「Pl-1」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

When the determination is positive, the PL insurance company (8) pays an insurance money to the insurance contractor (1).例文帳に追加

そして、判定が是の場合に該ＰＬ保険会社(8)が該保険契約者(1)に保険金の支払をする。 - 特許庁

In quantization for obtaining data on each recording head, recorded data of a large dot (5 pl) is defined as data having 2 bits per one pixel, and recorded data of a medium and small dot (2 pl and 1 pl) is defined as data including 1 bit per one pixel.例文帳に追加

各記録ヘッドのデータを得るための量子化において、大ドット（５ｐｌ）の記録データを１画素当りのビット数が２ビットのデータとし、中、小ドット（２ｐｌ、１ｐｌ）の記録データを１画素当りのビット数が１ビットのデータとする。 - 特許庁

An LD element 5 and a PD element 6 for reception are mounted on a PL chip 1.例文帳に追加

ＰＬＣチップ１上にＬＤ素子５、受信用のＰＤ素子６が実装さされている。 - 特許庁

The flow control valve 1 changes orifice flow rate Qorf according to high and low of line pressure PL and orifice flow rate Qorf at a time of low line pressure PL gets small as compared to that at a time of high line pressure PL.例文帳に追加

流量制御弁１はライン圧ＰＬの高低によってオリフィス流量Ｑｏｒｆが変化するものとなり、ライン圧ＰＬの低圧時には高圧時に比べてオリフィス流量Ｑｏｒｆが少なくなる。 - 特許庁

PL={Ps×Pa/(Ps+Pa)}×n (where (n) is natural number)... expression 1 La/Ls=Pa/Ps... expression 2.例文帳に追加

ＰＬ＝{Ｐｓ・Ｐａ／（Ｐｓ＋Ｐａ）}・ｎ（但し、ｎは自然数） ・・・式１ Ｌａ／Ｌｓ＝Ｐａ／Ｐｓ ・・・式２ - 特許庁

An anode body 1 is in a foil shape having a main surface PL extended in one direction D1.例文帳に追加

陽極体１は、一の方向Ｄ１に延在する主面ＰＬを有する箔状のものである。 - 特許庁

The insulating layer 1 is formed by one discharge in the discharge quantity of 2-9 pl per one piece of the insulating layer.例文帳に追加

インク吐出量は絶縁層１個当たり２〜９ｐｌにて、１回の吐出で設ける。 - 特許庁

The hydraulic control device includes: an oil pump OP generating line pressure PL when an engine operates; and a linear solenoid valve 1 that outputs hydraulic pressure by controlling the line pressure PL.例文帳に追加

油圧制御装置は、エンジンが作動することでライン圧ＰＬを発生するオイルポンプＯＰと、ライン圧ＰＬを調圧して油圧を出力するリニアソレノイド弁１とを備える。 - 特許庁

If Bp=1, bit planes up to PL bit plate are subjected to bit plane encoding (S610).例文帳に追加

一方Ｂｐ＝１の場合、ビットプレーンＰＬまでのビットプレーンに対してビットプレーン符号化を行う（Ｓ６１０）。 - 特許庁

In such a case, when PL/BD is expressed by x and exposing power in the case of PL/BD=0.5 being 1 is expressed by y, the exposing power to a pit length is decided by y=0.878*x-1.74±0.05.例文帳に追加

その場合、ｘをＰＬ/ＢＤ、ｙをＰＬ/ＢＤ＝０．５の時を１とした時の露光パワー、とした場合、ｙ＝０．８７８*ｘ^-1.74±０．０５によってピット長に対する露光パワーを決定する。 - 特許庁

In a step 421, ζ is decremented by 1 until PL(M')<PL(M) is rejected or ζ=0, and in a step 425, a model M is displaced with a model M', and the processing is repeated, and the model where the value of the PL is finally satisfactory is selected as the optimal model.例文帳に追加

