「Plasma activation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a technology to effectively improve gas activation efficiency in a gas activation device which forms and utilizes plasma by an induction coupling method.例文帳に追加

誘導結合方式でプラズマを生成して利用するガス活性化装置において、ガス活性化効率を効果的に高めることのできる技術を提供する。 - 特許庁

A semiconductor substrate after ion implantation is exposed to high-density plasma and then subjected to heat treatment for activation.例文帳に追加

イオン注入後の半導体基板を、高密度プラズマにさらしてから、活性化のための熱処理を行う。 - 特許庁

To treat gas collected in a temperature region less than a catalyst activation temperature inside a furnace in a continuous kiln used in a burning process in manufacturing a plasma display panel.例文帳に追加

触媒の活性化温度未満の温度領域で捕集した脱バインダーガスを炉内で処理する。 - 特許庁

This plasma generating means 32 is provided to the furnace flange 4 near the gas supplying pipe 7 to supply the gas which requires activation with plasma and forms a plasma generating region 26 within the furnace flange.例文帳に追加

このプラズマ生成手段３２は、プラズマによる活性化を必要とするガスを供給するガス供給管７の近傍の炉口フランジ４に設け、炉口フランジ内にプラズマ生成領域２６を形成する。 - 特許庁

When an electron beam with low energy is made incident, a plasma PBb consisting of gas molecules with low activation energy is formed efficiently.例文帳に追加

低いエネルギーの電子ビームが入射すると、低い活性化エネルギーのガス分子から成るプラズマＰＢｂを効率良く生成する。 - 特許庁

The plasma apparatuses 20A and 20B are provided with cavities 22A and 22B made of a conductive material, respectively, which are connected to the gas flow paths, plasma generators 23A and 23B for generating plasma within the cavities 22A and 22B, and microwave irradiators 24A and 24B for exposing plasma generated by the plasma activation parts 23A and 23B to microwaves.例文帳に追加

各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂは、ガスの流路に連通する導電体からなるキャビティ２２Ａ，２２Ｂと、このキャビティ２２Ａ，２２Ｂ内にプラズマを発生させるプラズマ発生器２３Ａ，２３Ｂと、このプラズマ始動部２３Ａ，２３Ｂの発生するプラズマにマイクロ波を照射するマイクロ波照射器２４Ａ，２４Ｂとを有する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving plasma processing capability without deteriorating the capability of surface activation process by ultraviolet irradiation of a UV irradiation means adjacently installed with a plasma supply means.例文帳に追加

プラズマ供給手段と隣り合って設置した紫外線照射手段の紫外線照射による表面活性化処理の能力を低下させないようにして、プラズマ処理の能力を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, a cover 40, having recessed parts formed on parts corresponding to the SERS activation sites 31-33 and a channel 34, is subjected to surface activation by oxygen plasma and is then fixed, to thereby manufacture the micro-TAS 30.例文帳に追加

その後、該ＳＥＲＳ活性サイト３１〜３３及び流路３４に対応する部分に凹所を形成したカバー４０を酸素プラズマにより表面活性し、固着することで、マイクロＴＡＳ３０を製造できる。 - 特許庁

To provide an inhibitor of self-activation of an inactive precursor plasma hyaluronan-binding protein useful as an anticancer agent or an antiinflammatory agent.例文帳に追加

抗癌剤又は抗炎症剤として有用な不活性型前駆体血漿ヒアルロナン結合タンパク質の自己活性化阻害剤の提供。 - 特許庁

When an electron beam with high energy is made incident, a plasma PBa consisting of gas molecules that requires high activation energy for ionization or dissociation is formed efficiently.例文帳に追加

高いエネルギーの電子ビームが入射すると、電離または解離に高い活性化エネルギーを必要とするガス分子から成るプラズマＰＢａを効率良く生成する。 - 特許庁

After the initial activation method of the hydrogen storage metal 16 is performed, the hydrogen storage metal 16 is irradiated with hydrogen plasma to perform injection of hydrogen.例文帳に追加

水素貯蔵金属１６の初期活性化方法を実施した後、水素貯蔵金属１６に水素プラズマを照射して水素注入を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel which can collect impurity gas in the panel without an activation treatment at high temperatures.例文帳に追加

高温での活性化処理なしにパネル内の不純ガスの捕集を行うことができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A substrate processing apparatus has a processing chamber 1 for processing a substrate 6, and a gas activation section 11 provided outside the chamber 1 and generating plasma.例文帳に追加

