
The difference from the illustrated embodiment is that the odd-numbered bit line pairs (BL 0 ,
▲ ▼, BL 2 , ▲ ▼ ……), and a crossing is added at the bit line end CP 4 . It is impossible to lay out the cross points CP 1 , CP 2 , CP 3 provided in the present invention in a completely symmetrical shape with respect to the bit line pair. In the case of the embodiment shown in FIG. 1 , since there are two intersections in each of the even-numbered bit line pairs (BL 1 , ▲ 1 ▲, BL 3 , ▲ ▼ ...), the bit line pairs as a whole are A balanced layout is possible. For example, the bit line is an Al layer and the wiring layer that can intersect with it is poly-Si.
As for the layer, in CP 1 , BL 1 is Al, ▲ ▼ is poly-Si, and in CP 3 , BL 1 is poly-Si, ▲ ▼ is Al, which makes the stray capacitance of the bit line pair unbalanced. Can be avoided. In the embodiment of FIG. 2, for the same purpose, a dummy crossing CP 4 is added so as to balance even the odd-numbered bit line pairs, whereby the capacitance for all the bit line pairs is increased. It is possible to achieve a balanced state.

なお、上記実施例では、ビット線対を4区分に分け、適
当な場所で各々、交差させる場合を示したが、この区分
は、8区分,12区分等その整数倍であっても同様の効果
を奏する。第3図は8区分の場合の実施例を示し、これ
は、第2図の形を、2回繰り返した形であり、第2図の
実施例と同様の効果が得られることは明らかである。
In the above embodiment, the bit line pair is divided into four sections and intersected at appropriate places, but this section has the same effect even if it is an integral multiple of 8 sections, 12 sections, etc. Play. FIG. 3 shows an embodiment in the case of 8 sections, which is a form in which the form of FIG. 2 is repeated twice, and it is clear that the same effect as the embodiment of FIG. 2 can be obtained. .

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明に係る半導体記憶装置によれ
ば、各ビット線対が各対をなすビット線の各々と隣接す
るビット線対との間のビット線間容量がすべて等しくな
るよう、かつビット線対を構成する各ビット線のビット
線全体の浮遊容量が相互に等しくなるように、該ビット
線の複数箇所で該ビット線対を構成するビット線を交差
させた交差部分をもつ構成としたので、読み出し電圧差
の低下を防ぐことができるとともに、ビット線対の浮遊
容量がバランスした状態となることでセンスアンプの感
度が向上し、これにより読み出しマージンの拡大,ソフ
トエラー率の向上等を図ることができるという効果があ
る。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the bit line capacitances of each bit line pair are equal to each other, and the bit line capacitances between adjacent bit line pairs are equal to each other. A structure having crossing portions where the bit lines forming the bit line pair intersect at a plurality of points of the bit line so that the stray capacitances of the entire bit lines forming the bit line pair are equal to each other; As a result, it is possible to prevent the read voltage difference from decreasing, and improve the sensitivity of the sense amplifier by balancing the floating capacitance of the bit line pair, thereby expanding the read margin and improving the soft error rate. There is an effect that can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例による半導体記憶装置を示す
構成図、第2図は本発明の第2の実施例による半導体記
憶装置を示す構成図、第3図は本発明の第3の実施例に
よる半導体記憶装置を示す構成図、第4図は従来の半導
体記憶装置の構成図、第5図は従来の半導体記憶装置の
構成図である。 BL0,▲▼,BL1,▲▼,……ビット線、WL0,W
L1,……ワード線、CS……メモリセル、SA……センスア
ンプ、CP1,CP2,CP3……交差部分、CP4……ビット線端、
a,b,c,d……区分。
FIG. 1 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a third embodiment of the present invention. FIG. 4 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to an embodiment, FIG. 4 is a block diagram of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a block diagram of a conventional semiconductor memory device. BL 0 , ▲ ▼, BL 1 , ▲ ▼ , …… bit line, WL 0 , W
L 1 , ... word line, C S ... memory cell, SA ... sense amplifier, CP 1 , CP 2 , CP 3 ... crossing point, CP 4 ... bit line end,
a, b, c, d ... Classification.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のワード線,複数のビット線、及びこ
れらの交点に位置する複数のメモリセルからなるメモリ
セルアレイを有し、 上記ビット線2本が対になって該ビット線対間の電圧差
を検出する1つのセンスアンプに入力される構成をもつ
半導体記憶装置において、 上記各ビット線対は各対をなすビット線の各々と隣接す
るビット線対との間のビット線間容量がすべて等しくな
るよう、かつビット線対を構成する各ビット線のビット
線全体の浮遊容量が相互に等しくなるように、該ビット
線の複数箇所で該ビット線対を構成するビット線を交差
させた交差部分をもつことを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A memory cell array comprising a plurality of word lines, a plurality of bit lines, and a plurality of memory cells located at intersections thereof, wherein two bit lines are paired to form a pair between the bit line pairs. In a semiconductor memory device having a configuration of inputting to one sense amplifier that detects a voltage difference, each bit line pair has a bit line capacitance between each bit line pair and an adjacent bit line pair. The bit lines forming the bit line pair are crossed at a plurality of positions so that the floating capacitances of all the bit lines forming each bit line pair are equal to each other. A semiconductor memory device having an intersecting portion.
【請求項2】上記各ビット線対は上記交差部分を偶数箇
所もつものであり、該偶数箇所の半数の交差部分におい
ては、該ビット線対を構成する一方のビット線が他方の
ビット線の上側を通過するように交差しており、残りの
半数の交差部分においては、該ビット線対を構成する上
記他方のビット線が上記一方のビット線の上側を通過す
るように交差していることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体記憶装置。
2. Each of the bit line pairs has an even number of intersections, and at half of the even numbered intersections, one bit line forming the bit line pair is the other bit line. Crossing so as to pass through the upper side, and at the remaining half of the crossing portions, the other bit line forming the bit line pair intersects so as to pass over the one bit line. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項3】各ビット線対を長さ方向に4等分したとき
の3つの等分点及びビット線端をCP1,CP2,CP3,CP4とし
た時、上記ビット線対は等分点CP2及びビット線端CP4
交差をもつビット線対と、等分点CP1及びCP3で交差をも
つビット線対とが交互に配置されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項または第2項に記載の半導体記
憶装置。
3. When each bit line pair is divided into four equal parts in the lengthwise direction and three equal dividing points and bit line ends are CP 1 , CP 2 , CP 3 , CP 4 , the bit line pair is A bit line pair having an intersection at an equal point CP 2 and a bit line end CP 4 and a bit line pair having an intersection at an equal point CP 1 and CP 3 are alternately arranged. 3. The semiconductor memory device according to item 1 or 2.
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