そして、ステップ４２１においてＰＬ（Ｍ’）＜ＰＬ（Ｍ）が否定されるか、ζ＝０となるまで、ζを１デクリメントし、ステップ４２５においてモデルＭをモデルＭ’に置換し、上記処理を繰り返し、最終的にＰＬの値が良好であったモデルを、最適モデルとして選択する。 - 特許庁

The connection pitch PL of the long link 2A is set to be (2n+1)/2n of the connection pitch PS of the short link 2 (wherein n is a natural number).例文帳に追加

長リンク２Ａの連結ピッチＰＬが、短リンク２の連結ピッチＰＳの（２ｎ＋１）／２ｎ倍（ｎは自然数）とされている。 - 特許庁

In this case, each of the reference signals C_n-1 to C_0 is a signal wherein a rectangular wave PL set in a prescribed time width Δτ is temporally distributed uniformly within the prescribed period Ts in a way that the rectangular wave PL is exclusively arranged at the same point of time to avoid production of the rectangular wave PL in duplicate.例文帳に追加

ここで、各基準信号Ｃ_ｎ−１〜Ｃ_０は、所定の時間幅Δτに設定された矩形波ＰＬを所定周期Ｔｓ内において時間的に均等に分散させた形状の信号とし、更に同じ時点で矩形波ＰＬが重複して生じることがないように排他的に配列させた信号とする。 - 特許庁

An exposure device EX exposes a substrate P by projecting a pattern image on the substrate P through a projection optical system PL and liquid 1, and comprises a liquid supply mechanism 10 supplying the liquid 1 to a location between the projection optical system PL and the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターン像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間へ液体１を供給する液体供給機構１０を備えている。 - 特許庁

A reproducing list PL which should be reproduced is recorded on optical disk 1, and a reproducing list display inhibit flag PHF is also recorded, which at least shows whether indication of the representative picture which shows contents of the reproducing list PL is to be restricted.例文帳に追加

再生されるべき再生リストＰＬを光ディスク１に記録すると共に、当該再生リストＰＬの内容を示す代表画像の表示を制限するか否かを少なくとも示す再生リスト表示禁止フラグＰＨＦをも記録する。 - 特許庁

By disposing first and second supplementary lines Ls1 and Ls2, the projection light PL can be made to be incident onto the reflective films RS of the first and third concave parts 20a and 20c, even when the incident angle of the projection light PL onto the screen 1 is large.例文帳に追加

第１及び第２補助列Ｌｓ１，Ｌｓ２を設けることにより、投射光ＰＬのスクリーン１への入射角が大きい場合でも、第１及び第３凹部２０ａ，２０ｃの反射膜ＲＳに投射光ＰＬを入射させることができる。 - 特許庁

The watthour meter 10 then is provided with: a trunk communication unit 11 for performing power line carrier communication via the trunk power line PL 1; and a home communication unit 12 for performing power line carrier communication via the in-home power line PL 2.例文帳に追加

そして、電力量計１０は、幹線系電力線ＰＬ１を介して電力線搬送通信を行う幹線系通信部１１と、宅内系電力線ＰＬ２を介して電力線搬送通信を行う宅内系通信部１２とを備えている。 - 特許庁

A reproduction list PL to be reproduced is recorded into an optical disk 1, and also a reproduction list display inhibit flag PHF denoting at least whether or not display of the representing picture indicating the contents of the reproduction list PL is to be limited is recorded thereinto.例文帳に追加

再生されるべき再生リストＰＬを光ディスク１に記録すると共に、当該再生リストＰＬの内容を示す代表画像の表示を制限するか否かを少なくとも示す再生リスト表示禁止フラグＰＨＦをも記録する。 - 特許庁

The optical transmission system 1 includes the optical transmission apparatus 10 which outputs a phase modulation optical signal PL based on the transmission data D, and a light receiving device 20 which receives the phase modulation optical signal PL and demodulates the transmission data D.例文帳に追加