基板処理装置は、基板６を処理する処理室１と、処理室１外部に設けられプラズマを発生させるガス活性化部１１とを有する。 - 特許庁

To provide a plasma component separator excellent for treating age-related macular degeneration, which has complement activation suppressing ability and blood coagulation system activation suppressing ability, and a blood purifying apparatus by double filtration capable of safe and efficient blood treatment using it.例文帳に追加

補体活性化抑制能並びに血液凝固系活性化抑制能を有する加齢性黄斑変性症治療用に極めて優れた血漿成分分離器及びそれを用いた安全で効率的な血液処理ができる二重濾過血液浄化装置の提供。 - 特許庁

The substrate processing method for generating plasma by incurring magnetron discharge within a processing vessel by an electric field and a magnetic field, and for performing plasma processing on a substrate using the plasma includes the steps of: carrying the substrate into the processing vessel; forming a film on the substrate through activation using plasma by feeding gases into the processing vessel; and carrying the treated substrate out of the processing vessel.例文帳に追加

電界と磁界とにより処理容器内にマグネトロン放電を起こしてプラズマを生成し、このプラズマを用いて基板をプラズマ処理する基板処理方法であって、基板を処理容器内に搬入する工程と、処理容器内にガスを供給してプラズマにより活性化させ、基板上に膜を形成する工程と、処理後の基板を処理容器から搬出する工程とを備える。 - 特許庁

The radiation source also has a second activation source to direct a second energy pulse onto a second spot in the radiation source near the discharge space to create an additional plasma channel.例文帳に追加

放射源は更に、放電空間の付近の放射源における第２のスポット上に第２のエネルギーパルスを誘導して追加プラズマチャネルを作成する第２の活性化源を含む。 - 特許庁

Then the base particles having an activated surface by the plasma treatment are subjected to a contact reaction with oxygen so that the activation point is deactivated to give the objective new fine particles.例文帳に追加

次に、プラズマ処理によって活性化表面を持つ前記基粒子を、酸素との接触反応によって、活性化点を失活する事により新規微粒子を得る事が出来る。 - 特許庁

To provide a compound specifically inhibiting the activation of precursor plasma hyaluronan-binding protein (pro-PHBP) and an anticancer agent or an anti-inflammatory agent using the compound.例文帳に追加

前駆体型血漿ヒアルロナン結合タンパク質（ｐｒｏ−ＰＨＢＰ）の活性化を特異的に抑制する化合物、および該化合物を用いた抗癌剤または抗炎症剤の提供。 - 特許庁

The radiation source includes a first activation source to direct a first energy pulse onto a first spot in the radiation source near discharge space to create a main plasma channel which triggers discharge.例文帳に追加

放射源は、放電空間の付近の放射源における第１のスポット上に第１のエネルギーパルスを誘導して放電をトリガする主プラズマチャネルを作成する第１の活性化源を含む。 - 特許庁

The initial activation method for the hydrogen storage metal 16 is performed by irradiating the hydrogen storage metal 16 with a plasma of rare gas and activating a surface of the hydrogen storage metal 16.例文帳に追加

水素貯蔵金属１６の初期活性化方法は、水素貯蔵金属１６に希ガスのプラズマを照射し、水素貯蔵金属１６の表面を活性化することにより行われる。 - 特許庁

In the case a composite structure is formed by an aerosol deposition method, the surfaces of particulates to be used are cleaned beforehand by plasma irradiation or microwave irradiation, and activation treatment is performed for a long period of time.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法によって複合構造物を形成させる場合に、プラズマ照射やマイクロ波照射により使用する微粒子の表面を予めクリーニングし、時間をかけて活性化処理する。 - 特許庁

The plasma display device for an interlacing display is provided with a means controlling a PDP panel module so that a display line is fixed to odd lines or even lines at the time of activation.例文帳に追加

インターレース表示用のプラズマディスプレイ装置において、電源立ち上げ時に、奇数ラインまたは偶数ラインのうちの一方に表示ラインを固定するように、ＰＤＰパネルモジュールを制御する手段を備えている。 - 特許庁

The method for producing the titanium oxide photocatalyst thin film comprises the step of subjecting a substrate to surface activation treatment, forming a titanium oxide thin film on the substrate, and subsequently subjecting the surface of the titanium oxide thin film to plasma treatment.例文帳に追加

基材を表面活性化処理した後、該基材上に酸化チタン系薄膜を形成し、次いで該酸化チタン系薄膜面をプラズマ処理することを特徴とする、酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。 - 特許庁

