「Sico」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

It is restrained for species of oxygen upon forming the SiCO film to enter deeply by the CFN film obtained by a nitriding processing.例文帳に追加

窒化処理により得られるＣＦＮ膜により、ＳｉＣＯ成膜時の酸素の活性種が奥深く侵入することが抑えられる。 - 特許庁

The process of forming SiCN film, the process of annealing, and the process of forming the SiCO film are carried out continuously.例文帳に追加

ＳｉＣＮ膜を形成する工程、アニールを施す工程およびＳｉＣＯ膜を形成する工程は連続して行なわれる。 - 特許庁

When the SiCO film is deposited, a reaction of active species of oxygen with carbon in the CF film is suppressed and thus, the degassed amount of the CF film is reduced.例文帳に追加

ＳｉＣＯ膜の成膜時に、酸素の活性種がＣＦ膜中の炭素と反応することが抑えられ、従ってＣＦ膜の脱ガス量が低減する。 - 特許庁

The porous silicon carbide-based formed body whose pores are controlled is manufactured by forming a layer comprising SiCO on the surface of the silicon carbide-based porous formed body.例文帳に追加

炭化珪素系多孔質成形体の表面にＳｉＣＯからなる層を形成することにより、細孔を制御した炭化珪素系多孔質成形体を製造する。 - 特許庁

When the SiCO film is used as the hard mask, a method includes: exposing the CF film for about 5-10 seconds in a plasma atmosphere activated with an organic compound of silicon, for example, trimethyl silane gas; next, adding nitrogen plasma to this plasma and depositing the SiCN film on the fluorine-added carbon film; and thereafter, depositing the SiCO film by the plasma activating trimethyl silane gas and oxygen gas.例文帳に追加

ＳｉＣＯ膜をハードマスクとして使用する場合に、ＣＦ膜をシリコンの有機化合物例えばトリメチルシランガスを活性化したプラズマ雰囲気に例えば５〜１０秒程度曝し、次いでこのプラズマに窒素プラズマを加えてフッ素添加カーボン膜の上にＳｉＣＮ膜を成膜し、その後例えばトリメチルシランガスと酸素ガスとを活性化したプラズマによりＳｉＣＯ膜を成膜する。 - 特許庁

The organic-containing ammonium salt has a concentration that accelerates TEOS removal and decreases removal of at least one coating selected from a group consisting of SiC, SiCN, Si_3N_4 and SiCO.例文帳に追加

上記有機含有アンモニウム塩は、ＴＥＯＳ除去を促進し、かつＳｉＣ、ＳｉＣＮ、Ｓｉ_3Ｎ_4及びＳｉＣＯからなる群から選択される少なくとも１つのコーティングの除去を低減する濃度を有する。 - 特許庁

To provide large adhesion between a thin film being an SiCO film or an SiCN film for a hard mask and a fluorine-added carbon film when the thin film is deposited on the fluorine-added carbon film (CF film).例文帳に追加

フッ素添加カーボン膜（ＣＦ膜）上にハードマスク用の薄膜であるＳｉＣＯ膜あるいはＳｉＣＮ膜を成膜するにあたり、その薄膜とフッ素添加カーボン膜との間で大きな密着性を得ること。 - 特許庁

It is thereby possible to absorb infrared rays on the short-wavelength side in an SiCO film, which have not been used efficiently by conventional thermal infrared detection elements, and to efficiently use infrared rays in the entire wavelength bands, and improve the sensitivity of the thermal infrared detection element.例文帳に追加

これにより、従来の熱型赤外線検出素子では有効に利用することができなかった短波長側の赤外線をＳｉＣＯ膜で吸収して上記波長帯全般の赤外線を有効に利用し、熱型赤外線検出素子の感度を向上させることができる。 - 特許庁

The SiCO film for example is formed on a fluorine-added carbon film by subjecting a surface of the fluorine-added carbon film on a semiconductor wafer to a nitriding processing, by exposing the same to a plasma atmosphere obtained by making nitrogen gas plasma and then exposing the semiconductor wafer to plasma obtained by making triethylsilane gas and oxygen gas for example plasma.例文帳に追加

半導体ウエハ上のフッ素添加カーボン膜の表面部を、窒素ガスをプラズマ化して得られるプラズマ雰囲気に曝すことにより窒化処理し、次いで半導体ウエハを例えばトリメチルシランガス及び酸素ガスをプラズマ化して得られるプラズマに曝すことによりフッ素添加カーボン膜の上に例えばＳｉＣＯ膜を成膜する。 - 特許庁

A barrier insulator film consists of an SiCN film SCN1 (4MS_) formed by lowering the flow rate of tetramethyl silane gas below normal conditions, an SiCN film SCN2 formed on the SiCN film SCN1 (4MS_) at a normal flow rate of tetramethyl silane gas, and an SiCO film SCO formed on the SiCN film SCN2.例文帳に追加

テトラメチルシランガスの流量を通常条件よりも下げて形成したＳｉＣＮ膜ＳＣＮ１（４ＭＳ↓）と、このＳｉＣＮ膜ＳＣＮ１（４ＭＳ↓）上に形成され、通常のテトラメチルシランガスの流量で形成したＳｉＣＮ膜ＳＣＮ２と、このＳｉＣＮ膜ＳＣＮ２上に形成されたＳｉＣＯ膜ＳＣＯからバリア絶縁膜を構成する。 - 特許庁

The semiconductor device includes a fluorine added carbon film 20 formed on a substrate 1; the hard mask layer formed on the fluorine added carbon film 20 and containing an SiCO film 23 and an SiO_2 film 24; and a barrier layer formed by laminating an SiN film 21 and an SiCN film 22, in this order, starting from beneath between the fluorine added carbon film 20 and the hard mask layer.例文帳に追加

基板１上に形成されたフッ素添加カーボン膜２０と、このフッ素添加カーボン膜２０の上に形成され、ＳｉＣＯ膜２３とＳｉＯ_２膜２４とを含むハードマスク層と、前記フッ素添加カーボン膜２０とハードマスク層との間に、ＳｉＮ膜２１とＳｉＣＮ膜２２とを下からこの順序で積層して形成されたバリア層と、を備える。 - 特許庁