光伝送システム１は、送信データＤに基づいた位相変調光信号ＰＬを出力する光送信装置１０と、位相変調光信号ＰＬを受信して送信データＤを復調する光受光装置２０とを備える。 - 特許庁

The keys KEY 1-KEY 6 are validated while a selection instruction SEL is "Pl", and a control part 2 can determine which one of the keys KEY 1-KEY 6 is inputted.例文帳に追加

選択指令ＳＥＬが「Ｐ１」である期間においては、キーＫＥＹ１〜ＫＥＹ６が有効となり、制御部２は、キーＫＥＹ１〜ＫＥＹ６のうちいずれのキーが入力されたかを判定できる。 - 特許庁

The recording power to the groove track G1 is stepwise increased, and when the equation EG1n<EG1 n-1 is not effected, the laser power Pn-1 at the previous time is defined to the minimum limit laser power PL (S41, S42).例文帳に追加

グルーブトラックＧ１への記録パワーを段階的に高くしていき、ＥＧ１ｎ＜ＥＧ１ｎ−１でないとき前回のレーザパワーＰｎ−１を最低限界レーザパワーＰＬとする（Ｓ４１，Ｓ４２）。 - 特許庁

The recording power on the group track G1 is stepwise increased and a laser power Pn-1 at the previous time is defined as a minimum limit laser power PL when the condition EG1n<EG1n-1 is not satisfied (S41, S42).例文帳に追加

グルーブトラックＧ１への記録パワーを段階的に高くしていき、ＥＧ１ｎ＜ＥＧ１ｎ−１でないとき前回のレーザパワーＰｎ−１を最低限界レーザパワーＰＬとする（Ｓ４１，Ｓ４２）。 - 特許庁

The substrate-treating device 1 power supply treatment, application treatment, and heat treatment layers CL, PL and HL are successively laminated from a lower portion.例文帳に追加

基板処理装置１は、下から順に用力供給処理層ＣＬ、塗布処理層ＰＬ、熱処理層ＨＬが鉛直方向に積層されて構成されている。 - 特許庁

Besides, the projection light PL is efficiently made to be incident onto the reflective film RS of each of the third concave parts 20c, and thereby the brightness of the screen 1 can be enhanced.例文帳に追加

また、第３凹部２０ｃの反射膜ＲＳに投射光ＰＬを効率よく入射させることができ、スクリーン１の輝度を向上させることができる。 - 特許庁

A memory cell array 1 has a ferroelectric capacitor of which one end is connected to bit lines BL, BBL via a transistor and the other end is connected to plate lines PL, BPL.例文帳に追加

メモリセルアレイ１は、トランジスタを介して一端がビット線ＢＬ，ＢＢＬに、他端がプレート線ＰＬ，ＢＰＬに接続される強誘電体キャパシタを持つ。 - 特許庁

The exposure apparatus EX includes a mask stage 1 and a chamber device C which covers a projection optical system PL and a substrate stage 2 and forming an inner space N1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクステージ１、投影光学系ＰＬ及び基板ステージ２を覆う、内部空間Ｎ１を形成するチャンバ装置Ｃを備える。 - 特許庁

Then I-V characteristics of another silicon wafer 1 in the same lot PL are measured again and it is determined whether a measured value 6 matches the reference value 7.例文帳に追加

同一ロットＰＬ内の別のシリコンウエハ１について再びＩ−Ｖ測定を行い、測定値６と基準値７とが一致するか否かを判定する。 - 特許庁

An interferometer device 3 produces measuring light and reference light from light emitted from a light source 1 by a reference lens 37, puts the measuring light produced through a projection optical system PL (photo luminescence) into inerference with the reference light, and inspects the optical performance of the projection optical system PL.例文帳に追加

干渉計装置３は、基準レンズ３７により光源１から射出される光から、測定光及び参照光を生成し、投影光学系ＰＬを介した測定光と参照光とを干渉させて投影光学系ＰＬの光学性能を検査する。 - 特許庁