Such a tool member forms an intermediate layer on a base material surface, and forms the silicon-containing amorphous carbon film having an atomic ratio of Si_0.03 to 0.25C_0.30 to 0.75H_0.22 to 0.50 by using a plasma CVD (chemical vapor deposition) after applying activation processing.例文帳に追加

このような工具部材は基材表面に中間層を形成し、活性化処理を施した後、プラズマＣＶＤを用いて原子比率がＳｉ_0.03_〜_0.25Ｃ_0.30_〜_0.75Ｈ_0.22_〜_0.50である珪素含有非晶質炭素膜を形成する。 - 特許庁

To provide a simple plasma doping method and apparatus and particularly, a plasma doping method and apparatus capable of eliminating necessity of use of dangerous doping material gas, use of vacuum equipment in a doping process, and provision of an activation process in addition to the doping process.例文帳に追加

構成が簡単なプラズマドーピング方法及び装置、より具体的には、危険なドーピング原料ガスを用いる必要がなく、ドーピング工程において真空設備を用いる必要がなく、さらに、ドーピング工程とは別に活性化工程を設ける必要がない、プラズマドーピング方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

By setting the amount of oxygen to 2,500 ppm or smaller, the activation operation and cleaning operation of the surface of the raw material alloy fine powder by discharge plasma cannot be disturbed, thus performing sintering quickly and utilizing the growth suppression effect of the crystal grain serving as the advantage of a discharge plasma sintering method to the maximum.例文帳に追加

酸素量を２５００ｐｐｍ以下とすることによって、放電プラズマによる原料合金微粉表面の活性化作用及びクリーニング作用が妨げられることなくなり、短時間での焼結が可能となり、放電プラズマ焼結法の利点である結晶粒の成長抑制効果が最大限に活かされる。 - 特許庁

The crystal-growing substrate 66 and the light wavelength conversion member 50 are jointed directly to each other by surface activation jointing or plasma jointing, and the light wavelength conversion member 50 and the semiconductor light-emitting device 62 are mutually adhered.例文帳に追加

結晶成長用基板６６と光波長変換部材５０とが表面活性化接合またはプラズマ接合によって互いに直接接合され、光波長変換部材５０と半導体発光素子６２とが互いに固着される。 - 特許庁

A surface activation treatment is performed by irradiating a surface of a junction part 22a formed on a surface of a substrate 22 and formed of gold with energy waves by plasma in a cleaning part so as to remove an oxide film and the like formed on the surface.例文帳に追加

基板２２の表面に形成された金からなる接合部２２ａの表面に、洗浄部においてプラズマによるエネルギー波を照射し、表面に形成された酸化膜等を除去して表面活性化処理を行う。 - 特許庁

In the surface wave excitation plasma CVD device 100, a material gas comprising silicon element is introduced into a chamber 1 by at least one of an upper surface side introduction tube and a side surface side introduction tube 7, and a process gas which makes material gas cause chemical reaction by activation by surface wave excitation plasma P is introduced into the chamber 1 by a process gas introduction tube 5.例文帳に追加

表面波励起プラズマＣＶＤ装置１００は、シリコン元素を含む材料ガスを上面側導入管および側面側導入管７の少なくとも一方によりチャンバー１内に導入し、表面波励起プラズマＰにより活性化して材料ガスに化学反応を起こさせるプロセスガスをプロセスガス導入管５によりチャンバー１内に導入する。 - 特許庁

To make efficiently, uniformly and smoothly performable an activation and graft polymerization or grafting treatment by a plasma treatment even in using a monomer having a low vapor pressure and suitable to impart high functions, and to simplify and make the cost of the whole structure of a treating apparatus low.例文帳に追加

高機能化付与に適した蒸気圧の低いモノマーを用いる場合も、プラズマ処理による活性化及びグラフト重合またはグラフト化処理を能率的に、かつ均一良好に行なえ、また、全体構造の簡素化及び低コスト化が図れるようにする。 - 特許庁

Then, at least one main surface of the SiGe epitaxial film 11 on which an ion implantation layer is formed and a support substrate 20 is subjected to plasma treatment and ozone treatment for purposes of surface cleaning, surface activation, or the like, and both main surfaces are laminated for bonding.例文帳に追加

続いて、イオン注入層を形成したＳｉＧｅエピタキシャル膜１１と支持基板２０の少なくとも一方の主面に、表面清浄化や表面活性化などを目的としたプラズマ処理やオゾン処理を施し、主面同士を密着させて貼り合わせる。 - 特許庁

