| 例文 (212件) |
"wiring region"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 212件
Since the width of the first region A1 is laid out small because of no wiring region connecting units in the first region A1, the length of the connecting wiring between PMOS and NMOS transistor can be small and an area of N well and P well NW1, PW1 can be small and consequently the layout efficiency and the improvement in element characteristics are achieved.例文帳に追加
第１領域Ａ１にはユニット間配線領域がないため幅が短くレイアウトされるので、ＰＭＯＳ／ＮＭＯＳトランジスタ間の接続配線長が短く、Ｎ／Ｐ型ウェル領域ＮＷ１、ＰＷ１の面積が小さくなり、レイアウト効率と回路特性の向上を図ることができる。 - 特許庁
A flexible printed board 54 to be connected to an input device is configured to have a wiring region 54b in which a wiring part is laid on a surface of a flexible base, a first terminal part 80 to be electrically connected to a first connection of the input device, and a second terminal part 81 to be electrically connected to a second connection of the input device.例文帳に追加
入力装置に接続されるフレキシブルプリント基板５４は、可撓性基材の表面に配線部が引き回された配線領域５４ｂと、入力装置の第１接続部に電気的に接続される第１端子部８０と、入力装置の第２接続部に電気的に接続される第２端子部８１と、を有して構成される。 - 特許庁
The connector is equipped with a contact array and a key to prevent erroneous connection of the second circuit board formed in a position dividing the contacts in the array into a first 17 and a second group 19, and the contacts of the first group are connected to the first wiring patterns 103 while the contacts of the second group are connected to the wiring patterns in the secondary wiring region.例文帳に追加
コネクタは、コンタクト・アレイと、コンタクト・アレイの複数のコンタクトを第１のグループ１７と第２のグループ１９に分割する位置に形成した前記第２の回路基板の誤接続を防止するキー２１とを備え、第１のグループのコンタクトを第１の配線パターン１０３に接続し、第２のグループのコンタクトを二次配線領域内の配線パターンに接続する。 - 特許庁
A ReRAM according to the present embodiment includes: a memory part formed of a three-dimensional structure in which a plurality of memory structures are laminated; and a wiring region, for example, formed in a structure in which the coating type SiO_2 film, which fills in a wide space around an element, is segmented into small ones by a SiN film.例文帳に追加
上記課題を解決するために、例えば、本実施形態のＲｅＲＡＭは、メモリ部において、メモリ構造を複数積層してなる三次元構造が形成され、例えば、配線領域において、素子の周辺部の広い空間を充填している塗布型ＳｉＯ_２膜がＳｉＮ膜によって細かく分断されてなる構造に形成されている。 - 特許庁
To provide a composite cable, a motor control device equipped with the cable, and a robot capable of reducing the wiring region of the cable and of realizing size reduction of a system, by combining an electric power line cable for flow of a large current and a cable for signal transfer, without having to individually install the electric power line cable and a sensor signal line cable.例文帳に追加
電力線ケーブルとセンサ信号線ケーブルを個別に設置することなく、大電流を流すための電力線ケーブルと信号伝送用のケーブルを組合せることで、ケーブルの配線領域を削減してシステムの小形化を実現することが可能な複合ケーブルおよびそれを備えたモータ制御装置並びにロボットを提供する。 - 特許庁
Since the metal thin film region 2 is formed so that it may be avoided that the electrode pad and the wiring region are disposed at a directly upper part of the optical waveguide core 1, an overlapping region between the optical waveguide 1 and the metal thin film 2 generated in a conventional two input two output type optical switch is not generated.例文帳に追加
電極パッドと配線領域とが光導波路コア１の直上に配置されるのを避けるようにして金属薄膜領域２が形成されているため、従来の２入力２出力型光スイッチでは、光導波路コア１と金属薄膜領域２との重複領域を生じるのに対して、本発明においては、このような重複領域を生じない。 - 特許庁