A PL(Product Liability) insurance application criteria determination system using inked personal information imparts inked personal information (3) obtained by mixing personal information (2) of an insurance contractor (1) with ink to an article (7).例文帳に追加

本発明にかかるインク化個人情報を用いたＰＬ保険適用基準判定システムは、保険契約者(1)の個人情報(2)をインクに混入したインク化個人情報(3)を物品(7)に関し付与する。 - 特許庁

This separation device is provided with a tray fixing member 1 fixing an impression tray T for storing the dental impression, a plaster fixing member fixing a plaster Pl attached to the dental impression stored in the impression tray T, and separation screws 17 and 19 separating the dental impression stored in the tray fixing member 1 and the plaster Pl fixed to the plaster fixing member along the erecting direction of teeth formed in the plaster Pl.例文帳に追加

分離装置は、歯科用印象を収める印象用トレーＴを固定するトレー固定部材１と、印象用トレーＴに収められた歯科用印象に付着した石膏Ｐｌを固定する石膏固定部材と、トレー固定部材１に収められた歯科用印象と石膏固定部材に固定された石膏Ｐｌとを、石膏Ｐｌに形成された歯牙の植立方向に沿って分離する分離用ネジ１７，１９とを備える。 - 特許庁

The inside of a plating tank 1 is divided into a plating chamber 6 and two anode chambers 7 by two screens 5, so that, even if a convection current is produced on a plating liquid PL in the plating chamber 6 by the rotation of a barrel 8, its influence is hard to be exerted on a plating liquid PL in the two anode chambers 7.例文帳に追加

２つのスクリーン５によってメッキ槽１内が１つのメッキ室６と２つのアノード室７とに区画されているので、バレル８の回転によってメッキ室６内のメッキ液ＰＬに対流が生じてもその影響が２つのアノード室７内のメッキ液ＰＬには及び難い。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

A treatment section 3 of the surface treatment apparatus 1 is opposite to the object 9 to be treated, and relatively moved in the moving direction parallel to a plane PL with respect to the object 9.例文帳に追加

表面処理装置１の処理部３を被処理物９と対向させ、被処理物９に対し平面ＰＬと平行な移動方向に相対移動させる。 - 特許庁

When the temperature in a reaction part such as a reformer 1 or a hydrogen generator 22 falls bellow the lower limit temperature 21, the first power generation target power PT is switched to the second power generation target power PL.例文帳に追加

そして、改質器１又は水素発生器２２等の反応部の温度が下限温度２１を下回ったとき、第２の発電目標電力ＰＬに切換える。 - 特許庁

When the substrate-treating device 1 is transported, the support pillar 20 is contracted for shrinking the application treatment layer PL, thus reducing the height of the substrate-treating device 1, and hence transporting the substrate 1 without dividing.例文帳に追加

基板処理装置１を輸送するときには、支持柱２０を収縮させて塗布処理層ＰＬを収縮させることにより、基板処理装置１の高さを低くすることができ、基板処理装置１を分割することなく輸送することができる。 - 特許庁

In a light-detecting method, a light L1 to be received having a wavelength of 248 nm or shorter is detected indirectly by receiving the light L1 with a sapphire crystal 1 and detecting the photoluminescence(PL) light ray 2 having a peak of luminous intensity in the wavelength range of 650-750 nm of the PL light rays emitted from the crystal 1 by means of a photodetecting means (a).例文帳に追加

２４８ｎｍよりも短い波長の光（受光対象光）Ｌ１をサファイア結晶１に受光させ、該結晶１から発せられるフォトルミネセンス光（ＰＬ光）のうち、波長６５０ｎｍ〜７５０ｎｍの間に発光強度のピークを有するＰＬ光Ｌ２を、光検出手段ａで検出することで、受光対象光Ｌ１を間接的に検出する。 - 特許庁

