JPH0772086B2 - Bi−Sr−Ca−Cu−O系超電導酸化物厚膜の製造方法 - Google Patents
Bi−Sr−Ca−Cu−O系超電導酸化物厚膜の製造方法Info
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- JPH0772086B2 JPH0772086B2 JP63213536A JP21353688A JPH0772086B2 JP H0772086 B2 JPH0772086 B2 JP H0772086B2 JP 63213536 A JP63213536 A JP 63213536A JP 21353688 A JP21353688 A JP 21353688A JP H0772086 B2 JPH0772086 B2 JP H0772086B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は結晶の配向したBi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化
物の厚膜を基板上に製造する方法に関する。
物の厚膜を基板上に製造する方法に関する。
なお、厚膜とは10μm以上の厚みを持った膜である。
[従来の技術] BednorzおよびMullerによりLa-Ba-Cu-O系の高温超電導
酸化物が報告(Phys.B64(1986)189)されてから、TC
(電気抵抗が0となる絶対温度、以下TC)が約90KのY-B
a-Cu-O系の超電導酸化物の報告(Phys.Rew.Lett.58(19
87)908)かなされるにおよんで高温超電導酸化物の開
発競争が熾烈をきわめている。
酸化物が報告(Phys.B64(1986)189)されてから、TC
(電気抵抗が0となる絶対温度、以下TC)が約90KのY-B
a-Cu-O系の超電導酸化物の報告(Phys.Rew.Lett.58(19
87)908)かなされるにおよんで高温超電導酸化物の開
発競争が熾烈をきわめている。
さらにまた、最近になってBi-Sr-Ca-Cu-O系のTC約105K
を有する新高温超電導酸化物が報告(J.Appl.Phys.27
(1988)L209)された。しかしながらこのBi-Sr-Ca-Cu-
O系超電導酸化物にはTCが105Kの酸化物と75Kの酸化物の
2つの相を持っており、この高TC相をいかに多くの晶出
させるかがこのBi-Sr-Ca-Cu-O系の超電導酸化物の課題
である。この課題を解決するために高野等はBi-Sr-Ca-C
u-O系超電導酸化物のBiの1部をPbに置換することによ
り高TC相の比率が急激に増加することを報告(Jpn.J.Ap
pl.Phys.27(1988)L1041)した。
を有する新高温超電導酸化物が報告(J.Appl.Phys.27
(1988)L209)された。しかしながらこのBi-Sr-Ca-Cu-
O系超電導酸化物にはTCが105Kの酸化物と75Kの酸化物の
2つの相を持っており、この高TC相をいかに多くの晶出
させるかがこのBi-Sr-Ca-Cu-O系の超電導酸化物の課題
である。この課題を解決するために高野等はBi-Sr-Ca-C
u-O系超電導酸化物のBiの1部をPbに置換することによ
り高TC相の比率が急激に増加することを報告(Jpn.J.Ap
pl.Phys.27(1988)L1041)した。
一方、上記超電導酸化物は焼結工程で作るバルク材や基
板上に薄膜を形成する方法が盛んに研究されている。バ
ルク材はこの超電導材が酸化物であるため加工性が悪く
所望の形状としにくいこと、気孔を多く含むなどの理由
のためJC(臨界電流密度、以下JC)が低いという問題点
があり、また薄膜についてはTCがバルク材に比較して低
下するという問題があった。これらの観点からTCを低下
させずに実際に流せる電流値の大きさ厚膜を基板上に形
成した製品を開発することが望まれていた。
板上に薄膜を形成する方法が盛んに研究されている。バ
ルク材はこの超電導材が酸化物であるため加工性が悪く
所望の形状としにくいこと、気孔を多く含むなどの理由
のためJC(臨界電流密度、以下JC)が低いという問題点
があり、また薄膜についてはTCがバルク材に比較して低
下するという問題があった。これらの観点からTCを低下
させずに実際に流せる電流値の大きさ厚膜を基板上に形
成した製品を開発することが望まれていた。
薄膜と厚膜とでは用途が異なり、薄膜では、NIS、SISな
どのジョセフソン接合を利用した超電導素子が中心にな
るのに対し厚膜ではマクロな例えばプリント基板のよう
な回路あるいはテープなどの用途が考えられる。
どのジョセフソン接合を利用した超電導素子が中心にな