A position detecting device 100 for detecting a position as indicated by a human body includes: a sensor substrate 110 having flexibility and including a detecting region 112 having a plurality of detecting electrodes formed therein and a wiring region 114, in which wires extending from the detecting electrodes are provided; and a housing 140 having a storage section 144 in which the sensor substrate 110 is stored.例文帳に追加
位置検出装置１００は、人体により指示された位置を検出するものであって、複数の検出用電極が形成された検出領域１１２と検出用電極から引き出された配線が配設された配線領域１１４とを備える柔軟性を有するセンサ基板１１０と、センサ基板１１０を収納する収納部１４４を有する筐体１４０とを備える。 - 特許庁
The integrated circuit device comprises a digital power supply regulation circuit 30, an analog power supply regulation circuit 32, a control logic circuit 110, an analog circuit 120, and a power supply wiring region PWRG connected with a digital power supply line for supplying a digital power supply VDD3 and an analog power supply line for supplying an analog power supply VD45A.例文帳に追加
集積回路装置はデジタル電源調整回路３０、アナログ電源調整回路３２、制御ロジック回路１１０、アナログ回路１２０、電源配線領域ＰＷＲＧを含む、電源配線領域ＰＷＲＧには、デジタル電源ＶＤＤ３を供給するためのデジタル電源線とアナログ電源ＶＤ４５Ａを供給するためのアナログ電源線が配線される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a conductive pattern formation substrate and the conductive pattern formation substrate, in which manufacture is easy without spending time for formation of a wiring region, a high quality transparent conductive film having a hardly visible conductive pattern can be formed in a display region, and electrical reliability is improved by fully securing insulating properties of an insulating part of the transparent conductive film.例文帳に追加
配線領域の形成に手間がかからず製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。 - 特許庁
When laying out the LSI 100 having the internal functional block 101 with a built-in hard macro 104 into strata, the in-block power trunk 106 of the internal functional block is made of different wiring layers on the wiring region 105 of the hard macro 104, and the key power trunk 103 of the LSI chip is installed, and the power trunk 106 within the internal functional block is diverted to it.例文帳に追加
ハードマクロ１０４を内蔵する内部機能ブロック１０１を有するＬＳＩ１００を階層レイアウトする際に、ハードマクロ１０４の配線領域１０５上に異なる配線層で内部機能ブロックの内部機能ブロック内電源幹線１０６を設け、ＬＳＩチップの基幹電源幹線１０３を内部機能ブロック内電源幹線１０６を流用して設置する。 - 特許庁
In the LED mounting substrate 1a in which the LED element 20 is mounted on the printed circuit board 10a applied with a white solder resist 12, pads 13 connected to terminals 23 of the LED element are formed on the printed circuit board and a white resin 30 containing a white pigment is applied on the surface of the printed circuit board so as to cover the wiring region between terminal and the pads.例文帳に追加
白色のソルダーレジスト１２が塗布されたプリント配線板１０ａ上にＬＥＤ素子２０が実装されたＬＥＤ実装基板１ａであって、前記プリント配線板には、ＬＥＤ素子の端子２３と接続されるパッド１３が形成され、前記端子と前記パッドとの配線領域を覆うように前記プリント配線板の表面に白色顔料を含んだ白色樹脂３０が塗布されているＬＥＤ実装基板としている。 - 特許庁
An image-pickup region formed by a photo diode 1, a vertical transfer channel 2, and a vertical transfer electrode 98 on it, and a wiring region formed by a wiring 6 for applying a vertical transfer electrode voltage formed at the periphery of the image-pickup region are provided on an N-type silicon wafer 11.例文帳に追加
Ｎ型シリコン基板１１上に、フォトダイオード１と垂直転送チャネル２とその上の垂直転送電極９が形成された撮像領域と、この撮像領域の外周部であって、垂直転送電極電圧印加用配線６の形成された配線領域とを備え、撮像領域では、Ｎ型シリコン基板１１と垂直転送電極９との間にシリコン窒化膜１６が形成され、配線領域ではＮ型シリコン基板１１と垂直転送電極９との間にはシリコン窒化膜１６が形成されていない。 - 特許庁
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