The results are that the microwave plasma is particularly extremely effective for the activation and that the active carbon of the high surface area not existing heretofore can be created and in addition, the active carbon of high performance having the large surface area contributing as the electrode can be obtained.例文帳に追加

その結果はマイクロ波プラズマは特に賦活に対して著しい効果があり、従来にない高表面積の活性炭を作り出すことができることに加えて電極として寄与する有効表面の大きい高性能の活性炭を得ることができる。 - 特許庁

Consequently, the plasma is generated in the chamber 12 and then chlorine which causes organic substance removal, surface activation, and ion migration is removed to improve the reliability of IC chip joining for the resin-based substrate 9.例文帳に追加

これにより、チャンバ１２内にてプラズマを発生させると、基板９に対する有機物除去、表面活性化およびイオンマイグレーションの原因となる塩素の除去が行われ、樹脂系の基板９に対するＩＣチップ接合の信頼性を向上することが実現される。 - 特許庁

After producing SERS activation sites 31-33 of the silver nanoparticles 24 on the substrate 18 by this method, the self-assembled monolayer (SAM) 12 is removed from the SERS substrate 18 by oxygen plasma, and the surface of the SERS substrate 18 is cleaned.例文帳に追加

この方法で基板１８上に銀ナノ粒子２４のＳＥＲＳ活性サイト３１〜３３を生成した後、酸素プラズマにより、ＳＥＲＳ基板１８から、自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）（１２）を除去するとともに、ＳＥＲＳ基板１８表面を洗浄する。 - 特許庁

A single-crystal Si substrate 10 subjected to plasma processing for surface activation is bonded to a quartz substrate 20 at low temperature, external impact is given to it, and a silicon film is mechanically peeled from the bulk of a single-crystal silicon, thus obtaining a semiconductor substrate (SOI substrate) with a silicon film (SOI film) 12.例文帳に追加

プラズマ処理して表面活性化させた単結晶Ｓｉ基板１０と石英基板２０を低温で貼り合わせ、これに外部衝撃を付与して単結晶シリコンのバルクからシリコン膜を機械的に剥離してシリコン膜（ＳＯＩ膜）１２を備えた半導体基板（ＳＯＩ基板）を得る。 - 特許庁

A processing unit 70 of the surface activation apparatus includes a radical generation unit 80 for generating radicals, by making a processed gas excited by plasma and a processing unit 81 for activating surfaces W_U1, W_L1 of wafers W_U, W_L by the radicals generated by the radical generating unit 80.例文帳に追加

表面活性化装置の処理部７０は、処理ガスをプラズマ励起させてラジカルを生成するラジカル生成ユニット８０と、ラジカル生成ユニット８０で生成されたラジカルを用いて、ウェハＷ_Ｕ、Ｗ_Ｌの表面Ｗ_Ｕ１、Ｗ_Ｌ１を活性化する処理ユニット８１とを有している。 - 特許庁

Surfaces of a shaft hole and an exhaust gas flow passage (including a seat part) formed on a body constructing an exhaust gas flow passage valve are finished in prescribed smooth surfaces, and oil-repellent coating film is applied on the exhaust gas flow passage and the like after activation treatment by irradiating plasma on the surface of the exhaust gas flow passage and the like.例文帳に追加

排気流路バルブを構成するボディに形成された排気流路（シート部を含む。）及びシャフト孔の表面を所定の平滑面とし、排気流路等の表面にプラズマを照射して活性化処理した後、排気流路等の表面に撥油性被膜を施す。 - 特許庁

The slipperiness of the surface of a molded resin article is easily suppressed at a low cost by forming extremely minute unevenness on the surface and forming a moisture-adsorbing functional group by a chemical activation treatment such as flame treatment, plasma treatment, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, ozone treatment and hot air treatment.例文帳に追加

非常に微細な凹凸を形成するとともに水分を吸着するような官能基を、フレーム処理、プラズマ処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、オゾン処理、熱風処理等の化学的な活性化処理を行うことによって、簡易で、かつ安価に滑り性を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a long-life plasma-addressed liquid crystal display device in which the frequency of arc discharge generation is small in cathode initialization (activation), the discharge current is reduced and the deterioration of the cathode after a lapse of discharge time is decreased and the deterioration of transmittance due to sticking of sputtered matters is suppressed so as to improve the panel life.例文帳に追加