When projecting an image having a predetermined pattern for measurement via a projection optical system PL, diffracted lights other than zeroth light L (0) and primary diffracted lights L (+1) and L (-1) are cut off using a variable aperture diaphragm AS.例文帳に追加

所定の計測用パターンの像を投影光学系ＰＬを介して投影する際に、可変開口絞りＡＳを用いて０次光Ｌ（０）、１次回折光Ｌ（＋１），Ｌ（−１）以外の回折光を遮光する。 - 特許庁

In the DC-DC converter 1, a high-side power transistor Q1 and a low-side power transistor Q2 are connected in series between high-potential power wiring PH and low-potential power wiring PL.例文帳に追加

ＤＣ−ＤＣコンバータ１において、高電位電源配線ＰＨと低電位電源配線ＰＬとの間にハイサイド・パワートランジスタＱ１及びローサイド・パワートランジスタＱ２を直列に接続する。 - 特許庁

A ring 3 provided with a supply opening 1 and a collection opening 2 is arranged to surround a projection lens PL so that liquid LQ can be fed in a desired direction through rotation of the ring 3.例文帳に追加

供給口１と回収口２とを設けたリング３を投影レンズＰＬを囲むように配置し、そのリング３の回転によって所望の方向に液体ＬＱを流せるようにする。 - 特許庁

The projection optical system PL comprises projection optical modules PLa to PLg arranged in a plurality of numbers, and the plurality of the projection optical modules PLa to PLg are supported by one bed 1.例文帳に追加

投影光学系ＰＬは複数並んだ投影光学モジュールＰＬａ〜ＰＬｇからなり、複数の投影光学モジュールＰＬａ〜ＰＬｇが１つの定盤１に支持されている。 - 特許庁

Under the exposure light IL in a vacuum ultraviolet ray region, the image of the pattern of a reticle 12 is projected on the wafer 1 7a on the wafer stage 18a within a wafer chamber 24 through a projective optical system PL.例文帳に追加

真空紫外域の露光光ＩＬのもとで、レチクル１２のパターンの像が投影光学系ＰＬを介して、ウエハ室２４内のウエハステージ１８ａ上のウエハ１７ａに投影される。 - 特許庁

An optical imaging device (PL) comprises at least one system diaphragm (1), and the system diaphragm comprises a plurality of movable thin plates curved in a spherical shape and mounted to be capable of rotating.例文帳に追加

光学結像装置（ＰＬ）は少なくとも１つのシステム絞り（１）を備え、該システム絞りは、球状に湾曲し回転可能に取り付けられた複数の可動薄板を備える。 - 特許庁

A method of evaluating the wafer for semiconductor includes measuring I-V characteristics (S2, S3) of a silicon wafer 1 optionally selected from a lot PL (S1), and determining whether or not a measured value 6 matches a reference value 7 (S4).例文帳に追加

ロットＰＬから任意に選択されたシリコンウエハ１について（Ｓ１）、Ｉ−Ｖ特性を測定し（Ｓ２，Ｓ３）、測定値６と基準値７とが一致するか否かを判定する（Ｓ４）。 - 特許庁

In the server device 1, the control signal is transferred from a power line communication part 13 through a power line PL with the connector number included in the received control signal as a destination.例文帳に追加

サーバ装置１では受信した制御信号に含まれるコネクタ番号を宛先として電力線通信部１３より電力線ＰＬを介して当該制御信号を転送する。 - 特許庁

Especially, the ferroelectric capacitors fc1 and fc2 are provided above the silicon substrate 1 and below a metal wiring layer where bit lines BL and BLX or plate lines PL are formed.例文帳に追加

特に、該強誘電体キャパシタの対は、シリコン基板１よりも上の層であって、ビット線ＢＬ，ＢＬＸ又はプレート線ＰＬが形成される金属配線層よりも下の層に設けられる。 - 特許庁