例文 (6件) |
"ion beam radiation"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6件
To suppress electrification as small on the base plate surface during the period of an ion beam radiation while HF(High Frequency) discharge-type plasma generation equipment is in use.例文帳に追加
高周波放電型のプラズマ発生装置を用いつつ、イオンビーム照射の際の基板表面の帯電を小さく抑制する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display panel which is capable of reducing the occurrence of display image retention by increasing alignment control force in an ion beam radiation system.例文帳に追加
イオンビ−ム照射方式の配向規制力を増大し、表示残像発生を緩和可能な液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁
The latter is equipped with a flow-out suspension system 31 via a signal line 30 to suspend ion beam radiation within several microseconds.例文帳に追加
後者は、信号線30を経由して、数マイクロ秒以内でイオンビーム照射を中止するために流出中止システム31を備えている。 - 特許庁
A radiation area of ion beams radiated from one ion beam radiation source (ion gun 10) which performs frequency adjustment upon piezoelectric vibrators 17 carried in a specific direction while being aligned and arranged, is utilized in said method to simultaneously adjust frequencies of a plurality of proximate piezoelectric vibrators 17.例文帳に追加
本発明では前記方法において、整列配置されて規定の方向へ搬送される圧電振動子17の周波数調整を行う1のイオンビーム照射源(イオンガン10)から照射されるイオンビームの放射領域を利用して、近接する複数の圧電振動子17の周波数調整を同時に行うようにした。 - 特許庁
When a secondary ion 4 released from the surface of a sample 1 through sputter etching by ion beam radiation is detected, and the depth-wise distribution of the element containing in the sample 1 is measured, an ion beam is irradiated in a state where sample 1 is exposed to an oxygen atmosphere 2, and the element distribution on the extreme surface of the sample 1 is evaluated.例文帳に追加
イオンビーム照射によるスパッタエッチングによって試料1の表面から放出される二次イオン4を検出し、試料1中に含まれる元素の深さ方向分布を測定する際に、試料1を酸素雰囲気2に曝した状態でイオンビームを照射して、試料1の極表面での元素分布評価を行う。 - 特許庁
In a method for processing a solid surface to make it even by using a gas cluster ion beam, at least during part of a period of a gas cluster ion beam radiation process, a radiation angle made by the normal line of a solid surface and the gas cluster ion beam is made larger than 70°, and the gas cluster ion beam is focused using a lens mechanism without separating the monomer ion, thus radiating it.例文帳に追加
ガスクラスターイオンビームを用い、固体表面を平坦に加工する方法において、ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす照射角度を70度より大きくし、かつモノマーイオンを分離せずにガスクラスターイオンビームをレンズ機構によってフォーカスさせて照射する。 - 特許庁
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