「Si oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The structure of the oxidation-resistant coating formed on the heat-resistant alloy comprises: an alloy film of the first layer for the purpose of preventing diffusion formed as needed on the surface of a substrate of the heat-resistant alloy; and a composite film of the second layer further formed on the surface, which consists of an alloy layer containing at least Al or Si and reinforced fibers dispersed therein.例文帳に追加

耐熱合金の基材表面に、必要に応じて拡散防止を目的とする第一層の合金皮膜が形成され、さらにその表面に少なくともＡｌ又はＳｉを含む合金層中に強化繊維が分散された第二相の複合皮膜が形成された耐熱合金の耐酸化被覆構造。 - 特許庁

The catalyst carrier for carrying a noble metal on it comprises; an electron-acceptable element (La), which accepts an electron from a noble metal element (Pt) by the approaching or contacting of the noble metal element and is not variable in valence in oxidation-reduction reaction; and a composite oxide of another element (Si).例文帳に追加

貴金属元素（Ｐｔ）が接近若しくは接触することによりその貴金属元素から電子を受容する電子受容性があり且つ酸化還元反応で原子価の変化がない電子受容性元素（Ｌａ）、及び他の元素（Ｓｉ）の複合酸化物から構成されている、貴金属担持用触媒担体とする。 - 特許庁

In the amorphous material containing silicon, carbon, and oxygen as the constitution elements and having oxidation resistance, the content of silicon is 54-56 mass%, the content of carbon is 27-29 mass%, and the content of oxygen is 16-18 mass%, and in the measurement of ^29SiMAS-NMR, Si-C_4 bond and SiO_2 are observed.例文帳に追加

珪素、炭素および酸素を構成元素として含み、かつ耐酸化性を有する無定形材料であって、珪素の含有量が５４〜５６質量％、炭素の含有量が２７〜２９質量％および酸素の含有量が１６〜１８質量％であり、^29ＳｉＭＡＳ−ＮＭＲの測定において、Ｓｉ−Ｃ_4結合およびＳｉＯ_2が観測される材料である。 - 特許庁

The thermopile 4 is formed on the upper surface of an Si substrate 2; a self-organizing film 6 is produced by combining an organic function of an organic silane compound and an insulation film 5a on the insulation film 5a on the surface of the hot junction of this thermopile 4; and oxidation catalyst particles 7, such as Pt are carried by the surface of this self-organizing film 6 by chemically bonding.例文帳に追加

Ｓｉ基板２の上面に、サーモパイル４が形成され、このサーモパイル４の温接点部表面の絶縁膜５ａ上に、有機シラン化合物の有機官能と絶縁膜５ａとの結合により自己組織化膜６を生成し、この自己組織化膜６の表面にＰｔ等の酸化触媒粒子７を化学結合により担持させてなる。 - 特許庁

An alkene and/or an alkylene oxide is produced by selective partial oxidation of a hydrocarbon raw material comprising an alkane or a mixture of an alkane and an alkene using an oxidizing agent comprising a mixture of hydrogen and oxygen at a temperature lower than 200°C in the presence of a noble metal catalyst supported by a support comprising Ti or Si or both.例文帳に追加

触媒として、Ｔｉ又はＳｉもしくはこの両方を含む支持体の上に担持された貴金属触媒を用い、アルカン、又はアルカンとアルケンの混合物からなる炭化水素原料を、水素及び酸素を含有する酸化剤混合物により、２００℃未満の温度において、前記炭化水素原料の選択的部分酸化して、アルケン及び／又はアルキレンオキシドを製造する。 - 特許庁

To restrain an insulating silicon oxide film from being formed by the oxidation of a Si base, when a ferroelectric layer is grown, to prevent distortion introduced into the ferroelectric layer when it is formed from being relaxed when a fine processing is carried out, to form a lower electrode which is kept free of fatigue deterioration caused by repetitive operations of write/ read, so as to improve ferroelectric capacitor in reliability.例文帳に追加

強誘電体層を成長する際に下地Ｓｉの酸化による絶縁性のシリコン酸化膜を形成せず、微細加工する際に成膜時に強誘電体層に導入した歪を緩和させず、しかも書き込み／読み出しの繰り返しによる疲労劣化を生じないような下部電極を形成することができ、強誘電体キャパシタの信頼性向上をはかる。 - 特許庁

The control means 121 supplies the Si-based gas to the wafer 200 in the treatment chamber 201 to cause the wafer to absorb a first material, and supplies the oxidized gas to generate an O radical and an OH radical so that the radicals may perform an oxidation reaction on the surface of the wafer having absorbed the first material, thereby forming an oxidized film on the wafer 200.例文帳に追加

制御手段１２１により、処理室２０１内のウェハ２００に対してＳｉ系ガスを供給して第１の原料をウェハ上に吸着させ、酸化性ガスを供給してＯラジカルとＯＨラジカルを発生させ、これらのラジカルにより、第１の原料が吸着したウェハ表面で酸化反応を行わせ、ウェハ２００上に酸化膜を形成するようにする。 - 特許庁

A method of producing SRO comprises: a process of allowing a first silicon source gas containing no oxygen to adsorb to a substrate and then of forming a SiO_2 film by oxidation reaction between a reaction gas containing oxygen and the first silicon source gas; and a process of forming a Si film by reduction reaction between a second silicon source gas containing no oxygen and a reaction gas corresponding to it.例文帳に追加

Ｏが含まれていない第１シリコンソースガスを基板に吸着させた後、Ｏが含まれた反応ガスと第１シリコンソースガスとの酸化反応によりＳｉＯ_２膜を形成する工程と、Ｏ成分を含んでいない第２シリコンソースガスとこれに対応する反応ガスとの還元反応によりＳｉ膜を形成する工程と、を含むことを特徴とするＳＲＯの製造方法である。 - 特許庁

In the negative active material for the lithium secondary battery and its manufacturing method, the negative active material has a nano composite containing an Si phase, SiO_2, and M_yO metal oxide (M is metal having a free energy for bonding with oxygen of 900-2,000 kJ/mol; and when oxidation number of M is represented by x, x×y=2).例文帳に追加

本発明はリチウム２次電池用負極活物質及びその製造方法に関し、前記負極活物質は、Ｓｉ相、ＳｉＯ_２、及びＭ_ｙＯ金属酸化物（前記Ｍは、酸素と結合を形成する形成自由エネルギーが−９００ｋＪ／ｍｏｌ〜−２０００ｋＪ／ｍｏｌの金属であり、前記Ｍの酸化数をｘとする時、ｘ×ｙ＝２を満たす）を含むナノ複合体を有する。 - 特許庁

An anodic oxidation treatment method for a piston made of the aluminum alloy consists of a process for forming the anodically oxidized film 16 on the aluminum alloy 10 containing Si 12, 13, 14 with an electrolyte mixed with phosphate and fluoride, a process for impregnating the micropores 18 of the anodically oxidized film 16 with a photosetting resin and a process for curing the photosetting resin by casting light thereto.例文帳に追加

アルミニウム合金製ピストンの陽極酸化処理方法は、りん酸塩並びにふっ化物を混合した電解液でＳｉ１２，１３，１４を含むアルミニウム合金１０に陽極酸化皮膜１６を生成する工程と、陽極酸化皮膜１６の微細な孔１８…に液状の光硬化性樹脂２０を含浸する工程と、この光硬化性樹脂２０に光を当てて硬化する工程とからなる。 - 特許庁