例文 (18件) |
"ion radiation"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18件
ION RADIATION DAMAGE PREDICTION METHOD, ION RADIATION DAMAGE SIMULATOR, ION RADIATION APPARATUS AND ION RADIATION METHOD例文帳に追加
イオン照射ダメージの予測方法とイオン照射ダメージのシミュレータ、およびイオン照射装置とイオン照射方法 - 特許庁
ION GENERATION DEVICE, ION RADIATION DEVICE, AND FILAMENT例文帳に追加
イオン発生装置、イオン照射装置及びフィラメント - 特許庁
ION RADIATION EFFECT EVALUATION METHOD, PROCESS SIMULATOR, AND DEVICE SIMULATOR例文帳に追加
イオン照射効果評価方法、プロセスシミュレータ及びデバイスシミュレータ - 特許庁
ION GENERATOR, ION RADIATOR, ION RADIATION METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加
イオン発生装置、イオン照射装置、イオン照射方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
The memory element has increased immunity to errors caused by heavy ion radiation.例文帳に追加
重イオン放射によって生じるエラーに対する増加した免疫を備えた開示されたメモリ素子の実施態様。 - 特許庁
To establish an electric current confinement structure in the laser body without requiring ion radiation and ion implantation.例文帳に追加
イオン照射やイオン注入を行う必要なしにレーザ本体内に電流閉じ込め構造を設けること。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PILLOW SUBJECTED TO MINUS ION RADIATION, FAR INFRARED RADIATION, FORMALDEHYDE REMOVAL, HAZARDOUS MATERIAL REMOVAL, STERILIZATION, AND EMBROIDERY例文帳に追加
マイナスイオン放射、遠赤外線放射、ホルムアルデヒド除去、有害物質除去、殺菌、刺繍入り枕の製造方法。 - 特許庁
The surface reforming layer 21 or the surface protective layer 23 is desirably formed by the ion radiation using an ion source.例文帳に追加
表面改質層21または表面保護層23はイオン源を用いたイオン照射により形成されることが望ましい。 - 特許庁
To improve the output of a servo signal in a magnetic recording medium manufactured by an ion radiation system.例文帳に追加
本発明は、イオン照射方式により製造した磁気記録媒体において、サーボ信号の出力を向上させることを課題とする。 - 特許庁
The information recording medium 19 has the plastic base body 20, the surface reforming layer 21 reformed by ion radiation on the base body 20, the recording medium layer 22 formed on the surface reforming layer 21 and the surface protective layer 23 formed on the recording medium layer 22 by the ion radiation.例文帳に追加
情報記録媒体19は、プラスチックスの基体20と、基体20上にイオン照射により改質された表面改質層21と、表面改質層21上に形成された記録媒体層22と、記録媒体層22上にイオン照射により形成された表面保護層24とを具備することを特徴とする。 - 特許庁
To evaluate with higher accuracy the influence on atoms forming a substrate due to irradiation of ion in regard to ion radiation effect evaluation method, process simulator, and device simulator.例文帳に追加
イオン照射効果評価方法、プロセスシミュレータ及びデバイスシミュレータに関し、イオン照射にともなって基板を構成する原子が受ける影響を精度良く評価する。 - 特許庁
To provide a technique for feeding back damage distribution computation owing to ion radiation in a real pattern and process such as 100 nm scale to the process development of a device within realistic computation time such as several hours or several days.例文帳に追加
本発明は、100nmスケールという実パターンおよび実プロセスにおけるイオン照射によるダメージ分布計算を数時間、数日間といった現実的な計算時間内でデバイスのプロセス開発にフィードバックする手法を提供することを可能にする。 - 特許庁
The α-wave is increased by mixing the powder within the composition ratio to associate far-infrared light radiated from the hornfels powder, negative ion radiated from the rare earth ore powder and titanium dioxide powder contributing the improvement of the far infrared radiation and negative ion radiation with each other.例文帳に追加
各粉末を上記組成範囲で混合することにより、ホルンフェルス粉末から放射される遠赤外線と、希土類鉱石粉末から放射されるマイナスイオンと、遠赤外線の放射改善とマイナスイオンの放射改善とに寄与する二酸化チタン粉末とが相互に関連し、α波が増大する。 - 特許庁
The manufacturing of the pillow subjected to minus ion radiation, far IR radiation, formaldehyde removal, hazardous material removal, sterilization and embroidery is invented by studying the material of the pillow in taking the environment, etc., into consideration, by which the manufacturing of the pillow helpful for maintenance of health and free of pollution by turning the material back to the nature when discarding is made possible.例文帳に追加
枕の素材を環境等のことを考慮に入れて素材を吟味し、マイナスイオン放射、遠赤外線放射、有害物質除去、殺菌、ホルムアルデヒド除去、刺繍入り枕の製造を発明したことにより、健康維持に役立ちと、素材を廃棄する時に自然にかえして公害無き枕の製造をすることができる。 - 特許庁
In the method of manufacturing the patterned medium including a substrate, the porous layer formed on the substrate and having a plurality of fine pores approximately vertical to the substrate surface, and the magnetic substance filled in the fine pores by the sputtering method, ion radiation is carried out with respect to the vicinity of the fine pores when filling the fine pores with the magnetic substance by the sputtering method to promote migration of sputter atoms.例文帳に追加
基板と、前記基板上にあり、前記基板面に対して略垂直な複数の細孔を有する多孔質層と、前記細孔内にスパッタ法により充填された磁性体と、を有するパターンドメディアを製造する方法であって、前記磁性体をスパッタ法により細孔に充填する際に、前記細孔近傍に対してイオン照射を行い、スパッタ原子のマイグレーションを促進させることを特徴とするパターンドメディア製造方法。 - 特許庁
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