るのに対し厚膜ではマクロな例えばプリント基板のよう
な回路あるいはテープなどの用途が考えられる。
薄膜を基板上に形成する方法としては、Bi-Sr-Ca-Cu-O
系超電導酸化物のペーストをMgO単結晶(100)面に印刷
し熱処理する方法が報告(Jpn.J.Appl.Phys.27(1988)
L649)されているがTCは80K程度である。
系超電導酸化物のペーストをMgO単結晶(100)面に印刷
し熱処理する方法が報告(Jpn.J.Appl.Phys.27(1988)
L649)されているがTCは80K程度である。
また、Bi-Sr-Ca-Cu-O系の超電導酸化物の急冷によりア
モルファス(非晶質、以下アモルファス)化する性質が
あり、小松等により急冷厚膜を作る方法(Jpn.J.Appl.P
hys.27(1988)L533)が報告されている。しかしながら
この方法は基板上に形成するものでないため、このまま
では実用化は困難であるなどの問題点があった。
モルファス(非晶質、以下アモルファス)化する性質が
あり、小松等により急冷厚膜を作る方法(Jpn.J.Appl.P
hys.27(1988)L533)が報告されている。しかしながら
この方法は基板上に形成するものでないため、このまま
では実用化は困難であるなどの問題点があった。
[発明が解決しようとする課題] 本発明はTCが高く、結晶の配向したBi-Sr-Ca-Cu-O系超
電導酸化物の厚膜の製造方法を提供することを目的とす
る。
電導酸化物の厚膜の製造方法を提供することを目的とす
る。
[課題を解決するための手段] 本発明はBi-Sr-Ca-Cu-O系および必要に応じCdまたはPb
の酸化物をふくむ粉体を仮焼、粉砕、成形した物体を融
解、急冷凝固してアモルファス化した、あるいはアモル
ファスを含む薄片を製造し、該薄片を基板上で800℃〜8
90℃で熱処理することを特徴とする。
の酸化物をふくむ粉体を仮焼、粉砕、成形した物体を融
解、急冷凝固してアモルファス化した、あるいはアモル
ファスを含む薄片を製造し、該薄片を基板上で800℃〜8
90℃で熱処理することを特徴とする。
[作用] 以下、本発明について詳細に説明する。本発明に用いる
超電導酸化物はアモルファス化しやすいBi-Sr-Ca-Cu-O
系超電導酸化物であり、これにCd酸化物を含むものであ
る。Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物は高TC相としてBi2Sr
2Ca2Cu3OY相が、TCの低い相としてBi2Sr2CaCu2OY相、ま
たはBi4Sr3Ca3Cu4OY相があるといわれている。このよう
にBi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物には高TC相、低TC相が
共存しているため原料の配合を高TC相のBi2Sr2Ca2Cu3OY
にあわせて焼成しても、電気抵抗が低下し始めるTC(on
set)が変動し、電気抵抗が0となるTC(end)も105K
よりさらに低温側に移行するとともに、TC(on set)か
らTC(end)までの温度範囲が広がる傾向がある。先に
記載したように、このような問題点を解決するためにBi
の1部をPbに置換した焼結体でTC(on set)125K、T
C(end)107Kの値のものが得られている。
超電導酸化物はアモルファス化しやすいBi-Sr-Ca-Cu-O
系超電導酸化物であり、これにCd酸化物を含むものであ
る。Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物は高TC相としてBi2Sr
2Ca2Cu3OY相が、TCの低い相としてBi2Sr2CaCu2OY相、ま
たはBi4Sr3Ca3Cu4OY相があるといわれている。このよう
にBi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物には高TC相、低TC相が
共存しているため原料の配合を高TC相のBi2Sr2Ca2Cu3OY
にあわせて焼成しても、電気抵抗が低下し始めるTC(on
set)が変動し、電気抵抗が0となるTC(end)も105K
よりさらに低温側に移行するとともに、TC(on set)か
らTC(end)までの温度範囲が広がる傾向がある。先に
記載したように、このような問題点を解決するためにBi
の1部をPbに置換した焼結体でTC(on set)125K、T
C(end)107Kの値のものが得られている。
しかしながら、上記組成を有する超電導酸化物をアモル
ファス化した厚膜をMgO単結晶基板上で熱処理すると第