陰極初期化（活性化）時にアーク放電の発生頻度が少なく、放電電流を低減し放電時間の経過に伴う陰極の劣化が低減されて、スパッタ飛散物の付着による透過率劣化が抑制されパネル寿命が改善される、長寿命なプラズマアドレス液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

While external heating like a heating furnace or rotary kiln is general as the heating method, a research by microwave heating in which heating is effected from the inside is practiced in recent and is used in manufacturing, and a solution means implementing activation/heating by a microwave plasma heating is attempted in order to make the heating system further effective.例文帳に追加

加熱方法としては加熱炉やロータリーキルンのような外部加熱が一般的であるが、最近では内部から加熱されるマイクロ波加熱による研究が行われ、製造に使われているが、この加熱方式をさらに効果的にするためにマイクロ波プラズマによる加熱で炭化・賦活を行うことによる解決手段を試みた。 - 特許庁

The photosensitive transfer material having at least the thermoplastic resin layer, the intermediate layer and the photosensitive recording layer on the temporary substrate in this order is characterized in that the thermoplastic resin layer is subjected to surface activation treatment by at least either of corona discharge treatment, plasma treatment, flame treatment and UV treatment.例文帳に追加

仮支持体上に、少なくとも熱可塑性樹脂層、中間層及び感光性記録層をこの順に有してなる感光性転写材料において、前記熱可塑性樹脂層が少なくともコロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、UV処理のいずれかにより表面活性化処理されていることを特徴とする感光性転写材料である。 - 特許庁

After forming a bonding part made of metal in a contour-like shape and etching (surface activation processing) the bonding part by plasma, by bonding objects to be bonded each other by pushing and breaking a deposition layer which re-adhered to the bonding part, a space formed by being surrounded in the contour-like shape by the bonding part between bonding surfaces can be sealed into a predetermined atmosphere.例文帳に追加

金属からなる接合部を輪郭状に形成し、該接合部をプラズマによりエッチング（表面活性化処理）した後、接合部に再付着した付着物層を押し破って被接合物どうしを接合することで、接合面間に接合部によって輪郭状に囲まれて形成される空間を所定の雰囲気に封止することができる。 - 特許庁

The tip of the conductor bumps 1a, 1a,... and wiring patterns 7a and 7b on the surface of a core material 17A are exposed to a plasma for activation and are overlapped, thus joining the tip of the conductor bumps 1a, 1a,... to the wiring patterns 7a and 7b on the surface of the cure material 17A.例文帳に追加

この導体バンプ１ａ，１ａ,…の先端と、コア材１７Ａ表面の配線パターン７ａ，７ｂとを接合する前に、前記導体バンプ１ａ，１ａ,…の先端と、コア材１７Ａの配線パターン表面７ａ，７ｂとをプラズマに晒して活性化させ、この活性化させた状態の導体バンプ１ａ，１ａ,…の先端と、コア材１７表面の配線パターン７ａ，７ｂとを重ねることにより両者を接合する。 - 特許庁

The inhibitor contains, for example, surfactin C, isohalobacillin and iturin, isolated and purified from a culture liquid of actinomyces, or bikaverin or the like isolated and purified from a culture liquid of filamentous fungi, or other easily available commercial compounds exhibiting self activation-inhibiting activity of the inactive precursor plasma hyaluronan binding protein as an active ingredient.例文帳に追加

例えば、放線菌の培養液から単離・精製することができるサーファクチンＣ、イソハロバシリン、イチュリン、又糸状菌の培養液から単離・精製することができるビカベリン等やその他の市販されている容易に入手することことができる化合物で、不活性型前駆体血漿ヒアルロナン結合タンパク質の自己活性化阻害活性を示す化合物を有効成分とする。 - 特許庁

The plastic mirror consists of a transparent plastic sheet, transparent surface hardening films formed on both faces of the sheet, a thin silver film formed on one of the surface hardening films by an electroless silver mirror reaction after surface activation by plasma treatment, corona treatment, alkali treatment or chromic acid treatment and a thin copper film formed as a protective coat on the thin silver film by electroless plating.例文帳に追加

透明な合成樹脂板と、その両面に形成された透明な表面硬化膜と、プラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理、又はクロム酸処理により表面を活性化した片方の前記表面硬化膜上に無電解の銀鏡反応を利用して形成された銀薄膜と、該銀薄膜上に無電解メッキ法により保護膜として形成された銅薄膜とから構成されている合成樹脂製鏡。 - 特許庁