3図の(b)曲線のようにTCが低下し上記のような高TC
は得られないことが判明した。
ファス化した厚膜をMgO単結晶基板上で熱処理すると第
3図の(b)曲線のようにTCが低下し上記のような高TC
は得られないことが判明した。
発明者等はこのような知見に基づきTCの高いBi-Sr-Ca-C
u-O系超電導酸化物の厚膜を基板上に作る方法を検討し
た。その結果、Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物をまず急
冷凝固によりアモルファス化したまたはアモルファスを
含む薄片を製造し、この薄片を基板上で熱処理する方法
を見出した。すなわち、Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物
を高TC相であるBi2Sr2Ca2Cu3OYになるようにBi2O3,CaCo
3,CuO,SrCO3,PbOおよびCdOの粉体を配合し、よく混合し
てから空気中で800℃で仮焼する。これを粉砕し、CIPに
よりサンプルを成形する。このサンプルを組成が蒸発等
により変動しないようにできるだけ早く融解して急冷凝
固することが望ましい。例えばサンプルはCIPで棒状に
成形し、この棒の先端をキセノンあるいはハロゲンラン
プを用いたアークイメージ炉で急速融解し、滴下した融
液を回転する双ローラーあるいは片ローラーで急冷凝固
する。
u-O系超電導酸化物の厚膜を基板上に作る方法を検討し
た。その結果、Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物をまず急
冷凝固によりアモルファス化したまたはアモルファスを
含む薄片を製造し、この薄片を基板上で熱処理する方法
を見出した。すなわち、Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物
を高TC相であるBi2Sr2Ca2Cu3OYになるようにBi2O3,CaCo
3,CuO,SrCO3,PbOおよびCdOの粉体を配合し、よく混合し
てから空気中で800℃で仮焼する。これを粉砕し、CIPに
よりサンプルを成形する。このサンプルを組成が蒸発等
により変動しないようにできるだけ早く融解して急冷凝
固することが望ましい。例えばサンプルはCIPで棒状に
成形し、この棒の先端をキセノンあるいはハロゲンラン
プを用いたアークイメージ炉で急速融解し、滴下した融
液を回転する双ローラーあるいは片ローラーで急冷凝固
する。
このようにして得られたアモルファス化したまたはアモ
ルファスを含む急冷凝固薄片を基板上で800℃〜890℃で
熱処理を行なう。基板はMgO,SrTiO3,ZrO2等の酸化物の
単結晶あるいはAg,Pt等の金属、Siなどの半導体のいず
れを用いてもよい。第1図に示したようにこのアモルフ
ァス化した薄片(第1図(a)は800℃付近で高TC相が
生成する(第1図(d))。また890℃を超えると、こ
の薄片は溶融してしまい形状を保持しえないため望まし
くない。
ルファスを含む急冷凝固薄片を基板上で800℃〜890℃で
熱処理を行なう。基板はMgO,SrTiO3,ZrO2等の酸化物の
単結晶あるいはAg,Pt等の金属、Siなどの半導体のいず
れを用いてもよい。第1図に示したようにこのアモルフ
ァス化した薄片(第1図(a)は800℃付近で高TC相が
生成する(第1図(d))。また890℃を超えると、こ
の薄片は溶融してしまい形状を保持しえないため望まし
くない。
同様に、Bi2Sr2Ca1.8Cd0.2Cu3OY系においても第2図
(a)に示したようにCaOの結晶を含む大部分がアモル
ファス化した薄片では800℃以上で高TC相の生成が見ら
れた(第2図(b))。
(a)に示したようにCaOの結晶を含む大部分がアモル
ファス化した薄片では800℃以上で高TC相の生成が見ら
れた(第2図(b))。
これらの相はSEM観察の結果いずれも結晶が配向してお
り、この方法により基板上に結晶の配向した超電導酸化
物相を得ることができる。このようにして得られたBi2S
r2Ca2-XCdXCu3OY超電導酸化物厚膜のTCはx=0.2で84
K、x=0.4で87Kのものがえられた。
り、この方法により基板上に結晶の配向した超電導酸化
物相を得ることができる。このようにして得られたBi2S
r2Ca2-XCdXCu3OY超電導酸化物厚膜のTCはx=0.2で84
K、x=0.4で87Kのものがえられた。
[実施例] Bi2O3,CaCO3,CuO,SrCO3,PbOおよびCdOをBi0.7Pb0.3SrCa
Cu1.8OY,Bi2Sr2Ca2-XCdXCu3OY、x=0,0.2,0.4,0.8,1.
0,1.4,2.0となるように配合し、メノウ乳鉢でメタノー
ルとともに4時間混合し、空気中800℃で12時間仮焼し
た。これを粉砕し、CIPにより直径2.5mm径、長さ150mm
の棒状に成形した。この棒の先端をキセノンランプを用
いたアークイメージ炉で融解し、双ローラー(2000rp
m)超急冷して、厚さ約20μmの薄片試料を得た。この
試料をMgO単結晶の(100)劈開面上に乗せて800℃〜890
℃で熱処理を行ない厚膜を形成した。その結果の1例を
第3図(a)に示した。この図からも明らかにように、
Bi2Sr2Ca2-XCdXCu3OY系ではTC(on set)100K以上、x
=0.2でTC(end)84K、x=0.4で87Kのものがえられ
た。TCが高く良好な超電導性を示すxの範囲は0.1〜0.8
で、Xが1.0を超えると絶縁相となった。
Cu1.8OY,Bi2Sr2Ca2-XCdXCu3OY、x=0,0.2,0.4,0.8,1.
0,1.4,2.0となるように配合し、メノウ乳鉢でメタノー
ルとともに4時間混合し、空気中800℃で12時間仮焼し
た。これを粉砕し、CIPにより直径2.5mm径、長さ150mm
の棒状に成形した。この棒の先端をキセノンランプを用
いたアークイメージ炉で融解し、双ローラー(2000rp
m)超急冷して、厚さ約20μmの薄片試料を得た。この
試料をMgO単結晶の(100)劈開面上に乗せて800℃〜890
℃で熱処理を行ない厚膜を形成した。その結果の1例を
第3図(a)に示した。この図からも明らかにように、
Bi2Sr2Ca2-XCdXCu3OY系ではTC(on set)100K以上、x
=0.2でTC(end)84K、x=0.4で87Kのものがえられ
た。TCが高く良好な超電導性を示すxの範囲は0.1〜0.8
で、Xが1.0を超えると絶縁相となった。
[発明の効果] Bi-Sr-Ca-Cu-O系超電導酸化物を急冷凝固によりアモル
ファス化した薄片を製造し、この薄片を基板上で熱処理
することにより、結晶の配向した超電導酸化物の厚膜を
得ることが可能となり、大電流を流せる超電導体素子の
開発の可能性が得られた。
ファス化した薄片を製造し、この薄片を基板上で熱処理
することにより、結晶の配向した超電導酸化物の厚膜を
得ることが可能となり、大電流を流せる超電導体素子の
開発の可能性が得られた。
第1図、第2図は組成のことなるBi-Sr-Ca-Cu-O系超電
導酸化物の熱処理前後のX線回析結果、第3図はBi2Sr2
Ca2-XCdXCu3OYにおけるx=0.2のときとBi0.7Pb0.3SrCa
Cu1.8OYの電気抵抗の変化を示した図である。
導酸化物の熱処理前後のX線回析結果、第3図はBi2Sr2
Ca2-XCdXCu3OYにおけるx=0.2のときとBi0.7Pb0.3SrCa
Cu1.8OYの電気抵抗の変化を示した図である。
Claims (1)
- 【請求項1】Bi-Sr-Ca-Cu-O系およびCd酸化物を含む粉
体を仮焼、粉砕、成形した物体を融解、急冷凝固してア
モルファス化した、またはアモルファスを含む薄片を製
造し、該薄片を基板上で800℃〜890℃で熱処理すること
を特徴とするBi2Sr2Ca2-XCdXCu3OY系(ただし、x=0.2
〜0.4)超電導酸化物厚膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63213536A JPH0772086B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Bi−Sr−Ca−Cu−O系超電導酸化物厚膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63213536A JPH0772086B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Bi−Sr−Ca−Cu−O系超電導酸化物厚膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264019A JPH0264019A (ja) | 1990-03-05 |
| JPH0772086B2 true JPH0772086B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=16640815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63213536A Expired - Lifetime JPH0772086B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Bi−Sr−Ca−Cu−O系超電導酸化物厚膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0772086B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2507890B2 (ja) * | 1989-01-23 | 1996-06-19 | 科学技術庁無機材質研究所長 | ビスマス系超伝導セラミック厚膜の製造法 |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP63213536A patent/JPH0772086B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0264019A (ja) | 1990-03-05 |
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